JP3428526B2 - 液晶装置及び電子機器 - Google Patents

液晶装置及び電子機器

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JP3428526B2 JP27525099A JP27525099A JP3428526B2 JP 3428526 B2 JP3428526 B2 JP 3428526B2 JP 27525099 A JP27525099 A JP 27525099A JP 27525099 A JP27525099 A JP 27525099A JP 3428526 B2 JP3428526 B2 JP 3428526B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置及びこの
液晶装置を備えた電子機器に関するものであり、特に、
走査電極あるいはデータ電極となるストライプ状の電極
の一部に電極幅の狭い部分を設けることによって電極の
形成時に走査電極同士の短絡を防止できるようにした液
晶装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばＴＦＤ素子(Thin Film dio
de)を用いた液晶装置は、ＴＦＤ素子及び画素電極が形
成された透明基板、いわゆるアレイ基板を有すると共
に、この透明基板に対向する対向基板を有している。
【０００３】透明基板及び対向基板の互いに対向する面
と反対側の面には、それぞれ偏光板が貼り付けられ、透
明基板及び対向基板の互いに対向する面には、配向膜が
形成され、これらの対向する配向膜の間に液晶層及びス
ペーサ等が配置されている。
【０００４】図１７に上述の液晶装置の対向基板の要部
平面図を示し、図１８には図１７のＡ−Ａ’線に沿う断
面図を示す。尚、これらの図は、対向基板の構成を説明
するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さ
や寸法等は、実際の対向基板の寸法関係とは異なる。
【０００５】図１７と図１８に示すように、対向基板２
０上には複数の色材層２１…が形成され、各色材層２１
…の間には、マトリックス状に形成されたクロム等から
なる遮光層２２が設けられている。
【０００６】更に対向基板２０には、図１７及び図１８
に示すように、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保
護膜２３が設けられている。これら色材層２１…、遮光
層２２及び保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが
構成されている。
【０００７】また、図１８に示すように、保護膜２３
は、有効領域の最外周に位置する色材層２１と遮光層２
２の最外周の輪郭を構成する遮光層外縁部２２ａとによ
る段差２３ｂが形成され、遮光層外縁部２２ａの外側に
位置する保護膜周縁部２３ａにも保護膜２３の膜厚によ
る段差２３ｃが形成されている。これらの段差２３ｂ、
２３ｃによる段差部の合計の高さ、即ち対向基板２０の
上面（保護膜の非形成領域２６）から、有効領域２７に
おける保護膜２３の上面までの高さは、一般的な液晶装
置において約５μｍ程度とされている。
【０００８】そして、保護膜２３上には複数の短冊状の
走査電極あるいはデータ電極として機能するストライプ
電極２４…が形成されている。
【０００９】ストライプ電極２４…は、ＩＴＯ(Indium
Tin Oxide)膜等の透明導電性膜からなるもので、図１７
及び図１８に示すように、保護膜２３上（保護膜の形成
領域２５）に形成され、保護膜周縁部２３ａを経て保護
膜２３の非形成領域２６まで延在している。
【００１０】なお、保護膜の非形成領域２６とは、保護
膜２３が形成されていない領域を指し、具体的には基板
２０の上面が露出している保護膜２３の周囲の領域を指
す。
【００１１】現在一般的な高精細な液晶装置におけるス
トライプ電極２４の電極幅は１００μｍ前後とされ、各
ストライプ電極２４、２４間の間隔（以下、配線間ギャ
ップＧと記載する）は２０μｍ以下とされている。更
に、高解像度の液晶装置の場合は特に、配線間ギャップ
Ｇが１２μｍ以下に形成されるようになっている。
【００１２】このＩＴＯからなる短冊状のストライプ電
極２４…は、いわゆるフォトリソグラフィ技術により形
成される。即ち、保護膜２３及び対向基板２０上におい
てスパッタリング等によるＩＴＯ層の形成、ＩＴＯ層へ
のポジ型レジスト層の形成、露光・現像によるポジ型レ
ジストのパターニング、パターニングされたレジストを
マスクとするＩＴＯ層のエッチング等の工程を経て形成
される。
【００１３】尚、配線間ギャップＧはストライプ電極２
４の電極幅と比較して極めて小さく、ばらつきを生じる
ことがあるため、ストライプ電極２４…を形成した後
に、配線間ギャップＧを顕微鏡等で目視により検査して
いる。
【００１４】配線間ギャップＧのばらつきは、ストライ
プ電極２４…と、透明基板上に設けられた画素電極との
位置ずれの原因になることから、配線間ギャップＧの検
査は保護膜２３の形成領域２５において行うのが最も好
ましいと考えられる。
【００１５】しかし、保護膜２３の形成領域２５、特に
有効領域２７においては、透明なストライプ電極２４の
下側に光反射率の高い遮光層２２が位置しているので、
遮光層２２からの反射光によりストライプ電極２４…の
視認が難しくなり、保護膜２３の形成領域２５での配線
間ギャップＧの検査が難しくなっている。従って配線間
ギャップＧの検査は通常、ストライプ電極２４…の電極
幅がその長手方向に沿って一定であることを利用し、有
効領域２７の外側にて行なっていた。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のスト
ライプ電極２４…の形成工程では、ＩＴＯ層上に積層す
るポジ型レジストの厚さが、段差部２３ｂ、２３ｃ付近
で規定の厚さよりも大きくなる場合がある。ポジ型レジ
ストの厚さが規定より大きくなる部分では露光が不完全
になりやすく、このため段差部２３ｂ、２３ｃ付近のポ
ジ型レジストの一部が現像後も残存することがある。こ
のレジストの残存部分の存在は、例えば図１７に示すよ
うに、ストライプ電極２４のバリ２４ｘの発生や、スト
ライプ電極２４、２４同士を短絡させるブリッジ２４ｙ
の発生の原因となり、液晶装置の歩留まり低下の遠因と
なっていた。
【００１７】また、バリ２４ｘやブリッジ２４ｙが発生
すると、ストライプ電極２４…の電極幅がその長手方向
に沿って一定にならなくなるので、有効領域２７の外側
で配線間ギャップＧを検査した意味が無く、液晶装置の
歩留まりの向上が困難となっていた。
【００１８】特に、ストライプ電極２４、２４同士の短
絡は、配線間ギャップＧが小さい高解像度の液晶装置に
多く発生し、これにより高解像度の液晶装置の歩留まり
が低くなっていた。
【００１９】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であって、電極同士が短絡することなく、製造工程にお
ける歩留まりが高く、また配線間ギャップの測定が容易
に行える液晶装置を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は以下の構成を採用した。
【００２１】本発明の液晶装置は、複数の色材層と、前
記色材層の周囲にある遮光層と、前記色材層および前記
遮光層を覆っている保護膜と、前記保護膜上にストライ
プ状に配置された複数の電極とを有する基板を具備した
液晶装置であって、前記基板上には前記保護膜が形成さ
れた形成領域と、前記保護膜が形成されていない非形成
領域とがあり、前記保護膜は、前記保護膜の形成領域と
前記保護膜の非形成領域との切り換わりに段差部を有
し、前記電極は前記非形成領域に延在しており、前記段
差部上にある前記電極の幅は、前記色材層上にある前記
電極の幅より狭く、前記非形成領域にある前記電極は、
該電極の幅が前記色材層上にある前記電極の幅と一致す
る部分を有することを特徴とする。
【００２２】また、本発明の液晶装置は、複数の色材層
と、前記色材層の周囲にある遮光層と、前記色材層およ
び前記遮光層を覆っている保護膜と、前記保護膜上にス
トライプ状に配置された複数の電極とを有する基板を具
備した液晶装置であって、前記基板上には前記保護膜が
形成された形成領域と、前記保護膜が形成されていない
非形成領域とがあり、前記保護膜は、前記保護膜の形成
領域と前記保護膜の非形成領域との切り換わりに段差部
を有し、前記電極は前記非形成領域に延在しており、前
記段差部上にある隣り合う前記電極間のギャップが、前
記色材層上にある隣り合う前記電極間のギャップよりも
大きく、前記非形成領域にある隣り合う前記電極は、該
電極間のギャップが前記色材層上にある隣り合う前記電
極間のギャップと一致する部分を有することを特徴とす
る。
【００２３】係る液晶装置によれば、保護膜の段差部で
電極の幅が狭くされるように構成されており、この構成
によって保護膜の段差部における電極間の間隔（以下、
配線間ギャップと記載する）が大きくなるので、段差部
での電極同士の短絡を防止することが可能になる。
【００２４】係る液晶装置によれば、電極の幅が、保護
膜の段差部で狭くされると共に、保護膜の非形成領域に
おける電極幅が有効領域の保護膜上に配設された電極の
幅に一致するように構成されている。この構成を採用す
ることによって、保護膜の段差部上に配設された電極の
配線間ギャップが大きくなり、これにより段差部での電
極同士の短絡が防止される。
【００２５】また、保護膜の非形成領域側における電極
幅が有効領域における電極幅に一致するために、配線間
ギャップを保護膜の非形成領域で測定することができ、
遮光層の反射光により配線間ギャップの測定が妨害され
ることがない。
【００２６】また、上記液晶装置において、前記非形成
領域にある前記電極の輪郭を構成する一対の辺は、前記
有効領域にある前記電極の輪郭を構成する一対の辺の延
長線上にあることを特徴とする。
【００２７】係る液晶装置によれば、保護膜の非形成領
域における電極の一対の辺が、有効領域における電極の
一対の辺の延長線上にあるので、保護膜の非形成領域に
おいて配線間ギャップをより正確に測定することが可能
になる。
【００２８】
【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下、本発明
の第１の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２９】図１に本発明の第１の実施形態である液晶
装置の斜視図を示し、図２には図１に示す液晶装置の要
部の斜視図を示す。尚、これらの図は、液晶装置の構成
を説明するためのものであり、図示される各部の大きさ
や厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関係とは異な
る。
【００３０】図１に示す液晶装置１は、ＴＦＤ素子(Thi
n Film diode)を用いたもので、図１に示すように、Ｔ
ＦＤ素子が形成された透明基板１０、いわゆるアレイ基
板を有すると共に、透明基板１０に対向する位置に対向
基板２０が配置されている。
【００３１】透明基板１０には図２に示すように、マト
リックス状に配置されたＴＦＤ素子１４…と、複数の信
号線あるいは走査線として機能する配線１５…とが形成
されており、各配線１５…は複数のＴＦＤ素子１４…を
直列に接続している。また、各ＴＦＤ素子１４…には画
素電極１６…が接続されている。
【００３２】また、図２に示すように、透明基板１０及
び対向基板２０の互いに対向する面の反対側の面には、
偏光板３０、３１がそれぞれ貼り付けられている。ま
た、透明基板１０及び対向基板２０の互いに対向する面
には、図示しないが配向膜が形成されており、これらの
対向する配向膜の間に液晶層及びスペーサ等が配置され
ている。
【００３３】また、図３に対向基板２０の要部(図１に
示す２点鎖線枠内)の平面図を示し、図４には図３に示
すＢ−Ｂ’線に沿う断面図を示す。尚、これらの図は、
図１及び図２と同様、液晶装置の構成を説明するための
ものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等
は、実際の液晶装置の寸法関係とは異なる。
【００３４】図２、図３及び図４に示すように、対向基
板２０上（図２では対向基板２０の下側）には複数の色
材層２１…が形成され、各色材層２１…の間には、マト
リックス状に形成されたクロム等からなる遮光層２２が
設けられている。
【００３５】更に対向基板２０には、図２〜図４に示す
ように、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保護膜２
３が設けられている。これら色材層２１…、遮光層２２
及び保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが構成さ
れている。
【００３６】各色材層２１…は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、
青（Ｂ）のいずれかに着色されてなるもので、図３では
モザイク状に配置されているが、ストライプ状あるいは
トライアングル状などの他の態様に配置されたものであ
っても良い。
【００３７】遮光層２２は、色材層２１…を囲むように
マトリックス状に形成されたもので、クロム等からな
り、コントラストの向上、色材の混合防止などの機能、
いわゆるブラックマトリックスとしての機能を有してい
るものである。
【００３８】また、図４に示すように、保護膜２３は、
有効領域２７の最外周にある色材層と遮光層２２の最外
周の輪郭を構成する遮光層外縁部２２ａとによる段差２
３ｂと、保護膜２３の輪郭を構成する保護膜周縁部２３
ａにおける保護膜２３の膜厚に相当する段差２３ｃと、
からなる段差部を有する。すなわち、有効領域２７と保
護膜の非形成領域２６の間に、保護膜が段差を有する領
域２９（以降、保護膜の段差部２９という）が設けられ
ている。
【００３９】また遮光層２２が保護膜２３に覆われてい
るため、遮光層外縁部２２ａは、保護膜周縁部２３ａよ
りも色材層２１…寄りに位置している。
【００４０】これらの段差部２３ｂ、２３ｃの合計の高
さは、約５μｍ程度とされている。
【００４１】そして、保護膜２３上（図２では保護膜２
３の下側）には複数の略短冊状の走査電極あるいはデー
タ線として機能するストライプ電極２４…が形成されて
いる。
【００４２】ストライプ電極２４…は、ＩＴＯ(Indium
Tin Oxide)膜等の透明導電性膜からなるもので、図４に
示すように、保護膜２３上（保護膜の形成領域２５）に
形成されると共に、保護膜周縁部２３ａを経て保護膜２
３の非形成領域２６まで延在している。
【００４３】なお、保護膜２３の非形成領域２６とは、
保護膜２３が形成されていない領域を指し、具体的には
基板２０の上面が露出している保護膜２３の周囲の領域
を指す。
【００４４】またこれ以後、有効領域の最外周に位置す
る色材層に囲まれた領域を有効領域２７と称する。
【００４５】ストライプ電極２４は、有効領域２７上に
位置する電極基部２４ａと、保護膜の段差部２９上およ
び保護膜非形成領域２６上に位置して電極基部２４ａに
連結する電極狭部２４ｂとから構成されている。なお本
実施形態で電極狭部２４ｂは、遮光層外縁部２２ａ上で
電極基部２４ａに連結しているが、この連結部は色材層
２１側に若干接近していても差し支えない。
【００４６】また、電極基部２４ａ並びに電極狭部２４
ｂのそれぞれの電極幅は、それぞれの長手方向に対して
一定になっている。
【００４７】そして電極狭部２４ｂの電極幅は、電極基
部２４ａの電極幅よりも狭くされている。
【００４８】このようにして、保護膜の段差部２９にお
けるストライプ電極２４…の電極幅が、有効領域２７に
おける電極幅よりも狭くされている。
【００４９】これにより、保護膜の段差部２９における
各ストライプ電極２４…の間隔（以下、配線ギャップＧ
2と記載する）が、有効領域２７上における各ストライ
プ電極２４…の間隔（以下、配線ギャップＧ1と記載す
る）より大きくなる。
【００５０】具体的には、電極基部２４ａの電極幅が７
０〜 ２００μｍの範囲、例えば１００μｍ程度とさ
れ、電極狭部２４ｂの電極幅が６０〜１８０μｍの範
囲、例えば９６μｍ程度とされている。また配線間ギャ
ップＧ1が２０μｍ以下、高解像度の液晶装置の場合の
配線間ギャップＧ1は１２μｍ以下とされている。
【００５１】これにより、電極狭部２４ｂにおける配線
間ギャップＧ2が２４μｍ以下、高解像度の液晶装置の
場合の配線間ギャップＧ2が１６μｍ以下となる。
【００５２】なお、電極幅及び各配線間ギャップの大き
さは、上記に記載した範囲に限定されるものではなく、
任意に変更することが可能である。
【００５３】このストライプ電極２４…は以下に説明す
るように、フォトリソグラフィ技術により形成される。
【００５４】まず図５に示すように、対向基板２０上に
遮光層２２、色材層２１…、保護膜２３を順次積層して
カラーフィルタを形成する。
【００５５】次に図６に示すように、保護膜２３及び対
向基板２０上にＩＴＯ層２４ｃ、ポジ型のフォトレジス
ト層３１を順次積層し、所定のマスクを用いてポジ型フ
ォトレジストに光を照射してフォトレジスト層３１の露
光・現像を行い、パターニングされたフォトレジスト層
をマスクとしてＩＴＯ層の一部をエッチングして除去す
る。
【００５６】図６において、ＩＴＯ層２４ｃが保護膜２
３及び対向基板２０上に積層され、このＩＴＯ層２４ｃ
上にポジ型のフォトレジスト層３１が積層される。従っ
て、ポジ型のフォトレジスト層３１には段差部２９に由
来する段差部３１ａが形成されるか、あるいはこの保護
膜の段差部を埋めるようにレジスト３１が塗布される。
このため、このレジスト層の段差部３１ａでは露光が不
完全になってレジスト層３１の一部がエッチング後でも
残存することがある。
【００５７】しかし、この段差部３１ａ近傍に形成され
るストライプ電極２４の配線ギャップＧ2が大きくなる
ように構成されているので、たとえこの部分でフォトレ
ジスト層３１が残存したとしても、配線間ギャップＧ2
が大きいためストライプ電極２４、２４同士が短絡する
ようにレジスト層が残存することはない。
【００５８】そして図７に示すように、残存したフォト
レジスト層３１を除去することにより、図２及び図３に
示すようなストライプ電極２４…が得られる。
【００５９】上記の液晶装置は、ストライプ電極２４の
電極狭部２４ｂの電極幅が電極基部２４ａの電極幅より
も狭く構成されているので、保護膜の段差部２９におけ
る配線間ギャップＧ2が大きくなり、保護膜の段差部に
おけるストライプ電極２４…同士の短絡を防止できる。
【００６０】（第２の実施形態）次に、本発明の第２の
実施形態を図面を参照して説明する。
【００６１】図８に本発明の第２の実施形態である液晶
装置の対向基板２０の要部の平面図を示し、図９には図
８に示すＣ−Ｃ’線に沿う断面図を示す。
【００６２】尚、これらの図は図１〜図４と同様に液晶
装置の構成を説明するためのものであり、図示される各
部の大きさや厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関
係とは異なる。
【００６３】また、図８及び図９に示す構成要素のう
ち、図３及び図４に示す構成要素と同一の構成要素に
は、図３及び図４と同一の符号を付してその説明を省
略、若しくは簡単に説明する。
【００６４】図８及び図９に示すように、対向基板２０
上には複数の色材層２１…が形成され、各色材層２１…
の間には、マトリックス状に形成されたクロム等からな
る遮光層２２が設けられている。
【００６５】更に対向基板２０には、図９に示すよう
に、各色材層２１…及び遮光層２２を覆う保護膜２３が
設けられている。これら色材層２１…、遮光層２２及び
保護膜２３によりいわゆるカラーフィルタが構成されて
いる。
【００６６】また、図９に示すように、保護膜２３に
は、有効領域の最外周に位置する色材層と遮光層２２の
最外周の輪郭を構成する遮光層外縁部２２ａとによる段
差２３ｂが形成され、保護膜２３の輪郭を構成する保護
膜周縁部２３ａには保護膜２３の膜厚に相当する段差２
３ｃが形成されている。保護膜２３は、有効領域２７に
おける保護膜２３と保護膜非形成領域２６との間に、段
差部２９を有する。
【００６７】また遮光層２２が保護膜２３に覆われてい
るため、遮光層外縁部２２ａは、保護膜周縁部２３ａよ
りも色材層２１…寄りに位置している。
【００６８】これらの段差部２９の合計の高さは、約５
μｍ程度とされている。
【００６９】そして、保護膜２３上（図２では保護膜２
３の下側）には複数の略短冊状のストライプ電極４４…
が形成されている。
【００７０】ストライプ電極４４…は、ＩＴＯ(Indium
Tin Oxide)膜等の透明導電性膜からなるもので、図８及
び図９に示すように、保護膜２３上（保護膜の形成領域
２５）に形成されると共に、保護膜周縁部２３ａを経て
保護膜２３の非形成領域２６まで延在している。
【００７１】図８に示すように、ストライプ電極４４
は、有効領域２７に位置する電極基部４４ａと、保護膜
の段差部２９上に位置して電極基部４４ａに連結する電
極狭部４４ｂと、保護膜２３の非形成成領域２６に位置
して電極狭部４４ｂに連結する電極端部４４ｃとから構
成されている。
【００７２】電極狭部４４ｂは、保護膜の段差部２９か
ら保護膜周縁部２３ａの外側まで延在している。本実施
例では、電極狭部４４ｂは遮光層外縁部２２ａ上で電極
基部２４ａと連結し、保護膜周縁部２３ａより外側で電
極端部４４ｃと連結しているが、電極基部４４ａと電極
狭部４４ｂとの接続部は、色材層よりに位置していても
良い。
【００７３】また、電極基部４４ａ、電極狭部４４ｂ並
びに電極端部４４ｃのそれぞれの電極幅は、それそれの
長手方向に対して一定になっている。
【００７４】そして電極狭部４４ｂの電極幅は、電極基
部４４ａ及び電極端部４４ｃの電極幅よりも狭くされて
いる。また、電極基部４４ａの電極幅と電極端部４４ｃ
の電極幅は同一とされている。
【００７５】また、電極端部４４ｃの長手方向の輪郭を
構成する一対の辺４４ｄ、４４ｄは、電極基部４４ａの
長手方向の輪郭を構成する一対の辺４４ｅ、４４ｅの延
長線上に位置している。
【００７６】これにより、保護膜の段差部２９における
配線ギャップＧ4が、有効領域２７における配線間ギャ
ップＧ3よりも大きくなる。また有効領域２７における
配線間ギャップＧ3と、保護膜２３の非形成領域２６に
おける配線間ギャップＧ5とが一致する。
【００７７】具体的には、電極基部４４ａ及び電極端部
４４ｃの電極幅が７０〜２００μｍの範囲、例えば１０
０μｍ程度とされ、電極狭部４４ｂの電極幅が６０〜１
８０μｍの範囲、例えば９６μｍ程度とされている。ま
た電極基部４４ａ及び電極端部４４ｃにおける配線間ギ
ャップＧ3、Ｇ5が２０μｍ以下、高解像度の液晶装置の
場合は、配線間ギャップＧ3、Ｇ5が１２μｍ以下とされ
ている。
【００７８】これにより、電極狭部４４ｂにおける配線
間ギャップＧ4が２４μｍ以下、高解像度の液晶装置の
場合に配線間ギャップＧ4が１６μｍ以下となる。
【００７９】なお、電極幅及び配線ギャップの大きさ
は、上記に記載した範囲に限定されるものではなく、任
意に変更することが可能である。
【００８０】この実施形態の液晶装置は、ストライプ電
極４４の電極狭部４４ｂの電極幅が電極基部４４ａの電
極幅よりも狭く構成されているので、段差部２９におけ
る配線間ギャップＧ4が大きくなり、遮光層外縁部２２
ａの段差２２ｂ近傍におけるストライプ電極４４…同士
の短絡を防止できる。
【００８１】また、遮光層２２からの反射光により有効
領域２７における配線間ギャップＧ3の測定が妨げられ
たとしても、電極端部４４ｃにおける配線間ギャップＧ
5が配線間ギャップＧ3と同一であるので、配線間ギャッ
プＧ5を測定することで配線間ギャップＧ3の大きさを知
ることができる。
【００８２】更に、電極端部４４ｃの輪郭を構成する一
対の辺４４ｄ、４４ｄが、電極基部４４ａの輪郭を構成
する一対の辺４４ｅ、４４ｅの延長線上に位置している
ので、配線間ギャップＧ5を測定することで電極基部４
４ａにおける配線間ギャップＧ3をより正確に測定する
ことができる。
【００８３】（液晶装置の別の構成）上記の第１の実施
形態及び第２の実施形態においては、本発明をＴＦＤ素
子型の液晶装置に適用した形態について説明したが、本
発明はこれに限らず、例えば図１０に示すような単純マ
トリックス型の液晶装置に本発明を適用しても良い。
【００８４】図１０に単純マトリックス型の液晶装置の
要部の斜視図を示す。尚、この図は、液晶装置の構成を
説明するためのものであり、図示される各部の大きさや
厚さや寸法等は、実際の液晶装置の寸法関係とは異な
る。
【００８５】なお、ここでは、第１の実施形態で説明し
たストライプ電極２４を適用する例を説明するが、第２
の実施形態にて説明したストライプ電極４４を適用して
もよいのは勿論である。
【００８６】図１０に示す単純マトリックス型の液晶装
置は、データ線あるいは走査線として機能する複数の短
冊状の電極５６が形成された透明基板５０を有すると共
に、透明基板５０に対向する位置に上記の対向基板２０
が配置されている。
【００８７】電極５６…は、相互に一定の間隔をあけて
配置され、それぞれ同一方向に延在している。
【００８８】また、透明基板５０及び対向基板２０の互
いに対向する面の反対側の面には、偏光板３０、３１が
それぞれ貼り付けられている。また、透明基板５０及び
対向基板２０の互いに対向する面には、図示しないが配
向膜が形成されており、これらの対向する配向膜の間に
液晶層及びスペーサ等が配置されている。
【００８９】そして、対向基板２０上（図１０では対向
基板２０の下側）には複数の色材層２１…が形成され、
各色材層２１…の間には、マトリックス状に形成された
クロムからなる遮光層２２が設けられている。
【００９０】更に対向基板２０には、各色材層２１…及
び遮光層２２を覆う保護膜２３が設けられている。これ
ら色材層２１…、遮光層２２及び保護膜２３によりいわ
ゆるカラーフィルタが構成されている。
【００９１】そして、保護膜２３上（図２では保護膜２
３の下側）には、先に詳細に説明した走査線あるいはデ
ータ線として機能する複数の略短冊状のストライプ電極
２４…が形成されている。ストライプ電極２４…の長手
方向は、データ電極５６…の長手方向に対して交差する
関係になっている。
【００９２】（電子機器）次に、以上詳細に説明した液
晶装置を備えた電子機器の実施形態について図１１及び
図１２を参照して説明する。
【００９３】なお、ここでは、第１の実施形態の液晶装
置を適用する例を説明するが、第２の実施形態の液晶装
置を適用してもよいのは勿論であり、また上記の単純マ
トリックス型の液晶装置として適用してもよい。
【００９４】まず図１１に、第１の実施形態の液晶装置
を備えた電子機器の概略構成を示す。図１１において、
電子機器は、表示情報出力源１０００、表示情報処理回
路１００２、駆動回路１００４、上記の第１実施形態の
液晶装置１、クロック発生回路１００８並びに電源回路
１０１０を備えて構成されている。
【００９５】表示情報出力源１０００は、ＲＯＭ(Read
Only Memory)、ＲＡＭ(Random Access Memory)、光ディ
スク装置などのメモリ、画像信号を同調して出力する同
調回路等を含み、クロック発生回路１００８からのクロ
ック信号に基づいて所定フォーマットの画像信号などの
表示情報を表示情報回路１００２に出力する。
【００９６】表示情報処理回路１００２は、増幅・極性
反転回路、シリアル−パラレル変換回路、ローテーショ
ン回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種
処理回路を含んで構成されており、クロック信号に基づ
いて入力された表示情報からデジタル信号を順次生成
し、クロック信号ＣＬＫとともに駆動回路１００４に出
力する。駆動回路１００４は液晶装置１を駆動する。
【００９７】次に図１２にこのように構成された電子機
器の具体例を示す。
【００９８】図１２において、電子機器の他の例たるマ
ルチメディア対応のラップトップ型のパーソナルコンピ
ュータ１２００は上記第１の実施形態の液晶装置１がト
ップカバーケース内に設けられており、更に、ＣＰＵ、
メモリ、モデム等を収容すると共にキーボード１２０２
が組み込まれた本体１２０４を備えている。
【００９９】更に図１３には電子機器の他の例である携
帯型電話を示す。図１３において、符号２００は携帯電
話本体を示し、符号２０１は上記の液晶装置１を用いた
液晶表示部を示している。
【０１００】図１４には電子機器のその他の例であるワ
ープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置を示す。図
１４において、符号３００は情報処理装置、符号３０１
はキーボードなどの入力部、符号３０３は情報処理装置
本体、符号３０２は上記の液晶装置１を用いた液晶表示
部を示している。
【０１０１】図１５には電子機器のその他の例である腕
時計型電子機器を示す。図１５において、符号４００は
時計本体を示し、符号４０１は上記の液晶装置１を用い
た液晶表示部を示している。
【０１０２】また図１６には、電子機器の別の例である
投射型表示装置を示す。
【０１０３】図１６において、符号５３０は光源、符号
５３３、５３４はダイクロイックミラー、符号５３５、
５３６、５３７は反射ミラー、符号５３８は入射レン
ズ、符号５３９はリレーレンズ、符号５２０は出射レン
ズ、符号５２２、５２３、５２４は上記の液晶装置１を
用いた液晶光変調装置、符号５２５はクロスダイクロイ
ックプリズム、符号５２６は投射レンズを示している。
【０１０４】光源５３０は、メタルハラルドなどのラン
プ５３１とランプ５３１の光を反射するリフレクタ５３
２とからなる。青色光・緑色光反射のダイクロイックミ
ラー５３３は、光源５３０からの光束のうちの赤色光を
透過させるとともに青色光と緑色光とを反射する。透過
した赤色光は、反射ミラー５３７で反射されて、赤色光
用液晶光変調装置５２２に入射される。一方、ダイクロ
イックミラー５３３で反射された色光のうち緑色光は、
緑色光反射のダイクロイックミラー５３４によって反射
され、緑色光用液晶光変調装置５２３に入射される。一
方、青色光は、第２のダイクロイックミラー５３４も透
過する。青色光に対しては、長い光路による光損失を防
ぐため、入射レンズ５３８、リレーレンズ５３９、出射
レンズ５２０を含むリレーレンズ系からなる導光手段５
２１が設けられ、これを介して青色光が青色光用液晶光
変調装置５２４に入射される。
【０１０５】各光変調装置により変調された３つの色光
は、クロスダイクロイックプリズム５２５に入射する。
このプリズムは、４つの直角プリズムが張り合わされ、
その内面に赤色を反射する誘電体多層膜と青色を反射す
る誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの
誘電体多層膜によって、３つの色光が合成されて、カラ
ー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光
学系である投射レンズ２６によってスクリーン上に投射
され、画像が拡大されて表示される。
【０１０６】以上、図１２ないし図１６を参照して説明
した電子機器の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ
型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナ
ビゲーション装置、電子手帳、電卓、エンジニアリング
ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチ
パネルを備えた装置等が図１１に示した電子機器の例と
して挙げられる。
【０１０７】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
液晶装置は、保護膜の段差部における電極の幅が、有効
領域における電極の幅より狭く構成されているので、保
護膜の段差部における配線間ギャップが大きくなり、段
差部での電極同士の短絡を防止することができ、液晶装
置の信頼性を向上できる。
【０１０８】また、本発明の液晶装置は、保護膜の段差
部における電極の幅が、有効領域における電極の幅より
狭く構成され、かつ保護膜の非形成領域における電極の
幅の一部分が、有効領域における電極の幅に一致するよ
うに構成されているので、有効領域と保護膜の非形成領
域とに挟まれた段差部において配線間ギャップが大きく
なり、これにより遮光層外縁部の段差部での電極同士の
短絡を防止できる。
【０１０９】また、配線間ギャップを保護膜の非形成領
域で測定することができ、遮光層の反射光により配線間
ギャップの測定が妨害されることがない。
【０１１０】また、本発明の液晶装置は、保護膜の非形
成領域における電極の長手方向の輪郭を構成する一対の
辺が、有効領域における電極の長手方向の輪郭を構成す
る一対の辺の延長線上にあるので、保護膜の非形成領域
において有効領域上の電極の配線間ギャップをより正確
に測定することができ、これにより特に高解像度の液晶
装置の歩留まりを高くして液晶装置の信頼性を向上でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施形態であるＴＦＤ型の液
晶装置を示す斜視図である。
【図２】 図１の液晶装置の要部を示す斜視図である。
【図３】 図１に示す液晶装置の対向基板の要部を示す
図であって、図１における２点鎖線枠内の平面図であ
る。
【図４】 図３におけるＢ−Ｂ’線の断面図である。
【図５】 図１に示す液晶装置の対向基板の製造方法を
説明するための工程図である。
【図６】 図１に示す液晶装置の対向基板の製造方法を
説明するための工程図である。
【図７】 図１に示す液晶装置の対向基板の製造方法を
説明するための工程図である。
【図８】 本発明の第２の実施形態である液晶装置の対
向基板の要部を示す平面図である。
【図９】 図８におけるＢ−Ｂ’線の断面図である。
【図１０】 単純マトリックス型の液晶装置の要部を示
す斜視図である。
【図１１】 本発明による電子機器の実施形態の概略構
成を示すブロック図である。
【図１２】 電子機器の一例としてパーソナルコンピュ
ータを示す正面図である。
【図１３】 電子機器の他の例である携帯型電話を示す
斜視図である。
【図１４】 電子機器のその他の例である携帯型情報装
置を示す斜視図である。
【図１５】 電子機器のその他の例である腕時計型電子
機器を示す斜視図である。
【図１６】 電子機器の別の例である投射型表示装置を
示す概略構成図である。
【図１７】 従来の液晶装置の対向基板の要部を示す平
面図である。
【図１８】 図１７おけるＡ−Ａ’線の断面図である。
【符号の説明】
１ 液晶装置 ２０ 対向基板（基板） ２１ 色材層 ２２ 遮光層 ２３ 保護膜 ２４、４４ ストライプ電極 ４４ｄ，４４ｅ 辺（一対の辺） ２５ 保護膜の形成領域 ２６ 保護膜の非形成領域 ２７ 有効領域 ２９ 保護膜の段差部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1343

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の色材層と、前記色材層の周囲にあ
    る遮光層と、前記色材層および前記遮光層を覆っている
    保護膜と、前記保護膜上にストライプ状に配置された複
    数の電極とを有する基板を具備した液晶装置であって、 前記基板上には前記保護膜が形成された形成領域と、前
    記保護膜が形成されていない非形成領域とがあり、 前記保護膜は、前記保護膜の形成領域と前記保護膜の非
    形成領域との切り換わりに段差部を有し、 前記電極は前記非形成領域に延在しており、 前記段差部上にある前記電極の幅は、前記色材層上にあ
    る前記電極の幅より狭く、 前記非形成領域にある前記電極は、該電極の幅が前記色
    材層上にある前記電極の幅と一致する部分を有すること
    を特徴とする液晶装置。
  2. 【請求項２】 複数の色材層と、前記色材層の周囲にあ
    る遮光層と、前記色材層および前記遮光層を覆っている
    保護膜と、前記保護膜上にストライプ状に配置された複
    数の電極とを有する基板を具備した液晶装置であって、 前記基板上には前記保護膜が形成された形成領域と、前
    記保護膜が形成されていない非形成領域とがあり、 前記保護膜は、前記保護膜の形成領域と前記保護膜の非
    形成領域との切り換わりに段差部を有し、 前記電極は前記非形成領域に延在しており、 前記段差部上にある隣り合う前記電極間のギャップが、
    前記色材層上にある隣り合う前記電極間のギャップより
    も大きく、 前記非形成領域にある隣り合う前記電極は、該電極間の
    ギャップが前記色材層上にある隣り合う前記電極間のギ
    ャップと一致する部分を有することを特徴とする液晶装
    置。
  3. 【請求項３】 請求項１もしくは２に記載の液晶装置に
    おいて、 前記非形成領域にある前記電極の輪郭を構成する一対の
    辺は、前記有効領域にある前記電極の輪郭を構成する一
    対の辺の延長線上にあることを特徴とする液晶装置。
  4. 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれかに記載の液晶
    装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100982122B1 (ko) * 2003-12-30 2010-09-14 엘지디스플레이 주식회사 수평 전계 인가형 박막 트랜지스터 기판의 불량 화소암점화 방법
JP4278684B2 (ja) * 2004-07-20 2009-06-17 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP4524689B2 (ja) * 2007-02-20 2010-08-18 ソニー株式会社 ホログラム再生装置およびホログラム再生方法並びに位相変調素子
KR101957998B1 (ko) * 2012-06-20 2019-07-03 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 이의 제조 방법
EP2985803B1 (en) 2013-05-16 2019-03-06 LG Display Co., Ltd. Organic light-emitting device and method of manufacturing same
JP2017103267A (ja) 2015-11-30 2017-06-08 セイコーエプソン株式会社 圧電素子、圧電素子の形成方法および超音波装置
CN106681066A (zh) * 2017-01-11 2017-05-17 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶光栅及立体显示装置
CN109445170B (zh) * 2018-12-29 2020-02-14 成都中电熊猫显示科技有限公司 彩膜基板及其制造方法和液晶显示面板、显示装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63104024A (ja) 1986-10-22 1988-05-09 Toppan Printing Co Ltd 表示装置用電極板
JPH02273721A (ja) * 1989-04-17 1990-11-08 Hitachi Ltd カラー液晶表示素子
JPH04166916A (ja) 1990-10-31 1992-06-12 Ricoh Co Ltd 液晶表示素子
JPH068935U (ja) 1992-06-30 1994-02-04 シチズン時計株式会社 液晶表示装置
JPH07175084A (ja) 1993-12-21 1995-07-14 Hitachi Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JPH086008A (ja) 1994-06-21 1996-01-12 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
TW373094B (en) * 1994-11-14 1999-11-01 Hitachi Device Engineering Corp Liquid crystal display device having a uniform liquid crystal layer thickness
JPH08227079A (ja) 1995-02-21 1996-09-03 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP3272199B2 (ja) 1995-06-29 2002-04-08 三洋電機株式会社 液晶表示器用基板
JP2776357B2 (ja) 1996-01-31 1998-07-16 日本電気株式会社 液晶表示装置
JP3866815B2 (ja) * 1996-03-27 2007-01-10 セイコーエプソン株式会社 液晶パネル用基板、その製造方法、液晶装置及び電子機器
JPH10133234A (ja) * 1996-09-04 1998-05-22 Toshiba Corp 液晶表示装置
JP3657717B2 (ja) * 1996-11-01 2005-06-08 シチズン時計株式会社 液晶表示装置
JP3288260B2 (ja) * 1997-06-02 2002-06-04 松下電器産業株式会社 液晶表示素子
JPH11271790A (ja) * 1998-03-26 1999-10-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置とその製造方法

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