JP3615423B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、ノーマルマスクROMやページモードマスクROM等の半導体記憶装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体記憶装置としては、図17(a)〜(i)に示す制御タイミングにより動作する汎用のノーマルマスクROMがある。このノーマルマスクROMは、図17(a)〜(i)に示すように、ロー(Row)アドレスおよびコラム(Colum)アドレス(図17(a)に示す)の入力後、ワード線立ち上げ(図17(b)に示す)と同時に、コラムアドレスによってデコードされた所望のビット線,バーチャルGND線のプリチャージを実行する(図17(c)に示す)。また、ビット線とリファレンス線とのイコライズ動作が必要となり、1つのビット線に接続されたメモリセルが多い場合には、ワード線立ち上がり時間の約2倍を要してビット線,バーチャルGND線のプリチャージ動作とイコライズ動作とが実行される。そして、上記プリチャージ動作,イコライズ動作の完了後、メモリセルによるビット線センス動作が実行される。このビット線センス動作とは、メモリセルによりビット線の電位が引き込まれるビット線の引き込み動作のことであり、メモリセルがオン状態のトランジスタ(以下、オンTrという)ならば、ビット線の電位が下がり、メモリセルがオフ状態のトランジスタ(以下、オフTrという)ならば、ビット線のプリチャージ電位が維持される(図17(e)に示す)。次に、このメモリセルによるビット線センス動作において生じたビット線とリファレンス線との電位差をセンスアンプ(図示せず)によって増幅し、このデータを出力バッファ(図示せず)を介して出力する。
【0003】
このように、ランダムアクセス機能を有するノーマルマスクROMでは、ローアドレス,コラムアドレスが同時に入力されて、所望のワード線立ち上げと、所望のビット線のプリチャージ動作,イコライズ動作とを並行して実行する。
【0004】
また、他の半導体記憶装置としては、図18に示すものがある(特開平6−139787号公報参照)。上記半導体記憶装置の制御タイミングを図19に示している。
【0005】
図18において、MCはメモリセル、DMCはダミーメモリセル、PC,DPCはプリチャージ用トランジスタ、WLはワード線、/PRはプリチャージ信号線、BLはビット線、DBLはダミービット線、132はレベル検出回路、133はデータ出力回路である。デコード信号WDをインバータ141を介して2入力NOR回路130の一方の入力端子に入力すると共に、2入力NOR回路130の他方の入力端子にレベル検出回路部132からのDE信号を入力している。上記2入力NOR回路130の出力端子をワード線WLに接続している。また、クロック信号CLKを2入力NOR回路131の一方の入力端子に入力すると共に、2入力NOR回路131の他方の入力端子に上記DE信号を入力している。上記2入力NOR回路131の出力端子をプリチャージ信号線/PRに接続している。上記レベル検出回路部132は、インバータ135,136,フリップフロップ回路134,2入力NAND回路143およびインバータ144で構成され、上記データ出力回路部133は、インバータ137,138およびフリップフロップ回路139で構成されている。
【0006】
上記構成の半導体記憶装置において、図19(a)〜(h)に示すように、クロック信号CLK(図19(a)に示す)が“H”レベルとなる期間を設け、プリチャージ信号/PR(図19(b)に示す)を“L”レベルにすることで、トランジスタPC,DPCをオンして、ビット線BLおよびダミービット線DBLのプリチャージを行う(図19(e),(f)に示す)。
【0007】
次に、選択されたワード線WL(図19(d)に示す)の電位が立ち上がることにより、メモリセルトランジスタMCとダミーメモリセルトランジスタDMCとがオンし、メモリセルトランジスタMCとダミーメモリセルトランジスタDMCによるビット線BLとダミービット線DBLのセンスを夫々行う。
【0008】
その後、ビット線BLの電位がデータ出力回路部133内のインバータ137の回路閾値よりも低下すると、インバータ137の出力は“H”レベルに増幅され、インバータ138は“L”レベルを出力する。そして、上記インバータ138の出力がラッチ回路139でラッチされ、出力信号Doutが“L”レベルとなる(図19(h)に示す)。
【0009】
上記ダミーメモリセルトランジスタDMCによるダミービット線DBLのセンスが行われるため、ダミービット線DBLの電位もビット線BLの電位と同様に低下する。
【0010】
その後、ダミービット線DBLの電位がレベル検出回路部132内のインバータ135の回路閾値より低下すると、インバータ135の出力は“H”レベルに増幅され、フリップフロップ回路134にデータとして電源電圧Vccが入力され、出力信号DEは“L”レベルから“H”レベルに変化する(図19(g)に示す)。
【0011】
そうして、出力信号DEが“H”レベルに変化すると、出力信号DEが入力される2入力NOR回路130の出力は“L”レベルとなり、メモリセルトランジスタMCおよびダミーメモリセルトランジスタDMCはオフする。また、出力信号DEが入力される2入力NOR回路131の出力信号/PRも“L”レベルとなり、プリチャージ用トランジスタPC,DPCがオンし、ビット線BLおよびダミービット線DBLを夫々プリチャージする。
【0012】
図18に示す構成の半導体記憶装置では、ASIC(特定用途向集積回路)等のメモリに要求される種々のサイズのメモリを設計するときに、ビット線の負荷容量に依存してプリチャージのタイミングも自動的に変化することになるので、容易に回路設計ができる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図17のタイミングにより制御されるノーマルマスクROMでは、ビット線に接続されたメモリセルの数が多い場合は、ビット線負荷が大きくなり、ビット線,バーチャルGND線のプリチャージ動作,イコライズ動作およびメモリセルによるビット線センス動作に要する時間は、アクセスタイムの約50%を占め、ワード線立ち上がりに要する時間の2倍以上になるデバイスもある。また、ビット線に接続されたメモリセルの数が少ない場合は、ビット線,バーチャルGND線のプリチャージ動作,イコライズ動作およびメモリセルによるビット線センスに要する時間は、アクセスタイムの約30%を占めている。また、アクセスタイムの高速化を目的としてビット線を分割して、ビット線の負荷を低減し、プリチャージ動作,イコライズ動作に要する時間の短縮を図る試みが成されている。しかしながら、上記ビット線を分割する方式では、プリチャージ回路,センスアンプおよびコラムデコーダ等が増加して、大幅なチップサイズの増加を招く結果となる。
【0014】
また、図18に示す半導体記憶装置では、データ出力回路部133から出力信号Doutが出力されるタイミング以降にビット線BLおよびダミービット線DBLのプリチャージ動作を行っている。したがって、上記半導体記憶装置では、プリチャージ動作のみを行う期間を有しているため、アクセスタイムの高速化の実現が困難である。
【0015】
そこで、この発明の目的は、ビット線を分割することなく、アクセスタイムを高速化できる半導体記憶装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明の半導体記憶装置は、マトリックス状に配列された複数のメモリセルと、上記複数のメモリセルの同一行のメモリセルを活性化するためのワード線と、上記複数のメモリセルの同一列のメモリセルの一端に接続されたビット線と、上記複数のメモリセルの同一列のメモリセルの他端に接続されたバーチャルGND線とを備えた半導体記憶装置であって、読み出し動作時、上記ワード線の立ち上がりが完了すると、選択されたメモリセルの列に接続された上記ビット線の電位とリファレンス線の電位との電位差を表す信号を保持して増幅するセンスアンプと、電源立ち上げ時に全ての上記ビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給すると共に、読み出し動作時、上記選択されたメモリセルの列に接続された上記ビット線を上記メモリセルによりセンスする期間終了後、上記選択されていたメモリセルの列に接続された上記ビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給するプリチャージ電位供給回路と、読み出し動作時、上記センスアンプによって上記ビット線の電位とリファレンス線の電位との電位差を表す信号を保持すると、上記センスアンプに接続された上記ビット線と上記リファレンス線とを上記センスアンプの増幅動作期間切り離すと共に、グランド電位に接続された上記バーチャルGND線を上記センスアンプの増幅動作期間切り離す分離回路とを備え、読み出し動作時に上記分離回路によって上記センスアンプから切り離された上記ビット線 , 上記バーチャルGND線に、上記プリチャージ電位供給回路によりプリチャージ電位を供給することを特徴としている。
【0017】
上記構成の半導体記憶装置によれば、電源立ち上げ時、上記プリチャージ電位供給回路により全ての上記ビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給し、スタンバイ時にビット線,バーチャルGND線のプリチャージ電位を保持する。そして、読み出し動作時、アドレス入力によってワード線の立ち上げと同時に選択されたメモリセルの列に接続されたビット線,バーチャルGND線に対してプリチャージ電位を供給しないことによって、メモリセルによるビット線のセンス(引き)を行う。そして、ワード線の立ち上がりが完了すると、上記センスアンプによって上記選択されたメモリセルの列に接続されたビット線の電位とリファレンス線の電位との電位差を表す信号を保持して増幅する。このとき、上記選択されたメモリセルの列に接続された上記ビット線を上記メモリセルによりセンスする期間終了後、直ちに上記選択されていたメモリセルの列に接続されたビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給して、全ての上記ビット線,バーチャルGND線のプリチャージ電位を維持する。このように、読み出し動作前に全てのビット線,バーチャルGND線のプリチャージ電位を常に維持することによって、ビット線を分割することなく、プリチャージ動作,イコライズ動作に要する時間を節約して、アクセスタイムの高速化が可能となる。さらに、読み出し動作時、選択されたメモリセルの列のビット線 , バーチャルGND線においてメモリセルによるビット線のセンス ( 引き ) 完了後、センスアンプによりビット線の電位とリファレンス線の電位との電位差を表す信号を保持すると、上記分離回路によって、センスアンプに接続されたビット線とリファレンス線とをセンスアンプの増幅動作期間切り離すと共に、グランド電位に接続されたバーチャルGND線をセンスアンプの増幅動作期間切り離す。したがって、メモリセルによるビット線のセンス ( 引き ) 完了後、直ちに選択されたメモリセルの列のビット線 , バーチャルGND線にプリチャージ電位の供給が可能となる。
【0018】
【0019】
【0020】
また、一実施形態の半導体記憶装置は、アドレス入力からデータ出力されるまでの読み出し動作中に新たにアドレスが入力された場合、上記読み出し動作中であることを認識して、上記ビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給させるプリチャージ要請信号を上記プリチャージ電位供給回路に出力するアクセス判別回路を備えたことを特徴としている。
【0021】
上記実施形態によれば、リードデータ出力までに次のアドレスが入力された場合に、上記アクセス判別回路よりプリチャージ要請信号を出力し、新たビット線,バーチャルGND線に対してプリチャージ動作を行い、アドレス入力からデータ出力されるまでの読み出し動作中に入力されたイレギュラーなアドレス入力に対応できる。
【0022】
また、一実施形態の半導体記憶装置は、上記ビット線,バーチャルGND線に供給するための常時プリチャージ電位を作成する常時プリチャージ電位作成回路と、上記常時プリチャージ電位作成回路よりも遅い立ち上がり時間で上記ビット線,バーチャルGND線に供給するためのパワーオン時プリチャージ電位を作成するパワーオン時プリチャージ電位作成回路と、電源立ち上げ時に上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路により作成されたパワーオン時プリチャージ電位を上記プリチャージ電位供給回路に出力した後、上記パワーオン時プリチャージ電位により上記プリチャージ電位供給回路を介して全ての上記ビット線,バーチャルGND線のプリチャージが終了したと認識すると、上記常時プリチャージ電位作成回路により作成された常時プリチャージ電位に切り替えて、上記常時プリチャージ電位を上記プリチャージ電位供給回路に出力するプリチャージ電位切替回路とを備えたことを特徴としている。
【0023】
上記実施形態の半導体記憶装置によれば、電源立ち上げ時に上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路により、例えば数マイクロセカンド(μs)の立ち上がり時間を要してプリチャージ電位を全ビット線,全バーチャルGND線に供給することによって、全ビットプリチャージ動作による瞬時電流を抑制することができる。次に、上記プリチャージ電位切替回路は、上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路により供給されたプリチャージ電位と常時プリチャージ電位作成回路により作成されたプリチャージ電位とを比較して、パワーオン時プリチャージ電位作成回路により供給されたプリチャージ電位が所定の電位に達した場合に、プリチャージ電位を常時プリチャージ電位作成回路により作成された常時プリチャージ電位に切り替えて、常時プリチャージ電位をプリチャージ電位供給回路に出力することによって、プリチャージ電位供給回路によるプリチャージ電位の供給能力を向上させ、読み出し動作時に瞬時にプリチャージ電位が供給可能となる。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の半導体記憶装置を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【0025】
図1はこの発明の実施の一形態の半導体記憶装置としてのランダムアクセス機能を有するノーマルMROMの要部のブロック図である。図1に示すように、このノーマルMROMは、マトリックス状に配列された複数のメモリセル(図示せず)が8列毎に分割された複数のメモリブロックBlock0〜Blocknを有するメモリセルアレイ1と、上記メモリセルアレイ1のメモリセルの一端に接続されたビット線BL0〜BL7にプリチャージ電位を供給するプリチャージ電位供給回路としてのVREF電位供給回路2と、読み出し動作時に入力されたコラムアドレスにより指定されたメモリブロックを選択するコラムセレクタ3と、上記メモリセルアレイ1のメモリセルの他端に接続されたバーチャルGND線VG0〜VG7にプリチャージ電位を供給するプリチャージ電位供給回路としてのVREF電位供給回路4と、読み出し動作時に入力されたコラムアドレスにより指定されたメモリブロックを選択するコラムセレクタ5と、センスアンプイネーブル信号SAEに基づいて上記ビット線BL0〜BL7を切り離すビット線分離回路11と、センスアンプイネーブル信号SAEに基づいて上記ビット線分離回路11を介してビット線BL0〜BL7の電位とリファレンス線(図示せず)の電位との電位差を表す信号を増幅するセンスアンプ12と、上記センスアンプイネーブル信号SAEに基づいて上記バーチャルGND線VG0〜VG7を切り離すバーチャルGND線分離回路13と、上記バーチャルGND線分離回路13を介してバーチャルGND線VG0〜VG7に接続されたバーチャルGND線作成回路14とを備えている。上記バーチャルGND線作成回路14は、入力されるアドレスによって所望のバーチャルGND線VG0〜VG7にグランド電位を与える。
【0026】
また、図2に示すように、上記シンクロナスMROMは、電源立ち上げ時に全ての上記ビット線BL0〜BL7,バーチャルGND線VG0〜VG7に所定の立ち上がり時間でパワーオン時プリチャージ電位VREFpを供給するパワーオン時プリチャージ電位作成回路21と、電源立ち上げ後に上記ビット線BL0〜BL7,バーチャルGND線VG0〜VG7に常時プリチャージ電位VREFnを供給する常時プリチャージ電位作成回路22と、上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路21からのパワーオン時プリチャージ電位VREFpまたは上記常時プリチャージ電位作成回路22からの常時プリチャージ電位VREFnのいずれか一方を切り替えて出力するプリチャージ電位切替回路23と、ワード線立ち上がり認識信号とビット線センス完了信号とを受けて、センスアンプイネーブル信号を出力するセンスアンプイネーブル回路24と、出力バッファイネーブル信号とATD(Address Transition Detector;アドレス遷移検出器)からのアドレス遷移信号(およびCE遷移信号)とを受けて、(デバイス)アクセス信号とプリチャージ要請信号とを出力するアクセス判別回路25と、コラム選択信号Cselb0〜Cselbn,Cselv0〜Cselvnを出力するコラムセレクタ制御回路26とを備えている。
【0027】
また、図3は上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路21の要部の構成を示す図であり、常時プリチャージ電位作成回路22の常時プリチャージ電位VREFn出力を、パワーオン時プリチャージ電位作成回路21内のシリーズ抵抗R10(約2MΩ)の一端に接続している。上記シリーズ抵抗R10は、複数の抵抗が直列接続されている。
【0028】
上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路21(図2に示す)が電源の立ち上がりを検出した後、常時プリチャージ電位作成回路22により常時プリチャージ電位VREFnを作成し、パワーオン時プリチャージ電位作成回路21内のシリーズ抵抗R10(約2MΩ)に常時プリチャージ電位VREFnを入力する。このシリーズ抵抗R10を通過した出力信号は、パワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0),VREFp(sel1),…,VREFp(seln)に至るまで、常時プリチャージ電位VREFnとなり、メモリセルアレイ1にプリチャージ電位を供給する。
【0029】
上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路21は、電源の立ち上がり後、全ビット線をプリチャージ電位にすることを目的としているが、瞬時に全ビット線プリチャージを実行すると過大な瞬時電流が発生する。そこで、この瞬時電流を抑制するために、常時プリチャージ電位VREFnをメモリセルアレイ1内に時分割に供給する。すなわち、上記常時プリチャージ電位VREFnを約2MΩの抵抗R10の一端に入力し、抵抗R10の一端から他端に向かって順次抵抗R10の途中よりパワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)〜VREFp(seln)を取り出し、取り出されたパワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)〜VREFp(seln)をビット線に供給することによって、小さい抵抗値を介してパワーオン時プリチャージ電位VREFn(sel0)が印加されたビット線から、大きい抵抗値を介してパワーオン時プリチャージ電位VREFn(seln)が印加されたビット線の順にプリチャージされるのである。このようにして全ビット線プリチャージを実行することによって、瞬時電流を抑制することができる。
【0030】
また、図4は上記常時プリチャージ電位作成回路22とプリチャージ電位切替回路23の詳細ブロック図である。図4に示すように、差動アンプ23Aと複数のプリチャージ電位切替用マルチプレクサ23B,23B,…とでプリチャージ電位切替回路23が構成されている。
【0031】
上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路21(図2に示す)からのパワーオン時プリチャージ電位VREFp(seln)を差動アンプ23Aの一方の入力端子に入力し、常時プリチャージ電位作成回路22からの常時プリチャージ電位VREFnを差動アンプ23Aの他方の入力端子に入力している。また、パワーオン時プリチャージ電位作成回路21(図2に示す)からのパワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)〜VREFp(seln)をプリチャージ電位切替用マルチプレクサ23B,23B,…の一方の入力端子に夫々入力し、常時プリチャージ電位作成回路22からの常時プリチャージ電位VREFnをプリチャージ電位切替用マルチプレクサ23B,23B,…の他方の入力端子に夫々入力している。
【0032】
図4に示すように、上記プリチャージ電位切替回路24内の差動アンプ23Aは、入力されたパワーオン時プリチャージ電位VREFp(seln)と常時プリチャージ電位VREFnの4/5の電位とを比較して、パワーオン時プリチャージ電位VREFp(seln)が常時プリチャージ電位VREFnの4/5の電位を超えた時点で差動アンプ23Aは、“H”レベルの切替信号CHVREFを出力する。そうすると、電源の立ち上がり時のプリチャージが完了したものとして、プリチャージ電位切替用マルチプレクサ23B,23B,…から出力されるプリチャージ電位は、パワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)〜VREFp(seln)から常時プリチャージ電位VREFnに切り替る。
【0033】
また、図5は上記常時プリチャージ電位作成回路22の回路図である。図5に示すように、ゲートがグランドGNDに接続されたPチャネル型トランジスタT1のソースに電源電圧Vccを印加し、そのトランジスタT1のドレインにPチャネル型トランジスタT2のソースを接続している。上記トランジスタT2のゲートをグランドGNDに接続している。そして、上記トランジスタT2のドレインにNチャネル型トランジスタT3のドレインを接続し、トランジスタT3のソースにNチャネル型トランジスタT4のドレインを接続し、以下同様にNチャネル型トランジスタT5〜T14を直列に接続している。そして、上記Nチャネル型トランジスタT3〜T14のゲートを互いに接続すると共に、トランジスタT11〜T14のソースをグランドGNDに夫々接続している。そうして、上記Nチャネル型トランジスタT6のドレインから常時プリチャージ電位VREFnを出力する。
【0034】
また、図6は上記差動アンプ23Aの回路図を示している。図6に示すように、上記差動アンプ23Aは、互いにゲートが接続され、ソースに電源電圧Vccが印加されたPチャネル型トランジスタP1,P2と、上記トランジスタP1のゲート,ドレインにドレインが接続されたNチャネル型トランジスタN1と、上記トランジスタP2のドレインにドレインが接続され、ゲートにパワーオン時プリチャージ電位VREFp(seln)が印加されたNチャネル型トランジスタN2と、上記トランジスタN1,N2のソースにドレインが接続され、ソースがグランドGNDに接続されたNチャネル型トランジスタN3と、上記常時プリチャージ電位VREFnが一端に印加され、他端がグランドGNDに接続された抵抗R11とを備えている。上記常時プリチャージ電位VREFnを抵抗R11により分圧した電圧をトランジスタN1のゲートに印加している。
【0035】
上記差動アンプ23Aは、入力されたパワーオン時プリチャージ電位VREFn(seln)と常時プリチャージ電位VREFnの4/5の電位とを比較して、パワーオン時プリチャージ電位VREFn(seln)が常時プリチャージ電位VREFnの4/5の電位を超えた時点で差動アンプ23Aは、“H”レベルの切替信号CHVREFを出力する。
【0036】
また、図7は上記プリチャージ電位切替用マルチプレクサ23B(図5に示す)の回路図である。なお、図7はプリチャージ電圧VREF(sel0)を出力するプリチャージ電位切替用マルチプレクサ23Bについて示し、他のプリチャージ電圧VREF(sel1)〜VREF(seln)を出力するプリチャージ電位切替用マルチプレクサ23Bについても同様である。
【0037】
図7に示すように、上記プリチャージ電位切替用マルチプレクサ23Bは、差動アンプ23Aからの切替信号CHVREFがゲートに入力され、ドレインに常時プリチャージ電位VREFnが印加されたNチャネル型トランジスタN11と、上記トランジスタN11のドレインにソースが接続され、ゲートに切替信号/CHVREFが入力されたPチャネル型トランジスタP11と、上記トランジスタP11のゲートにゲートが接続され、ドレインにパワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)が印加されたPチャネル型トランジスタP12とを備え、上記トランジスタN11,N12のソースとトランジスタP11,N12のドレインとを互いに接続している。上記トランジスタN11,N12のソースとトランジスタP11,N12のドレインとの接続点からプリチャージ電圧VREF(sel0)を出力する。
【0038】
上記プリチャージ電位切替用マルチプレクサ23Bは、切替信号CHVREFが“L”レベルのとき、パワーオン時プリチャージ電位作成回路22からのパワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)〜VREFp(seln)を選択し、プリチャージ電位VREF(sel0)〜VREF(seln)として出力することによって、プリチャージ電位を時分割に供給する。また、上記プリチャージ電位切替用マルチプレクサ23Bは、切替信号CHVREFが“H”レベルのとき、常時プリチャージ電位作成回路22からのプリチャージ電位の供給能力が大きい常時プリチャージ電位VREFnを選択し、プリチャージ電位VREF(sel0)〜VREF(seln)として出力することによって、読み出し動作時に瞬時にプリチャージ電位を供給可能とする。
【0039】
また、図8は図1に示すメモリブロックBlock0と、コラムセレクタ3,5およびVREF電位供給回路2およびVREF電位供給回路4の回路図を示している。なお、他のメモリブロックBlock1〜Blocknにおいても同様の構成をしている。
【0040】
図8に示すように、メモリセルアレイ1(図1に示す)のメモリブロックBlock0の同一列のメモリセル(図示せず)の一端にビット線BL0〜BL7を接続している。上記ビット線BL0〜BL7にトランジスタTB0〜TB7の一端を夫々接続し、トランジスタTB0〜TB7の他端に電源電圧Vccを夫々印加している。上記トランジスタTB0〜TB7の各ゲートにゲート信号線SG0を接続し、そのゲート信号線SG0の一端にインバータIV10の出力端子を接続し、インバータIV10の入力端子にコラム選択信号Cselb0を入力している。上記トランジスタTB0〜TB7とインバータIV10とでVREF電位供給回路2を構成している。上記インバータIV10の電源入力端子にプリチャージ電圧VREF(sel0)を印加している。また、上記ビット線BL0〜BL7は、選択トランジスタSTB0〜STB7を夫々介してビット線分離回路11(図1に示す)に接続されている。上記選択トランジスタSTB0〜STB7の各ゲートにコラム選択信号Cselb0を入力している。上記選択トランジスタSTB0〜STB7でコラムセレクタ3(図1に示す)を構成している。
【0041】
一方、上記メモリセルアレイ1の同一列のメモリセルの他端にバーチャルGND線VG0〜VG7を接続している。上記バーチャルGND線VG0〜VG7にトランジスタTV0〜TV7の一端を夫々接続し、トランジスタTV0〜TV7の他端に電源電圧Vccを夫々印加している。上記トランジスタTV0〜TV7の各ゲートにゲート信号線SG1を接続し、そのゲート信号線SG1の一端にインバータIV11の出力端子を接続し、インバータIV11の入力端子にコラム選択信号Cselv0を入力している。上記トランジスタTV0〜TV7とインバータIV11とでVREF電位供給回路4(図1に示す)を構成している。上記インバータIV11の電源入力端子にVREF(sel0)を印加している。また、上記バーチャルGND線VG0〜VG7は、選択トランジスタSTV0〜STV7を夫々介してバーチャルGND線分離回路13(図1に示す)に接続されている。上記選択トランジスタSTV0〜STV7の各ゲートにコラム選択信号Cselv0を入力している。上記選択トランジスタSTV0〜STV7でコラムセレクタ5(図1に示す)を構成している。なお、図示しないが、各メモリブロックBlock0〜Blocknの同一行のメモリセルを活性化するワード線を設けている。
【0042】
図8において、電源投入時、上記コラムセレクタ3,5のコラム選択信号Cselb0,Cselv0は、全て“L”レベルを保持している。したがって、VREF電位供給回路2内のゲート信号線SG0およびVREF電位供給回路4内のゲート信号線SG1は、プリチャージ電位切替回路23からのプリチャージ電位VREF(sel0)となる。特に、電源投入時は、プリチャージ電位切替回路23からのプリチャージ電位VREF(sel0)としてパワーオン時プリチャージ電位作成回路21のパワーオン時プリチャージ電位VREFp(sel0)が選択され、全ビット線BL0〜BL7,全バーチャルGND線VG0〜VG7には、
VREFp(sel0)−Vth
の電位が供給される(VthはトランジスタTB0〜TB7,TV0〜TV7のスレッショルド電圧)。
【0043】
その後、プリチャージ電位VREF(sel0)は、パワーオン時プリチャージ電位作成回路21のパワーオン時プリチャージ電位VREFn(sel0〜n)からプリチャージ電位作成回路22の常時プリチャージ電位VREFnに切り替わり、引き続き待機時には、VREF電位供給回路2内のゲート信号線SG0に常時プリチャージ電位VREFnが供給されると共に、VREF電位供給回路4内のゲート信号線SG1に常時プリチャージ電位VREFnが供給される。したがって、全ビット線BL0〜BL7,全バーチャルGND線VG0〜VG7には、
VREFn−Vth
の電位が供給される。ただし、全ビット線BL0〜BL7,全バーチャルGND線VG0〜VG7には、電源投入時に、
VREFp(sel0)−Vth
のプリチャージ電位が供給されており、ビット線リークおよびバーチャルGND線ワークを補う程度のものであり、スタンバイ電流は数十μAと考えられる。
【0044】
読み出し動作時にはコラムアドレスでアクセスされないビット線,バーチャルGND線には、待機時と同様に、
VREFn−Vth
のプリチャージ電位が保持されている。
【0045】
また、読み出し動作時にコラムアドレスによりアクセスされるビット線,バーチャルGND線に対しては、VREF電位供給回路2内のゲート信号線SG0にGND電位が供給されると共に、VREF電位供給回路4内のゲート信号線SG1にGND電位が供給されるために、プリチャージ電位が供給されることがない。
【0046】
このように、コラムアドレスが入力されてからワード線立ち上がり完了までは、ビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位が供給されることがなく、メモリセルによるビット線のセンス(引き)を可能にしている。
【0047】
また、図9は上記コラムセレクタ制御回路26の一部の回路図であり、一組のコラム選択信号Cselb0,Cselv0を出力する回路について示している。なお、他のコラム選択信号Cselb1〜Cselbn,Cselv1〜Cselvnを出力する回路は、コラムアドレスの入力条件が異なる以外は同様の回路構成であり、図と説明を省略する。
【0048】
図9に示すように、上記コラムセレクタ制御回路26は、コラムアドレスCA4,CA5,CA6とワード線立ち上がり期間認識信号とが入力された4入力NAND回路40と、上記4入力NAND回路40の出力端子が入力端子に夫々接続され、コラム選択信号Cselb0〜Cselbn,Cselv0〜Cselvnを夫々出力するインバータIV21,IV22とを有している。なお、図9において、3つのコラムアドレスCA4,CA5,CA6を入力した場合、コラム選択信号は8通りが得られる。しかしながら、入力されるコラムアドレスの数は、メモリブロック等の構成に応じて設定すればよい。
【0049】
また、図10はATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号を遅延させてワード線立ち上がり認識信号を得るための遅延回路を示しており、複数のインバータIV30を直列に接続し、初段のインバータIV30の入力端子にATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号を入力し、最終段のインバータIV30の出力端子からワード線立ち上がり認識信号を出力する。
【0050】
また、図11はビット線アクセス期間認識回路28の回路図を示しており、ATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号を2入力NOR回路41の一方の入力端子に入力し、その2入力NOR回路41の出力端子を2入力NOR回路42の一方の入力端子に接続している。また、上記ワード線立ち上がり認識信号を2入力NOR回路42の他方の入力端子に入力し、その2入力NOR回路42の出力端子を2入力NOR回路41の他方の入力端子に接続している。また、上記2入力NOR回路42の出力端子からワード線立ち上がり期間認識信号を出力する。
【0051】
さらに、図12は上記ビット線分離回路11,センスアンプ12の要部の回路図を示しており、リファレンス線をNチャネル型トランジスタN21のドレインに接続し、トランジスタN21のゲートにセンスアンプイネーブル回路24(図2に示す)からのセンスアンプイネーブル信号SAEを入力している。上記トランジスタN21のドレインにPチャネル型トランジスタP21のソースを接続し、トランジスタN21のソースにトランジスタP21のドレインを接続している。上記トランジスタP21のゲートにセンスアンプイネーブル信号/SAEを入力している。また、ビット線をNチャネル型トランジスタN22のドレインに接続し、トランジスタN22のゲートにセンスアンプイネーブル信号SAEを入力している。上記トランジスタN22のドレインにPチャネル型トランジスタP22のソースを接続し、トランジスタN22のソースにトランジスタP22のドレインを接続している。上記トランジスタP22のゲートにセンスアンプイネーブル信号/SAEを入力している。上記Nチャネル型トランジスタN21,N22およびPチャネル型トランジスタP21,P22をビット線毎に設けて、ビット線分離回路11(図1に示す)を構成している。
【0052】
そして、上記センスアンプイネーブル信号/SAEがゲートに入力されたPチャネル型トランジスタP23のソースに電源電圧Vccを印加し、トランジスタP23のドレインにPチャネル型トランジスタP24のソースを接続している。上記トランジスタP24のドレインにトランジスタN21のソースを接続している。上記トランジスタP24のドレインにNチャネル型トランジスタN24のドレインを接続し、トランジスタN24のソースにPチャネル型トランジスタN23のドレインを接続している。上記トランジスタN23のゲートにセンスアンプイネーブル信号SAEを入力し、トランジスタN23のソースをグランドGNDに接続している。また、上記トランジスタP23のドレインにPチャネル型トランジスタP25のソースを接続している。上記トランジスタP25のドレインにトランジスタN22のソースを接続している。上記トランジスタP25のドレインにNチャネル型トランジスタN25のドレインを接続し、トランジスタN25のソースにトランジスタN23のドレインを接続している。上記トランジスタP25のゲートとトランジスタN25のゲートとにトランジスタP24のドレインを接続している。また、上記トランジスタP24のゲートとトランジスタN24のゲートにトランジスタP25のドレインを接続している。そうして、上記トランジスタP25のドレインとトランジスタN25のドレインとの接続点よりセンスアンプ信号を出力する。上記Pチャネル型トランジスタP23,P24,P25とNチャネル型トランジスタN23,N24,N25とをビット線毎に設けて、センスアンプ12(図1に示す)を構成している。
【0053】
図12に示すように、ビット線分離回路11は、センスアンプ12にラッチ型センスアンプを使用することによって、センスアンプ出力をラッチすると同時に、センスアンプイネーブル信号SAEを使用して、センスアンプ12とビット線,レファレンス線を切り離すことによって、センスアンプ12によるリードデータ増幅動作と、ビット線分離回路11,バーチャルGND線分離回路13により分離されたビット線,バーチャルGND線のプリチャージ動作とを並行して実行することができる。
【0054】
また、図13は上記ワード線立ち上がり認識信号を遅延させてビット線センス完了信号を得るための遅延回路を示しており、複数のインバータIV40を直列に接続し、初段のインバータIV40の入力端子にワード線立ち上がり認識信号を入力し、最終段のインバータIV40の出力端子からビット線センス完了信号を出力する。
【0055】
また、図14はセンスアンプイネーブル回路24の回路図を示しており、ワード線立ち上がり認識信号を2入力NOR回路41の一方の入力端子に入力し、その2入力NOR回路41の出力端子を2入力NOR回路42の一方の入力端子に接続している。また、上記ビット線センス完了信号を2入力NOR回路42の他方の入力端子に入力し、その2入力NOR回路42の出力端子を2入力NOR回路41の他方の入力端子に接続している。また、上記2入力NOR回路42の出力端子からセンスアンプイネーブル信号SAEを出力する。
【0056】
また、図15は上記アクセス判別回路25の回路図を示しており、フリップフロップ回路51の入力端子Dに電源電圧Vccを印加すると共に、フリップフロップ回路51のクロック入力端子CKにATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号を入力している。さらに、上記フリップフロップ回路51の出力端子Qをフリップフロップ回路52の入力端子Dに接続すると共に、フリップフロップ回路52のクロック入力端子CKにATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号を入力している。上記フリップフロップ回路51,52のリセット入力端子Rに出力バッファイネーブル信号を入力している。そして、上記フリップフロップ回路51の出力端子Qから(デバイス)アクセス信号を出力し、フリップフロップ回路52の出力端子Qからプリチャージ要請信号を出力する。
【0057】
上記構成のノーマルMROMにおいて、ロウアドレス,コラムアドレスが同時に入力されると、ワード線立ち上がり認識信号は“L”レベル、ATDからのアドレス遷移およびATDからのCE遷移信号は“H”レベルとなり、ビット線アクセス期間認識回路28(図11に示す)から出力されるワード線立ち上がり期間認識信号が“L”レベルとなる。そして、上記コラムセレクタ制御回路26(図9に示す)は、入力されたコラムアドレス(CA4,CA5,CA6)をデコードして、読み出し動作時のワード線立ち上がり認識回路28(図10に示す)から出力されるワード線立ち上がり期間認識信号が“H”レベルとなるときにのみ、コラム選択信号Cselb0〜Cselbn,Cselv0〜Cselvnのうちの所望のコラム選択信号が“H”レベルとなり、その“H”レベルのコラム選択信号に対応するビット線およびバーチャルGND線がアクセスされる(メモリセルによるビット線のセンスを開始)。
【0058】
次に、上記ワード線立ち上がりが完了すると、ワード線立ち上がり認識信号は“H”レベル、ATDからのアドレス遷移およびATDからのCE遷移信号は“L”レベルとなり、ビット線アクセス期間認識回路28(図11に示す)から出力されるワード線立ち上がり期間認識信号が“L”レベルとなる。そして、上記センスアンプイネーブル回路24(図14に示す)に入力されるワード線立ち上がり認識信号が“H”レベルとなり、センスアンプイネーブル信号SAEが“H”レベルとなり、ビット線分離回路11(図1に示す)とラッチ型センスアンプ12(図1に示す)との間のビット線電位とリファレンス線電位とを保持するノードの電位の増幅がセンスアンプ12により開始される。このとき、ビット線センス完了信号は“L”レベルである。
【0059】
このとき、上記ワード線立ち上がり期間認識信号が“L”レベルであるので、コラムセレクタ制御回路26(図10に示す)のコラムセレクタ3,5を選択していたコラム選択信号が“L”レベルとなり、アクセスされていたコラムセレクタ3,5がディスエーブルとなる。上記コラム選択信号が“L”レベルとなると、選択されていたメモリブロックのVREF電位供給回路2,4のゲート信号線SG0,SG1に常時プリチャージ電位VREFnを供給して、選択されていたビット線,バーチャルGND線をプリチャージする。
【0060】
次に、ビット線センス完了信号が“H”レベルになると、センスアンプイネーブル回路24のセンスアンプイネーブル信号SAEが“L”レベルとなることで、ビット線分離回路11,バーチャルGND線分離回路14によりビット線BL0〜BLn,バーチャルGND線VG0〜VGnがラッチ型センスアンプ12と分離されるため、同時にアクセスされていたビット線,バーチャルGND線に対しても、VREF電位供給回路2,4によってプリチャージ動作が開始され、リードデータ出力までにビット線のプリチャージ動作が完了する。
【0061】
そして、上記リードデータ出力後に次のコラムアドレスCBが入力された場合、全ビット線および全バーチャルGND線のプリチャージが完了しているために、ワード線の立ち上がりと並行して、コラムアドレスCBによりアクセスされるビット線,バーチャルGND線に対しては、アクセスされたメモリセルにおいて、直ちにビット線センスが開始される。
【0062】
図16(a)〜(h)は上記ノーマルMROMのタイミング図を示している。図16(a)〜(h)では、コラムアドレスCA,CBにより選択されたメモリブロックに対する読み出し動作を示している。
【0063】
ランダムアクセスモードを有するノーマルROMのアクセスタイムを改善するには、図16に示すように、コラムアドレス(図16(a)に示す)入力およびチップイネーブル信号CE入力時に、ビット線およびバーチャルGND線のプリチャージ動作およびイコライズ動作が完了していると、ローアドレスによるワード線の立ち上げ(図16(b)に示す)と同時に、コラムアドレスによるビット線のアクセス、つまり所望のメモリセルによるビット線センス動作が実行される(図16(c),(f)に示す)。すなわち、メモリセルがオンTrならば、ビット線の電位が下がる一方、メモリセルがオフTrならば、ビット線はプリチャージ電位を維持するのである。
【0064】
したがって、最初のコラムアドレスCAの読み出し動作において、ワード線の立ち上がり時にメモリセルによるビット線のセンス動作が進行しており、ワード線の立ち上がり完了後、センスアンプイネーブルA(図16(d)に示す)に基づいてセンスアンプ12によるビット線の増幅動作が実行すると共に、ゲート信号線SG0,SG1が“H”レベルになる。そうすると、ビット線,バーチャルGND線は、再びプリチャージされる。そして、データ出力A(図16(e)に示す)を出力する。
【0065】
同様に、次のコラムアドレスCBの読み出し動作において、ワード線の立ち上がり時にメモリセルによるビット線のセンス動作が進行しており、ワード線の立ち上がり完了後、センスアンプイネーブルB(図16(g)に示す)に基づいてセンスアンプ12によるビット線の増幅動作が実行すると共に、ゲート信号線SG0,SG1が“H”レベルになる。そうすると、ビット線,バーチャルGND線は、再びプリチャージされる。そして、データ出力B(図16(h)に示す)を出力する。
【0066】
つまり、全ビットプリチャージ方式を導入することによって、ビット線プリチャージ時間,イコライズ時間およびメモリセルによるビット線センス動作時間を削減でき、アクセスタイムの高速化が図れる。
【0067】
このように、全ビットプリチャージ方式を採用し、アドレス入力時およびCE信号入力時に、全てのビット線のプリチャージ動作およびイコライズ動作が完了して、所望のプリチャージ電位を維持することによって、アクセスタイムの高速化が可能となり、また、全ビットプリチャージ動作の完了後のスタンバイ電流,動作電流が従来のマスクROM並みとする新規マスクROMを提供することができる。
【0068】
また、図12に示すビット線分離回路11は、センスアンプ12にラッチ型センスアンプを使用することによって、センスアンプ出力をラッチすると同時に、センスアンプイネーブル信号SAEを使用してセンスアンプ12に接続されていたビット線,バーチャルGND線を切り離すことによって、ビット線,バーチャルGND線のプリチャージ動作を可能にしている。
【0069】
したがって、図16のタイミング図に示すように、センスアンプ12によるリードデータ増幅動作と、ビット線分離回路11,バーチャルGND線分離回路13によって夫々分離されたビット線,バーチャルGND線のプリチャージ動作とを並行して実行することを可能にしている。
【0070】
次に、図15に示すように、アドレス入力(ATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号が“H”レベルとなることで前段のラッチ回路は“H”レベルを出力)からリードデータ出力までの期間において、アクセス判別回路25によってアクセス中か否かを判別し、アクセス中ならば、(デバイス)アクセス信号(“H”レベル)を出力する。そして、アドレス入力後、リードデータ出力までに次のアドレスが入力された場合(ATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号が“H”レベルとなることで、後段のラッチ回路は“H”レベルを出力)には、プリチャージ要請信号(“H”レベル)をアクセス判別回路25から出力する。上記プリチャージ要請信号によって、新しいアドレスによってアクセスされたビット線,バーチャルGND線に対して、新たにプリチャージ動作を行う。
【0071】
このように、入力されたアドレスに対するデータ出力が完了するまでに次のアドレスが入力された場合には、今までアクセス中のビット線,バーチャルGND線に対して、プリチャージ動作が完了していないために、新たにプリチャージ動作を行う必要が生じており、この場合のみ新たなプリチャージ動作時間が余分に必要となる。したがって、アドレス入力からデータ出力されるまでの読み出し動作中に新たにアドレスが入力された場合のみ、次の読み出し動作は従来と同様のアクセスタイムとなる。
【0072】
上記実施の形態では、半導体記憶装置としてノーマルマスクROMについて説明したが、ページモードMROM等の他の半導体記憶装置に適用してもよい。
【0073】
【発明の効果】
以上より明らかなように、この発明の半導体記憶装置は、全ビット線プリチャージ方式をランダムアクセスを行うノーマルマスクROM等に適用することによって、従来方式と比較して、プリチャージ時間,イコライズ時間およびメモリセルによるビット線のセンス動作時間が削減可能となり、アクセスタイムを高速化できる。これは、ビット線プリチャージ時間およびビット線イコライズ時間がワード線の立ち上がり時間の約2倍を要するノーマルマスクROMに対して特に有効である。
【0074】
また、高速アクセスを目的としてビット線を2分割してビット線のプリチャージ,イコライズ時間の削減を図ったマスクROMでは、センスアンプ,プリチャージ用の回路およびコラムデコーダ等が2倍必要となり、チップサイズの増加は約20%程であったが、この発明を適用することによって、メモリセルによるビット線のセンス時間の削減により約10ns程の高速化が可能となると共に、チップサイズの増加は約10%未満となる。
【0075】
また、さらなる高速化のためにワード線を分割した場合でも、ワード線の立ち上がり完了と同時にセンスアンプによってビット線の増幅ができるので、さらなるアクセスタイムの高速化が図れる。
【0076】
さらに、電源立ち上げ時、パワーオン時プリチャージ電位作成回路によって、常時プリチャージ電位作成回路よりも遅い立ち上がり時間でプリチャージ電位を全ビット線,全バーチャルGND線に供給することによって、全ビットプリチャージ動作による瞬時電流を抑制することができる。次に、上記プリチャージ電位切替回路は、上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路により供給されたプリチャージ電位と常時プリチャージ電位作成回路により作成されたプリチャージ電位とを比較して、パワーオン時プリチャージ電位作成回路により供給されたプリチャージ電位が一定電位に達した場合には、プリチャージ電位を常時プリチャージ電位作成回路により作成されたプリチャージ電位に切り替えて、プリチャージ電位供給回路に出力することによって、プリチャージ電位の供給能力を向上させ、読み出し動作時に瞬時にプリチャージ電位を供給することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はこの発明の半導体記憶装置としてのノーマルMROMの要部のブロック図である。
【図2】図2は上記ノーマルMROMの周辺部のブロック図である。
【図3】図3は上記ノーマルMROMのパワーオン時プリチャージ電位作成回路の要部の構成を示す図である。
【図4】図4は上記ノーマルMROMの常時プリチャージ電位作成回路とプリチャージ電位切替回路のブロック図である。
【図5】図5は上記ノーマルMROMの常時プリチャージ電位作成回路の回路図である。
【図6】図6は上記ノーマルMROMの差動アンプの回路図である。
【図7】図7は上記ノーマルMROMのプリチャージ電位切替用マルチプレクサの回路図である。
【図8】図8は上記ノーマルMROMのコラムセレクタとVREF電位供給回路の回路図である。
【図9】図9は上記ノーマルMROMのコラムセレクタ制御回路の一部の回路図である。
【図10】図10はATDからのアドレス遷移信号およびATDからのCE遷移信号を遅延させてワード線立ち上がり認識信号を得る回路の回路図である。
【図11】図11は上記ノーマルMROMのビット線アクセス期間認識回路の回路図である。
【図12】図12は上記ノーマルMROMのビット線分離回路およびセンスアンプの要部の回路図である。
【図13】図13はワード線立ち上がり認識信号を遅延させてビット線センス完了信号を得る回路の回路図である。
【図14】図13は上記ノーマルMROMのセンスアンプイネーブル回路の回路図である。
【図15】図15は上記ノーマルMROMのアクセス判別回路の回路図である。
【図16】図16は上記ノーマルMROMの制御タイミング図である。
【図17】図17は従来のノーマルMROMの制御タイミング図である。
【図18】図18は従来の半導体記憶装置の回路図である。
【図19】図19は上記半導体記憶装置の制御タイミング図である。
【符号の説明】
1…メモリセルアレイ、
2,4…VREF電位供給回路、
3,5…コラムセレクタ、
11…ビット線分離回路、
12…センスアンプ、
13…バーチャルGND線分離回路、
14…バーチャルGND線作成回路、
21…パワーオン時プリチャージ電位作成回路、
22…常時プリチャージ電位作成回路、
23…プリチャージ電位切替回路、
23A…差動アンプ、
23B…プリチャージ電位切替用マルチプレクサ、
24…センスアンプイネーブル回路、
25…アクセス判別回路、
26…コラムセレクタ制御回路、
28…ビット線アクセス期間認識回路。
Claims (3)
- マトリックス状に配列された複数のメモリセルと、
上記複数のメモリセルの同一行のメモリセルを活性化するためのワード線と、
上記複数のメモリセルの同一列のメモリセルの一端に接続されたビット線と、
上記複数のメモリセルの同一列のメモリセルの他端に接続されたバーチャルGND線とを備えた半導体記憶装置であって、
読み出し動作時、上記ワード線の立ち上がりが完了すると、選択されたメモリセルの列に接続された上記ビット線の電位とリファレンス線の電位との電位差を表す信号を保持して増幅するセンスアンプと、
電源立ち上げ時に全ての上記ビット線 , バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給すると共に、読み出し動作時、上記選択されたメモリセルの列に接続された上記ビット線を上記メモリセルによりセンスする期間終了後、上記選択されていたメモリセルの列に接続された上記ビット線 , バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給するプリチャージ電位供給回路と、
読み出し動作時、上記センスアンプによって上記ビット線の電位とリファレンス線の電位との電位差を表す信号を保持すると、上記センスアンプに接続された上記ビット線と上記リファレンス線とを上記センスアンプの増幅動作期間切り離すと共に、グランド電位に接続された上記バーチャルGND線を上記センスアンプの増幅動作期間切り離す分離回路とを備え、
読み出し動作時に上記分離回路によって上記センスアンプから切り離された上記ビット線 , 上記バーチャルGND線に、上記プリチャージ電位供給回路によりプリチャージ電位を供給することを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項1に記載の半導体記憶装置において、
アドレス入力からデータ出力されるまでの読み出し動作中に新たにアドレスが入力された場合、上記読み出し動作中であることを認識して、上記ビット線,バーチャルGND線にプリチャージ電位を供給させるプリチャージ要請信号を上記プリチャージ電位供給回路に出力するアクセス判別回路を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。 - 請求項1または2に記載の半導体記憶装置において、
上記ビット線,バーチャルGND線に供給するための常時プリチャージ電位を作成する常時プリチャージ電位作成回路と、
上記常時プリチャージ電位作成回路よりも遅い立ち上がり時間で上記ビット線,バーチャルGND線に供給するためのパワーオン時プリチャージ電位を作成するパワーオン時プリチャージ電位作成回路と、
電源立ち上げ時に上記パワーオン時プリチャージ電位作成回路により作成されたパワーオン時プリチャージ電位を上記プリチャージ電位供給回路に出力した後、上記パワーオン時プリチャージ電位により上記プリチャージ電位供給回路を介して全ての上記ビット線,バーチャルGND線のプリチャージが終了したと認識すると、上記常時プリチャージ電位作成回路により作成された常時プリチャージ電位に切り替えて、上記常時プリチャージ電位を上記プリチャージ電位供給回路に出力するプリチャージ電位切替回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18901199A JP3615423B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 半導体記憶装置 |
US09/605,975 US6324109B1 (en) | 1999-07-02 | 2000-06-29 | Semiconductor storage device capable of increasing access time speed |
TW089112847A TW472265B (en) | 1999-07-02 | 2000-06-29 | Semiconductor storage device capable of increasing access time speed |
KR10-2000-0037583A KR100372838B1 (ko) | 1999-07-02 | 2000-07-01 | 액세스 속도를 증가시킬 수 있는 반도체 기억장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18901199A JP3615423B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001023387A JP2001023387A (ja) | 2001-01-26 |
JP3615423B2 true JP3615423B2 (ja) | 2005-02-02 |
Family
ID=16233815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18901199A Expired - Fee Related JP3615423B2 (ja) | 1999-07-02 | 1999-07-02 | 半導体記憶装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6324109B1 (ja) |
JP (1) | JP3615423B2 (ja) |
KR (1) | KR100372838B1 (ja) |
TW (1) | TW472265B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3519676B2 (ja) * | 2000-08-10 | 2004-04-19 | 沖電気工業株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2002150768A (ja) * | 2000-11-06 | 2002-05-24 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2004355760A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Renesas Technology Corp | データ記憶回路 |
JP2006331620A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-12-07 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
JP4864605B2 (ja) * | 2006-08-22 | 2012-02-01 | 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
KR101658118B1 (ko) | 2010-06-10 | 2016-09-20 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 메모리 장치, 및 이의 독출 및 검증 방법 |
KR102022355B1 (ko) | 2012-07-10 | 2019-09-18 | 삼성전자주식회사 | 파워 게이팅 회로 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06139787A (ja) | 1992-10-26 | 1994-05-20 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JPH08124395A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Nkk Corp | メモリ装置 |
JP3359209B2 (ja) * | 1995-11-29 | 2002-12-24 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置及びメモリアクセス方法 |
KR100240418B1 (ko) * | 1996-12-31 | 2000-03-02 | 윤종용 | 반도체 독출 전용 메모리 및 그의 독출 방법 |
KR100294447B1 (ko) * | 1998-06-29 | 2001-09-17 | 윤종용 | 불휘발성반도체메모리장치 |
-
1999
- 1999-07-02 JP JP18901199A patent/JP3615423B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-06-29 US US09/605,975 patent/US6324109B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-29 TW TW089112847A patent/TW472265B/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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