CN1828380A - 电光装置用基板、电光装置及电子设备 - Google Patents

电光装置用基板、电光装置及电子设备 Download PDF

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Abstract

本发明提供能够确保在透射区域的彩色显示的质量并使在反射区域的单色显示的质量提高的电光装置用基板、电光装置及具备该电光装置的电子设备。因为具备：设置于反射显示区域(11R)并具有在相邻于透射显示区域(10R)的平坦区域(14R)表面平坦的平坦部(17R)的反射膜(16R)，和仅形成于平坦区域(14R)和透射显示区域(10R)的着色层(18R)，所以即使例如应当仅设置于透射显示区域(10R)中的着色层(18R)由于制造误差等而超出到平坦区域(14R)侧，例如也可以使着色层(18R)仅超出到平坦区域(14R)地设置而不能超出到不平坦的有效反射显示区域(13R)中。

Description

电光装置用基板、电光装置及电子设备
技术领域
本发明，涉及个人计算机、便携电话机等的电子设备及用于这些电子设备中的电光装置用基板、电光装置。
背景技术
近来，作为个人计算机、便携电话机等的电子设备的显示装置广泛使用液晶装置等。在该液晶装置中，例如已知具备透射光的透射显示区域和反射光的反射显示区域的半透射半反射型液晶装置。该液晶装置，例如存在，相比于透射显示区域，在需要透射率高的着色层的反射显示区域的反射显示变暗的问题。
为了解决此问题，例如已经公开了通过仅在透射显示区域中设置滤色器，例如在反射显示时显示明亮的黑白图像，而在透射显示时显示色再现性及亮度充分的彩色图像的技术。(例如，参照专利文献1。)。
【专利文献1】特开2004-093670号公报(第“0021”段，图1)。
但是，在上述的专利文献1的技术中，存在虽然能够得到明亮的反射显示但是由于制造误差等而有时应当仅设置于透射显示区域中的着色层设置到了反射显示区域中，使反射显示变成淡的彩色显示的问题。
反之，如果为了防止超出而使应当设置于透射显示区域中的着色层的量减少，则着色层的量不足而变得在透射显示区域不能进行预期的彩色显示。
发明内容
本发明，鉴于上述的问题而作出，其目的在于提供能够确保在透射显示区域的彩色显示的质量并使在反射显示区域的单色显示的质量提高的光学装置用基板、电光装置及具备该电光装置的电子设备。
为了达到上述目的，本发明的主要观点的电光装置，具备：保持电光物质并具备多个具有反射显示区域和透射显示区域的像素的一对基板；设置于上述反射显示区域，并在该反射显示区域中的与上述透射显示区域相邻的进行第1镜面反射的区域表面平坦的反射膜；和仅形成于上述进行第1镜面反射的区域和上述透射显示区域的着色层。
在此，所谓“像素”，包括例如用多个子像素构成像素时的子像素。
在本发明中，因为具备：保持电光物质并具备多个具有反射显示区域和透射显示区域的像素的一对基板，设置于反射显示区域、并在该反射显示区域中的与透射显示区域相邻的进行第1镜面反射的区域表面平坦的反射膜，和仅形成于进行第1镜面反射的区域和透射显示区域的着色层，所以即使例如应当仅设置于透射显示区域中的着色层由于制造误差等而超出到反射显示区域的进行第1镜面反射的区域侧上，着色层也仅能超出到进行第1镜面反射的区域地设置而不能超出到不平坦的反射显示区域上。因此，能够由设置于透射显示区域中的着色层确保彩色显示的质量，并防止为单色显示的反射显示变成淡彩色显示，使在反射显示区域中的单色显示的质量提高。并且，在光入射到进行第1镜面反射的区域而进行反射时，因为能够使光不散射地进行镜面反射，所以能够防止超出到进行第1镜面反射的区域而设置的着色层用于显示。并且，通过在反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域，形成用于进行散射光的反射膜，并将反射膜延伸设置到进行第1镜面反射的区域，例如就不必将不同的构件用于设置于反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域和进行第1镜面反射的区域的反射膜，而能够在反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域上设置反射膜时同时在进行第1镜面反射的区域上设置反射膜，例如能够使制造工序数减少并能够降低制造成本。
依照本发明的一个方式，特征在于：设置于上述反射显示区域中的上述进行第1镜面反射的区域以外的区域上的反射膜，表面具备凹凸形状。由此，因为设置于反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域上的反射膜，表面具备凹凸形状，所以能够通过散射后的光用于反射显示，并通过设置于反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域的反射膜，使入射光进行镜面反射，而能够防止反射光用于显示。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述进行第1镜面反射的区域中的反射膜，由与设置于上述反射显示区域中的上述进行第1镜面反射的区域以外的区域中的反射膜不同的材料而形成。由此，进行第1镜面反射的区域中的反射膜，由与设置于反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域中的反射膜不同的材料而形成。在该情况下，通过在用金属形成布线时同时形成进行第1镜面反射的区域中的反射膜，也能够不使制造步骤增加地制造电光装置。并且，能够例如由金属形成反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域的反射膜，并用金属以外的材料(白涂料等)形成进行第1镜面反射的区域的反射膜。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述像素，具有一个像素、和相邻于该一个像素而设置的其他像素；上述反射膜，在上述一个像素的反射显示区域中的与相邻于该一个像素的反射显示区域的上述其他的像素的透射显示区域的边界附近，设置进行第2镜面反射的区域那样地平坦地形成表面。由此，因为上述像素，具有一个像素、和相邻于该一个像素而设置的其他像素，反射膜，在一个像素的反射显示区域中的与相邻于该一个像素的反射显示区域的其他的像素的透射显示区域的边界附近，设置进行第2镜面反射的区域那样地平坦地形成表面，所以能够防止用于进行彩色显示的着色层越过进行第2镜面反射的区域而超出到反射显示区域的其他区域，能够使反射显示的显示质量提高。并且，例如，通过例如同时地形成进行第1镜面反射的区域的反射膜、和进行第2镜面反射的区域的反射膜，能够削减制造步骤。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述像素，具有一个像素、和相邻于该一个像素而设置的其他像素；在上述一个像素的透射显示区域和相邻于该一个像素的透射显示区域的上述其他的像素的反射显示区域之间，还具备遮光层。由此，因为像素，具有一个像素、和相邻于该一个像素而设置的其他像素，且在一个像素的透射显示区域和相邻于该一个像素的透射显示区域的其他的像素的反射显示区域之间，具备遮光层，所以即使用于进行彩色显示的着色层从透射显示区域超出到反射显示区域侧也能够由遮光层进行遮光，能够使显示质量提高。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述着色层，具有多种颜色的着色层；上述遮光层，由叠层不同颜色的上述着色层而形成。由此，因为着色层具有多种颜色的着色层；且遮光层，由叠层不同颜色的上述着色层而形成。所以能够将用于进行彩色显示的着色层用于形成遮光层，例如相比较于用另外的构件形成遮光层的情况等，能够削减制造成本。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述反射膜，设置于上述一对基板的一方基板上；在上述一对基板的另一方基板的对应于上述进行第1镜面反射的区域还具备遮光部。由此，因为反射膜设置于一对基板的一方基板上，在一对基板的另一方基板的对应于进行第1镜面反射的区域具备遮光部，所以即使应当设置于透射显示区域的着色层由于制造误差等超出到进行第1镜面反射的区域侧，例如也可以使着色层重叠到进行第1镜面反射的区域的反射膜上而不会超出到进行第1镜面反射的区域以外的反射显示区域上，并且从透射光的侧看时超出的着色层也能够被遮光部遮盖，能够使在反射显示区域的单色显示的质量提高。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述进行第1镜面反射的区域的上述透射显示区域侧的边缘为直线状。由此，因为上述进行第1镜面反射的区域的上述透射显示区域侧的边缘为直线状，所以与例如把进行第1镜面反射的区域弯曲设置的情况等相比，能够使进行第1镜面反射的区域的透射显示区域侧的边缘的必要的长度变短，因为能够减小进行第1镜面反射的区域的面积，所以反射显示的亮度的降低变少，能够使在反射显示区域的单色显示的质量提高。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述反射膜在上述像素内设置成岛状，或者，上述透射显示区域为设置于上述反射膜上的开口。由此，因为反射膜在像素内设置成岛状，或者，透射显示区域为设置于反射膜上的开口，所以例如能够防止因透射显示区域和反射显示区域的形成位置的偏差引起的显示质量的降低。
依照本发明的一个方式，特征在于：上述进行第1镜面反射的区域的宽度，为1μm～10μm。在此。所谓，进行第1镜面反射的区域的宽度，指例如反射显示区域中的进行第1镜面反射的区域以外的区域，和透射显示区域的间隔。由此，因为进行第1镜面反射的区域的宽度，为1μm～10μm，所以例如能够可靠地使之不越过进行第1镜面反射的区域而超出到反射显示区域的进行第1镜面反射的区域以外的区域上，并能够尽可能地防止由于进行第1镜面反射的区域而使反射显示变得超出需要地暗的情况。
依照本发明的一个方式，特征在于：在除了上述进行第1镜面反射的区域的上述基板和上述反射膜之间还设置形成有凹凸形状的基底层。由此，通过在除了进行第1镜面反射的区域的反射显示区域中设置形成有用于对反射膜附加散射功能的凹凸形状的基底层，能够由散射后的光用于反射显示，能够通过仅在进行第1镜面反射的区域不形成基底层就形成不用于反射显示的平坦的反射膜。在此，因为进行第1镜面反射的区域就是镜面反射的区域，所以即使假定着色层超出到进行第1镜面反射的区域也不会产生反射显示变成淡彩色显示的问题。并且，在进行第1镜面反射的区域通过为了使反射膜的表面平坦而用基板的面，能够更加可靠地使其平坦。
依照本发明的一个方式，特征在于：在上述基板和上述反射膜之间设置基底层；上述基底层，在上述进行第1镜面反射的区域平坦，在除了上述进行第1镜面反射的区域的上述反射显示区域形成凹凸形状。由此，因为在基板和反射膜之间设置基底层，基底层，在进行第1镜面反射的区域平坦，在除了进行第1镜面反射的区域的反射显示区域形成凹凸形状，所以与例如在进行第1镜面反射的区域无基底层的情况相比，距基板的进行第1镜面反射的区域的反射膜的高度变高，而在制造时能够使从透射显示区域流入到进行第1镜面反射的区域的着色层的材料的量减少，因为能够更加可靠地防止越过进行第1镜面反射的区域后向反射显示区域的进行第1镜面反射的区域以外的区域的超出，所以能够使反射显示的单色显示的质量提高。进而，在进行第1镜面反射的区域中，能够仅通过在基底层上不形成凹凸形状而形成不用于反射显示的平坦的反射膜。
依照本发明的一个方式，特征在于：在上述基板和上述反射膜之间设置形成有凹凸形状的基底层；在上述进行第1镜面反射的区域，在上述基底层和上述反射膜之间形成填埋上述凹凸形状的平坦化膜。由此，因为在基板和反射膜之间设置形成有凹凸形状的基底层，在进行第1镜面反射的区域，在基底层和反射膜之间形成填埋凹凸形状的平坦化膜。所以，即使在难于在基底层的除了进行第1镜面反射的区域的区域中高精度地选择性地形成凹凸形状的情况下，也能够仅通过在进行第1镜面反射的区域中，在形成有凹凸形状的基底层之上形成平坦化膜而形成不用于反射显示的平坦的反射膜。
本发明的其他观点的电光装置用基板，具备：保持电光物质并具备多个具有反射显示区域和透射显示区域的像素的基板；设置于上述反射显示区域、并在该反射显示区域中的相邻于上述透射显示区域的进行镜面反射的区域表面平坦的反射膜；和仅形成于进行上述镜面反射的区域和上述透射显示区域的着色层。
在此，所谓“像素”，包括例如用多个子像素构成像素时的子像素。
在本发明中，因为具备：保持电光物质并具备多个具有反射显示区域和透射显示区域的像素的基板，设置于反射显示区域、并在该反射显示区域中的相邻于透射显示区域的进行镜面反射的区域表面平坦的反射膜，和仅形成于进行镜面反射的区域和透射显示区域的着色层，所以即使例如应当仅设置于透射显示区域中的着色层由于制造误差等而超出到反射显示区域的进行镜面反射的区域侧，也能够使着色层仅超出设置到进行镜面反射的区域而不会超出到不平坦的反射显示区域上。因此，能够既由设置于透射显示区域中的着色层确保彩色显示的质量，又防止为单色显示的反射显示变成淡彩色显示，使反射显示区域的单色显示的质量提高。并且，在光入射到进行镜面反射的区域而进行反射时，因为能够使光不散射地进行镜面反射，所以能够防止超出到进行镜面反射的区域而设置的着色层用于显示。
本发明的其他观点的电子设备，特征在于：具备上述的电光装置。
在本发明中，因为具备能够既确保彩色显示的质量并使反射显示区域的单色显示的质量提高的电光装置，所以能够得到显示性能优越的电子设备。
附图说明
图1是本发明的第1实施方式的液晶装置的概略立体图。
图2是图1的液晶装置的液晶面板的像素的概略平面图。
图3是图2的液晶面板的像素的A-A剖面图。
图4是表示第1实施方式的液晶装置的制造工序的流程图。
图5是第2实施方式的液晶装置的液晶面板的像素的概略平面图。
图6是图5的液晶面板的像素的B-B剖面图。
图7是第1变形例的液晶装置的液晶面板的像素的剖面图。
图8是液晶装置的基底层形成时的剖面图。
图9是在液晶装置的基底层上形成有平坦面时的剖面图。
图10是液晶装置的形成有平坦部时的剖面图。
图11是液晶装置的在基底层上形成有平坦面时的剖面图。
图12是液晶装置的形成有平坦部时的剖面图。
图13是本发明的第3实施方式的电子设备的显示控制系统的概略构成图。
符号说明
I...显示区域，1...液晶装置，2...液晶面板，3...电路基板，4...密封材料，5、6...基板，7...液晶，8...像素，9R、9G、9B...子像素，10R...透射显示区域，11R、11G、11B...反射显示区域，13R、13G、13B...有效反射显示区域，14a...第1遮光层，14R...平坦区域，14b...第2遮光层，14c...着色层，14h...平坦面，15R...基底层，15R、15G、15B...基底层，15h...平坦化膜，16R、26B...反射膜，17R、27B...平坦部，18R、18G、18B...着色层，19...平坦化层，20...单元厚调整层，21...扫描电极，22...像素电极，23...信号电极，24...TFD，24R...平坦区域，26B...反射膜，27B...平坦部，27...扫描电极用布线，27...扫描电极用布线，28...信号电极用布线，29...液晶驱动用IC，30...输入用布线，31...基底材料，32...布线图形，35...像素，37R...平坦部，40R、40G、40B...子像素，41R...透射显示区域，42R...反射显示区域，43R...有效反射显示区域，43B...有效反射显示区域，44R...遮光区域，45R...接触电极，46R...透明电极，47...TFT，48R...基底层，49R...反射膜，50R、51R...遮光部，52R...着色层，53...平坦化层，54...共用电极，55...像素，60R、60G、60B...子像素，61R...透射显示区域，62R...反射显示区域，63R...有效反射显示区域，64R...平坦区域，65R...基底层，66R...反射膜，67R...平坦部，71...反射膜，72...平坦部，73...基底层，74...平坦面，75...平坦部，76...平坦膜，300...电子设备，361...驱动电路，390...显示控制电路，391...显示信息输出源，392...显示信息处理电路，393...电源电路，394...定时发生器
具体实施方式
以下，基于附图说明本发明的实施方式。还有，说明以下实施方式时，虽然具体地对作为电光装置的例的半反射半透射型的用了作为二端子型开关元件的TFD(Thin Film Diode，薄膜二极管)的有源矩阵方式的液晶装置及用了该液晶装置的电子设备进行说明，但是不限于此。另外，在以下的附图中为了使各构成易懂，各结构中的比例尺及数量等与实际的结构不同。
第1实施方式
图1是本发明的第1实施方式的液晶装置的概略立体图，图2是图1的液晶装置的液晶面板的像素的概略平面图，图3是图2的液晶面板的像素的A-A剖面图。还有，在图2中，省略了后述的平坦化层、扫描电极及取向膜等的图示。
(液晶装置的构成)
液晶装置1，例如如图1中所示地，具备液晶面板2，和连接到液晶面板2的电路基板3。在此，在液晶装置1中，在电路基板3之外，还按照需要附属设置未图示的背光源等的照明装置、其他的附带机构。
液晶面板2，如图1中所示地，具备通过密封材料4而贴合的一对基板5及基板6，和封入到两基板5、6的间隙中的电光物质、例如TN(TwistNematic，扭曲向列)型的液晶7。
在基板5上，如图1中所示地，在X方向及Y方向上多个并列地设置为显示例如文字等的单位的像素8。像素8，例如如图2中所示地夹着后述的第1遮光层14a在X方向上并排设置3个例如用于分别显示红色、绿色及蓝色的大致矩形状的子像素9R、9G及9B而形成。
子像素9R，如图2及图3中所示地，具备：用于透射来自设置于基板5的与液晶7侧相反侧的省略了图示的背光源的光而进行彩色显示的透射显示区域10R，和设置有后述的反射膜的反射显示区域11R。反射显示区域11R，具备：用于反射从基板6侧向基板5侧入射的光而进行单色显示的有效反射显示区域13R，和为反射显示区域11R的除了有效反射显示区域13R的区域的后述的平坦区域14R。还有，虽然以有效反射显示区域13R和平坦区域14R进行反射显示，但是因为以平坦区域14R反射的光为镜面反射(正反射)，所以不用于反射显示。在子像素9R的图2、图3的Y方向的一侧(图2的下侧、图3的右侧)设置透射显示区域10R，在子像素9R的图2、图3的Y方向的另一侧(图2的上侧、图3的左侧)设置有效反射显示区域13R。
子像素9R，由：设置于有效反射显示区域13R中的基底层15R，设置于反射显示区域11R并具有在相邻于透射显示区域10R的平坦区域14R中表面平坦的平坦部17R的反射膜16R，至少设置于透射显示区域10R的着色层18R，用于使反射膜16R的液晶7侧的面等平坦的平坦化层19，用于调整液晶7的Z方向上的厚度的单元厚调整层20，以及扫描电极21等形成。
基底层15R，如图3中所示地，在有效反射显示区域13R中设置于基板5的液晶7侧的表面上。例如树脂等可用于基底层15R的构成材料。在基底层15R上形成多个凹凸状部。
反射膜16R，设置于反射显示区域11R。例如铝或铝合金可用于反射膜16R的构成材料。设置于有效反射显示区域13R的反射膜16R，具有沿基底层15R的凹凸形状的凹凸形状。由此，构成得能够使从基板6侧入射的光被反射膜16R所散射而反射。
反射膜16R的平坦部17R，从设置于有效反射显示区域13R的反射膜16R延伸设置到平坦区域14R而在平坦区域14R不通过基底层15R地设置于基板5的液晶7侧的面上。例如由铝等可一体地设置反射膜16R和平坦部17R。平坦部17R，具备大致平行于基板5的液晶7侧的面的面。平坦部17R的Y方向的宽度a，为例如1μm～10μm，优选2μm～6μm，更优选4μm。即，透射显示区域10R和有效反射显示区域13R的间隔，为1μm～10μm。
另外，在子像素9R的透射显示区域10R、和相邻于透射显示区域10R的子像素9B的有效反射显示区域13B的边界的附近，如图3中所示地，从设置于有效反射显示区域13B的反射膜26B延伸设置的表面平坦的平坦部27B，设置于基板5的液晶7侧。
还有，在本实施方式中，虽然示出了平坦部17R、27B等设置于基板5上的例，但是也可以例如通过设置于基板5的基底层而在基底层之上设置平坦部17R、27B等。
红色的着色层18R，如在图3中所示地，至少在透射显示区域10R中设置于基板5的液晶7侧的表面。着色层18R，如在图3中所示地，相邻于平坦区域14R的侧的端部，在平坦部17R上叠层设置。还有，虽然在平坦部17R上不叠层地设置着色层18R比较理想，但是为了避免由于制造误差等而在透射显示区域10R形成未设置着色层18R的区域，在平坦部17R上叠层而设置仅考虑了制造误差的着色层18R。
平坦化层19，设置于反射膜16R、平坦部17R及着色层18R等的液晶7侧。在平坦化层19的构成材料中，例如可用丙烯酸树脂等。平坦化层19的液晶7侧的面通过平坦化层19变得平坦。
单元厚调整层20，如在图3中所示地，在有效反射显示区域13R和平坦区域14R中设置于平坦化层19的液晶7侧的表面。在单元厚调整层20的构成材料中，例如可用丙烯酸树脂等。单元厚调整层20，用于使有效反射显示区域13R的液晶7的Z方向的厚度，比透射显示区域10R的液晶7的Z方向的厚度小。
扫描电极21，在透射显示区域10R、有效反射显示区域13R及平坦区域14R，在图3中所示的X方向上设置于单元厚调整层20及平坦化层19的液晶7侧。在扫描电极21的构成材料中，例如可用ITO(Indium TinOxide，氧化铟锡)等。
在扫描电极21之上，形成例如由聚酰亚胺树脂等构成的省略了图示的取向膜，进而在基板5的与液晶7侧相反侧设置省略了图示的偏振板等。
第1遮光层14a，如在图2中所示地，在相邻的子像素9R及9G之间例如叠层着色层而形成。另外，第2遮光层14b，如在图3中所示地，在透射显示区域10R、和相邻于透射显示区域10R的子像素9B的有效反射显示区域13B之间设置于平坦部27B的液晶7侧。第2遮光层14b，如在图3中所示地，由设置于透射显示区域10R的着色层18R的有效反射显示区域13B侧的端部与不同颜色的着色层叠层而形成。
还有，关于子像素9G及子像素9B，因为仅在将用于分别显示绿、蓝的着色材料用于着色层的着色材料之点不同而与子像素9R为同样的结构，所以省略其说明。
另一方面，在基板6上，例如如在图3中所示地，在液晶7侧的表面，配置排列成矩阵状的多个像素电极22，在各像素电极22的边界区域中在与扫描电极21交叉的方向上带状地延伸的如在图1中所示的多个信号电极23(在图3中省略图示)，和连接到像素电极22及信号电极23的TFD24，在像素电极22等的液晶7侧形成省略了图示的取向膜。像素电极22例如由ITO等的透明导电体形成。并且，与基板5同样，在基板6的与液晶侧相反侧设置省略了图示的偏振板等。
在此，基板5及基板6，为例如如在图1中所示地由所谓玻璃或合成树脂的光透射性材料形成的板状构件，基板5具备对于基板6向外侧突出的伸出区域(以下称为“伸出部”)26。
其次，伸出部26如在图1中所示地，具备：从扫描电极21及信号电极23由密封材料4所包围的区域延伸到伸出部26的扫描电极用布线27及信号电极用布线28，和将例如液晶驱动用电流供给到该各电极用布线27、28的液晶驱动用IC29等。
并且，在伸出部26上，设置着多个省略了图示的设置于对应于液晶驱动用IC29的安装面的基板5上的安装区域内的电极用端子，而且设置将来自电路基板3的电流输入到液晶驱动用IC29的多个省略了图示的输入用端子。电极用端子分别连接到扫描电极用布线27及信号电极用布线28。
而且伸出部26，具备接受来自电路基板3的电流的省略了图示的外部用端子，以及将来自其外部的电流供给到输入用端子的输入用布线30等。还有，信号电极23由例如Ta或Cr、TaW等金属材料形成。
其次，电路基板3例如如在图1中所示地，在基底材料31之上形成、安装布线图形32等而构成。
在此，基底材料31为具有柔性的膜状的构件，布线图形32由例如铜等形成，在伸出部26侧的端上形成未图示出来的端子。该端子通过例如ACF连接到外部用端子。
(液晶装置的制造方法)
其次，参照附图对液晶装置1的制造方法进行说明。
图4是表示第1实施方式的液晶装置1的制造工序的流程图。
首先，将基板5清洗，干燥，并在基板5上涂敷例如正型的感光性树脂而在有效反射显示区域13R上形成具有凹凸的基底层15R(S1)。
其次，通过溅射等以大致一定的厚度形成铝使其覆盖基板5及基底层15R、基底层15B等，并通过例如蚀刻去除一部分反射膜，并形成多个可以透射光的开口而形成具备平坦部17R、27B的反射膜16R、26B(S2)。此时，在平坦区域14R中，与反射膜16R一体地形成Y方向的宽度a为例如1μm～10μm的平坦部17R。并且，在平坦区域24R中，与反射膜26B一体地形成Y方向的宽度a为例如1μm～10μm的平坦部27B。
其次，在例如子像素9R的透射显示区域10R、和与透射显示区域10R在Y方向上相邻的像素9B的有效反射显示区域13B的边界附近，预先涂敷好用于形成第2遮光层14b的着色层14c等的材料，涂敷着色层18R的材料使得其与透射显示区域10R中的基板5的液晶7侧的面、和着色层14c重叠，与着色层18R一同形成第2遮光层14b(S3)。此时，即使着色层18R的材料流到平坦部17R上而超出到平坦区域14R，着色层18R也不会设置到有效反射显示区域13R中。即，透射显示区域10R和有效反射显示区域13R的间隔(平坦部17R的Y方向的宽度a)，设定得使着色层18R不会设置到有效反射显示区域13R中。同样地，与形成绿的着色层18G、蓝的着色层18B同时地形成第1遮光层14a及第2遮光层14b。还有，在例如设置平坦部27B的情况下，也可以不设置第2遮光层14b。
其次，在透射显示区域10R、有效反射显示区域13R及平坦区域14R等中，形成平坦化层19，并在有效反射显示区域13R及平坦区域14R的液晶7侧上涂敷单元厚调整用的透明感光性树脂而形成单元厚调整层20(S4)。此时，如在图3中所示地，有效反射显示区域13R等中的液晶7的Z方向的厚度，变得比透射显示区域10R等中的液晶7的Z方向的厚度小。
接着，在着色层18R等及单元厚调整层20之上对应于着色层18R等那样地同样地形成由ITO构成的薄膜并进行图形化而形成扫描电极21(S5)。进而，形成省略了图示的取向膜并实施摩擦处理使得覆盖扫描电极21等。
另一方面，在与基板5对向的基板6上形成像素电极22、信号电极23及TFD24，并形成省略了图示的取向膜且实施摩擦处理使得覆盖像素电极22等(S6)。
接着，在基板5上设置密封材料4，使两基板5、6贴合(S7)。此时，基板5侧的第1遮光层14a、第2遮光层14b，和基板6侧的各像素电极22的边界区域对向。
然后，从例如形成于密封材料4的注液口注入液晶7并密封注液口，并在基板5、6的外侧设置偏振板，将电路基板3连接到液晶面板2等而制造液晶装置1(S8)。
由以上完成对液晶装置1的制造方法的说明。
如此地依照本实施方式，因为具备：设置于反射显示区域11R并具备在反射显示区域11R中的相邻于透射显示区域的平坦区域14R表面平坦的平坦部17R的反射膜16R，和仅形成于平坦区域14R和透射显示区域10R的着色层18R，所以即使例如应当仅设置于透射显示区域10R中的着色层18R由于制造误差等而超出到反射显示区域11R的平坦区域14R侧，例如着色层18R也仅能超出到平坦区域14R地设置而不能超出到不平坦的有效反射显示区域13R中。因此，能够由设置于透射显示区域10R中的着色层18R确保彩色显示的质量，防止为单色显示的反射显示变成淡彩色显示，使在反射显示区域11R的单色显示的质量提高。
并且，当光入射到平坦区域14R而进行反射时，因为能够使光不散射地进行镜面反射，所以能够防止超出到平坦区域14R而设置的着色层18R用于显示。
而且，因为平坦部17R由反射膜16R延伸设置到平坦区域14R而形成，所以不用例如与反射膜16R不同的构件，就能够在有效反射显示区域13R中设置反射膜16R时同时地在平坦区域14R中设置具有平坦面的平坦部17R，能够使例如制造工序数减少并能够降低制造成本。
并且，设置于反射显示区域11R中的平坦区域14R以外的有效反射显示区域13R的反射膜16R，因为表面具备凹凸形状，所以能够由散射后的光用于反射显示。
进而，因为相邻于子像素9R设置子像素9B，反射膜26B，在子像素9B的反射显示区域11B中的与子像素9R的透射显示区域10R的边界附近，具备设置平坦区域24R那样地表面平坦的平坦部27B，所以能够防止用于进行彩色显示的着色层18R越过平坦区域24R而超出到有效反射显示区域13B，能够使反射显示的显示质量提高。并且，例如，通过例如同时地形成反射膜16R的平坦部17R、和反射膜26B的平坦部27B，能够削减制造步骤。
而且，因为在子像素9R的透射显示区域10R、和相邻于子像素9R而设置的子像素9B的有效反射显示区域13B之间，设置在着色层18R上叠层不同的颜色的着色层而形成的第2遮光层14b。所以能够将用于进行彩色显示的着色层18R用于形成第2遮光层14b，例如相比较于用另外的构件形成第2遮光层14b的情况，能够削减制造成本。
并且，因为透射显示区域10R设置于子像素9R的图2的Y方向的一侧(图2的下侧，图3的右侧)，有效反射显示区域13R设置于子像素9R的图2的Y方向的另一侧(图2的上侧，图3的左侧)，平坦区域14R的透射显示区域10R侧的边缘为直线状，所以例如相比较于将平坦区域设置得弯曲的情况等，能够使平坦区域14R的透射显示区域10R侧的边缘的必要的长度缩短，可以减小平坦区域14R的面积、使反射显示的亮度的降低变少，能够使在有效反射显示区域13R的单色显示的质量提高。
并且，因为平坦区域14R的宽度a(平坦部17R的Y方向的宽度a)，为1μm～10μm，所以能够例如可靠地使之不越过平坦区域14R而超出到有效反射显示区域13R中，并能够由平坦区域14R尽可能防止反射显示变得超出需要地暗。
进而，通过在除了平坦区域14R的反射显示区域11R中，设置形成有用于对反射膜16R附加散射功能的凹凸形状的基底层15R，能够由散射后的光用于反射显示，能够仅以在平坦区域14R不形成基底层15R就形成不用于反射显示的平坦的平坦部17R。在此，因为平坦区域14R是镜面反射的区域，所以即使着色层18R超出到平坦区域14R中也不会产生反射显示变成淡彩色显示的问题。
而且，因为基底层15R，设置于在有效反射显示区域13R的基板5和反射膜16R之间，而不设置在平坦区域14R中，平坦部17R不通过基底层15R地设置于基板5上，所以能够仅不形成基底层15R就形成平坦部17R。并且，通过利用基板5的平坦面而设置平坦部17R，可以更可靠地设置平坦部17R。
还有，在第1实施方式中也可以把反射膜16R等和着色层18R等分别设置于不同的基板上。该情况下，设置于有效反射显示区域13R及平坦区域14R的反射膜16R和平坦区域14R的一部分和设置于透射显示区域10R中的着色层18R，成为在平坦区域14R的一部分重叠的构成。
第2实施方式
其次，对本发明的第2实施方式的液晶装置进行说明。当说明第2实施方式之时，对半反射半透射型的使用了作为三端子型开关元件的TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)的有源矩阵方式的液晶装置进行说明。还有，在本实施方式以后的实施方式及变形例中，对与上述实施方式相同的构成构件等附加相同的符号并省略其说明，并以不相同处为中心进行说明。
图5是第2实施方式的液晶装置的液晶面板的像素的概略平面图，图6是图5的液晶面板的像素的B-B剖面图。
虽然在第1实施方式，表示了设置于反射显示区域11R的反射膜16R在平坦区域14R具备平坦部17R，设置于基板5的液晶7侧的例，但是在本实施方式，在图6中所示的后述的反射膜49R设置于基板5的液晶7侧，遮光部50R对应于反射膜49R的平坦部37R而设置于基板6的液晶7侧。
在基板5上，在X方向及Y方向上多个并列地设置为显示例如文字等的单位的像素35。像素35，例如如图5中所示地，通过第1遮光层14a而在X方向上并排设置3个为了分别显示例如红色、绿色及蓝色的大致矩形状的子像素40R、40G及40B而形成。
在子像素40R的图5的Y方向的一侧(图5的下侧、图6的右侧)设置透射显示区域41R，在子像素40R的图5的Y方向的另一侧(图5的上侧、图6的左侧)设置已设置了后述的反射膜的反射显示区域42R。反射显示区域42R，具备为了反射从基板6侧向基板5侧入射的光而进行单色显示的有效反射显示区域43R，和为反射显示区域42R的除了有效反射显示区域43R之外的区域的后述的遮光区域44R。
另一方面，在基板5侧，设置有：从有效反射显示区域43R设置到遮光区域44R的一部分的、用于将反射膜49R及透明电极46R和TFT47电连接的接触电极45R，设置于透射显示区域41R及遮光区域44R的一部分的透明电极46R，电连接于接触电极45R的TFT 47，在有效反射显示区域43R等中设置于基板5的液晶7侧的基底层48R，和具备设置于遮光区域44R的平坦部37R而叠层到基底层48R的反射膜49R；另外设置：在遮光区域44R中设置于基板6的液晶7侧的遮光部50R，后述的遮光部51R，在基板6的液晶7侧至少设置于透射显示区域41R的着色层52R，后述的平坦化层53及共用电极54等。
接触电极45R，如在图6中所示地，设置于基板5的液晶7侧的表面之中有效反射显示区域43R及遮光区域44R的一部分。接触电极45R，其遮光区域44R侧的端部设置于遮光区域44R。在接触电极45R的构成材料中，可用例如铬等金属。
透明电极46R，如在图6中所示地，设置于基板5的液晶7侧的表面之中透射显示区域41R及遮光区域44R的一部分。如在图6中所示地，透明电极46R的遮光区域44R侧的端部，叠层到接触电极45R的端部而设置。在透明电极46R的构成材料中，可用ITO等。
TFT47，具备省略了图示的栅电极和源电极，电连接于接触电极45R。
基底层48R，在基板5的液晶7侧从有效反射显示区域43R经过遮光区域44R的一部分而设置。在基底层48R上形成多个凹凸状部。
反射膜49R，形成于基底层48R的液晶7侧的表面。例如铝或铝合金可用于反射膜49R的构成材料。反射膜49R，具有沿基底层48R的凹凸形状的凹凸形状。反射膜49R的遮光区域44R侧的端部，电连接于例如接触电极45R和透明电极46R的连接部，形成为反射电极的平坦部37R。
在反射膜49R及透明电极46R的液晶7侧的面上设置省略了图示的取向膜。并且，在基板5的与液晶7侧相反侧设置省略了图示的偏振板等。还有，关于子像素40G及子像素40B，因为只是着色层的着色材料等不同而与子像素40R为同样的结构所以省略其说明。
另一方面，遮光部50R，不通过例如基底层等地设置于基板6的液晶7侧的面之中的遮光区域44R。遮光部50R，具备大致平行于基板6的液晶7侧的面的面。遮光部50R的宽度a，为1μm～10μm。在遮光部50R的构成材料中，可用例如铝等金属材料。
遮光部51R，在子像素40R的透射显示区域41R、和该透射显示区域41R的Y方向的相邻的子像素40B的有效反射显示区域43B的边界区域的附近不通过基底层等地设置于基板6的液晶7侧。遮光部51R，具备大致平行于基板6的液晶7侧的面的面。遮光部51R的Y方向的宽度a，为1μm～10μm。在遮光部51R的构成材料中，可用例如铝等金属材料。根据遮光部50R、51R确定例如透镜显示区域41R的宽度等。
红色的着色层52R，设置于基板6的液晶7侧的表面之中至少透射显示区域41R。着色层52R的Y方向的两端部，分别叠层到遮光部50R、51R的一部分而设置。还有，虽然着色层52R，不叠层到遮光部50R、51R地设置比较理想，但是为了避免由于制造误差等而在透射显示区域41R形成未设置着色层52R的区域，故与考虑了制造误差的范围相应地将着色层52R叠层到遮光部50R而设置。
平坦化层53，设置于基板6、遮光部50R及着色层52R等的液晶7侧。平坦化层53的液晶7侧的面通过平坦化层53而平坦化。在平坦化层53的构成材料中，例如可用丙烯酸制的树脂。
共用电极54，设置于平坦化层53的液晶7侧。共用电极54，由例如ITO等透明导电体形成。还有，在共同电极54的液晶7侧的面上设置省略了图示的取向膜。并且，与基板5同样，在基板6的与液晶7侧相反侧设置省略了图示的偏振板等。
如此地依照本实施方式，因为在基板5的液晶7侧设置反射膜49R，在基板5的液晶7侧设置平坦部37R，在基板6的液晶7侧对应于平坦部37R设置遮光部50R，所以即使应当设置于透射显示区域41R的着色层52R由于制造误差等超出到遮光区域44R侧，也能够不使之超出到有效反射显示区域43R并当例如从光所透射之侧看时所超出的着色层52R被遮光部50R所遮盖，能够使在有效反射显示区域43R的单色显示的质量提高。
并且，因为在子像素40R的透射显示区域41R、和相邻于透射显示区域41R而设置的子像素40B的有效反射显示区域43B的边界附近，设置可以遮蔽光的遮光部51R，所以通过在透射显示区域41R和有效反射显示区域43R之间、及子像素40R的透射显示区域41R和子像素40B的有效反射显示区域43B的边界附近，例如同时形成遮光部50R、51R，相比较于例如形成遮光部51R的工序、和在遮光区域44R形成遮光部50R的工序不相同的情况，能够削减制造步骤。
第1变形例
图7是第1变形例的液晶装置的液晶面板的像素的剖面图。
虽然在第1实施方式，表示了从设置于有效反射显示区域13R的反射膜16R到平坦区域14R延伸设置有平坦部17R而设置于基板5的液晶7侧的例，但是在变形例，后述的平坦部67R，由与在有效反射显示区域63R中设置于基板5的液晶7侧的反射膜66R不相同的材料而形成。
在基板5上，在X方向及Y方向上多个并列地设置为显示例如文字等的单位的像素55。像素55，通过第1遮光层14a而在X方向上并排设置3个为了分别显示例如红色、绿色及蓝色的大致矩形状的子像素60R等而形成。
子像素60R，如在图7中所示地，具备：为了透射来自设置于基板5的与液晶7侧相反侧的省略了图示的背光源的光而进行彩色显示的大致矩形状的透射显示区域61R，和后述的反射显示区域62R。反射显示区域62R，具备：为了反射从基板6侧向基板5侧入射的光而进行单色显示的有效反射显示区域63R，和为反射显示区域62R中的有效反射显示区域63R以外的区域的平坦区域64R。
子像素60R，由设置于有效反射显示区域63R的基底层65R，在基底层65R等上叠层的反射膜66R，设置于平坦区域64R的平坦部67R，至少设置于透射显示区域61R的着色层18R，为了使反射膜66R的液晶7侧的面等平坦的平坦化层19，为了调整液晶7的Z方向的厚度的单元厚调整层20以及扫描电极21等而形成。
基底层65R，如在图7中所示地，在有效反射显示区域63R中在基板5的液晶7侧的表面上设置，不设置于平坦区域64R。例如树脂等可用于基底层65R的构成材料。在基底层65R上形成多个凹凸状部。
反射膜66R，形成于基底层65R的液晶7侧的表面等，不设置于平坦区域64R。例如铝或铝合金可用于反射膜66R的构成材料。反射膜66R具有沿基底层65R的凹凸形状的凹凸形状。由此，能够使从基板6侧入射的光被反射膜66R散射而反射那样地构成。
平坦部67R，由与在有效反射显示区域63R中设置于基板5的液晶7侧的反射膜66R不相同的例如金属构件而形成。平坦部67R，在平坦区域64R中不通过基底层65R等地设置于基板5的液晶7侧的面上。例如铝等可用于平坦部67R的构成材料。平坦部67R，具备大致平行于基板5的液晶7侧的面的面。平坦部67R的Y方向的宽度a，为1μm～10μm。
红色的着色层18R，如在图7中所示地，至少在透射显示区域61R中设置于基板5的液晶7侧的表面。着色层18R，如在图7中所示地，相邻于平坦区域64R侧的端部，在平坦部67R上叠层而设置。还有，在本变形例，虽然示出了着色层18R的端部叠层到平坦部67R而设置的例，但是着色层18R不叠层到平坦部67R地设置比较理想。但是为了避免由于制造误差等而在透射显示区域61R形成未设置着色层18R的区域，故与考虑了制造误差的范围相应地将着色层18R叠层到平坦部67R上而设置。
平坦化层19，设置于反射膜66R、平坦部67R及着色层18R等的液晶7侧。在平坦化层19的构成材料中，例如可用丙烯酸树脂等。平坦化层19的液晶7侧的面通过平坦化层19而变得平坦。
还有，关于单元厚调整层20、扫描电极21等因为与上述第1实施方式同样所以省略其说明。并且，关于子像素60G及子像素60B，因为仅将为了分别显示绿、蓝的着色材料用于着色层的着色材料之点不同而与子像素60R为同样的结构所以省略其说明。另一方面，关于基板6侧的构成也因为与上述第1实施方式同样所以省略其说明。
如此地依照本实施方式，因为，平坦部67R，由与在有效反射显示区域63R设置于基板5的一面侧的反射膜66R不相同的金属构件而形成，所以通过在用金属形成布线之时同时地形成平坦部67R，能够不使制造步骤增加地制造液晶装置。并且，能够例如由金属形成有效反射显示区域63R的反射膜66R，并用金属以外的材料(白涂料等)形成平坦部67R。
还有，例如，在上述第1实施方式，虽然示出了从设置于有效反射显示区域13R的反射膜16R到平坦区域14R延伸设置平坦部17R而设置于基板5的液晶7侧的例，但是也可以如在图8中所示地，在基板5的液晶7侧的面之中，在有效反射显示区域13R及平坦区域14R上，形成具有凹凸形状的基底层15R，并如在图9中所示地，在平坦区域14R中，在基底层15R的凹状部例如涂敷由与基底层15R相同的树脂构成的平坦化膜15h，并用由树脂构成的平坦化膜15h填埋凹状部，在平坦区域14R中用由树脂构成的平坦化膜15h形成平坦面14h，接着，如在图10中所示地，一体地形成反射膜71于有效反射显示区域13R中、形成平坦部72于平坦区域14R中。由此，即使在难于在除了平坦区域14R的有效反射显示区域13R中选择性地形成凹凸形状的情况下，也能够形成平坦部72。
并且，在上述第1实施方式，虽然示出了基底层15R设置于有效反射显示区域13R而不设置于平坦区域14R的例，但是也可以如在图11中所示地，将具有凹凸形状的基底层73设置于有效反射显示区域13R及平坦区域14R，通过用光刻技术等去除平坦区域14R的液晶7侧的凸状部而形成平坦面74，并如在图12中所示地，在有效反射显示区域13R及平坦区域14R上形成铝层，在有效反射显示区域13R中形成反射膜16R、在平坦区域14R中以从反射膜16R延伸设置的平坦膜76和基底层73而形成平坦部75。基底层73，因为在有效反射显示区域13R中设置于基板5和反射膜16R之间、而在平坦区域14R中设置于基板5和平坦膜76R之间，所以相比较于例如如第1实施方式那样地延伸设置的平坦部17R距基板5的液晶7侧的面的高度小的情况，能够使在制造时从透射显示区域10R流入到平坦区域14R的着色层的材料的量减少，更加可靠地防止着色层越过平坦区域14R向有效反射显示区域13R的超出，能够更加可靠地使在有效反射显示区域13R的单色显示的质量提高。
还有，也可以不去除基底层73的平坦区域14R的液晶7侧的凸状部，通过在基底层73的平坦区域14R的液晶7侧，最初就不形成凹凸形状地形成平坦面74。
而且，虽然在上述第1实施方式等，示出了平坦区域14R的透射显示区域10R侧的边缘为直线状的例，但是子像素中的透射显示区域及平坦区域的形成位置并不限定于此，既可以例如将透射显示区域在反射显示区域中设置成岛状，在反射显示区域和透射显示区域之间设置平坦区域；也可以将反射显示区域在透射显示区域中设置成岛状，在反射显示区域和透射显示区域之间设置平坦区域。在该情况下，例如能够防止因透射显示区域和反射显示区域的形成位置的偏差引起的显示质量的降低。
具体地，可以考虑：将反射膜在子像素内设置成岛状，以设置反射膜的区域作为有效反射显示区域及平坦区域，并包围岛状的反射膜那样地设置透射显示区域的构成；或者，在反射膜上形成开口，并以开口作为透射显示区域，并包围开口那样地设置有效反射显示区域及平坦区域的构成。
第3实施方式：电子设备
其次，对具备例如上述的液晶装置1的本发明的第3实施方式的电子设备进行说明。
图13是本发明的第3实施方式的电子设备的显示控制系统的整体构成的概略构成图。
电子设备300，作为显示控制系统例如如在图13中所示地，具备液晶面板2及显示控制电路390等，其显示控制电路390具有：显示信息输出源391，显示信息处理电路392，电源电路393及定时发生器394等。
并且，在液晶面板2上具有：包括驱动显示区域I的液晶驱动用IC29的驱动电路361。
显示信息输出源391，具备：由ROM(Read Only Memory，只读存储器)或RAM(Random Access Memory，随机存取存储器)等构成的存储器，由磁记录盘或光记录盘等构成的存储单元，和调谐输出数字图像信号的调谐电路。而且显示信息输出源391，根据由定时发生器394所生成的各种时钟信号，以预定格式的图像信号等的形式将显示信息供给到显示信息处理电路392那样地构成。
并且，显示信息处理电路392具备串行—并行变换电路、放大反相电路、旋转电路、灰度系数校正电路、箝位电路等众所周知的各种电路，执行输入的显示信息的处理，将该图像信息与时钟信号CLK一同向驱动电路361供给。另外，电源电路393，将预定的电压分别供给到上述的各构成要素。
如此地依照本实施方式，因为具备例如能够既确保在透射显示区域10R的彩色显示的质量并使在有效反射显示区域13R的单色显示的质量提高的液晶装置1，所以能够得到显示性能优越的电子设备。
作为具体的电子设备，可列举在便携电话机及个人计算机、数码相机等以及其它的装载了液晶装置的触摸面板、投影机、液晶电视及取景器型、监视器直视型的磁带录像机、汽车导航装置、呼机、电子笔记本、计算器、文字处理机、工作站、电视电话、POS终端等。而且，作为这些各种电子设备的显示部，不用说可以采用上述的例如液晶装置1等。
还有，本发明的电子设备，不限定于上述的例，在不脱离本发明的要旨的范围中内当然能加以种种变更。并且，在不变更本发明的要旨的范围中，也可以组合上述各实施方式。
例如，虽然在上述的实施方式中对TFD型的液晶装置1、TFT型的液晶装置等进行了说明但是并不限定于此，也可以为例如无源矩阵型的液晶装置。并且，也可以将本发明用于具备触摸面板的电子设备、电泳显示装置等各种电光装置。

Claims (15)

1.一种电光装置，其特征在于，具备：
保持电光物质、具备多个具有反射显示区域和透射显示区域的像素的一对基板，
设置于上述反射显示区域，并在该反射显示区域中的与上述透射显示区域相邻的进行第1镜面反射的区域，其表面平坦的反射膜，和
仅形成于上述进行第1镜面反射的区域和上述透射显示区域的着色层。
2.按照权利要求1所述的电光装置，其特征在于，
设置于上述反射显示区域中的除上述进行第1镜面反射的区域以外的区域的反射膜，表面具备凹凸形状。
3.按照权利要求1或2所述的电光装置，其特征在于，
上述进行第1镜面反射的区域中的反射膜，由与设置于上述反射显示区域中的除上述进行第1镜面反射的区域以外的区域的反射膜不同的材料形成。
4.按照权利要求1～3中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
上述像素，具有一个像素、和与该一个像素相邻设置的其他像素；
上述反射膜，在上述一个像素的反射显示区域中的与相邻于该一个像素的反射显示区域的上述其他的像素的透射显示区域的边界附近，平坦地形成表面，以设置进行第2镜面反射的区域。
5.按照权利要求1～3中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
上述像素，具有一个像素、和与该一个像素相邻设置的其他像素；
在上述一个像素的透射显示区域和与该一个像素的透射显示区域相邻的上述其他的像素的反射显示区域之间，还具备遮光层。
6.按照权利要求5所述的电光装置，其特征在于，
上述着色层，具有多种颜色的着色层；
上述遮光层，通过叠层不同颜色的上述着色层而形成。
7.按照权利要求1～6中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
上述反射膜，设置于上述一对基板的一方的基板上；
在上述一对基板的另一方的基板的与上述进行第1镜面反射的区域对应的区域上，还具备遮光部。
8.按照权利要求1～7中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
上述进行第1镜面反射的区域的上述透射显示区域侧的边缘为直线状。
9.按照权利要求1～7中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
上述反射膜在上述像素内设置成岛状，或者，上述透射显示区域为设置于上述反射膜的开口。
10.按照权利要求1～9中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
上述进行第1镜面反射的区域的宽度，为1μm～10μm。
11.按照权利要求1～10中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
在除了上述进行第1镜面反射的区域的上述基板和上述反射膜之间还设置有形成有凹凸形状的基底层。
12.按照权利要求1～10中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
在上述基板和上述反射膜之间设置有基底层；
上述基底层，在上述进行第1镜面反射的区域平坦，在除了上述进行第1镜面反射的区域之外的上述反射显示区域形成有凹凸形状。
13.按照权利要求1～10中任何一项所述的电光装置，其特征在于，
在上述基板和上述反射膜之间设置有形成有凹凸形状的基底层；
在上述进行第1镜面反射的区域，在上述基底层和上述反射膜之间形成有填埋上述凹凸形状的平坦化膜。
14.一种电光装置用基板，其特征在于，具备：
保持电光物质、具备多个具有反射显示区域和透射显示区域的像素的基板，
设置于上述反射显示区域，并在该反射显示区域中的与上述透射显示区域相邻的进行镜面反射的区域，其表面平坦的反射膜，和
仅形成于上述进行镜面反射的区域和上述透射显示区域的着色层。
15.一种电子设备，其特征在于，
具备权利要求1～13中任何一项所述的电光装置。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4670102B2 (ja) * 2006-11-21 2011-04-13 ワン ラップトップ パー チャイルド アソシエイション インク． デュアルモードディスプレー
US8194211B2 (en) * 2008-03-18 2012-06-05 Nlt Technologies, Ltd. Transflective liquid crystal display unit
KR20130114996A (ko) * 2012-04-10 2013-10-21 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조방법

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10260403A (ja) * 1997-01-20 1998-09-29 Seiko Epson Corp 液晶装置及び電子機器
US6195140B1 (en) * 1997-07-28 2001-02-27 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display in which at least one pixel includes both a transmissive region and a reflective region
JP3380482B2 (ja) * 1997-12-26 2003-02-24 シャープ株式会社 液晶表示装置
US6624860B1 (en) 1998-01-26 2003-09-23 Sharp Kabushiki Kaisha Color filter layer providing transmitted light with improved brightness and display device using same
US6215538B1 (en) 1998-01-26 2001-04-10 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display including both color filter and non-color filter regions for increasing brightness
JP3335130B2 (ja) 1998-01-26 2002-10-15 シャープ株式会社 液晶表示装置
US6081354A (en) * 1998-05-15 2000-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic reflector for liquid crystal display
US6407786B1 (en) 1999-06-09 2002-06-18 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and method for fabricating the same
JP2001183649A (ja) * 1999-12-27 2001-07-06 Nec Corp 反射型カラー液晶表示装置
JP2002055333A (ja) 2000-08-11 2002-02-20 Seiko Epson Corp 液晶装置用基板、その製造方法、液晶装置および電子機器
JP3927084B2 (ja) * 2001-07-13 2007-06-06 セイコーエプソン株式会社 液晶表示パネル用カラーフィルタ基板
JP3610967B2 (ja) * 2001-07-27 2005-01-19 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置、カラーフィルタ基板及び電子機器
JP3675404B2 (ja) * 2001-09-25 2005-07-27 セイコーエプソン株式会社 半透過・反射型液晶装置、およびそれを用いた電子機器
TW562962B (en) 2002-01-15 2003-11-21 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device
JP3675420B2 (ja) 2002-03-26 2005-07-27 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置及び電子機器
JP2003344847A (ja) 2002-05-30 2003-12-03 Optrex Corp 半透過半反射型液晶表示パネル
JP4345262B2 (ja) 2002-06-28 2009-10-14 セイコーエプソン株式会社 液晶装置用基板、液晶装置用基板の製造方法、液晶装置、および電子機器
JP3951844B2 (ja) * 2002-07-23 2007-08-01 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置および電子機器
JP4196611B2 (ja) 2002-08-09 2008-12-17 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
JP4066746B2 (ja) 2002-08-29 2008-03-26 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
JP4178883B2 (ja) 2002-08-30 2008-11-12 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置
JP4214748B2 (ja) 2002-09-20 2009-01-28 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置及び電子機器
JP3961945B2 (ja) * 2002-12-27 2007-08-22 株式会社アドバンスト・ディスプレイ 液晶表示装置
JP3794393B2 (ja) * 2003-03-13 2006-07-05 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置および電子機器
JP3918765B2 (ja) * 2003-04-21 2007-05-23 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置および電子機器
KR100940909B1 (ko) 2003-06-10 2010-02-08 엘지디스플레이 주식회사 반사투과형 액정표시장치
TWI247921B (en) * 2003-09-10 2006-01-21 Seiko Epson Corp Electrooptic device, color filter substrate, manufacturing method for electrooptic device and electronic equipment
JP2005173037A (ja) 2003-12-09 2005-06-30 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2005181604A (ja) 2003-12-18 2005-07-07 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板、液晶表示装置及び電子機器

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