JP2006243221A - 電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】
透過領域でのカラー表示の品位を確保しつつ反射領域でのモノカラー表示の品位を向上させることができる電気光学装置用基板、電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】
反射表示領域１１Ｒに設けられると共に透過表示領域１０Ｒに隣接した平坦領域１４Ｒでは表面が平坦な平坦部１７Ｒを備えた反射膜１６Ｒと、平坦領域１４Ｒと透過表示領域１０Ｒとにのみ形成された着色層１８Ｒとを備えているので、例えば透過表示領域１０Ｒにのみ設けるべき着色層１８Ｒが製造誤差等により平坦領域１４Ｒ側にはみ出しても、例えば着色層１８Ｒが平坦領域１４Ｒにのみはみ出して設けられ平坦ではない有効反射表示領域１３Ｒにはみ出さないようにすることができる。
【選択図】 図３

Description

本発明は、パーソナルコンピュータや携帯電話機等の電子機器並びにこれらの電子機器に用いられる電気光学装置用基板、電気光学装置に関する。

従来、パーソナルコンピュータや携帯電話機等といった電子機器の表示装置として液晶装置等が用いられている。この液晶装置には、例えば光を透過する透過表示領域と光を反射する反射表示領域とを備えた半透過反射型のものが知られている。この液晶装置は、例えば透過表示領域に比べて透過率の高い着色層が必要とされる反射表示領域での反射表示が暗いものとなってしまう、という問題があった。

この問題を解決するために、例えば透過表示の領域にのみカラーフィルターを設けることで、例えば反射表示のときは明るい白黒画像を表示し、透過表示のときは色再現性及び明るさが充分なカラー画像を表示する技術が開示されている。（例えば、特許文献１参照。）。
特開２００４−０９３６７０号公報（段落［００２１］、図１）。

しかしながら、上述した特許文献１の技術では、明るい反射表示を得ることができるものの製造誤差等により透過表示領域にのみ設けるべき着色層が反射表示領域にまで設けられてしまい、反射表示が薄いカラー表示になってしまうことがある、という問題がある。

逆に、はみ出しを防止するために透過表示領域に設けるべき着色層の量を減少させると、着色層の量が不足し透過表示領域で所望のカラー表示を行うことができなくなってしまう。

本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、透過表示領域でのカラー表示の品位を確保しつつ反射表示領域でのモノカラー表示の品位を向上させることができる電気光学装置用基板、電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の主たる観点に係る電気光学装置は、電気光学物質を保持し反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた一対の基板と、前記反射表示領域に設けられると共に該反射表示領域における前記透過表示領域に隣接した第１の鏡面反射する領域では表面が平坦な反射膜と、前記第１の鏡面反射する領域と前記透過表示領域とにのみ形成された着色層とを具備する。

ここで、「画素」とは、例えば複数のサブ画素で画素を構成するときのサブ画素を含んでいる。

本発明では、電気光学物質を保持し反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた一対の基板と、反射表示領域に設けられると共に該反射表示領域における透過表示領域に隣接した第１の鏡面反射する領域では表面が平坦な反射膜と、第１の鏡面反射する領域と透過表示領域とにのみ形成された着色層とを備えているので、例えば透過表示領域にのみ設けるべき着色層が製造誤差等により反射表示領域の第１の鏡面反射する領域側にはみ出しても、例えば着色層が第１の鏡面反射する領域にのみはみ出して設けられ平坦ではない反射表示領域にはみ出さないようにすることができる。そのため、透過表示領域に設けられた着色層によりカラー表示の品位を確保しつつ、モノカラー表示である反射表示が薄いカラー表示になってしまうことを防止して、反射表示領域でのモノカラー表示の品質を向上させることができる。また、光が第１の鏡面反射する領域に入射して反射するときは、光を散乱させることなく鏡面反射させることができるので、第１の鏡面反射する領域にはみ出して設けられた着色層が表示に寄与することを防止することができる。また、反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域に、光を散乱するための反射膜を形成し、反射膜を第１の鏡面反射する領域に延設することで、例えば反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域と第１の鏡面反射する領域とに設けられる反射膜とに別の部材を用いる必要がなく、反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域に反射膜を設けるときに同時に第１の鏡面反射する領域に反射膜を設けることができ、例えば製造工程数を減少させることができると共に製造コストを低減することができる。

本発明の一の形態によれば、前記反射表示領域における前記第１の鏡面反射する領域以外の領域に設けられた反射膜は、表面が凹凸形状を備えることを特徴とする。これにより、反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域に設けられた反射膜は、表面が凹凸形状を備えるので、散乱された光により反射表示に寄与させることができると共に、反射表示領域における第１の鏡面反射する領域に設けられた反射膜により入射光を鏡面反射させて、反射光が表示に寄与することを防止することができる。

本発明の一の形態によれば、前記第１の鏡面反射する領域における反射膜は、前記反射表示領域における前記第１の鏡面反射する領域以外の領域に設けられた反射膜とは異なる材料により形成されていることを特徴とする。これにより、第１の鏡面反射する領域における反射膜は、反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域に設けられた反射膜とは異なる材料により形成されている。この場合でも、金属で配線を形成するときに同時に第１の鏡面反射する領域における反射膜を形成することで、製造ステップを増加させることなく電気光学装置を製造することができる。また、例えば反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域の反射膜を金属により形成し、第１の鏡面反射する領域の反射膜を金属以外の材料（白塗料など）を用いて形成することができる。

本発明の一の形態によれば、前記画素は、一の画素と、該一の画素に隣接して設けられた他の画素とを有し、前記反射膜は、前記一の画素の反射表示領域における該一の画素の反射表示領域に隣接する前記他の画素の透過表示領域との境界近傍に、第２の鏡面反射する領域を設けるように表面が平坦に形成されていることを特徴とする。これにより、前記画素は、一の画素と、該一の画素に隣接して設けられた他の画素とを有し、反射膜は、一の画素の反射表示領域における該一の画素の反射表示領域に隣接する他の画素の透過表示領域との境界近傍に、第２の鏡面反射する領域を設けるように表面が平坦に形成されているので、カラー表示を行うための着色層が第２の鏡面反射する領域を越えて反射表示領域の他の領域にはみ出すことを防止でき、反射表示の表示品位を向上させることができる。また、例えば、第１の鏡面反射する領域の反射膜と、第２の鏡面反射する領域の反射膜とを例えば同時に形成することで、製造ステップを削減することができる。

本発明の一の形態によれば、前記画素は、一の画素と、該一の画素に隣接して設けられた他の画素とを有し、前記一の画素の透過表示領域と該一の画素の透過表示領域に隣接する前記他の画素の反射表示領域との間に、第１の遮光層を更に具備することを特徴とする。これにより、画素は、一の画素と、該一の画素に隣接して設けられた他の画素とを有し、一の画素の透過表示領域と該一の画素の透過表示領域に隣接する他の画素の反射表示領域との間に、第１の遮光層を備えているので、カラー表示を行うための着色層が透過表示領域から反射表示領域側にはみ出しても第１の遮光層により光を遮光することができ、表示品位を向上させることができる。

本発明の一の形態によれば、前記着色層は複数の色の着色層を有し、前記第１の遮光層は、異なる色の前記着色層を積層して形成されていることを特徴とする。これにより、着色層は複数の色の着色層を有し、第１の遮光層は、異なる色の前記着色層を積層して形成されているので、カラー表示を行うための着色層を第１の遮光層を形成するために用いることができ、例えば第１の遮光層を別の部材で形成する場合等に比べて、製造コストを削減することができる。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜は、前記一対の基板の一方の基板に設けられており、前記一対の基板の他方の基板の前記第１の鏡面反射する領域に対応する領域に第２の遮光層を更に具備することを特徴とする。これにより、反射膜は、一対の基板の一方の基板に設けられており、一対の基板の他方の基板の第１の鏡面反射する領域に対応する領域に第２の遮光層を備えているので、透過表示領域に設けるべき着色層が製造誤差等により第１の鏡面反射する領域側にはみ出しても、例えば着色層が第１の鏡面反射する領域の反射膜に重なり第１の鏡面反射する領域以外の反射表示領域にはみ出さないようにすると共に、光が透過する側から見たときにはみ出した着色層を第２の遮光層により隠すことができ、反射表示領域でのモノカラー表示の品質を向上させることができる。

本発明の一の形態によれば、前記第１の鏡面反射する領域の前記透過表示領域側の縁が直線状であることを特徴とする。これにより、前記第１の鏡面反射する領域の前記透過表示領域側の縁が直線状であるので、例えば第１の鏡面反射する領域を曲げて設ける場合等に比べて、第１の鏡面反射する領域の透過表示領域側の縁の必要な長さを短くすることができ、第１の鏡面反射する領域の面積を小さくできるので反射表示の明るさの低下が少なくなり、反射表示領域でのモノカラー表示の品質を向上させることができる。

本発明の一の形態によれば、前記反射膜が前記画素内において島状に設けられている、又は、前記透過表示領域が前記反射膜に設けられた開口であることを特徴とする。これにより、反射膜が画素内において島状に設けられている、又は、透過表示領域が反射膜に設けられた開口であるので、例えば透過表示領域と反射表示領域との形成位置の偏りに依存する表示品位の低下を防止することができる。

本発明の一の形態によれば、前記第１の鏡面反射する領域の幅は、１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする。ここで、第１の鏡面反射する領域の幅とは、例えば反射表示領域における第１の鏡面反射する領域以外の領域と、透過表示領域との間隔をいう。これにより、第１の鏡面反射する領域の幅は、１μｍ以上１０μｍ以下であるので、例えば確実に第１の鏡面反射する領域を越えて反射表示領域の第１の鏡面反射する領域以外の領域にはみ出さないようにすることができると共に、第１の鏡面反射する領域により必要以上に反射表示が暗くなることを極力防止することができる。

本発明の一の形態によれば、前記第１の鏡面反射する領域を除く前記基板と前記反射膜との間に凹凸形状が形成された下地層が更に設けられていることを特徴とする。これにより、第１の鏡面反射する領域を除く反射表示領域においては反射膜に散乱機能を付与するための凹凸形状が形成された下地層が設けられていることで、散乱された光により反射表示に寄与させることができ、第１の鏡面反射する領域においては下地層を形成しないだけで反射表示に寄与しない平坦な反射膜を形成することができる。ここで、第１の鏡面反射する領域は鏡面反射の領域であるため、仮に着色層が第１の鏡面反射する領域にはみ出しても反射表示が薄いカラー表示となってしまう問題を生じさせることはない。また、第１の鏡面反射する領域で反射膜の表面を平坦にするために基板の面を用いることでより確実に平坦にすることができる。

本発明の一の形態によれば、前記基板と前記反射膜との間に下地層が設けられ、前記下地層は、前記第１の鏡面反射する領域では平坦であり、前記第１の鏡面反射する領域を除く前記反射表示領域では凹凸形状が形成されていることを特徴とする。これにより、基板と反射膜との間に下地層が設けられ、下地層は、第１の鏡面反射する領域では平坦であり、第１の鏡面反射する領域を除く反射表示領域では凹凸形状が形成されているので、例えば第１の鏡面反射する領域に下地層がない場合に比べて基板からの第１の鏡面反射する領域の反射膜の高さが高くなり製造時に透過表示領域から第１の鏡面反射する領域に流れ込む着色層の材料の量を減少させることができ、より確実に第１の鏡面反射する領域を越えた反射表示領域の第１の鏡面反射する領域以外の領域へのはみ出しを防止できるので、反射表示でのモノカラー表示の品質を向上させることができる。更に、第１の鏡面反射する領域においては、下地層に凹凸形状を形成しないだけで反射表示に寄与しない平坦な反射膜を形成することができる。

本発明の一の形態によれば、前記基板と前記反射膜との間に凹凸形状が形成された下地層が設けられ、前記第１の鏡面反射する領域において、前記下地層と前記反射膜との間に前記凹凸形状を埋める平坦化膜が形成されていることを特徴とする。これにより、基板と反射膜との間に凹凸形状が形成された下地層が設けられ、第１の鏡面反射する領域において、下地層と反射膜との間に凹凸形状を埋める平坦化膜が形成されている。そのため、精度良く下地層の第１の鏡面反射する領域を除いた領域に選択的に凹凸形状を形成することが困難な場合であっても、第１の鏡面反射する領域において凹凸形状を形成した下地層上に平坦化膜を形成するだけで反射表示に寄与しない平坦な反射膜を形成することができる。

本発明の他の観点に係る電気光学装置用基板は、電気光学物質を保持し反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた基板と、前記反射表示領域に設けられると共に該反射表示領域における前記透過表示領域に隣接した鏡面反射する領域では表面が平坦な反射膜と、前記鏡面反射する領域と前記透過表示領域とにのみ形成された着色層とを具備する。

ここで、「画素」とは、例えば複数のサブ画素で画素を構成するときのサブ画素を含んでいる。

本発明では、電気光学物質を保持し反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた基板と、反射表示領域に設けられると共に該反射表示領域における透過表示領域に隣接した鏡面反射する領域では表面が平坦な反射膜と、鏡面反射する領域と透過表示領域とにのみ形成された着色層とを備えているので、例えば透過表示領域にのみ設けるべき着色層が製造誤差等により反射表示領域の鏡面反射する領域側にはみ出しても、例えば着色層が鏡面反射する領域にのみはみ出して設けられ平坦ではない反射表示領域にはみ出さないようにすることができる。そのため、透過表示領域に設けられた着色層によりカラー表示の品位を確保しつつ、モノカラー表示である反射表示が薄いカラー表示になってしまうことを防止して、反射表示領域でのモノカラー表示の品質を向上させることができる。また、光が鏡面反射する領域に入射して反射するときは、光を散乱させることなく鏡面反射させることができるので、鏡面反射する領域にはみ出して設けられた着色層が表示に寄与することを防止することができる。

本発明の他の観点にかかる電子機器は、上述した電気光学装置を備えたことを特徴とする。

本発明では、カラー表示の品位を確保しつつ反射表示領域でのモノカラー表示の品質を向上させることができる電気光学装置を備えているので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。

以下、本発明に係る実施形態を図面に基づき説明する。なお、以下実施形態を説明するにあたっては、具体的には電気光学装置の例としての反射半透過型のニ端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ 薄膜ダイオード）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶装置及びその液晶装置を用いた電子機器について説明するが、これに限られるものではない。また、以下の図面においては各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。

（第１の実施形態）

図１は本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の概略斜視図、図２は図１の液晶装置の液晶パネルの画素の概略平面図、図３は図２の液晶パネルの画素のＡ−Ａ断面図である。なお、図２においては、後述する平坦化層、走査電極及び配向膜等の図示を省略した。

（液晶装置の構成）

液晶装置１は、例えば図１に示すように液晶パネル２と、液晶パネル２に接続された回路基板３とを備えている。ここで、液晶装置１には、回路基板３の他にも、図示しないバックライト等の照明装置やその他の付帯機構が必要に応じ付設されている。

液晶パネル２は、図１に示すようにシール材４を介して貼り合わされた一対の基板５及び基板６と、両基板５、６の隙間に封入された電気光学物質、例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔ Ｎｅｍａｔｉｃ）型の液晶７とを備えている。

基板５には、例えば図１に示すように文字等を表示する単位となる画素８がＸ方向及びＹ方向に複数並列して設けられている。画素８は、例えば図２に示すように例えば赤色、緑色及び青色をそれぞれ表示するための略矩形状のサブ画素９Ｒ、９Ｇ及び９Ｂが後述する第１の遮光層１４ａを介してＸ方向に３個並設して形成されている。

サブ画素９Ｒは、図２及び図３に示すように基板５の液晶７側と反対側に設けられた図示を省略したバックライトからの光を透過しカラー表示を行うための透過表示領域１０Ｒと、後述する反射膜が設けられた反射表示領域１１Ｒとを備えている。反射表示領域１１Ｒは、基板６側から基板５側に向けて入射する光を反射しモノカラー表示を行うための有効反射表示領域１３Ｒと、反射表示領域１１Ｒの有効反射表示領域１３Ｒを除く領域である後述する平坦領域１４Ｒとを備えている。なお、有効反射表示領域１３Ｒと平坦領域１４Ｒとで反射表示が行われるが、平坦領域１４Ｒで反射した光は鏡面反射（正反射）であるため、反射表示には寄与しない。サブ画素９Ｒの図２、図３のＹ方向の一側（図２の下側、図３の右側）に透過表示領域１０Ｒが設けられており、サブ画素９Ｒの図２、図３のＹ方向の他側（図２の上側、図３の左側）に有効反射表示領域１３Ｒが設けられている。

サブ画素９Ｒは、有効反射表示領域１３Ｒに設けられた下地層１５Ｒ、反射表示領域１１Ｒに設けられると共に透過表示領域１０Ｒに隣接した平坦領域１４Ｒでは表面が平坦な平坦部１７Ｒを備えた反射膜１６Ｒ、少なくとも透過表示領域１０Ｒに設けられた着色層１８Ｒ、反射膜１６Ｒの液晶７側の面等を平坦にするための平坦化層１９、液晶７のＺ方向の厚さを調整するためのセル厚調整層２０、走査電極２１等により形成されている。

下地層１５Ｒは、図３に示すように有効反射表示領域１３Ｒで基板５の液晶７側の表面に設けられている。下地層１５Ｒの構成材料には例えば樹脂等が用いられている。下地層１５Ｒには複数の凹凸状部が形成されている。

反射膜１６Ｒは、反射表示領域１１Ｒに設けられている。反射膜１６Ｒの構成材料には例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。有効反射表示領域１３Ｒに設けられた反射膜１６Ｒは、下地層１５Ｒの凹凸形状に沿った凹凸形状を有している。これにより、基板６の側から入射する光を反射膜１６Ｒにより散乱させて反射することができるように構成されている。

反射膜１６Ｒの平坦部１７Ｒは、有効反射表示領域１３Ｒに設けられた反射膜１６Ｒから平坦領域１４Ｒに延設されて平坦領域１４Ｒで下地層１５Ｒを介さずに基板５の液晶７側の面に設けられている。反射膜１６Ｒと平坦部１７Ｒとは例えばアルミニウム等により一体的に設けられている。平坦部１７Ｒは、基板５の液晶７側の面に略平行な面を備えている。平坦部１７ＲのＹ方向の幅ａは、例えば１μｍ以上１０μｍ以下、望ましくは２μｍ以上６μｍ以下、より望ましくは４μｍとされている。すなわち、透過表示領域１０Ｒと有効反射表示領域１３Ｒとの間隔は、１μｍ以上１０μｍ以下とされている。

また、サブ画素９Ｒの透過表示領域１０Ｒと、透過表示領域１０Ｒに隣接するサブ画素９Ｂの有効反射表示領域１３Ｂとの境界の近傍には、図３に示すように、有効反射表示領域１３Ｂに設けられた反射膜２６Ｂから延設された表面が平坦な平坦部２７Ｂが、基板５の液晶７側に設けられている。

なお、本実施形態では、平坦部１７Ｒ、２７Ｂ等が基板５に設けられている例を示したが、例えば基板５に設けられた下地層を介して下地層上に平坦部１７Ｒ、２７Ｂ等が設けられるようにしてもよい。

赤色の着色層１８Ｒは、図３に示すように少なくとも透過表示領域１０Ｒで基板５の液晶７側の表面に設けられている。着色層１８Ｒは、図３に示すように平坦領域１４Ｒに隣接する側の端部が、平坦部１７Ｒに積層して設けられている。なお、着色層１８Ｒが平坦部１７Ｒに積層されずに設けられていることが好ましいが、製造誤差等により透過表示領域１０Ｒに着色層１８Ｒが設けられない領域が形成されてしまうことを回避するために、製造誤差を考慮した分だけ着色層１８Ｒが平坦部１７Ｒに積層して設けられている。

平坦化層１９は、反射膜１６Ｒ、平坦部１７Ｒ及び着色層１８Ｒ等の液晶７側に設けられている。平坦化層１９の構成材料には、例えばアクリル樹脂等が用いられている。平坦化層１９により平坦化層１９の液晶７側の面が平坦になっている。

セル厚調整層２０は、図３に示すように有効反射表示領域１３Ｒと平坦領域１４Ｒとで平坦化層１９の液晶７側の表面に設けられている。セル厚調整層２０の構成材料には、例えばアクリル樹脂等が用いられている。セル厚調整層２０は、有効反射表示領域１３Ｒの液晶７のＺ方向の厚さを、透過表示領域１０Ｒの液晶７のＺ方向の厚さより小さくするために用いられている。

走査電極２１は、透過表示領域１０Ｒ、有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒで、セル厚調整層２０及び平坦化層１９の液晶７側に図３に示すＸ方向に設けられている。走査電極２１の構成材料には、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等が用いられている。

走査電極２１の上に、例えばポリイミド樹脂等からなる図示を省略した配向膜が形成されており、更に基板５の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。

第１の遮光層１４ａは、図２に示すように例えば隣り合うサブ画素９Ｒ及び９Ｇの間では例えば着色層が積層されて形成されている。また、第２の遮光層１４ｂは、図３に示すように、透過表示領域１０Ｒと、透過表示領域１０Ｒに隣接するサブ画素９Ｂの有効反射表示領域１３Ｂとの間で平坦部２７Ｂの液晶７側に設けられている。第２の遮光層１４ｂは、図３に示すように透過表示領域１０Ｒに設けられた着色層１８Ｒの有効反射表示領域１３Ｂ側の端部が異なる色の着色層と積層して形成されている。

なお、サブ画素９Ｇ及びサブ画素９Ｂについては、着色層の着色材料にそれぞれ緑、青を表示するための着色材料が用いられている点が異なるだけでサブ画素９Ｒと同様な構造なのでその説明を省略する。

一方、基板６には、例えば図３に示すように液晶７側の表面に、マトリックス状に配列する複数の画素電極２２と、各画素電極２２の境界領域において走査電極２１と交差する方向に帯状に延びる図１に示す複数の信号電極２３（図３では図示を省略）と、画素電極２２及び信号電極２３に接続されたＴＦＤ２４とが配置され、画素電極２２等の液晶７側には図示を省略した配向膜が形成されている。画素電極２２は、例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。また、基板５と同様、基板６の液晶側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。

ここで、基板５及び基板６は、例えば図１に示すようにガラスや合成樹脂といった光透過性材料から形成された板状部材であり、基板５は基板６に対し外側へ突出した張出し領域（以下「張出し部」という。）２６を備えている。

次に、張出し部２６は図１に示すように走査電極２１及び信号電極２３がシール材４で囲まれる領域から張出し部２６に延びている走査電極用配線２７及び信号電極用配線２８、その各電極用配線２７、２８に例えば液晶駆動用電流を供給する液晶駆動用ＩＣ２９等を備えている。

また、張出し部２６には、液晶駆動用ＩＣ２９の実装面に対応する基板５上の実装領域内に設けられた複数の図示を省略した電極用端子、更に回路基板３からの電流を液晶駆動用ＩＣ２９に入力する複数の図示を省略した入力用端子が設けられている。電極用端子は走査電極用配線２７及び信号電極用配線２８にそれぞれ接続されている。

更に張出し部２６は、回路基板３からの電流を受取る図示を省略した外部用端子、その外部からの電流を入力用端子に供給する入力用配線３０等を備えている。なお、信号電極２３は例えばＴａやＣｒ，ＴａＷ等の金属材料により形成されている。

次に、回路基板３は例えば図１に示すようにベース基材３１の上に配線パターン３２等が形成、実装されて構成されている。

ここで、ベース基材３１は可撓性を有するフィルム状の部材であり、配線パターン３２は例えば銅等により形成されており、張出し部２６側の端に図示しない端子が形成されている。この端子は外部用端子に例えばＡＣＦを介して接続されている。

（液晶装置の製造方法）

次に液晶装置１の製造方法について図面を参照しながら説明する。

図４は第１の実施形態の液晶装置１の製造工程を示すフローチャートである。

まず、基板５を洗浄し、乾燥し、例えばポジ型の感光性樹脂を基板５に塗布し凹凸を有する下地層１５Ｒを有効反射表示領域１３Ｒに形成する（Ｓ１）。

次いで、スパッタリング等により基板５及び下地層１５Ｒ、１５Ｂ等を覆うようにアルミニウムを略一定の厚さで形成し、例えばエッチングにより一部反射膜を除去し、光を透過可能な開口を複数形成し平坦部１７Ｒ、２７Ｂを備えた反射膜１６Ｒ、２６Ｂを形成する（Ｓ２）。このとき、平坦領域１４Ｒには、反射膜１６Ｒと一体的にＹ方向の幅ａが例えば１μｍ以上１０μｍ以下の平坦部１７Ｒが形成される。また、平坦領域２４Ｒには、反射膜２６Ｂと一体的にＹ方向の幅ａが例えば１μｍ以上１０μｍ以下の平坦部２７Ｂが形成される。

次に、例えばサブ画素９Ｒの透過表示領域１０Ｒと、透過表示領域１０ＲにＹ方向に隣り合うサブ画素９Ｂの有効反射表示領域１３Ｂとの境界近傍に、第２の遮光層１４ｂを形成するための着色層１４ｃ等の材料を塗布しておき、透過表示領域１０Ｒにおける基板５の液晶７側の面と、着色層１４ｃとに重なるように着色層１８Ｒの材料を塗布し、着色層１８Ｒと共に第２の遮光層１４ｂを形成する（Ｓ３）。このとき、着色層１８Ｒの材料が平坦部１７Ｒ上に流れて平坦領域１４Ｒにはみ出しても、着色層１８Ｒが有効反射表示領域１３Ｒに設けられることはない。すなわち、透過表示領域１０Ｒと有効反射表示領域１３Ｒとの間隔（平坦部１７ＲのＹ方向の幅ａ）が、着色層１８Ｒが有効反射表示領域１３Ｒに設けられないように設定されている。同様に緑の着色層１８Ｇ、青の着色層１８Ｂを形成すると共に第１の遮光層１４ａ及び第２の遮光層１４ｂを形成する。なお、例えば平坦部２７Ｂが設けられている場合には、第２の遮光層１４ｂを設けなくてもよい。

次に、透過表示領域１０Ｒ、有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒ等に、平坦化層１９を形成し、有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒの液晶７側にセル厚調整用の透明感光性樹脂を塗布しセル厚調整層２０を形成する。このとき、図３に示すように有効反射表示領域１３Ｒ等における液晶７のＺ方向の厚さが、透過表示領域１０Ｒ等における液晶７のＺ方向の厚さより小さくなるようにする。

続いて、着色層１８Ｒ等及びセル厚調整層２０上に着色層１８Ｒ等に対応するようにＩＴＯからなる薄膜を同様に形成しパターニングして走査電極２１を形成する（Ｓ５）。更に、走査電極２１を覆うように図示を省略した配向膜を形成しラビング処理を施す。

一方、基板５に対向する基板６に画素電極２２、信号電極２３及びＴＦＤ２４を形成し、画素電極２２等を覆うように図示を省略した配向膜を形成しラビング処理を施す（Ｓ６）。

続いて、基板５上にシール材４を設け、両基板５、６を貼り合わせる（Ｓ７）。このとき、基板５側の第１の遮光層１４ａ、第２の遮光層１４ｂと、基板６側の各画素電極２２の境界領域とが対向するようにする。

そして、例えばシール材４に形成された注液口から液晶７を注液し注液口を封止し、基板５、６の外側に偏光板を設け、回路基板３を液晶パネル２に接続する等して液晶装置１を製造する（Ｓ８）。

以上で液晶装置１の製造方法についての説明を終了する。

このように本実施形態によれば、反射表示領域１１Ｒに設けられると共に反射表示領域１１Ｒにおける透過表示領域に隣接した平坦領域１４Ｒでは表面が平坦な平坦部１７Ｒを備えた反射膜１６Ｒと、平坦領域１４Ｒと透過表示領域１０Ｒとにのみ形成された着色層１８Ｒとを備えているので、例えば透過表示領域１０Ｒにのみ設けるべき着色層１８Ｒが製造誤差等により反射表示領域１１Ｒの平坦領域１４Ｒ側にはみ出しても、例えば着色層１８Ｒが平坦領域１４Ｒにのみはみ出して設けられ平坦ではない有効反射表示領域１３Ｒにはみ出さないようにすることができる。そのため、透過表示領域１０Ｒに設けられた着色層１８Ｒによりカラー表示の品位を確保しつつ、モノカラー表示である反射表示が薄いカラー表示になってしまうことを防止して、反射表示領域１１Ｒでのモノカラー表示の品質を向上させることができる。

また、光が平坦領域１４Ｒに入射して反射するときは、光を散乱させることなく鏡面反射させることができるので、平坦領域１４Ｒにはみ出して設けられた着色層１８Ｒが表示に寄与することを防止することができる。

更に、平坦部１７Ｒは反射膜１６Ｒが平坦領域１４Ｒに延設されて形成されているので、例えば反射膜１６Ｒとは別の部材を用いることなく、有効反射表示領域１３Ｒに反射膜１６Ｒを設けるときに同時に平坦領域１４Ｒに平坦面を有する平坦部１７Ｒを設けることができ、例えば製造工程数を減少させることができると共に製造コストを低減することができる。

また、反射表示領域１１Ｒにおける平坦領域１４Ｒ以外の有効反射表示領域１３Ｒに設けられた反射膜１６Ｒは、表面が凹凸形状を備えるので、散乱された光により反射表示に寄与させることができる。

更に、サブ画素９Ｒに隣接してサブ画素９Ｂが設けられており、反射膜２６Ｂは、サブ画素９Ｂの反射表示領域１１Ｂにおけるサブ画素９Ｒの透過表示領域１０Ｒとの境界近傍に、平坦領域２４Ｒを設けるように表面が平坦な平坦部２７Ｂを備えているので、カラー表示を行うための着色層１８Ｒが平坦領域２４Ｒを越えて有効反射表示領域１３Ｂにはみ出すことを防止でき、反射表示の表示品位を向上させることができる。また、例えば、反射膜１６Ｒの平坦部１７Ｒと、反射膜２６Ｂの平坦部２７Ｂとを例えば同時に形成することで、製造ステップを削減することができる。

また更に、サブ画素９Ｒの透過表示領域１０Ｒと、サブ画素９Ｒに隣接して設けられたサブ画素９Ｂの有効反射表示領域１３Ｂとの間に、着色層１８Ｒに異なる色の着色層を積層して形成された第２の遮光層１４ｂが設けられているので、カラー表示を行うための着色層１８Ｒを第２の遮光層１４ｂを形成するために用いることができ、例えば第２の遮光層１４ｂを別の部材で形成する場合等に比べて、製造コストを削減することができる。

また、透過表示領域１０Ｒはサブ画素９Ｒの図２のＹ方向の一側（図２の下側、図３の右側）に設けられており、有効反射表示領域１３Ｒはサブ画素９Ｒの図２のＹ方向の他側（図２の上側、図３の左側）に設けられており、平坦領域１４Ｒの透過表示領域１０Ｒ側の縁が直線状であるので、例えば平坦領域を曲げて設ける場合等に比べて、平坦領域１４Ｒの透過表示領域１０Ｒ側の縁の必要な長さを短くすることができ、平坦領域１４Ｒの面積を小さくでき、反射表示の明るさの低下が少なくなり、有効反射表示領域１３Ｒでのモノカラー表示の品質を向上させることができる。

また、平坦領域１４Ｒの幅ａ（平坦部１７ＲのＹ方向の幅ａ）は、１μｍ以上１０μｍ以下であるので、例えば確実に平坦領域１４Ｒを越えて有効反射表示領域１３Ｒにはみ出さないようにすることができると共に、平坦領域１４Ｒにより必要以上に反射表示が暗くなることを極力防止することができる。

更に、平坦領域１４Ｒを除く反射表示領域１１Ｒにおいては反射膜１６Ｒに散乱機能を付与するための凹凸形状が形成された下地層１５Ｒが設けられていることで、散乱された光により反射表示に寄与させることができ、平坦領域１４Ｒにおいては下地層１５Ｒを形成しないだけで反射表示に寄与しない平坦な平坦部１７Ｒを形成することができる。ここで、平坦領域１４Ｒは鏡面反射の領域であるため、仮に着色層１８Ｒが平坦領域１４Ｒにはみ出しても反射表示が薄いカラー表示となってしまう問題を生じさせることはない。

また更に、下地層１５Ｒは、有効反射表示領域１３Ｒで基板５と反射膜１６Ｒとの間に設けられ平坦領域１４Ｒに設けられておらず、平坦部１７Ｒは下地層１５Ｒを介さずに基板５に設けられているので、下地層１５Ｒを形成しないだけで平坦部１７Ｒを形成することができる。また、平坦部１７Ｒを設けるために基板５の平坦面を用いることで平坦部１７Ｒをより確実に設けることができる。

なお、第１の実施形態において反射膜１６Ｒ等と着色層１８Ｒ等とがそれぞれ別の基板に設けられていても良い。その場合、有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒに設けられた反射膜１６Ｒと平坦領域１４Ｒの一部と透過表示領域１０Ｒに設けられた着色層１８Ｒとが、平坦領域１４Ｒの一部で重なる構成となる。

（第２の実施の形態）

次に、本発明に係る第２の実施の形態の液晶装置について説明する。第２の実施形態を説明するにあたっては、反射半透過型の三端子型スイッチング素子であるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いたアクティブマトリックス方式の液晶装置について説明する。なお、本実施形態以降の実施形態及び変形例においては、上記実施形態と同一の構成部材等には同一の符号を付しその説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。

図５は第２の実施形態の液晶装置の液晶パネルの画素の概略平面図、図６は図５の液晶パネルの画素のＢ−Ｂ断面図である。

第１の実施の形態では、反射表示領域１１Ｒに設けられた反射膜１６Ｒが平坦領域１４Ｒに平坦部１７Ｒを備え、基板５の液晶７側に設けられている例を示したが、本実施形態では、図６に示す後述する反射膜４９Ｒが基板５の液晶７側に設けられ、遮光部５０Ｒが反射膜４９Ｒの平坦部３７Ｒに対応して基板６の液晶７側に設けられている。

基板５には、例えば文字等を表示する単位となる画素３５がＸ方向及びＹ方向に複数並列して設けられている。画素３５は、例えば図５に示すように例えば赤色、緑色及び青色をそれぞれ表示するための略矩形状のサブ画素４０Ｒ、４０Ｇ及び４０Ｂが第１の遮光層１４ａを介してＸ方向に３個並設して形成されている。

サブ画素４０Ｒの図５のＹ方向の一側（図５の下側、図６の右側）に透過表示領域４１Ｒが設けられており、サブ画素４０Ｒの図５のＹ方向の他側（図５の上側、図６の左側）に後述する反射膜が設けられた反射表示領域４２Ｒが設けられている。反射表示領域４２Ｒは、基板６側から基板５側に向けて入射する光を反射しモノカラー表示を行うための有効反射表示領域４３Ｒと、反射表示領域４２Ｒの有効反射表示領域４３Ｒを除く領域である後述する遮光領域４４Ｒとを備えている。

一方、基板５側には、有効反射表示領域４３Ｒから遮光領域４４Ｒの一部に設けられ、反射膜４９Ｒ及び透明電極４６ＲとＴＦＴ４７とを電気的に接続するためのコンタクト電極４５Ｒ、透過表示領域４１Ｒ及び遮光領域４４Ｒの一部に設けられた透明電極４６Ｒ、コンタクト電極４５Ｒに電気的に接続されたＴＦＴ４７、有効反射表示領域４３Ｒ等で基板５の液晶７側に設けられた下地層４８Ｒ、遮光領域４４Ｒに設けられた平坦部３７Ｒを備え下地層４８Ｒに積層された反射膜４９Ｒが設けられ、遮光領域４４Ｒで基板６の液晶７側に設けられた遮光部５０Ｒ、後述する遮光部５１Ｒ、基板６の液晶７側で少なくとも透過表示領域４１Ｒに設けられた着色層５２Ｒ、後述する平坦化層５３及び共通電極５４等が設けられている。

コンタクト電極４５Ｒは、図６に示すように基板５の液晶７側の表面のうち有効反射表示領域４３Ｒ及び遮光領域４４Ｒの一部に設けられている。コンタクト電極４５Ｒは、遮光領域４４Ｒ側の端部が遮光領域４４Ｒに設けられている。コンタクト電極４５Ｒの構成材料には、例えばクロム等の金属が用いられている。

透明電極４６Ｒは、図６に示すように基板５の液晶７側の表面のうち透過表示領域４１Ｒ及び遮光領域４４Ｒの一部に設けられている。図６に示すように透明電極４６Ｒの遮光領域４４Ｒ側の端部が、コンタクト電極４５Ｒの端部に積層して設けられている。透明電極４６Ｒの構成材料には、ＩＴＯ等が用いられている。

ＴＦＴ４７は、図示を省略したゲート電極やソース電極を備えており、コンタクト電極４５Ｒに電気的に接続されている。

下地層４８Ｒは、基板５の液晶７側に有効反射表示領域４３Ｒから遮光領域４４Ｒの一部に渡って設けられている。下地層４８Ｒには複数の凹凸状部が形成されている。

反射膜４９Ｒは、下地層４８Ｒの液晶７側の表面等に形成されている。反射膜４９Ｒの構成材料には例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。反射膜４９Ｒは下地層４８Ｒの凹凸形状に沿った凹凸形状を有している。反射膜４９Ｒの遮光領域４４Ｒ側の端部は、例えばコンタクト電極４５Ｒと透明電極４６Ｒとの接続部に電気的に接続され、反射電極である平坦部３７Ｒを形成している。

反射膜４９Ｒ及び透明電極４６Ｒの液晶７側の面には図示を省略した配向膜が設けられている。また、基板５の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。なお、サブ画素４０Ｇ及びサブ画素４０Ｂについては、着色層の着色材料等が異なるだけでサブ画素４０Ｒと同様な構造なのでその説明を省略する。

一方、遮光部５０Ｒは、基板６の液晶７側の面のうち遮光領域４４Ｒに例えば下地層等を介さずに設けられている。遮光部５０Ｒは、基板６の液晶７側の面に略平行な面を備えている。遮光部５０Ｒの幅ａは、１μｍ以上１０μｍ以下とされている。遮光部５０Ｒの構成材料には、例えばアルミニウム等の金属材料が用いられている。

遮光部５１Ｒは、サブ画素４０Ｒの透過表示領域４１Ｒと、この透過表示領域４１ＲのＹ方向の隣のサブ画素４０Ｂの有効反射表示領域４３Ｂと境界領域の近傍で基板６の液晶７側に下地層等を介さずに設けられている。遮光部５１Ｒは、基板６の液晶７側の面に略平行な面を備えている。遮光部５１ＲのＹ方向の幅ａは、１μｍ以上１０μｍ以下とされている。遮光部５１Ｒの構成材料には、例えばアルミニウム等の金属材料が用いられている。遮光部５０Ｒ、５１Ｒにより例えば透過表示領域４１Ｒの幅等が決定されている。

赤色の着色層５２Ｒは、基板６の液晶７側の表面のうち少なくとも透過表示領域４１Ｒに設けられている。着色層５２ＲのＹ方向の両端部は、それぞれ遮光部５０Ｒ、５１Ｒの一部に積層して設けられている。なお、着色層５２Ｒは、遮光部５０Ｒ、５１Ｒに積層されずに設けられることが好ましいが、製造誤差等により透過表示領域４１Ｒに着色層５２Ｒが設けられない領域が形成されてしまうことを回避するために、製造誤差を考慮した分だけ着色層５２Ｒが遮光部５０Ｒに積層して設けられている。

平坦化層５３は、基板６、遮光部５０Ｒ及び着色層５２Ｒ等の液晶７側に設けられている。平坦化層５３により平坦化層５３の液晶７側の面が平坦化されている。平坦化層５３の構成材料には、例えばアクリル製の樹脂が用いられている。

共通電極５４は、平坦化層５３の液晶７側に設けられている。共通電極５４は、例えばＩＴＯ等の透明導電体により形成されている。なお、共通電極５４の液晶７側の面には図示を省略した配向膜が設けられている。また、基板５と同様、基板６の液晶７側と反対側には図示を省略した偏光板等が設けられている。

このように本実施形態によれば、基板５の液晶７側に反射膜４９Ｒが設けられ、基板５の液晶７側に平坦部３７Ｒが設けられ、基板６の液晶７側に平坦部３７Ｒに対応して遮光部５０Ｒが設けられているので、透過表示領域４１Ｒに設けるべき着色層５２Ｒが製造誤差等により遮光領域４４Ｒ側にはみ出しても、有効反射表示領域４３Ｒにはみ出さないようにすることができると共に例えば光が透過する側から見たときにはみ出した着色層５２Ｒが遮光部５０Ｒにより隠れ、有効反射表示領域４３Ｒでのモノカラー表示の品質を向上させることができる。

また、サブ画素４０Ｒの透過表示領域４１Ｒと、透過表示領域４１Ｒに隣接して設けられたサブ画素４０Ｂの有効反射表示領域４３Ｂとの境界の近傍に、光を遮光可能な遮光部５１Ｒが設けられているので、透過表示領域４１Ｒと有効反射表示領域４３Ｒとの間、及びサブ画素４０Ｒの透過表示領域４１Ｒとサブ画素４０Ｂの有効反射表示領域４３Ｂとの境界近傍に例えば同時に遮光部５０Ｒ、５１Ｒを形成することで、例えば遮光部５１Ｒを形成する工程と、遮光領域４４Ｒに遮光部５０Ｒを形成する工程とが異なる場合に比べて、製造ステップを削減することができる。

（第１の変形例）

図７は第１の変形例の液晶装置の液晶パネルの画素の断面図である。

第１の実施の形態では、有効反射表示領域１３Ｒに設けられた反射膜１６Ｒから平坦領域１４Ｒに平坦部１７Ｒが延設され基板５の液晶７側に設けられている例を示したが、本変形例では、後述する平坦部６７Ｒが、有効反射表示領域６３Ｒで基板５の液晶７側に設けられた反射膜６６Ｒとは異なる材料により形成されている。

基板５には、例えば文字等を表示する単位となる画素５５がＸ方向及びＹ方向に複数並列して設けられている。画素５５は、例えば赤色、緑色及び青色をそれぞれ表示するための略矩形状のサブ画素６０Ｒ等が第１の遮光層１４ａを介してＸ方向に３個並設して形成されている。

サブ画素６０Ｒは、図７に示すように基板５の液晶７側と反対側に設けられた図示を省略したバックライトからの光を透過しカラー表示を行うための略矩形状の透過表示領域６１Ｒと、後述する反射表示領域６２Ｒとを備えている。反射表示領域６２Ｒは、基板６側から基板５側に向けて入射する光を反射しモノカラー表示を行うための有効反射表示領域６３Ｒと、反射表示領域６２Ｒにおける有効反射表示領域６３Ｒ以外の領域である平坦領域６４Ｒとを備えている。

サブ画素６０Ｒは、有効反射表示領域６３Ｒに設けられた下地層６５Ｒ、下地層６５Ｒ等に積層された反射膜６６Ｒ、平坦領域６４Ｒに設けられた平坦部６７Ｒ、少なくとも透過表示領域６１Ｒに設けられた着色層１８Ｒ、反射膜６６Ｒの液晶７側の面等を平坦にするための平坦化層１９、液晶７のＺ方向の厚さを調整するためのセル厚調整層２０、走査電極２１等により形成されている。

下地層６５Ｒは、図７に示すように有効反射表示領域６３Ｒで基板５の液晶７側の表面に設けられており、平坦領域６４Ｒには設けられていない。下地層６５Ｒの構成材料には例えば樹脂等が用いられている。下地層６５Ｒには複数の凹凸状部が形成されている。

反射膜６６Ｒは、下地層６５Ｒの液晶７側の表面等に形成されており、平坦領域６４Ｒには設けられていない。反射膜６６Ｒの構成材料には例えばアルミニウムやアルミニウム合金が用いられている。反射膜６６Ｒは下地層６５Ｒの凹凸形状に沿った凹凸形状を有している。これにより、基板６の側から入射する光を反射膜６６Ｒにより散乱させて反射することができるように構成されている。

平坦部６７Ｒは、有効反射表示領域６３Ｒで基板５の液晶７側に設けられた反射膜６６Ｒとは異なる例えば金属部材により形成されている。平坦部６７Ｒは、平坦領域６４Ｒで下地層６５Ｒ等を介さずに基板５の液晶７側の面に設けられている。平坦部６７Ｒの構成材料には例えばアルミニウム等が用いられている。平坦部６７Ｒは、基板５の液晶７側の面に略平行な面を備えている。平坦部６７ＲのＹ方向の幅ａは、１μｍ以上１０μｍ以下とされている。

赤色の着色層１８Ｒは、図７に示すように少なくとも透過表示領域６１Ｒで基板５の液晶７側の表面に設けられている。着色層１８Ｒは、図７に示すように平坦領域６４Ｒに隣接する側の端部が、平坦部６７Ｒに積層して設けられている。なお、本変形例では、着色層１８Ｒの端部が平坦部６７Ｒに積層して設けられている例を示したが、着色層１８Ｒが平坦部６７Ｒに積層されずに設けられていることが好ましい。しかし、製造誤差等により透過表示領域６１Ｒに着色層１８Ｒが設けられない領域が形成されることを回避するために、製造誤差を考慮した分だけ着色層１８Ｒが平坦部６７Ｒに積層して設けられている。

平坦化層１９は、反射膜６６Ｒ、平坦部６７Ｒ及び着色層１８Ｒ等の液晶７側に設けられている。平坦化層１９の構成材料には、例えばアクリル樹脂等が用いられている。平坦化層１９により平坦化層１９の液晶７側の面が平坦になっている。

なお、セル厚調整層２０、走査電極２１等については上記第１の実施の形態と同様なのでその説明を省略する。また、サブ画素６０Ｇ及びサブ画素６０Ｂについては、着色層の着色材料にそれぞれ緑、青を表示するための着色材料が用いられている点が異なるだけでサブ画素６０Ｒと同様な構造なのでその説明を省略する。一方、基板６側の構成についても上記第１の実施の形態と同様なのでその説明を省略する。

このように本変形例によれば、平坦部６７Ｒは、有効反射表示領域６３Ｒで基板５の一面側に設けられた反射膜６６Ｒとは異なる金属部材により形成されているので、金属で配線を形成するときに同時に平坦部６７Ｒを形成することで、製造ステップを増加させることなく液晶装置を製造することができる。また、例えば有効反射表示領域６３Ｒの反射膜６６Ｒを金属により形成し、平坦部６７Ｒを金属以外の材料（白塗料など）を用いて形成することができる。

なお、例えば、上記第１の実施の形態では、有効反射表示領域１３Ｒに設けられた反射膜１６Ｒから平坦領域１４Ｒに平坦部１７Ｒが延設され基板５の液晶７側に設けられている例を示したが、図８に示すように、基板５の液晶７側の面のうち有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒに、凹凸形状を有する下地層１５Ｒを形成し、図９に示すように平坦領域１４Ｒで下地層１５Ｒの凹状部に例えば下地層１５Ｒと同じ樹脂からなる平坦化膜１５ｈを塗布し、樹脂からなる平坦化膜１５ｈにより凹状部を埋め、平坦領域１４Ｒに樹脂からなる平坦化膜１５ｈにより平坦面１４ｈを形成し、続いて、図１０に示すように、有効反射表示領域１３Ｒに反射膜７１、平坦領域１４Ｒに平坦部７２を一体的に形成するようにしてもよい。これにより、平坦領域１４Ｒを除いた有効反射表示領域１３Ｒに選択的に凹凸形状を形成することが困難な場合であっても、平坦部７２を形成することができる。

また、上記第１の実施形態では、下地層１５Ｒが有効反射表示領域１３Ｒに設けられ平坦領域１４Ｒには設けられていない例を示したが、図１１に示すように凹凸形状を有する下地層７３を有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒに設け、平坦領域１４Ｒの液晶７側の凸状部をフォトリソグラフィ技術等により取り除くようにすることで平坦面７４を形成し、図１２に示すように、有効反射表示領域１３Ｒ及び平坦領域１４Ｒにアルミニウムの層を形成し、有効反射表示領域１３Ｒに反射膜１６Ｒ、反射膜１６Ｒから延設された平坦膜７６と下地層７３とで平坦領域１４Ｒに平坦部７５を形成するようにしてもよい。下地層７３は、有効反射表示領域１３Ｒで基板５と反射膜１６Ｒとの間に設けられ、平坦領域１４Ｒで基板５と平坦膜７６との間に設けられているので、例えば第１の実施形態のように延設された平坦部１７Ｒの基板５の液晶７側の面からの高さが小さい場合に比べて、製造時に透過表示領域１０Ｒから平坦領域１４Ｒに流れ込む着色層の材料の量を減少させることができ、より確実に平坦領域１４Ｒを越えた有効反射表示領域１３Ｒへの着色層のはみ出しを防止し、より確実に有効反射表示領域１３Ｒでのモノカラー表示の品質を向上させることができる。

なお、下地層７３の平坦領域１４Ｒの液晶７側の凸状部を取り除くのではなく、下地層７３の平坦領域１４Ｒの液晶７側には、凹凸形状を最初から形成しないようにすることで平坦面７４を形成して良い。

更に、上記第１の実施形態等では、平坦領域１４Ｒの透過表示領域１０Ｒ側の縁が直線状である例を示したが、サブ画素中の透過表示領域及び平坦領域の形成位置はこれに限定されず、例えば透過表示領域が反射表示領域中に島状に設けられ、反射表示領域と透過表示領域との間に平坦領域が設けられるようにしてもよいし、反射表示領域が透過表示領域中に島状に設けられ、反射表示領域と透過表示領域との間に平坦領域が設けられるようにしてもよい。この場合には、例えば透過表示領域と反射表示領域との形成位置の偏りに依存する表示品位の低下を防止することができる。

具体的には、反射膜をサブ画素内において島状に設け、反射膜が設けられている領域を有効反射表示領域及び平坦領域とし、島状の反射膜を囲むように透過表示領域が設けられている構成、または、反射膜に開口を形成し、開口を透過表示領域とし、開口を囲むように有効反射表示領域及び平坦領域が設けられている構成が考えられる。

（第３の実施形態・電子機器）

次に、例えば上述した液晶装置１を備えた本発明の第３の実施形態に係る電子機器について説明する。

図１３は本発明の第３の実施形態にかかる電子機器の表示制御系の全体構成の概略構成図である。

電子機器３００は、表示制御系として例えば図１３に示すように液晶パネル２及び表示制御回路３９０などを備え、その表示制御回路３９０は表示情報出力源３９１、表示情報処理回路３９２、電源回路３９３及びタイミングジェネレータ３９４などを有する。

また、液晶パネル２には表示領域Ｉを駆動する液晶駆動用ＩＣ２９を含む駆動回路３６１を有する。

表示情報出力源３９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源３９１は、タイミングジェネレータ３９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路３９２に供給するように構成されている。

また、表示情報処理回路３９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路３６１へ供給する。また、電源回路３９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。

このように本実施形態によれば、例えば透過表示領域１０Ｒでのカラー表示の品位を確保しつつ有効反射表示領域１３Ｒでのモノカラー表示の品位を向上させることができる液晶装置１を備えているので、表示性能に優れた電子機器を得ることができる。

具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータ、デジタルカメラ等の他に液晶装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶装置１等が適用可能なのは言うまでもない。

なお、本発明の電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。また、本発明の要旨を変更しない範囲で、上記各実施形態を組み合わせてもよい。

例えば、上述の実施形態ではＴＦＤ型の液晶装置１、ＴＦＴ型の液晶装置等について説明したがこれに限られるものではなく、例えばパッシブマトリクス型の液晶装置であってもよい。また、タッチパネルを備えた電子機器、電気泳動ディスプレイ装置などの各種電気光学装置に本発明を適用してもよい。

本発明に係る第１の実施形態の液晶装置の概略斜視図である。 図１の液晶装置の液晶パネルの画素の概略平面図である。 図２の液晶パネルの画素のＡ−Ａ断面図である。 第１の実施形態の液晶装置の製造工程を示すフローチャートである。 第２の実施の形態の液晶装置の液晶パネルの画素の概略平面図である。 図５の液晶パネルの画素のＢ−Ｂ断面図である。 第１の変形例の液晶装置の液晶パネルの画素の断面図である。 液晶装置の下地層形成時の断面図である。 液晶装置の下地層に平坦面を形成したときの断面図である。 液晶装置の平坦部を形成したときの断面図である。 液晶装置の下地層に平坦面を形成したときの断面図である。 液晶装置の平坦部を形成したときの断面図である。 本発明に係る第３の実施形態の電子機器の表示制御系の概略構成図である。

符号の説明

Ｉ…表示領域、 １…液晶装置、 ２…液晶パネル、 ３…回路基板、 ４…シール材、 ５、６…基板、 ７…液晶、 ８…画素、 ９Ｒ、９Ｇ、９Ｂ…サブ画素、 １０Ｒ…透過表示領域、 １１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ…反射表示領域、 １３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ…有効反射表示領域、 １４ａ…第１の遮光層、 １４Ｒ…平坦領域、 １４ｂ…第２の遮光層、 １４ｃ…着色層、 １４ｈ…平坦面、 １５Ｒ…下地層、 １５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ…下地層、 １５ｈ…平坦化膜、 １６Ｒ、２６Ｂ…反射膜、 １７Ｒ、２７Ｂ…平坦部、 １８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂ…着色層、 １９…平坦化層、 ２０…セル厚調整層、 ２１…走査電極、 ２２…画素電極、 ２３…信号電極、 ２４…ＴＦＤ、 ２４Ｒ…平坦領域、 ２６Ｂ…反射膜、 ２７Ｂ…平坦部、 ２７…走査電極用配線、 ２７…走査電極用配線、 ２８…信号電極用配線、 ２９…液晶駆動用ＩＣ、 ３０…入力用配線、 ３１…ベース基材、 ３２…配線パターン、 ３５…画素、 ３７Ｒ…平坦部、 ４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ…サブ画素、 ４１Ｒ…透過表示領域、 ４２Ｒ…反射表示領域、 ４３Ｒ…有効反射表示領域、 ４３Ｂ…有効反射表示領域、 ４４Ｒ…遮光領域、 ４５Ｒ…コンタクト電極、 ４６Ｒ…透明電極、 ４７…ＴＦＴ、 ４８Ｒ…下地層、 ４９Ｒ…反射膜、 ５０Ｒ、５１Ｒ…遮光部、 ５２Ｒ…着色層、 ５３…平坦化層、 ５４…共通電極、 ５５…画素、 ６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂ…サブ画素、 ６１Ｒ…透過表示領域、 ６２Ｒ…反射表示領域、 ６３Ｒ…有効反射表示領域、 ６４Ｒ…平坦領域、 ６５Ｒ…下地層、 ６６Ｒ…反射膜、 ６７Ｒ…平坦部、 ７１…反射膜、 ７２…平坦部、 ７３…下地層、 ７４…平坦面、 ７５…平坦部、 ７６…平坦膜、 ３００…電子機器、 ３６１…駆動回路、 ３９０…表示制御回路、 ３９１…表示情報出力源、 ３９２…表示情報処理回路、 ３９３…電源回路、 ３９４…タイミングジェネレータ

Claims (15)

1. 電気光学物質を保持し反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた一対の基板と、
   前記反射表示領域に設けられると共に該反射表示領域における前記透過表示領域に隣接した第１の鏡面反射する領域では表面が平坦な反射膜と、
   前記第１の鏡面反射する領域と前記透過表示領域とにのみ形成された着色層と
   を具備する電気光学装置。
2. 前記反射表示領域における前記第１の鏡面反射する領域以外の領域に設けられた反射膜は、表面が凹凸形状を備えることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記第１の鏡面反射する領域における反射膜は、前記反射表示領域における前記第１の鏡面反射する領域以外の領域に設けられた反射膜とは異なる材料により形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記画素は、一の画素と、該一の画素に隣接して設けられた他の画素とを有し、
   前記反射膜は、前記一の画素の反射表示領域における該一の画素の反射表示領域に隣接する前記他の画素の透過表示領域との境界近傍に、第２の鏡面反射する領域を設けるように表面が平坦に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. 前記画素は、一の画素と、該一の画素に隣接して設けられた他の画素とを有し、
   前記一の画素の透過表示領域と該一の画素の透過表示領域に隣接する前記他の画素の反射表示領域との間に、第１の遮光層を更に具備することを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記着色層は複数の色の着色層を有し、
   前記第１の遮光層は、異なる色の前記着色層を積層して形成されていることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
7. 前記反射膜は、前記一対の基板の一方の基板に設けられており、
   前記一対の基板の他方の基板の前記第１の鏡面反射する領域に対応する領域に第２の遮光層を更に具備することを特徴とする請求項１から請求項６のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. 前記第１の鏡面反射する領域の前記透過表示領域側の縁が直線状であることを特徴とする請求項１から請求項７のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置。
9. 前記反射膜が前記画素内において島状に設けられている、又は、前記透過表示領域が前記反射膜に設けられた開口であることを特徴とする請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
10. 前記第１の鏡面反射する領域の幅は、１μｍ以上１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
11. 前記第１の鏡面反射する領域を除く前記基板と前記反射膜との間に凹凸形状が形成された下地層が更に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
12. 前記基板と前記反射膜との間に下地層が設けられ、
    前記下地層は、前記第１の鏡面反射する領域では平坦であり、前記第１の鏡面反射する領域を除く前記反射表示領域では凹凸形状が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
13. 前記基板と前記反射膜との間に凹凸形状が形成された下地層が設けられ、
    前記第１の鏡面反射する領域において、前記下地層と前記反射膜との間に前記凹凸形状を埋める平坦化膜が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
14. 電気光学物質を保持し反射表示領域と透過表示領域とを有する複数の画素を備えた基板と、
    前記反射表示領域に設けられると共に該反射表示領域における前記透過表示領域に隣接した鏡面反射する領域では表面が平坦な反射膜と、
    前記鏡面反射する領域と前記透過表示領域とにのみ形成された着色層と
    を具備する電気光学装置用基板。
15. 請求項１から請求項１３のうちのいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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