JPH04141583A - 成膜進行状況監視方法 - Google Patents

成膜進行状況監視方法

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Publication number
JPH04141583A
JPH04141583A JP26118190A JP26118190A JPH04141583A JP H04141583 A JPH04141583 A JP H04141583A JP 26118190 A JP26118190 A JP 26118190A JP 26118190 A JP26118190 A JP 26118190A JP H04141583 A JPH04141583 A JP H04141583A
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JP
Japan
Prior art keywords
time
film formation
abnormality
obtd
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP26118190A
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English (en)
Inventor
Yuji Kitagawa
裕士 北川
Nozomi Kanda
神田 のぞみ
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Shinmaywa Industries Ltd
Original Assignee
Shin Meiva Industry Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shin Meiva Industry Ltd filed Critical Shin Meiva Industry Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的な手法による成膜進行状況監視方法に関
するものであり、特に成膜異常を検出する方法に関する
ものである。
〔発明の背景〕
基板上に、屈折率等の所定の特性と所定の膜厚とを備え
た膜を成膜するために、従来より光学的な手法を用いて
成膜制御を行う方法がとられていた。
第3図はレンズ用のガラス基板上にフッ化マグネシウム
(MgF2)などを蒸着させてレンズコーティングを行
なうための真空蒸着装置の構成概念図である。真空槽1
1中に、るっは等の蒸着源9、基板ホルダー10に取付
けられたレンズ用ガラス基板8.平板ガラス等のモニタ
基板4が配置されている。これらのうち、基板ホルダー
10は中空の円錐台状であり、その側面に設けた円形の
孔にガラス基板8が取付けられている。また、モニタ基
板4は図示しない支持部材によって基板ホルダー10の
上方に支持されている。そして、ミラー2及び真空層1
1の底面に設けられた窓31を通して光源1から導入さ
れた光12は基板ホルダー10の中空部を通った後にモ
ニタ基板4を透過し、真空層11の上面に設けられた窓
32を通してフィルタ5に達する。ここで光12は単色
光13となり、受光器6にて単色光コ3の光強度を示す
電気信号14に変換されCPU、メモリ等で構成された
信号処理装置7に送られる。
フッ化マグネシウム等の蒸着材料15は蒸着源9の加熱
により基板8の表面に蒸着するが、併せてモニタ基板4
の表面にも蒸着される。その為、モニタ基板4を透過す
る光12の光量は変化し、単色光13は、その波長、蒸
着膜の厚さや屈折率等に依存した強度変化を呈する。す
なわち、蒸着膜の厚さなどが変化するとその蒸着膜をダ
イレクトに通過する光と蒸着膜内でいったん往復反射を
してから通過する光との光路差か変化するため、それら
の干渉光の強度も変化する。そして、これに応じて変調
された電気信号14が、受光器6から得られる。上記の
ようにメガネのコーテイング材を蒸着する場合にはその
透過率を最大としたい場合が多く、かかる場合には単色
光13の強度が最大になる時に、信号処理装置7から蒸
着制御装置16に停止信号を出力し、蒸着源9の加熱を
停止する。
〔従来の技術〕
ところで従来はこのような成膜過程を監視して成膜停止
信号などを発生させるために、信号処理装置7において
次のような信号処理が行われていた。第4図は成膜進行
に従っての透過率の変化を時間依存性として示したもの
である。まず電気信号14から得られる透過率は、時間
と共に蒸着が進むので曲線18の様に変化するか、この
曲線18は特定の時刻に極大値をとる。よって透過率が
極大となる時点を検出して成膜を停止しなければならな
いが、透過率が実際に極大となったことを検出データ上
で確認してから成膜を停止すると、既にその時点では極
大点から減少へと転じてかなりの時間が経過してしまっ
た後であるため、必要以上に膜厚が厚くなってしまう。
そこで、現に極大点となる以前にそれを予想して早めに
停止制御を行なう必要がある。このため、信号処理を現
に行っている時刻11から所定時間Tだけ遡った時刻t
  −Tから時刻t1の間の透過率のデータに■ よって例えば2次関数を用いた曲線近似を行って近似曲
線17を得る。この近似により透過率が極値をとるであ
ろうと推定される時刻t2が演算され、t  < t 
2を満足している間は(同図(a))■ 蒸着を続行し、t ≧t2となれば(同図(b))tl
で透過率が最大となったと判断して直ちに蒸着を停止す
べき信号を、蒸着制御装W16に送る。
このような処理がなされるので、透過率が最大となる蒸
着膜が得られることになる。
〔発明が解決しようとする課題〕
かような方法では蒸着等の成膜時に異常がない場合には
異なる信号処理時刻において同一の近似曲線17が得ら
れるため、これより定まる極大値推定時刻もほぼ同一で
あり、透過率最大となる蒸着膜が得られることになる。
ところが成膜時に、例えば同図(c)に示す様な成膜速
度の急低下等の異常があった場合には信号処理時刻tl
における近似曲線17aから得られた極大値推定時刻t
 と、信号処理時刻t  における近似曲線17bから
得られた極大値推定時刻t  とが大きく異なり、結局
極大値に至る前に極大値を得たと判断して成膜が停止し
、所望の膜厚が得られたか否か不明のまま成膜が終了し
てしまうという問題点があった。
〔発明の目的〕
この発明は、上記従来技術の問題を解消し、成膜時の異
常の検出可能な成膜進行状況監視方法を提供することを
目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明は曲線近似を行う際のデータとして、信号処理
時刻から異なる複数の時間幅だけ遡った各時刻から現時
刻までのそれぞれの間の光強度変化を基礎として個別に
曲線近似を行ない、各近似曲線の極値を与える各時刻が
所定の許容誤差範囲を越えて不一致となったときに、成
膜異常と判定する。ただし、許容誤差範囲はゼロであっ
てもよく、有限値であってもよい。
〔作用〕
この発明においては、成膜異常がある場合には異なる時
間幅での光強度変化を用いた近似曲線は互いに大きく異
なることにより、各近似曲線の極値を与える各時刻が大
きく異なって、異常を検出する。
〔実施例〕
この発明の一実施例である成膜状況監視方法を適用した
真空蒸着装置は第3図の装置と同様の外観を有している
が、信号処理装置7の機能が異なっている。この実施例
において信号処理装置7にあらかじめプログラムされて
いる動作のフローチャートを第1図に示す。まずtlと
して現在時刻を与える。次いて所定時間Tだけ遡った時
刻t1Tからtlまての透過率のデータDを得る。また
Tと異なる所定時間T′たけ遡った時刻t1T′からt
lまでの透過率のデータD′を得る。
ただし、T、T’ はあらかじめ設定されている時間幅
であり、T≠T′である。次いでそれぞれのデータD、
D’よりそれぞれ透過率の時間変化を2次曲線17a、
17cで個別に近似し、それぞれ極大値推定時刻1.1
2 を得る。
成膜速度低下等の異常がない場合、第2図(a)に示す
ように1.12 とはほぼ一致する。しかし成膜速度低
下等の異常があった場合には同図(b)に示すように1
.12 は大きく異なる。
従って第1図に示すようにある許容誤差しきい値ε(ε
≧0)を定めておき、 tl−tl   <ε を満足しない場合は図示しないホストコントローラに警
報を出して異常があったことを指示し、蒸着等の成膜を
中止する。
一方、 tl−tl  くε を満足する場合には、現在時刻t1がt1≧t2又はt
 ≧t ′のいずれかを満足していれば成膜を終了し、
t ≧t 又はt ≧t  のいずれをも満足しない場
合には成膜不足として成膜を続行し、tlに新たに現在
時刻を与えなおす。
以上の様なフローチャートに即した方法を用いて異常を
検出することにより、例えば第3図に示したような装置
において、透過率を最大とする成膜を行うことができ、
かつ異常ある成膜を警報により知ることができる。
なお、上記実施例では曲線近似として2次曲線を用いた
が、これに限らず例えばガウス分布近似などを用いても
よい。また、時間幅やそれに応じた曲線近似の数も3個
以上としてもよい。この場合には例えば得られた最大値
推定時刻t  、  t2・・・の最大値と最小値の差
がεよりも太きければ異常であると判断すればよい。ま
た、成膜の目的によっては透過率の極小値を推定しても
よい。
更に、上記実施例では透過率によって成膜を制御する方
法について述べたが、反射光を検出し、反射率等の他の
光学的情報の極値を推定する場合にも同様の効果を奏す
る。また成膜方法としては蒸着法のみならず他の方法、
例えばスパッタ法においても同様の効果を奏する。
〔発明の効果〕
この発明は、同一の曲線近似手法を用い、異なる時間幅
での光強度変化を基礎として複数の近似曲線を決定し、
それらから得られた極値の推定時刻の一致度を判定する
ことにより、成膜異常を検出でき、所望の特性が得られ
たか否かが不明のまま成膜が終了するという事態を回避
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例のフローチャート、第2図
はこの発明の一実施例における、透過率の時間依存性と
近似曲線とを示すグラフ、第3図はこの発明の一実施例
の前提となる蒸着装置の概念図、 第4図は従来の成膜制御方法における透過率の時間依存
性と近似曲線とを示すグラフである。 4・・・モニタ基板、 9・・蒸着源、 12・・・光、 17,17a、17b、  17c・・・近似曲線18
・・・透過率の時間変化曲線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)成膜中に、モニタ基板へ光を照射し、前記モニタ
    基板からの透過光または反射光を検知するとともに、検
    知された光の強度の時間的変化をモニタし、現時点から
    所定の時間幅だけ遡った時点以降の前記強度の時間的変
    化を基礎とする曲線近似を行なって成膜進行状況を監視
    する方法において、 前記時間幅として互いに異なる複数の時間幅を設定し、 現時点から前記複数の時間幅だけそれぞれ遡った各時点
    以降の前記強度の時間的変化をそれぞれの基礎として前
    記曲線近似を共通に用いてかつ個別に行なうことにより
    複数の近似曲線を決定し、前記複数の近似曲線のそれぞ
    れにおいて極値を与える各時刻が所定の許容誤差範囲を
    越えて相互に不一致となったときに、前記成膜において
    異常が発生したものと判定することを特徴とする成膜進
    行状況監視方法。
JP26118190A 1990-09-28 1990-09-28 成膜進行状況監視方法 Pending JPH04141583A (ja)

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JP (1) JPH04141583A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9383474B1 (en) * 2015-03-30 2016-07-05 Boe Technology Group Co., Ltd. System and method for detecting film layer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9383474B1 (en) * 2015-03-30 2016-07-05 Boe Technology Group Co., Ltd. System and method for detecting film layer

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