CN1289946A

CN1289946A - 液晶装置及其电子设备

Info

Publication number: CN1289946A
Application number: CN00129267A
Authority: CN
Inventors: 竹内丰
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd; BOE Technology HK Ltd
Priority date: 1999-09-28
Filing date: 2000-09-28
Publication date: 2001-04-04
Anticipated expiration: 2020-09-28
Also published as: JP2001100230A; TWI252346B; KR20010030507A; KR100389490B1; CN1106587C; US6831723B1; EP1089116A2; JP3428526B2; EP1089116A3

Abstract

本发明提供了一种电极之间不会短路、制造过程中成品合格率高、而且布线之间的间距容易测定的液晶装置。它具有若干色材层21、遮光层22、保护膜23、以及条状电极24,其特征在于:在保护膜23的阶梯部分29上的条状电极24的电极宽度比液晶装置1的有效区域27内保护膜23上的条状电极24的电极宽度窄,利用这种结构,使阶梯部分29上的各条状电极24之间的间隔增大,从而,可以防止条状电极24之间相互短路。

Description

液晶装置及其电子设备

本发明涉及一种液晶装置以及装有这种液晶装置的电子设备，特别是，涉及一种可以在电极形成时防止扫描电极之间相互短路的液晶装置，这里的电极是作为扫描电极或数据电极的条状电极，其一部分设置成宽度很窄的部分。

过去，使用TFD器件(薄膜二极管)的液晶装置，例如，具有形成TFD器件及象素电极的透明基板，即所谓的阵列基板，同时，还具有与该透明基板相对的对置基板。

在透明基板和对置基板相对的面的背面，分别粘贴偏光板，并且，在透明基板和对置基板相对的面上形成定向膜，在这些相对的定向膜之间设置液晶层和隔离层。

图17是表示上述液晶装置的对置基板主要部分的平面图，图18是沿图17中A-A线的断面图。这两幅附图是用来说明对置基板的结构，图中所示的各部分的大小、厚度和尺寸等不同于实际的对置基板的尺寸关系。

如图17和18所示，在对置基板20上形成若干色材层21，在各色材层21之间以矩阵的形状设置由铬或类似物质形成的遮光层22。

进一步地，如图17和18所示，在对置基板20上设置保护膜23，保护膜23将色材层21和遮光层22覆盖。这些色材层21、遮光层22和保护膜23构成所谓的滤色片(color filter)。

而且，如图18所示，在保护膜23上，形成由位于有效区域最外侧的色材层21和构成遮光层22的最外侧轮廓的遮光层外缘部22a构成的阶梯23b，在遮光层外缘部22a外侧的保护膜周边部23a上，由于保护膜23的膜厚而形成阶梯23c。由这些阶梯23b、23c组成的阶梯部分的总高度，即，从对置基板20的上表面(保护膜未形成区域26)到有效区域27内保护膜23的上表面的高度，对一般液晶装置来说，大约为5μm。

还有，在保护膜23上形成一组拉长的长方形条状电极24，这些条状电极24有作为多个窄长方形的扫描电极或数据电极的功能。

条状电极24由ITO(氧化铟锡)膜等透明导电膜构成，如图17和18所示，这些条状电极24在保护膜23(保护膜形成区域25)上形成，并经过保护膜周边部23a，一直延伸到保护膜23未形成区域26。

再有，保护膜未形成区域26是指没有形成保护膜23的区域，具体地说，是指在保护膜23周围、基板20的上表面露出的区域。

现在，在一般的高精细液晶装置中，条状电极24的电极宽度为100μm左右，各条状电极24之间的间隔(以下称为布线间距G)小于20μm。进一步地，在高清晰度的液晶装置中，布线之间的间距G小于12μm。

由ITO(氧化铟锡)形成的长方形条状电极24通过所谓的光刻工艺形成。即，用喷涂法在保护膜23及对置基板20上形成ITO(氧化铟锡)层，在ITO(氧化铟锡)层上形成正性抗蚀层，通过曝光、显影，形成正性抗蚀层图形，以形成图形的抗蚀层作掩模，对ITO(氧化铟锡)层进行蚀刻等，经过上述工序形成条状电极24。

而且，与条状电极24的电极宽度相比，布线间距G极小，由于会产生偏差，因此，在条状电极24形成后，要用显微镜对布线间距G进行目测检查。

由于布线间距G的偏差会引起条状电极24以及设置在透明基板上的象素电极的偏移，因此，最好对保护膜23形成区域25内的布线间距G进行检查。

但是，在保护膜23的形成区域25内，特别是在有效区域27内，由于光反射率高的遮光层22位于透明条状电极24的下侧，因此，因遮光层22对光反射而难以看清条状电极24，难以对保护膜23的形成区域25内的布线间距G进行检查。从而，通常根据条状电极24的电极宽度沿长度方向为恒定值的实际情况，在有效区域27的外侧对布线间距G进行检查。

然而，在形成上述条状电极24的过程中，在阶梯部分23b、23c附近，覆盖在ITO层上的正性抗蚀层的厚度比规定的厚度大。正性抗蚀层的厚度比规定厚度大的部分容易造成曝光不充分，因此，在显影后，阶梯部分23b、23c附近会残留一部分正性抗蚀层。这种正性抗蚀层残留部分的存在，例如如图17所示，会导致条状电极24的凸刺(burr)24x产生，还会导致条状电极24之间形成桥(bridge)24y，这种桥24y使条状电极24之间短路，从而最终导致液晶装置的成品合格率下降。

而且，由于产生了凸刺24x和桥24y，条状电极24的电极宽度沿其长度方向不为恒定值，因此，在有效区域27的外侧对布线间距G进行检查是没有意义的，难以提高液晶装置的成品合格率。

特别是，在布线间距G很小的高清晰度液晶装置中，条状电极24之间常常产生短路，由此，降低了高清晰度液晶装置的成品合格率。

鉴于上述情况，本发明的目的是提供一种电极之间不会短路、制造过程中成品合格率高、而且布线间距容易测定的液晶装置。

为了达到上述目的，本发明的构成如下：

本发明的液晶装置具有设置在基板上的若干色材层、位于各色材层周围的遮光层、覆盖这些色材层和遮光层的保护膜，以及设置在所述保护膜上，并且从所述保护膜形成区域延伸到未形成区域的条状电极，其特征在于：在所述保护膜的阶梯部分上的所述条状电极的电极宽度比液晶装置有效区域内所述保护膜上的所述条状电极的电极宽度窄。

在这种液晶装置中，由于在保护膜具有阶梯的部分上，所述条状电极的电极宽度窄，利用这种结构，使保护膜阶梯部分上的条状电极之间的间隔(以下称为布线间距)大，因此，可以防止阶梯部分上的条状电极之间相互短路。

而且，本发明的液晶装置的特征在于：在前面所述的液晶装置中，所述保护膜未形成区域上的所述条状电极一部分的电极宽度与所述有效区域内所述保护膜上的所述条状电极的电极宽度一致。

在这种液晶装置中，在保护膜阶梯部分上的所述条状电极的电极宽度窄，同时，保护膜未形成区域上的电极宽度与有效区域内保护膜上所设置的条状电极的电极宽度一致。由于采用这样的结构，因此，设置在保护膜阶梯部分上的条状电极的布线间距大，由此防止阶梯部分上的条状电极之间相互短路。

由于在保护膜未形成区域侧的电极宽度与有效区域内的电极宽度一致，因此，可以在保护膜未形成区域测定布线间距，不会因遮光层的反射光而妨碍布线间距的测定。

还有，本发明的液晶装置的特征在于：在前面所述的液晶装置中，构成所述保护膜未形成区域上的所述条状电极长度方向轮廓的一对边位于构成所述有效区域上的所述条状电极长度方向轮廓的一对边的延长线上。

如按照这种液晶装置，由于保护膜未形成区域上的条状电极的一对边位于有效区域上的条状电极的一对边的延长线上，因此，可以在保护膜未形成区域上更精确地测定布线间距。

下面，结合附图说明本发明的实施例。

图1是斜视图，表示本发明的第1实施例的IFD型液晶装置。

图2是斜视图，表示图1所示的液晶装置的主要部分。

图3是平面图，表示图1所示的液晶装置的对置基板的主要部分，对置基板在图1中为双点划线所示的部分。

图4是沿图3中B-B’线的断面图。

图5是工艺图，用来说明图1所示的液晶装置的对置基板的制造方法。

图6是工艺图，用来说明图1所示的液晶装置的对置基板的制造方法。

图7是工艺图，用来说明图1所示的液晶装置的对置基板的制造方法。

图8是平面图，表示本发明第2实施例的液晶装置的对置基板的主要部分。

图9是沿图8中C-C’线的断面图。

图10是斜视图，表示单纯矩阵型液晶装置的主要部分。

图11是方框图，表示本发明的电子设备的实施例的大致构成。

图12是正视图，表示电子设备的一个实例-个人电脑。

图13是斜视图，表示电子设备的另一个实例-移动电话。

图14是斜视图，表示电子设备的又一个实例-袖珍型信息装置。

图15是斜视图，表示电子设备的再一个实例-电子手表。

图16是结构示意图，表示电子设备的其它实例-投射型显示装置。

图17是平面图，表示过去的液晶装置的对置基板的主要部分。

图18是沿图17中A-A’线的断面图。

实施例1

下面，结合附图说明本发明的第1实施例。

图1是斜视图，表示本发明的第1实施例的液晶装置。图2是斜视图，表示图1所示的液晶装置的主要部分。这两幅附图是用来说明液晶装置的结构，图中所示的各部分的大小、厚度和尺寸等不同于实际的液晶装置的尺寸关系。

图1所示的液晶装置1采用TFD器件(薄膜二极管)。如图1所示，这种液晶装置1具有形成TFD器件的透明基板10，即，所谓的阵列基板，同时，还具有与该透明基板相对的对置基板20。

如图2所示，在透明基板10上形成TFD器件14和布线15，TFD器件14以矩阵的形式配置，布线15用来作为一组信号线或扫描线，每根布线15与多个TFD器件14串联。而且，每个TFD器件14连接到各象素电极16上。

还是如图2所示，在透明基板10和对置基板20的相对面的背面，分别粘贴偏振片30、31。而在透明基板10和对置基板20相对的面上，形成图中未示出的定向膜，在这些相对的定向膜之间设置液晶层和隔离层等。

图3是平面图，表示对置基板的主要部分(图1中所示的双点划线内)，图4是沿图3中B-B’线的断面图。与图1和图2一样，图3和图4是用来说明液晶装置的结构，图中所示的各部分的大小、厚度和尺寸等不同于实际的液晶装置的尺寸关系。

如图2、图3和图4所示，在对置基板20上(图2中对置基板20的下侧)，形成若干色材层21，在各色材层21之间以矩阵的形状设置由铬或类似物质形成的遮光层22。

进一步地，如图2～图4所示，在对置基板20上，设置覆盖色材层21和遮光层22的保护膜23。这些色材层21、遮光层22和保护膜23构成所谓的滤色片。

用红(R)、绿(G)、蓝(B)中的一种颜色给每个色材层21着色，尽管图3中将各色材层21设置成马赛克(mosaic)图形，但是，最好也能设置成条状或三角形等其它形状的图形。

遮光层22以矩阵形状形成，以致于将色材层21包围，遮光层22由铬之类的物质构成，并具有所谓的黑矩阵(black matrix)功能，即，具有提高对比度和防止色材混合之类的功能。

而且，如图4所示，保护膜23上具有阶梯23b和阶梯23c，阶梯23b是因位于有效区域27最外侧的色材层以及构成遮光层22最外侧轮廓的遮光层外缘部22a而形成的，而阶梯23c位于构成保护膜23轮廓的保护膜周边部23a上，并且与保护膜23的膜厚相当。也就是说，在有效区域27与保护膜未形成区域26之间，设置有保护膜阶梯区域29(以下称之为保护膜阶梯部分29)。

由于遮光层22被保护膜23覆盖，因此，遮光层外缘部22a的位置比保护膜周边部23a更靠近色材层21。

这些阶梯23b、23c的总高度大约为5μm。

而且，在保护膜23上(图2中保护膜23的下侧)，形成一组拉长的长方形条状电极24，这些条状电极24用来作为多个窄长方形的扫描电极或数据线。

条状电极24由ITO(氧化铟锡)膜等透明导电膜构成，如图4所示，这些条状电极24在保扩膜23(保护膜形成区域25)上形成，并经过保护膜周边部23a，一直延伸到保护膜23的未形成区域26。

保护膜未形成区域26是指没有形成保护膜23的区域，具体地说，是指在保护膜23周围、基板20的上表面露出的区域。

此后，将有效区域最外侧的色材层所包围的区域称为有效区域27。

条状电极24由位于有效区域27上的电极基部24a和位于保护膜阶梯部分29上及保护膜未形成区域26上，并与电极基部24a连接的电极窄部24b组成。而且在本实施例中，尽管电极窄部24b在遮光层外缘部22a处与电极基部24a连接，但是，其连接部不妨设置得稍微靠近点色材层21侧。

电极基部24a和电极窄部24b的电极宽度在其长度方向为恒定值。

但是，电极窄部24b的电极宽度比电极基部24a的电极宽度窄。

这样，保护膜阶梯部分29上的条状电极24的电极宽度就比有效区域27上的电极宽度窄。

因此，保护膜阶梯部分29上的各条状电极24的间隔(以下称之为布线间距G2)就比有效区域27上的各条状电极24的间隔(以下称之为布线间距G1)大。

具体地说，电极基部24a的电极宽度在70～200μm的范围内，例如，为100μm左右，电极窄部24b的电极宽度在60～180μm的范围内，例如，为96μm左右。而且，布线间距G1在20μm以下，在高清晰度液晶装置的情况下，布线间距G1在12μm以下。

因此，电极窄部24b的布线间距G2在24μm以下，在高清晰度液晶装置的情况下，布线间距G2在16μm以下。

而且，电极宽度和各布线间距的大小不局限于上述范围，可以任意改变。

这些条状电极24是利用下面所述的光刻工艺形成的。

首先，如图5所示，在对置基板20上依次层迭遮光层22、色材层21、保护膜23，形成滤色片。

然后，如图6所示，在保护膜23及对置基板20上依次层迭ITO(氧化铟锡)层24c、正性光致抗蚀层31，用预定的掩模，将光照射在正性抗蚀层上，使正性光致抗蚀层31曝光、显影，用形成图形的正性光致抗蚀层作掩模，采用蚀刻法将ITO层的一部分除去。

如图6所示，ITO层24c层迭在保护膜23及对置基板20上，在该ITO层24c上层迭正性光致抗蚀层31。从而，在正性光致抗蚀层31上，因阶梯部分29而形成阶梯部分31a，或者，以将该保护膜的阶梯部分盖住的方式涂敷抗蚀层31。因此，在该抗蚀层的阶梯部分31a处曝光不充分，抗蚀层31在蚀刻后会残留一部分。

但是，因为在这个阶梯部分31a附近形成的条状电极24的布线间距G2大，所以，即使在这个部分残留光致抗蚀层31，由于布线间距G2大，因而残留抗蚀层不会导致条状电极24相互短路。

然后，如图7所示，除去残留的光致抗蚀层31，由此得到如图2和图3所示的条状电极24。

在上述液晶装置中，由于条状电极24的电极窄部24b的电极宽度比电极基部24a的电极宽度窄，因此，在保护膜阶梯部分29上的布线间距G2大，可以防止保护膜阶梯部分29上的条状电极24之间相互短路。

实施例2

下面，参照附图说明本发明的实施例2。

图8是平面图，表示本发明第2实施例的液晶装置的对置基板的主要部分。图9是沿图8中C-C’线的断面图。

与图1～图4一样，这些附图只是用来说明液晶装置的构成，图中所示的各部分的大小、厚度和尺寸等不同于实际的液晶装置的尺寸关系。

而且，在图8和图9所示的构成部分中，与图3和图4所示的构成部分相同的部分，用与图3和图4相同的标号表示，并省略其说明，或者只作简单地说明。

如图8和图9所示，在对置基板20上形成若干色材层21，在各色材层21之间，以矩阵的形状设置由铬或类似物质形成的遮光层22。

进一步地，如图9所示，在对置基板20上设置保护膜23，保护膜23将色材层21和遮光层22覆盖。这些色材层21、遮光层22和保护膜23构成所谓的滤色片。

而且，如图9所示，在保护膜23上，因位于有效区域最外侧的色材层21和构成遮光层22的最外侧轮廓的遮光层外缘部22a，而形成阶梯23b，在构成保护膜23的轮廓的保护膜周边部23a上，形成与保护膜23的膜厚相当的阶梯23c。在有效区域27内的保护膜23与保护膜未形成区域26之间，保护膜23具有阶梯部分29。

这些阶梯部分29的总高度大约为5μm。

而且，在保护膜23上(图2中保护膜23的下侧)，形成一组拉长的长方形条状电极44。

条状电极44由ITO(氧化铟锡)膜等透明导电膜构成，因此，如图8和图9所示，这些条状电极24在保护膜23(保护膜形成区域25)上形成，并经过保护膜周边部23a，一直延伸到保护膜23的未形成区域26。

如图8所示，条状电极44由位于有效区域27上的电极基部44a、位于保护膜阶梯部分29上，并与电极基部44a连接的电极窄部44b、以及位于保护膜23的未形成区域26上，并与电极基部44a连接的电极端部44c组成。

电极窄部44b从保护膜阶梯部分29延伸到保护膜周边部23a的外侧。在本实施例中，尽管电极窄部44b在遮光层外缘部22a处与电极基部44a连接，在保护膜周边部23a的外侧与电极端部44c连接，但是，电极基部44a与电极窄部44b的连接部位最好比较靠近色材层。

电极基部44a、电极窄部44b和电极端部44c的电极宽度在其长度方向均为恒定值。

电极窄部44b的电极宽度比电极基部44a和电极端部44c的电极宽度窄。而且，电极基部44a的电极宽度和电极端部44c的电极宽度相同。

构成电极端部44c的长度方向轮廓的一对边44d、44d位于构成电极基部44a的长度方向轮廓的一对边44e、44e的延长线上。

因此，在保护膜阶梯部分29上的布线间距G4就比有效区域27上的布线间距G3大。而有效区域27上的布线间距G3与保护膜23的未形成区域26上的布线间距G5一致。

具体地说，电极基部44a和电极端部44c的电极宽度在70～200μm的范围内，例如，为100μm左右，电极窄部44b的电极宽度在60～180μm的范围内，例如，为96μm左右。而且，电极基部44a和电极端部44c的布线间距G3、G5在20μm以下，在高清晰度液晶装置的情况下，布线间距G3、G5在12μm以下。

因此，电极窄部44b的布线间距G4在24μm以下，在高清晰度液晶装置的情况下，布线间距G4在16μm以下。

在本实施例的液晶装置中，由于条状电极44的电极窄部44b的电极宽度比电极基部44a的电极宽度窄，因此，在阶梯部分29上的布线间距G4大，可以防止遮光层外缘部22a的阶梯22b附近的条状电极44之间相互短路。

尽管因遮光层22反射光阻碍了对有效区域27上的布线间距G3的测定，但由于电极端部44c的布线间距G5与布线间距G3相同，因此，通过测定布线间距G5，就可以知道布线间距G3的大小。

而且，由于构成电极端部44c的长度方向轮廓的一对边44d、44d位于构成电极基部44a的长度方向轮廓的一对边44e、44e的延长线上，因此，通过测定布线间距G5，可以比较精确地测定电极基部44a的布线间距G3。

液晶装置的其它构成

在上述实施例1和实施例2中，尽管对将本发明用于TFD器件型液晶装置中的情形作了说明，但本发明不局限于此，例如，本发明也可以用于图10所示的单纯矩阵型液晶装置中。

图10是斜视图，表示单纯矩阵型液晶装置的主要部分。这个附图只是用来说明液晶装置的构成，图中所示的各部分的大小、厚度和尺寸等不同于实际的液晶装置的尺寸关系。

而且，这里尽管所说明的是采用实施例1的条状电极24的例子，但不用说，也可以采用实施例2的条状电极44。

图10所示的单纯矩阵型液晶装置具有透明基板50和上述对置基板20，在透明基板50上形成若干拉长的长方形电极56，这些电极56用来作数据线或扫描线，同时，上述对置基板20设置在与透明基板50相对的位置上。

电极56相互之间以一定的间隔排列，并且它们都以相同的方向延伸。

在透明基板50和对置基板20相对的面的背面，分别粘贴偏光板30、31，并且，在透明基板50和对置基板20相对的面上，形成图中未示出的定向膜，在这些相对的定向膜之间设置液晶层和隔离层等。

而且，在对置基板20上(图10中对置基板20的下侧)，形成若干色材层21，在各色材层21之间以矩阵的形状设置由铬或类似物质形成的遮光层22。

进一步地，在对置基板20上，设置覆盖色材层21和遮光层22的保护膜23。这些色材层21、遮光层22和保护膜23构成所谓的滤色片。

而且，在保护膜23上(图2中保护膜23的下侧)，形成前面已详细说明的若干用作数据线或扫描线的窄的长方形条状电极24。条状电极24的长度方向垂直于数据电极56的长度方向。

电子设备

下面，参照图11和图12说明装有上述液晶装置的电子设备的实例。

这里，尽管所说明的是采用实施例1的液晶装置的例子，但不用说，也可以采用实施例2的液晶装置，还可以采用上述单纯矩阵型液晶装置。

首先，图11中示出了装有实施例1的液晶装置的电子设备的大致构成。在图11中，电子设备由显示信息输出源1000、显示信息处理电路1002、驱动电路1004、上述实施例1的液晶装置1、时钟信号发生电路1008和电源电路1010构成。

显示信息输出源1000包括：ROM(只读存储器)、RAM(随机存取存储器)和光盘之类的存储器、以及用来使图像信号同步并输出图像信号的同步电路，它根据时钟信号发生电路1008的时钟信号，将预定形式的图像信号之类的显示信息输出给显示信息处理电路1002。

显示信息处理电路1002由放大和极性反向电路、串并联变换电路、旋转电路、图像校正(gamma correction)电路、箝位电路等各种公知的处理电路构成，它根据响应时钟信号而输入的显示信息依次产生数据信号，并且，将数据信号和时钟信号CLK一起输出给驱动电路1004。驱动电路1004驱动液晶装置1。

图12示出了这样构成的电子设备的具体实例。

参照图12，在作为电子设备一例的多媒体个人笔记本电脑1200中，上述实施例1的液晶装置1设置在其上部的盖壳内，而且，在多媒体个人笔记本电脑1200中还包括本体1204，其中装有中央处理单元(CPU)、存储器、调制解调器(modem)，同时还装有键盘1202。

图13表示电子设备的另一个实例-移动电话。在图13中，标号200表示移动电话本体，标号201表示使用上述液晶装置1的液晶显示部分。

图14表示电子设备的又一个实例-文字处理器、个人电脑等袖珍型信息装置。在图14中，标号300表示信息处理装置，标号301表示键盘之类的输入部分，标号303表示信息处理装置本体，标号302表示使用上述液晶装置1的液晶显示部分。

图15表示电子设备的再一个实例-电子手表。在图15中，标号400表示电子手表本体，标号401表示使用上述液晶装置1的液晶显示部分。

图16表示电子设备的其它实例-投射型显示装置。

在图16中，标号530表示光源，标号533、534表示分色镜，标号535、536、537表示反射镜，标号538表示入射透镜，标号539表示中继透镜，标号520表示出射透镜，标号522、523、524表示使用上述液晶装置1的液晶调光装置，标号525表示交叉分色棱镜，标号526表示投射透镜。

光源530由金属卤化物之类的灯531和将灯531的光反射的反射器532组成。反射蓝色光、绿色光的分色镜533使光源530的光束中的红色光通过，同时，将蓝色光、绿色光反射。通过的红色光由反射镜537反射，入射到红色光液晶调光装置522上。另一方面，由分色镜533反射的色光中，绿色光由反射绿色光的分色镜534反射，并入射到绿色光液晶调光装置523上。而蓝色光仍然透过第2分色镜534。对于蓝色光，为了防止因长的光路而造成损失，设置导光装置521，该导光装置521由含有入射透镜538、中继透镜539、出射透镜520的中继透镜系统539组成，利用导光装置521，使蓝色光入射到蓝色光液晶调光装置524上。

由各调光装置调制的3个色光入射到交叉分色棱镜525上。这个棱镜由4个直角棱镜粘合而成，其内表面上，反射红色的电介质多层膜和反射蓝色的电介质多层膜呈十字状形成。利用这些电介质多层膜，使3个色光合成，形成表示彩色图像的光。通过构成光学系统的投射透镜526将合成后的光投射到屏幕上，将图像放大并显示在屏幕上。

除了以上参照图12到图16所说明的电子设备之外，图11中所示的电子设备还可以是，例如，液晶电视、取景器型或直接监视器取景型磁带式摄象机、汽车导航装置、电子笔记本、台式电子计算机、工程工作站、可视电话、主操作系统(POS)终端、具有触摸式屏幕(touch panel)的装置等。

象以上详细说明的那样，由于本发明的液晶装置具有一组从保护膜形成区域延伸到未形成区域的长方形条状电极，并且，至少保护膜阶梯部分上的条状电极的电极宽度比有效区域上的条状电极的电极宽度窄，因此，保护膜阶梯部分上的布线间距大，可以防止阶梯部分上的条状电极之间相互短路，从而，可以提高液晶装置的可靠性。

在本发明的液晶装置中，由于保护膜阶梯部分上的条状电极的电极宽度比有效区域上的电极宽度窄，并且，保护膜未形成区域上的电极一部分的宽度与有效区域上的电极宽度一致，因此，在位于有效区域和保护膜未形成区域之间的阶梯部分上，布线间距大，由此，可以防止遮光层外缘部的阶梯部分上的条状电极之间相互短路。

由于可以在保护膜未形成区域测定布线间距，因此，不会因遮光层的反射光而妨碍布线间距的测定。

而且，在本发明的液晶装置中，由于构成保护膜未形成区域上的条状电极长度方向轮廓的一对边位于构成有效区域的条状电极长度方向轮廓的一对边的延长线上，因此，可以在保护膜未形成区域上更精确地测定有效区域上的条状电极的布线间距。由此，尤其可以提高高清晰度液晶装置的产品合格率，并提高液晶装置的可靠性。

Claims

1．一种液晶装置，

包括设置在基板上的若干色材层、位于各色材层周围的遮光层、以及覆盖这些色材层和遮光层的保护膜，

还包括设置在所述保护膜上的条状电极，所述的条状电极从所述保护膜形成区域延伸到未形成区域，

其特征在于：

所述保扩膜的阶梯部位上的所述的条状电极的电极宽度比上述液晶装置有效区域内所述保护膜上的所述条状电极的电极宽度窄。

2．根据权利要求1所述的液晶装置，其特征在于：

在所述保护膜未形成区域的所述条状电极的电极宽度的一部分在结构上与所述有效区域内的所述保护膜上的所述条状电极的电极宽度一致。

3．根据权利要求2所述的液晶装置，其特征在于：

在所述保护膜未形成区域，构成所述条状电极长度方向的轮廓的一对边位于另一对边的延长线上，所述的另一对边在所述有效区域内构成所述保护膜上的所述条状电极长度方向的轮廓。

4．一种电子设备，其特征在于：其中配备了权利要求1到3中任一项所述的液晶装置。