JPH086008A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
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- JPH086008A JPH086008A JP6138743A JP13874394A JPH086008A JP H086008 A JPH086008 A JP H086008A JP 6138743 A JP6138743 A JP 6138743A JP 13874394 A JP13874394 A JP 13874394A JP H086008 A JPH086008 A JP H086008A
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- transparent conductive
- forming
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 基板６上に設けるブラックマトリックス１１
と、カラーフィルター５と、カラーフィルター５上に設
ける感光性オーバーコート膜４と、感光性オーバーコー
ト膜４と基板６との上に設ける透明導電膜７とを備え、
感光性オーバーコート膜４と基板６との境界領域に反射
用パターン１２を設ける液晶表示装置およびその製造方
法。 【効果】 透明電極膜パターンのショート欠陥を無く
し、カラーフィルター部分の平坦性に優れた、しかもガ
ラス上の強度の強い引き出し電極を有するカラーフィル
ター基板を用いたカラー液晶表示装置を製造することが
可能となる。
と、カラーフィルター５と、カラーフィルター５上に設
ける感光性オーバーコート膜４と、感光性オーバーコー
ト膜４と基板６との上に設ける透明導電膜７とを備え、
感光性オーバーコート膜４と基板６との境界領域に反射
用パターン１２を設ける液晶表示装置およびその製造方
法。 【効果】 透明電極膜パターンのショート欠陥を無く
し、カラーフィルター部分の平坦性に優れた、しかもガ
ラス上の強度の強い引き出し電極を有するカラーフィル
ター基板を用いたカラー液晶表示装置を製造することが
可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の構造とそ
の製造方法とに関し、とくに感光性オーバーコート膜を
被覆するカラーフイルターを有する液晶表示装置の構造
とその製造方法とに関する。
の製造方法とに関し、とくに感光性オーバーコート膜を
被覆するカラーフイルターを有する液晶表示装置の構造
とその製造方法とに関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置のカラーフイルター
の製造方法は印刷法、電着法、染色法などが挙げられ
る。
の製造方法は印刷法、電着法、染色法などが挙げられ
る。
【０００３】このカラー液晶表示装置は、カラーフイル
ターの上に透明導電膜を形成するために、表面平坦性、
耐薬品性、耐透明導電膜スパッタリング性などに優れた
感光性オーバーコート膜をカラーフイルター上に形成す
る。
ターの上に透明導電膜を形成するために、表面平坦性、
耐薬品性、耐透明導電膜スパッタリング性などに優れた
感光性オーバーコート膜をカラーフイルター上に形成す
る。
【０００４】そして感光性オーバーコート膜上に透明導
電膜を形成し、透明導電膜をパターニング形成したカラ
ーフイルターを有する液晶表示装置が用いられている。
電膜を形成し、透明導電膜をパターニング形成したカラ
ーフイルターを有する液晶表示装置が用いられている。
【０００５】カラーフイルター上にオーバーコート膜を
形成する手法としては、カラーフイルター上の領域のみ
に形成する印刷法と、感光性オーバーコート膜を基板全
面に回転塗布法により形成し、その後パターニングする
方法とが一般的に用いられている。
形成する手法としては、カラーフイルター上の領域のみ
に形成する印刷法と、感光性オーバーコート膜を基板全
面に回転塗布法により形成し、その後パターニングする
方法とが一般的に用いられている。
【０００６】この後者の感光性オーバーコート膜を基板
全面に回転塗布法によって形成し、その後パターニング
する製造方法を、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）と図６と
図７（ａ）、（ｂ）とを用いて説明する。図５はネガ型
の感光性オーバーコート膜を形成する方法を示す断面図
である。そして図６は、図５の感光性オーバーコート膜
の段差部を拡大して示す断面図である。図７は感光性オ
ーバーコート膜段差部の透明導電膜をパターニング形成
する方法を示す断面図と平面図である。以下図５と図６
と図７とを交互に用いて説明する。
全面に回転塗布法によって形成し、その後パターニング
する製造方法を、図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）と図６と
図７（ａ）、（ｂ）とを用いて説明する。図５はネガ型
の感光性オーバーコート膜を形成する方法を示す断面図
である。そして図６は、図５の感光性オーバーコート膜
の段差部を拡大して示す断面図である。図７は感光性オ
ーバーコート膜段差部の透明導電膜をパターニング形成
する方法を示す断面図と平面図である。以下図５と図６
と図７とを交互に用いて説明する。
【０００７】まず図５（ａ）に示すように、カラーフイ
ルター５を形成した基板６上の全面に回転塗布法によ
り、感光性オーバーコート膜４を形成する。
ルター５を形成した基板６上の全面に回転塗布法によ
り、感光性オーバーコート膜４を形成する。
【０００８】その後、フオトマスク透明基板３上に遮光
クロム膜２を選択的に形成したフオトマスク１を用い
て、感光性オーバーコート膜４の露光処理を行う。
クロム膜２を選択的に形成したフオトマスク１を用い
て、感光性オーバーコート膜４の露光処理を行う。
【０００９】その後、露光処理した感光性オーバーコー
ト膜４を現像処理して図５（ｂ）に示すように、感光性
オーバーコート膜４をカラーフイルター５上に形成する
ようにパターニングする。
ト膜４を現像処理して図５（ｂ）に示すように、感光性
オーバーコート膜４をカラーフイルター５上に形成する
ようにパターニングする。
【００１０】その後、図５（ｃ）に示すように、全面に
透明導電膜７を形成し、そして透明導電膜７をパターニ
ングして感光性オーバーコート膜４と基板６との上に、
透明導電膜７からなる表示電極７ｂと引き出し電極７ａ
とを形成する。
透明導電膜７を形成し、そして透明導電膜７をパターニ
ングして感光性オーバーコート膜４と基板６との上に、
透明導電膜７からなる表示電極７ｂと引き出し電極７ａ
とを形成する。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】従来の製造方法により
形成した感光性オーバーコート膜４のコーナー部は、図
６に示すように、パターニング形成するために、その断
面形状はかなり垂直になっている。
形成した感光性オーバーコート膜４のコーナー部は、図
６に示すように、パターニング形成するために、その断
面形状はかなり垂直になっている。
【００１２】そのため２〜５μｍ厚さの感光性オーバー
コート膜４に１００〜３００ｎｍの膜厚の透明導電膜７
を形成しても、感光性オーバーコート膜４の厚さ分の断
差が生じる。
コート膜４に１００〜３００ｎｍの膜厚の透明導電膜７
を形成しても、感光性オーバーコート膜４の厚さ分の断
差が生じる。
【００１３】このため、図７に示すように、後工程であ
る透明導電膜７のパターニング時のレジスト８を塗布し
た段階では、感光性オーバーコート膜４と基板６との段
差部８ａにレジスト８の溜まりが生じて、局部的にレジ
スト８の膜厚が厚くなる。
る透明導電膜７のパターニング時のレジスト８を塗布し
た段階では、感光性オーバーコート膜４と基板６との段
差部８ａにレジスト８の溜まりが生じて、局部的にレジ
スト８の膜厚が厚くなる。
【００１４】レジスト８膜厚が増加すれば、露光の光は
レジスト８の表面と膜中で吸収されるので、レジスト８
と透明導電膜７との界面では露光不足になり、膜厚が薄
い平坦領域のレジスト８に最適露光量を設定すると、段
差部８ａにおいては露光不足となる。
レジスト８の表面と膜中で吸収されるので、レジスト８
と透明導電膜７との界面では露光不足になり、膜厚が薄
い平坦領域のレジスト８に最適露光量を設定すると、段
差部８ａにおいては露光不足となる。
【００１５】そのため、前述のような方法の露光量条件
で露光処理し、さらに現像処理した後のレジスト８のパ
ターンが正常に形成ない。
で露光処理し、さらに現像処理した後のレジスト８のパ
ターンが正常に形成ない。
【００１６】すなわち、図７（ｂ）に示すように、段差
部８ａでレジスト８のパターンのスペース８ｂの幅寸法
が非常に狭く形成されたり、隣接するパターン同士がつ
ながって形成される。
部８ａでレジスト８のパターンのスペース８ｂの幅寸法
が非常に狭く形成されたり、隣接するパターン同士がつ
ながって形成される。
【００１７】このために、このようなレジスト８をエッ
チングマスクとして透明導電膜７をパターニング形成す
ると、透明導電膜７にショート欠陥が発生するという課
題がある。
チングマスクとして透明導電膜７をパターニング形成す
ると、透明導電膜７にショート欠陥が発生するという課
題がある。
【００１８】この課題を解決するため、本発明の目的
は、透明導電膜をパターニング形成する際に、感光性オ
ーバーコート膜と基板との段差部で透明導電膜にショー
ト欠陥の発生しないカラーフイルターを有する液晶表示
装置の構造と製造方法とを提供することにある。
は、透明導電膜をパターニング形成する際に、感光性オ
ーバーコート膜と基板との段差部で透明導電膜にショー
ト欠陥の発生しないカラーフイルターを有する液晶表示
装置の構造と製造方法とを提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置の構造とその製造方法は、下
記記載の手段を採用する。
に、本発明の液晶表示装置の構造とその製造方法は、下
記記載の手段を採用する。
【００２０】本発明の液晶表示装置は、基板上に設ける
ブラックマトリックスとカラーフィルターと、カラーフ
イルター上に設ける感光性オーバーコート膜と、感光性
オーバーコート膜と基板との上に設ける透明導電膜とを
備え、感光性オーバーコート膜と基板との境界領域に反
射用パターンを設けることを特徴とする。
ブラックマトリックスとカラーフィルターと、カラーフ
イルター上に設ける感光性オーバーコート膜と、感光性
オーバーコート膜と基板との上に設ける透明導電膜とを
備え、感光性オーバーコート膜と基板との境界領域に反
射用パターンを設けることを特徴とする。
【００２１】本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板
上にブラックマトリックスと反射用パターンとの材料を
形成し、フオトエッチング処理によりパターニングし、
ブラックマトリックスと反射用パターンとを形成する工
程と、カラーフィルターを形成し、感光性オーバーコー
ト膜を形成し、露光、現像処理により感光性オーバーコ
ート膜の端部が反射用パターン上になるようにパターニ
ングする工程と、透明導電膜を形成し、フオトエッチン
グ処理により透明導電膜をパターニングし、表示電極と
引き出し電極とを形成する工程とを有することを特徴と
する。
上にブラックマトリックスと反射用パターンとの材料を
形成し、フオトエッチング処理によりパターニングし、
ブラックマトリックスと反射用パターンとを形成する工
程と、カラーフィルターを形成し、感光性オーバーコー
ト膜を形成し、露光、現像処理により感光性オーバーコ
ート膜の端部が反射用パターン上になるようにパターニ
ングする工程と、透明導電膜を形成し、フオトエッチン
グ処理により透明導電膜をパターニングし、表示電極と
引き出し電極とを形成する工程とを有することを特徴と
する。
【００２２】本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板
上にブラックマトリックスと反射用パターンとの材料を
形成し、フオトエッチング処理によりパターニングし、
ブラックマトリックスと反射用パターンとを形成する工
程と、カラーフイルターを形成し、感光性オーバーコー
ト膜を形成し、露光、現像処理により感光性オーバーコ
ート膜の端部が反射用パターン上になるようにパターニ
ングする工程と、透明導電膜を形成し、反射用パターン
上のフオトマスク寸法を局部的に広く設けたフオトマス
クで透明導電膜をパターニングし、フオトエッチング処
理により透明導電膜をパターニングし、表示電極と引き
出し電極とを形成する工程とを有することを特徴とす
る。
上にブラックマトリックスと反射用パターンとの材料を
形成し、フオトエッチング処理によりパターニングし、
ブラックマトリックスと反射用パターンとを形成する工
程と、カラーフイルターを形成し、感光性オーバーコー
ト膜を形成し、露光、現像処理により感光性オーバーコ
ート膜の端部が反射用パターン上になるようにパターニ
ングする工程と、透明導電膜を形成し、反射用パターン
上のフオトマスク寸法を局部的に広く設けたフオトマス
クで透明導電膜をパターニングし、フオトエッチング処
理により透明導電膜をパターニングし、表示電極と引き
出し電極とを形成する工程とを有することを特徴とす
る。
【００２３】
【作用】カラーフイルター上に形成されるオーバーコー
ト膜は、カラーフイルター形成部分の表面凹凸を緩和す
る平坦性に優れ、さらに耐薬品性や、耐透明導電膜スパ
ッタ性を備えている材料が好ましい。
ト膜は、カラーフイルター形成部分の表面凹凸を緩和す
る平坦性に優れ、さらに耐薬品性や、耐透明導電膜スパ
ッタ性を備えている材料が好ましい。
【００２４】そしてさらに、感光性オーバーコート膜
は、その特性を発揮させるためには一般的に２〜５ミク
ロンの膜厚が必要とされる。
は、その特性を発揮させるためには一般的に２〜５ミク
ロンの膜厚が必要とされる。
【００２５】通常の露光方法でパターン形成された感光
性オーバーコート膜上に、１００〜３００ｎｍの膜厚の
透明導電膜を膜形成した後に、透明導電膜からなる引き
出し電極と表示電極とをフオトリソ技術と、エッチング
技術で形成すると、前述のように図７（ａ）に示すよう
に感光性オーバーコート膜と基板との段差部でのレジス
ト膜厚が厚くなる。
性オーバーコート膜上に、１００〜３００ｎｍの膜厚の
透明導電膜を膜形成した後に、透明導電膜からなる引き
出し電極と表示電極とをフオトリソ技術と、エッチング
技術で形成すると、前述のように図７（ａ）に示すよう
に感光性オーバーコート膜と基板との段差部でのレジス
ト膜厚が厚くなる。
【００２６】このため、形成されたレジストパターンの
スペース幅が図７（ｂ）に示すように局部的に非常に狭
くなったり、もしくは隣接するレジスト同士がつながっ
てしまうため、エッチング形成された透明導電膜はショ
ート欠陥が発生してしまう。
スペース幅が図７（ｂ）に示すように局部的に非常に狭
くなったり、もしくは隣接するレジスト同士がつながっ
てしまうため、エッチング形成された透明導電膜はショ
ート欠陥が発生してしまう。
【００２７】本発明による、感光性オーバーコート膜と
基板との段差部の領域部分のレジスト膜厚が厚くなる領
域部分の基板上に、島状に反射用パターンを配置する。
基板との段差部の領域部分のレジスト膜厚が厚くなる領
域部分の基板上に、島状に反射用パターンを配置する。
【００２８】そして、露光工程において反射用パターン
の反射を利用し、段差部は露光照射光量と反射用パター
ンによる反射光量とがプラスされて、トータル照射光量
を増加させる。
の反射を利用し、段差部は露光照射光量と反射用パター
ンによる反射光量とがプラスされて、トータル照射光量
を増加させる。
【００２９】このことにより、レジスト膜厚の厚い段差
部のスペース幅を、マスク寸法よりわずかに広く形成す
ることが可能になる。
部のスペース幅を、マスク寸法よりわずかに広く形成す
ることが可能になる。
【００３０】そしてしかる後、透明導電膜をパターニン
グ形成すれば、段差部の透明導電膜のショート欠陥を防
止することが可能になる。
グ形成すれば、段差部の透明導電膜のショート欠陥を防
止することが可能になる。
【００３１】したがって、引き出し電極領域の透明導電
膜と基板との密着強度が強く、しかも平坦性に優れたカ
ラーフイルター基板を有するカラー液晶表示装置を高歩
留りで製造することができる。
膜と基板との密着強度が強く、しかも平坦性に優れたカ
ラーフイルター基板を有するカラー液晶表示装置を高歩
留りで製造することができる。
【００３２】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。図１と図２とは本発明の実施例における液晶表示装
置の構造と製造方法とを示す断面図であり、図２（ａ）
は本発明の実施例における液晶表示装置の構造と製造方
法とを示す断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）に示
す液晶表示装置の感光性オーバーコート膜の段差部をパ
ターニング形成する際のフォトマスク上から見た状態を
示す平面図であり、そして図２（ｃ）は透明導電膜上に
レジストパターンを形成した状態を示す平面図である。
以下図１と図２とを交互に参照して説明する。
る。図１と図２とは本発明の実施例における液晶表示装
置の構造と製造方法とを示す断面図であり、図２（ａ）
は本発明の実施例における液晶表示装置の構造と製造方
法とを示す断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）に示
す液晶表示装置の感光性オーバーコート膜の段差部をパ
ターニング形成する際のフォトマスク上から見た状態を
示す平面図であり、そして図２（ｃ）は透明導電膜上に
レジストパターンを形成した状態を示す平面図である。
以下図１と図２とを交互に参照して説明する。
【００３３】まずはじめに簡単に本発明の実施例におけ
る液晶表示装置の構成を説明する。
る液晶表示装置の構成を説明する。
【００３４】図２（ａ）に示すように、ガラスからなる
基板６の上に設けるカラーフイルター５の特性を向上さ
せるためのブラックマトリックス１１と、段差部８ａに
ショート欠陥発生防止のための反射用パターン１２とを
設ける。
基板６の上に設けるカラーフイルター５の特性を向上さ
せるためのブラックマトリックス１１と、段差部８ａに
ショート欠陥発生防止のための反射用パターン１２とを
設ける。
【００３５】この反射用パターン１２とブラックマトリ
ックス１１とは１００ｎｍ程度の膜厚のクロム膜や、タ
ンタル膜や、モリブデン膜や、ニクロム合金膜や、無電
解ニッケル膜の同一材料で構成する。
ックス１１とは１００ｎｍ程度の膜厚のクロム膜や、タ
ンタル膜や、モリブデン膜や、ニクロム合金膜や、無電
解ニッケル膜の同一材料で構成する。
【００３６】あるいは反射用パターン１２とブラックマ
トリックス１１とは、異なる材料で構成する。そのとき
は、反射用パターン１２は前述の金属膜で構成し、ブラ
ックマトリックス１１は酸化膜と金属膜の２層構造膜
や、窒化膜と金属膜の２層構造膜のような異なった材料
で構成してもよい。
トリックス１１とは、異なる材料で構成する。そのとき
は、反射用パターン１２は前述の金属膜で構成し、ブラ
ックマトリックス１１は酸化膜と金属膜の２層構造膜
や、窒化膜と金属膜の２層構造膜のような異なった材料
で構成してもよい。
【００３７】そしてさらに、そのブラックマトリックス
１１上に赤、緑、青色のカラーフィルター５を設ける。
このカラーフィルター５の形成は、印刷法や、電着法
や、染色法などが挙げられる。
１１上に赤、緑、青色のカラーフィルター５を設ける。
このカラーフィルター５の形成は、印刷法や、電着法
や、染色法などが挙げられる。
【００３８】さらにカラーフイルター５の上に、平坦性
や、耐薬品性や、耐透明導電膜スパッタリング性に優れ
た感光性オーバーコート膜４を設ける。
や、耐薬品性や、耐透明導電膜スパッタリング性に優れ
た感光性オーバーコート膜４を設ける。
【００３９】さらに、図２（ａ）に示すように全面に透
明導電膜７を膜形成し、この透明導電膜７をパターニン
グ形成するために、レジスト８を回転塗布法により全面
に形成した後、パターニングして表示電極７ｂと引き出
し電極７ａとを形成し、カラーフィルターを有する液晶
表示装置が得られる。
明導電膜７を膜形成し、この透明導電膜７をパターニン
グ形成するために、レジスト８を回転塗布法により全面
に形成した後、パターニングして表示電極７ｂと引き出
し電極７ａとを形成し、カラーフィルターを有する液晶
表示装置が得られる。
【００４０】レジスト形成と露光現像処理のフオトリソ
技術において、基板全面に渡ってレジスト膜厚を均一に
形成することと光量分布の均一な露光装置がショート欠
陥や断線欠陥の発生を防止し、良好なパターンが得られ
ることは良く知られている。
技術において、基板全面に渡ってレジスト膜厚を均一に
形成することと光量分布の均一な露光装置がショート欠
陥や断線欠陥の発生を防止し、良好なパターンが得られ
ることは良く知られている。
【００４１】しかし、感光性オーバーコート膜４と基板
６との段差部８ａでは、前述のようにレジスト８膜厚が
局部的に厚く形成されてしまう。
６との段差部８ａでは、前述のようにレジスト８膜厚が
局部的に厚く形成されてしまう。
【００４２】レジスト８の膜厚が厚くなれば、露光の光
はレジスト膜の表面層と膜中で吸収される。このため、
レジスト８と透明導電膜７との界面では露光不足にな
り、膜厚の薄い平坦領域のレジスト８に最適露光量を設
定すると、段差部８ａは露光不足になる。
はレジスト膜の表面層と膜中で吸収される。このため、
レジスト８と透明導電膜７との界面では露光不足にな
り、膜厚の薄い平坦領域のレジスト８に最適露光量を設
定すると、段差部８ａは露光不足になる。
【００４３】本発明による感光性オーバーコート膜４と
基板６との段差部８ａに設けた反射用パターン１２は、
レジスト８の膜厚が局部的に厚くなる段差部８ａに設け
てある。
基板６との段差部８ａに設けた反射用パターン１２は、
レジスト８の膜厚が局部的に厚くなる段差部８ａに設け
てある。
【００４４】このためレジスト８の露光工程において、
レジスト８としてポジ型のフオトレジストを使用する
と、スペース８ｂ領域は、フオトマスクでは遮光クロム
膜を形成してないので光が透過する。
レジスト８としてポジ型のフオトレジストを使用する
と、スペース８ｂ領域は、フオトマスクでは遮光クロム
膜を形成してないので光が透過する。
【００４５】そのためフオトマスクを透過した露光の光
は反射用パターン１２に照射され、５０〜８０パーセン
トの反射光が跳ね返ってくる。
は反射用パターン１２に照射され、５０〜８０パーセン
トの反射光が跳ね返ってくる。
【００４６】そしてこの反射光を利用することによっ
て、反射用パターン１２を有するレジスト８領域は、露
光照射光量と反射光量とがプラスされてトータル照射光
量を増加させたことになる。
て、反射用パターン１２を有するレジスト８領域は、露
光照射光量と反射光量とがプラスされてトータル照射光
量を増加させたことになる。
【００４７】よって、レジスト８膜厚が局部的に厚くな
っている段差部８ａの露光量不足を補うことができる。
その後、現像処理を行えばフオトマスク寸法よりわずか
に広いスペース８ｂ幅寸法を有するレジスト８パターン
が得られる。
っている段差部８ａの露光量不足を補うことができる。
その後、現像処理を行えばフオトマスク寸法よりわずか
に広いスペース８ｂ幅寸法を有するレジスト８パターン
が得られる。
【００４８】しかる後、このレジスト８をエッチングマ
スクに用いて透明導電膜７をパターニング形成すれば、
感光性オーバーコート膜４と基板６との段差部分８ａの
透明導電膜７のショート欠陥を防止することが可能にな
る。
スクに用いて透明導電膜７をパターニング形成すれば、
感光性オーバーコート膜４と基板６との段差部分８ａの
透明導電膜７のショート欠陥を防止することが可能にな
る。
【００４９】つぎに、以上説明した本発明の実施例にお
ける液晶表示装置の構造を形成するための製造方法を、
図１と図２と図３と図４とを用いて詳細に説明する。
ける液晶表示装置の構造を形成するための製造方法を、
図１と図２と図３と図４とを用いて詳細に説明する。
【００５０】まずはじめに、図１（ａ）に示すように、
ガラスからなる基板６上にスパッタリング法によって、
反射用パターン１２材料としてクロム９を１００ｎｍの
厚さで形成する。
ガラスからなる基板６上にスパッタリング法によって、
反射用パターン１２材料としてクロム９を１００ｎｍの
厚さで形成する。
【００５１】つぎにブラックマトリックス１１材料とし
て、クロム９の上に酸化クロム１０を２０ｎｍの厚さで
形成する。
て、クロム９の上に酸化クロム１０を２０ｎｍの厚さで
形成する。
【００５２】その後、図示しないがポジ型レジストとし
て、東京応化製ＯＦＰＲ−８００を酸化クロム１０上の
全面に回転塗布法により、膜厚１．３μｍで形成する。
て、東京応化製ＯＦＰＲ−８００を酸化クロム１０上の
全面に回転塗布法により、膜厚１．３μｍで形成する。
【００５３】その後、ブラックマトリックス１１と反射
用パターン１２とのパターンを有する、アライメントマ
ーク付きフオトマスクを用いて露光処理を行い、アルカ
リ現像液中で、室温で１分間現像し、ポジ型レジストを
パターニングする。
用パターン１２とのパターンを有する、アライメントマ
ーク付きフオトマスクを用いて露光処理を行い、アルカ
リ現像液中で、室温で１分間現像し、ポジ型レジストを
パターニングする。
【００５４】その後、ポジ型レジストを、温度１２０℃
でベーキングする。その後、ザ・インクテック製クロム
エッチング液ＭＰＭ−Ｅ３０を用いて、図１（ｂ）に示
すように酸化クロム１０とクロム９を同時にエッチング
して、ブラックマトリックス１１と反射用パターン１２
とを同時に形成する。
でベーキングする。その後、ザ・インクテック製クロム
エッチング液ＭＰＭ−Ｅ３０を用いて、図１（ｂ）に示
すように酸化クロム１０とクロム９を同時にエッチング
して、ブラックマトリックス１１と反射用パターン１２
とを同時に形成する。
【００５５】その後、ポジ型レジストを剥離する。その
後、図１（ｃ）に示すように、ふたたびポジ型レジスト
として、東京応化製ＯＦＰＲ−８００をブラックマトリ
ックス１１と反射用パターン１２を形成した基板６上の
全面に回転塗布法によって、膜厚１．３μｍで形成す
る。
後、図１（ｃ）に示すように、ふたたびポジ型レジスト
として、東京応化製ＯＦＰＲ−８００をブラックマトリ
ックス１１と反射用パターン１２を形成した基板６上の
全面に回転塗布法によって、膜厚１．３μｍで形成す
る。
【００５６】その後、ブラックマトリックス１１を覆う
ようなマスクパターンを有するフオトマスクを用いて露
光、現像処理を行い、図１（ｄ）に示すように反射用パ
ターン１２領域が露出したレジストパターンを形成す
る。
ようなマスクパターンを有するフオトマスクを用いて露
光、現像処理を行い、図１（ｄ）に示すように反射用パ
ターン１２領域が露出したレジストパターンを形成す
る。
【００５７】その後、ポジ型レジストを、温度１２０℃
でベーキング処理し、エッチング液としてザ・インクテ
ック製クロムエッチング液ＭＰＭ−Ｅ３０を用いて、上
層の酸化クロム１０だけをエッチングして、図１（ｅ）
に示すようにクロム９からなる反射用パターン１２を形
成する。
でベーキング処理し、エッチング液としてザ・インクテ
ック製クロムエッチング液ＭＰＭ−Ｅ３０を用いて、上
層の酸化クロム１０だけをエッチングして、図１（ｅ）
に示すようにクロム９からなる反射用パターン１２を形
成する。
【００５８】その後、ポジ型レジストを剥離すれば、図
１（ｆ）に示すように反射用パターン１２は反射率の高
いクロム９で構成し、ブラックマトリックス１１は表面
が低反射率の酸化クロム１０と下地がクロム９との２層
膜で構成することができる。
１（ｆ）に示すように反射用パターン１２は反射率の高
いクロム９で構成し、ブラックマトリックス１１は表面
が低反射率の酸化クロム１０と下地がクロム９との２層
膜で構成することができる。
【００５９】なお図１（ａ）から（ｆ）を用いて説明し
た実施例の説明では、反射用パターン１２とブラックマ
トリックス１１との材料が異なる例について説明した
が、反射用パターン１２とブラックマトリックス１１と
を同一材料のクロムで形成してもよい。
た実施例の説明では、反射用パターン１２とブラックマ
トリックス１１との材料が異なる例について説明した
が、反射用パターン１２とブラックマトリックス１１と
を同一材料のクロムで形成してもよい。
【００６０】このように、反射用パターン１２とブラッ
クマトリックス１１とを同一材料で構成すれば、１回の
フオトリソ処理とエッチング処理で、反射用パターン１
２とブラックマトリックス１１とを同時に形成できるこ
とができる。
クマトリックス１１とを同一材料で構成すれば、１回の
フオトリソ処理とエッチング処理で、反射用パターン１
２とブラックマトリックス１１とを同時に形成できるこ
とができる。
【００６１】しかる後に、基板６のブラックマトリック
ス１１上にカラーフィルター５を、染色法によって、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の順序で形成する。このカ
ラーフィルターは１．５μｍの膜厚で形成する。
ス１１上にカラーフィルター５を、染色法によって、赤
（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の順序で形成する。このカ
ラーフィルターは１．５μｍの膜厚で形成する。
【００６２】その後、カラーフィルター５上に、透明な
ネガ型を有する感光性オーバーコート膜４として、新日
鐵化学製Ｖ−２５９ＰＡ膜を回転塗布法により形成す
る。この感光性オーバーコート膜４は、膜厚３μｍで形
成する。
ネガ型を有する感光性オーバーコート膜４として、新日
鐵化学製Ｖ−２５９ＰＡ膜を回転塗布法により形成す
る。この感光性オーバーコート膜４は、膜厚３μｍで形
成する。
【００６３】その後、感光性オーバーコート膜４を、温
度８０℃でベーキング処理を行い、感光性オーバーコー
ト膜４中の溶媒を除去する。
度８０℃でベーキング処理を行い、感光性オーバーコー
ト膜４中の溶媒を除去する。
【００６４】その後、プロキシミリティー露光装置を用
いて図２（ａ）に示すように、反射用パターン１２上に
感光性オーバーコート膜４の境界領域が位置するように
アライメント露光処理を行う。
いて図２（ａ）に示すように、反射用パターン１２上に
感光性オーバーコート膜４の境界領域が位置するように
アライメント露光処理を行う。
【００６５】その後、感光性オーバーコート膜４を、ア
ルカリ現像液中で、室温で１分間現像する。
ルカリ現像液中で、室温で１分間現像する。
【００６６】このことにより、図２（ａ）に示すように
感光性オーバーコート膜４のコーナー部分の段差部８ａ
が、反射用パターン１２の上に形成することができる。
感光性オーバーコート膜４のコーナー部分の段差部８ａ
が、反射用パターン１２の上に形成することができる。
【００６７】さらにその後、感光性オーバーコート膜４
のパターン形成した基板６を、耐透明導電膜スパッタリ
ング性を向上させるために、窒素雰囲気中で温度２００
℃、１時間焼成する。
のパターン形成した基板６を、耐透明導電膜スパッタリ
ング性を向上させるために、窒素雰囲気中で温度２００
℃、１時間焼成する。
【００６８】その後、図２（ａ）に示すように、透明導
電膜７としてたとえば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）
を、基板温度２００℃でスパッタリング法によって膜厚
３００ｎｍで形成する。
電膜７としてたとえば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）
を、基板温度２００℃でスパッタリング法によって膜厚
３００ｎｍで形成する。
【００６９】さらにその後、透明導電膜７上にレジスト
８を形成する。このレジスト８はポジ型レジスト、東京
応化製ＯＦＰＲ−８００を回転塗布法により膜厚１．３
μｍで全面に形成する。
８を形成する。このレジスト８はポジ型レジスト、東京
応化製ＯＦＰＲ−８００を回転塗布法により膜厚１．３
μｍで全面に形成する。
【００７０】その後、図２（ｂ）に示すように、表示電
極７ｂ、および引きだし電極７ａを形成するために、フ
オトマスク１を用いて反射用パターン１２がフォトマス
ク１の受光領域内に存在する位置にアライメントしてレ
ジスト８の露光処理を行う。
極７ｂ、および引きだし電極７ａを形成するために、フ
オトマスク１を用いて反射用パターン１２がフォトマス
ク１の受光領域内に存在する位置にアライメントしてレ
ジスト８の露光処理を行う。
【００７１】なお図２（ｂ）に示す反射用パターン１２
は、透明導電膜スペース部の両側に一対で配置されてい
るが、片側だけに配置してもよい。
は、透明導電膜スペース部の両側に一対で配置されてい
るが、片側だけに配置してもよい。
【００７２】さらにまた、透明導電膜７のスペース８ｂ
の幅寸法が１〜２μｍ以下の微細高密度パターンになる
と、図３と図４とに示すようにオーバーコート膜４の段
差部８ａに位置する領域を広く形成したフオトマスク１
を用いて反射用パターン１２がフオトマスク１の受光領
域内に存在する位置にアライメントして、レジスト８の
露光処理を行う。
の幅寸法が１〜２μｍ以下の微細高密度パターンになる
と、図３と図４とに示すようにオーバーコート膜４の段
差部８ａに位置する領域を広く形成したフオトマスク１
を用いて反射用パターン１２がフオトマスク１の受光領
域内に存在する位置にアライメントして、レジスト８の
露光処理を行う。
【００７３】その後、レジスト８をアルカリ現像液中
で、室温で１分間の現像処理を行う。
で、室温で１分間の現像処理を行う。
【００７４】この結果、図２（ｃ）に示すように、感光
性オーバーコート膜４の段差部分のレジスト８のパター
ンは、露光照射光量に反射用パターン１２の反射光量が
プラスされてパターニング形成されるため、フオトマス
クのパターン寸法よりわずかに広く形成することが可能
となる。
性オーバーコート膜４の段差部分のレジスト８のパター
ンは、露光照射光量に反射用パターン１２の反射光量が
プラスされてパターニング形成されるため、フオトマス
クのパターン寸法よりわずかに広く形成することが可能
となる。
【００７５】したがって、スペース８ｂの幅寸法が狭く
形成されることもなく、レジスト８のパターン寸法精度
が良好となり、透明導電膜７であるＩＴＯのパターニン
グを行った結果、感光性オーバーコート膜４と基板６の
段差部でのショート欠陥の無い平坦性に優れた、しかも
基板６上の密着強度の強い引き出し電極を有するカラー
フィルター基板の製造が可能となる。
形成されることもなく、レジスト８のパターン寸法精度
が良好となり、透明導電膜７であるＩＴＯのパターニン
グを行った結果、感光性オーバーコート膜４と基板６の
段差部でのショート欠陥の無い平坦性に優れた、しかも
基板６上の密着強度の強い引き出し電極を有するカラー
フィルター基板の製造が可能となる。
【００７６】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、反射
用パターンを設け、とくに小型で高密度高精細な感光性
オーバーコート膜を用いたカラーフィルターの透明導電
膜をパターン形成する際に、オーバーコート面とガラス
面の段差部分のレジストパターンを広くパターン形成す
る。
用パターンを設け、とくに小型で高密度高精細な感光性
オーバーコート膜を用いたカラーフィルターの透明導電
膜をパターン形成する際に、オーバーコート面とガラス
面の段差部分のレジストパターンを広くパターン形成す
る。
【００７７】このことにより、透明導電膜パターンのシ
ョート欠陥の発生を無くし、カラーフィルター部分の平
坦性に優れた、しかもガラス上の強度の強い引き出し電
極を有するカラーフィルター基板を用いたカラー液晶表
示装置を製造することが可能となる。
ョート欠陥の発生を無くし、カラーフィルター部分の平
坦性に優れた、しかもガラス上の強度の強い引き出し電
極を有するカラーフィルター基板を用いたカラー液晶表
示装置を製造することが可能となる。
【図１】本発明の実施例における液晶表示装置の構成と
その製造方法とを示す断面図である。
その製造方法とを示す断面図である。
【図２】本発明の実施例における液晶表示装置の構成と
その製造方法とを示す断面図と平面図である。
その製造方法とを示す断面図と平面図である。
【図３】本発明の実施例における液晶表示装置の構成と
その製造方法とを示す平面図である。
その製造方法とを示す平面図である。
【図４】本発明の実施例における液晶表示装置の構成と
その製造方法とを示す平面図である
その製造方法とを示す平面図である
【図５】従来例における液晶表示装置の製造方法を示す
断面図である。
断面図である。
【図６】従来例における液晶表示装置の製造方法を示す
断面図である。
断面図である。
【図７】従来例における液晶表示装置の製造方法を示す
断面図と平面図である。
断面図と平面図である。
４ 感光性オーバーコート膜 ５ カラーフィルター ６ 基板 ７ 透明導電膜 ７ａ 引き出し電極 ７ｂ 表示電極 ８ レジスト １１ ブラックマトリックス １２ 反射用パターン
Claims (9)
- 【請求項１】 基板上に設けるブラックマトリックス
と、カラーフィルターと、カラーフィルター上に設ける
感光性オーバーコート膜と、感光性オーバーコート膜と
基板との上に設ける透明導電膜とを備え、感光性オーバ
ーコート膜と基板との境界領域に反射用パターンを設け
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 基板上に設けるブラックマトリックス
と、カラーフィルターと、カラーフィルター上に設ける
感光性オーバーコート膜と、感光性オーバーコート膜と
基板との上に設ける透明導電膜とを備え、感光性オーバ
ーコート膜と基板との境界領域にブラックマトリックス
と同一材料からなる反射用パターンを設けることを特徴
とする液晶表示装置。 - 【請求項３】 基板上に設けるブラックマトリックス
と、カラーフィルターと、カラーフィルター上に設ける
感光性オーバーコート膜と、感光性オーバーコート膜と
基板との上に設ける透明導電膜とを備え、感光性オーバ
ーコート膜と基板との境界領域にブラックマトリックス
と異なる材料からなる反射用パターンを設けることを特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項４】 反射用パターンは、クロム膜、タンタル
膜、モリブデン膜、ニクロム合金膜、あるいは無電解ニ
ッケル膜で構成することを特徴とする請求項１、２、あ
るいは３に記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 ブラックマトリックスは、クロム膜、タ
ンタル膜、モリブデン膜、ニクロム合金膜、無電解ニッ
ケル膜、酸化膜と金属膜との２層膜、あるいは窒化膜と
金属膜との２層膜で構成することを特徴とする請求項
１、２、あるいは３に記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】 基板上にブラックマトリックスと反射用
パターンとの材料を形成し、フオトエッチングによりパ
ターニングし、ブラックマトリックスと反射用パターン
とを形成する工程と、カラーフイルターを形成し、感光
性オーバーコート膜を形成し、露光処理と現像処理によ
り感光性オーバーコート膜の端部が反射用パターン上に
なるようにパターニングする工程と、透明導電膜を形成
する工程と、フオトエッチングにより透明導電膜をパタ
ーニングし、表示電極と引き出し電極とを形成する工程
とを有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項７】 基板上にブラックマトリックス材料を形
成し、フオトエッチングによりパターニングし、ブラッ
クマトリックスを形成する工程と、反射用パターン材料
を形成し、フオトエッチングによりパターニングし、反
射用パターンを形成する工程と、カラーフイルターを形
成し、感光性オーバーコート膜を形成し、露光処理と現
像処理により感光性オーバーコート膜の端部が反射用パ
ターン上になるようにパターニングする工程と、透明導
電膜を形成する工程と、フオトエッチングにより透明導
電膜をパターニングし、表示電極と引き出し電極とを形
成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項８】 基板上に反射用パターン材料を形成し、
フオトエッチングによりパターニングし、反射用パター
ンを形成する工程と、ブラックマトリックス材料を形成
し、フオトエッチングによりパターニングし、ブラック
マトリックスを形成する工程と、カラーフイルターを形
成し、感光性オーバーコート膜を形成し、露光処理と現
像処理により感光性オーバーコート膜の端部が反射用パ
ターン上になるようにパターニングする工程と、透明導
電膜を形成する工程と、フオトエッチングにより透明導
電膜をパターニングし、表示電極と引き出し電極とを形
成する工程とを有することを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。 - 【請求項９】 基板上にブラックマトリックスと反射用
パターンとの材料を形成し、フオトエッチングによりパ
ターニングし、ブラックマトリックスと反射用パターン
を形成する工程と、カラーフイルターを形成し、感光性
オーバーコート膜を形成し、露光、現像処理により感光
性オーバーコート膜の端部が反射用パターン上になるよ
うにパターニングする工程と、透明導電膜を形成する工
程と、反射用パターン上のフオトマスクを局部的に広く
設けたフオトマスクで透明導電膜をパターニングする工
程と、フオトエッチングにより透明導電膜をパターニン
グし、表示電極と引き出し電極とを形成する工程とを特
徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6138743A JPH086008A (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6138743A JPH086008A (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH086008A true JPH086008A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15229144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6138743A Pending JPH086008A (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH086008A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1089116A2 (en) * | 1999-09-28 | 2001-04-04 | Seiko Epson Corporation | Liquid-crystal device and electronic equipment |
| JP2001222020A (ja) * | 2000-12-14 | 2001-08-17 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器 |
| US7713596B2 (en) | 2006-06-07 | 2010-05-11 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Light shading structure, and color filter substrate, active device array substrate, liquid crystal display panel thereof |
-
1994
- 1994-06-21 JP JP6138743A patent/JPH086008A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1089116A2 (en) * | 1999-09-28 | 2001-04-04 | Seiko Epson Corporation | Liquid-crystal device and electronic equipment |
| EP1089116A3 (en) * | 1999-09-28 | 2002-10-02 | Seiko Epson Corporation | Liquid-crystal device and electronic equipment |
| US6831723B1 (en) | 1999-09-28 | 2004-12-14 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device with electrode arrangement to prevent shorting and electronic equipment incorporating the same |
| JP2001222020A (ja) * | 2000-12-14 | 2001-08-17 | Seiko Epson Corp | 液晶装置及び電子機器 |
| JP4631159B2 (ja) * | 2000-12-14 | 2011-02-16 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置、アレイ基板及び電子機器 |
| US7713596B2 (en) | 2006-06-07 | 2010-05-11 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Light shading structure, and color filter substrate, active device array substrate, liquid crystal display panel thereof |
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