JP3394111B2 - 半導体記憶装置のデータ入力回路 - Google Patents

半導体記憶装置のデータ入力回路

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JP3394111B2
JP3394111B2 JP12608895A JP12608895A JP3394111B2 JP 3394111 B2 JP3394111 B2 JP 3394111B2 JP 12608895 A JP12608895 A JP 12608895A JP 12608895 A JP12608895 A JP 12608895A JP 3394111 B2 JP3394111 B2 JP 3394111B2
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    • G11C7/1078Data input circuits, e.g. write amplifiers, data input buffers, data input registers, data input level conversion circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は書込み機能を有する半導
体記憶装置のデータ入力回路に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体記憶装置として、書込みデ
ータを内部で、メモリセルに書込み駆動できる最小時間
に近いパルス幅を有するパルスに変換し、実質的な書込
み時間を短縮して、書込み時の消費電力を削減するもの
が既に提案されている。
【0003】図2は、このような書込みデータのパルス
化機能を有する従来の半導体記憶装置におけるデータ入
力回路を示すものである。なお、表記上の問題から、図
面で「上バー」を付して示している符号を、この明細書
においては、「上バー」を付す代りに、その符号の末尾
に「/」を付与して示している。
【0004】図2において、アクティブロウのチップセ
レクト信号CS/及びアクティブロウのライトイネーブ
ル信号WE/は、2入力ノアゲート1に入力され、この
ノアゲート1からは、これらチップセレクト信号CS/
及びライトイネーブル信号WE/が共に“L”(有意)
のときに書込みを指示する“H”が出力され、2個の2
入力アンドゲート2及び3のそれぞれ一方の入力端子に
与えられる。アンドゲート2の他方の入力端子には入力
データDINが反転して入力され、アンドゲート3の他
方の入力端子には入力データDINがそのまま入力され
る。かくして、書込み時には、アンドゲート2からは入
力データDINの反転論理レベルが出力され、アンドゲ
ート3からは入力データDINの論理レベルそのままの
論理レベルが出力される。
【0005】アンドゲート2からの信号は、2入力ナン
ドゲート6の一方の入力端子にそのまま入力されると共
に、パルス幅を規定する遅延回路4を介して所定時間だ
け遅延された後反転されてナンドゲート6の他方の入力
端子に与えられる。かくして、ナンドゲート6からは、
チップセレクト信号CS/及びライトイネーブル信号W
E/が共に“L”に変化した時点で入力データDINが
“L”をとっていた場合、及び、チップセレクト信号C
S/及びライトイネーブル信号WE/が共に“L”(有
意)になっている最中において入力データDINが
“H”から“L”に変化した場合に、“L”を所定時間
(パルス幅)だけとる一方のデータ線に与える第1の書
込みパルスデータWDが出力される。
【0006】従って、遅延回路4及びナンドゲート6で
なる部分は、見方を変えると、検出信号の有意レベルが
“L”に設定されている立下りエッジの検出構成がなし
ている。
【0007】遅延回路5及びナンドゲート7によって、
上述と同様にして、アンドゲート3からの信号もパルス
化され、ナンドゲート7からは、チップセレクト信号C
S/及びライトイネーブル信号WE/が共に“L”に変
化した時点で入力データDINが“H”をとっていた場
合、及び、チップセレクト信号CS/及びライトイネー
ブル信号WE/が共に“L”になっている最中において
入力データDINが“L”から“H”に変化した場合
に、“L”を所定時間(パルス幅)だけとる他方のデー
タ線に与える第2の書込みパルスデータWD/が出力さ
れる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体記憶装置においては、書込み期間中に入力データ
の論理レベルが変化した場合に、パルス化構成の各部回
路のゲート数の違い等によるタイミングずれや第1及び
第2の書込みパルスデータWD及びWD/を伝送する一
対のデータ線の配線負荷等によって、これらデータ線上
でのパルスデータのずれ、なまり、重なりが生じて、メ
モリセルにデータを正確に書き込めない恐れを有するも
のであった。特に、高速動作する半導体記憶装置であれ
ば、書込みパルスデータのパルス幅をより狭くしている
ので、第1及び第2の書込みパルスデータWD及びWD
/のずれ、なまり、重なりによる悪影響を受け易い。
【0009】図3は、かかる課題の説明用タイミングチ
ャートである。例えば、チップイネーブルCS/が
“L”の状態でライトイネーブル信号WE/が“L”に
変化してノアゲート1の出力信号が図3(A)に示すよ
うに書込みを指示するように変化した時点において、入
力データDINが“H”であったとすると、メモリセル
に“H”を書き込むようにさせるべく、図3(C)に示
す第2の書込みパルスデータWD/だけにパルスが生じ
る。ライトイネーブル信号WE/が“L”に変化した時
点からさほど時間(T1とする)が経過していない時点
において、入力データDINが“H”から“L”に変化
すると、メモリセルに“L”を書き込むようにさせるべ
く、図3(D)に示す第1の書込みパルスデータWDだ
けにパルスが生じる。
【0010】この場合において、時間T1が短いと、上
述した要因によって、メモリセルに“H”を書き込むよ
うにさせる第2の書込みパルスデータWD/におけるパ
ルスと、メモリセルに“L”を書き込むようにさせる第
1の書込みパルスデータWDにおけるパルスとの期間が
重複し、共に“L”をとる期間T2が生じる。そのた
め、最初に“H”を書込みための一対の書込みパルスデ
ータWD及びWD/の論理組み合わせ“H”及び“L”
の期間も短くなり、次に“L”を書込みための一対の書
込みパルスデータWD及びWD/の論理組み合わせ
“L”及び“H”の期間も短くなり、メモリセルにデー
タが正確に書込みことができない。
【0011】特に、このような場合には後側の“L”を
書込むことを意図しており、後側の“L”をメモリセル
に書込むことができない課題は大きな問題である。
【0012】実際上、半導体記憶装置を利用する装置
(CPU等)としては種々のものがあり、書込みデータ
DINを変化させた後に、ライトイネーブル信号WE/
を有意にするものもあれば、ライトイネーブル信号WE
/を有意に変化させた後に、書込みデータDINを変化
させるものもあり、図3を用いて説明した課題は、当該
半導体記憶装置が後者の利用装置に接続された場合に生
じ易い。
【0013】なお、書込み期間中に入力データの論理レ
ベルの変化が数回生じた場合にも、同様な課題が生じ
る。
【0014】また、第1及び第2の書込みパルスデータ
WD及びWD/のパルス幅が不十分な場合やなまりがあ
る場合には、読出しを許容する状態へのデータ線やビッ
ト線に対するリセットも明確ではなくなり、この点で
も、当該記憶装置の動作を不安定にする。
【0015】従って、1回の書込み期間中において、書
込みデータが途中で1回以上変化した場合であっても、
最終的なデータを正しくメモリセルに書き込むことがで
きて、読出し可能状態へも安定して移行できる半導体記
憶装置のデータ入力回路が求められている。
【0016】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の半導体記憶装置のデータ入力回路は、メモ
リセルに書込みパルス信号を与える半導体記憶装置のデ
ータ入力回路において、書込み制御信号及び入力データ
信号を受け取り、前記書込み制御信号がイネーブルに変
化した場合、または前記書込み制御信号がイネーブル状
態において入力データ信号が変化した場合にワンショッ
トパルス信号を出力するパルス発生手段と、前記ワンシ
ョットパルス信号及び前記入力データ信号を受け取り、
前記ワンショットパルス信号及び前記入力データ信号の
論理演算により前記ワンショットパルス信号を整形して
前記書込みパルス信号として出力するパルス整形手段と
を有する。そして、前記パルス発生手段が、受け取った
前記書込み制御信号と前記入力データ信号とから、論理
演算を行ない論理信号を出力する第1の論理回路部と、
前記パルス信号検出部からの前記論理信号を遅延させる
遅延回路部と、前記第1の論理回路部から与えられた論
理信号と前記遅延回路部から与えられた遅延された論理
信号とに基づいて、前記ワンショットパルス信号を出力
する第2の論理回路部とを備え、前記遅延回路部が、P
MOSトランジスタとNMOSトランジスタとの遷移特
性が非対称なCMOSインバータを複数個縦続接続させ
たものであることを特徴とする。また、メモリセルに複
数の書込みパルス信号を与える半導体記憶装置のデータ
入力回路において、書込み制御信号および複数の入力デ
ータ信号のうちのひとつを受け取り、書込み制御信号が
イネーブル状態のとき受け取った複数の入力データ信号
のうちのひとつを出力する複数の入力データ選定手段
と、書込み制御信号を受け取り、この書込み制御信号が
変化した場合にワンショットパルス信号を出力する制御
パルス発生回路と、前記入力データ選定手段から出力さ
れた複数の入力データ信号のうちのひとつを受け取り、
この受け取った入力データ信号が変化した場合にワンシ
ョットパルス信号を出力する複数のデータパルス発生回
路と、前記制御パルス発生回路および前記データパルス
発生回路が出力したワンショットパルス信号を受け取
り、受け取った信号の論理をとってパルスデータ信号を
出力するパルス調整手段と、前記入力データ選定手段か
ら出力された複数の入力データ信号のうちのひとつと前
記パルスデータとを受け取り、受け取った信号の論理を
とって前記書込みパルス信号として出力する複数のパル
ス整形手段とを有することを特徴とする。すなわち、書
込み制御信号及び書込みデータに基いて、中間的な書込
みパルスデータを形成する書込みパルス発生手段と、こ
の中間的な書込みパルスデータと入力された書込みデー
タとの論理演算を行なって、データ線に与える最終的な
第1及び第2の書込みパルスデータを形成するデータ再
入力手段とを設けた。
【0017】
【作用】本発明においては、書込みパルス発生手段が、
書込み制御信号及び書込みデータに基いて、形成した中
間的な書込みパルスデータをそのまま出力するのではな
く、データ再入力手段によって、この中間的な書込みパ
ルスデータと入力された書込みデータとの論理演算を行
なって、一対のデータ線にそれぞれ与える最終的な第1
及び第2の書込みパルスデータを形成する。
【0018】これにより、書込み制御信号がイネーブル
になった時点からさほど時間が経過していない書込み制
御信号のイネーブル状態において、書込みデータが変化
したとしても、さらにその後に書込みデータが変化した
としても、最終的な第1及び第2の書込みパルスデータ
として、相前後するパルスが切り分けられている、しか
も良好なパルス形状を有するものが得られるようにな
り、メモリセルへの書込みが正確に実行される。
【0019】
【実施例】(A)第1実施例 以下、本発明による半導体記憶装置のデータ入力回路の
第1実施例を図面を参照しながら詳述する。ここで、図
1がこの第1実施例の構成を示すものであり、上述した
図2との同一、対応部分には、同一符号を付して示して
いる。
【0020】図1において、この第1実施例の半導体記
憶装置のデータ入力回路は、図2に示した従来回路の構
成に加えて、パルス化された一対の書込みパルスデータ
WD及びWD/をそれぞれ整形する2入力オアゲート1
0及び11を備えている。これらパルス整形部を構成す
るオアゲート10及び11は、できるだけメモリセルに
近い位置に設けられていることが好ましい。なお、図1
において、抵抗記号で表している書込みパルスデータW
D、WD/及び入力データDINの伝送系に設けられた
要素12〜14は、パルス形状に悪影響を与える配線負
荷(抵抗成分や容量成分でなる)等を表している。
【0021】オアゲート10の一方の入力端子には、ナ
ンドゲート6から出力された第1の書込みパルスデータ
WDが配線パターンを引き回されてそのまま入力され、
他方の入力端子には入力データDINが配線パターンを
引き回されてそのまま入力される。従って、オアゲート
10からは、パルス化された第1の書込みパルスデータ
WD及び入力データDINのオア出力が得られ、これが
最終的な第1の書込みパルスデータWDATAとして出
力される。
【0022】他方のオアゲート11の一方の入力端子に
は、ナンドゲート7から出力された第2の書込みパルス
データWD/が配線パターンを引き回されてそのまま入
力され、他方の入力端子には入力データDINが配線パ
ターンを引き回された後、反転されて入力される。従っ
て、オアゲート11からは、パルス化された第2の書込
みパルスデータWD/及び入力データDINの反転信号
DIN/のオア出力が得られ、これが最終的な第2の書
込みパルスデータWDATA/として出力される。
【0023】これらオアゲート10及び11はそれぞ
れ、対応する書込みパルスデータWD及びWD/と、入
力データDINとの論理レベルを組み合わせることによ
り、上述したように対応する書込みパルスデータWD及
びWD/のパルス整形機能を担うものであるが、このパ
ルス整形機能は、1回の書込み期間の途中に入力データ
DINの論理レベルが変化した場合に、特に有効性を発
揮する。
【0024】以下、このことを、従来の課題の説明で用
いた図3に示す入力状況と同様な入力状況の場合を例に
とって、図4を参照しながら説明する。
【0025】チップイネーブルCS/が“L”の状態で
ライトイネーブル信号WE/が“L”に変化してノアゲ
ート1の出力信号が図4(A)に示すように書込みを指
示するように変化した時点において、入力データDIN
が“H”であったとすると、メモリセルに“H”を書き
込むようにさせるべく、図4(C)に示す第2の書込み
パルスデータWD/だけにパルスが生じ、ライトイネー
ブル信号WE/が“L”に変化した時点からさほど時間
(T1)が経過していない時点において、入力データD
INが“H”から“L”に変化すると、メモリセルに
“L”を書き込むようにさせるべく、図4(D)に示す
第1の書込みパルスデータWDだけにパルスが生じる。
各書込みパルスデータWD、WD/におけるこれらパル
スは、パルス化構成の各部回路のゲート数の違い等によ
るタイミングずれや、第1及び第2の書込みパルスデー
タWD及びWD/を伝送する配線パターンの負荷等によ
って、なまりや重なりが生じてしまう。
【0026】なお、サイクルタイムが20ns、25n
sといった高速な半導体記憶装置では書込み時間及び書
込み直後の読出し動作保証(ライトリカバリーマージン
確保)のため、パルス幅は5ns程度にかなり短く設定
されており、そのため、配線負荷等による遅延に基く重
なり時間は相対的に大きくなり易い。
【0027】しかし、第2の書込みパルスデータWD/
にパルスが生じさせる場合の入力データDINの論理レ
ベルは常に“H”であるので、この第1実施例のよう
に、第2の書込みパルスデータWD/と入力データDI
Nの反転信号とのオア出力を得ると、そのオア出力信号
である最終的な第2の書込みパルスデータWDATA/
は、図4(E)に示すように、入力データDINが
“H”期間において“L”をとるパルスに整形される。
一方、第1の書込みパルスデータWDにパルスが生じさ
せる場合の入力データDINの論理レベルは常に“L”
であるので、第1の書込みパルスデータWDと入力デー
タDINとのオア出力を得ると、そのオア出力信号であ
る最終的な第1の書込みパルスデータWDATAは、図
4(F)に示すように、入力データDINが“L”期間
において“L”をとるパルスに整形される。
【0028】かくして、第2の書込みパルスデータWD
/のパルスと、第1の書込みパルスデータWDのパルス
とが重なっていても、最終的な第2の書込みパルスデー
タWDATA/のパルスと、最終的な第1の書込みパル
スデータWDATAのパルスとは切り分けられ、また、
ゲート数等の影響を受けない入力データDINを用い
て、しかも配線パターンを介した後に論理処理している
のでその波形形状も明確になる。
【0029】上記の場合とは逆に、チップイネーブルC
S/が“L”の状態でライトイネーブル信号WE/が
“L”に変化した時点において、入力データDINが
“L”であり、この時点からさほど時間が経過していな
い時点において、入力データDINが“L”から“H”
に変化した場合であっても、上記と同様な動作により、
最終的な第1及び第2の書込みパルスデータWDATA
及びWDATA/のパルスは切り分けられ、その波形形
状も明確になる。
【0030】チップイネーブルCS/及びライトイネー
ブル信号WE/が“L”の状況で、入力データDINが
複数回論理レベルを変化させても、論理レベルの変化毎
に、同様に作用する。
【0031】この第1実施例においては、1回の書込み
動作期間の途中において入力データDINの論理レベル
が雑音等によって短期間だけ変化した場合にも、良好な
書込みパルスデータWDATA及びWDATA/が得ら
れるように、遅延回路4及び5の構成を従来のものから
変化させている。
【0032】一般的には、遅延回路4及び5として、イ
ンバータゲート、ナンドゲート、ノアゲート等の論理素
子を単に縦続接続した構成や、抵抗及び容量等でなる構
成が採用されている。前者の場合も単純な接続であり、
各論理素子の構成に注意を払ってはいない。
【0033】この第1実施例においては、各遅延回路
4、5として、図5に示すように、PMOS及びNMO
Sの特性が異なる複数(図示のものは4個)のCMOS
構成のインバータゲート21〜24を縦続接続して構成
している。
【0034】ここで、第1段及び第3段のインバータゲ
ート21及び23としては、“L”から“H”への遷移
時間を規定するPMOSのゲート幅とゲート長の比WP
/LP が10μm/2μmであって、“H”から“L”
への遷移時間を規定するNMOSのゲート幅とゲート長
の比WN /LN が5μm/0.5μmのものを適用して
いる。また、第2段及び第4段のインバータゲート22
及び24としては、PMOSのゲート幅とゲート長の比
WP /LP が10μm/0.5μmであって、NMOS
のゲート幅とゲート長の比WN /LN が5μm/2μm
のものを適用している。
【0035】すなわち、第1段及び第3段のインバータ
ゲート21及び23として、“L”から“H”への遷移
が、“H”から“L”への遷移より長くかかるものを適
用しており、逆に、第2段及び第4段のインバータゲー
ト22及び24として、“H”から“L”への遷移が、
“L”から“H”への遷移より長くかかるものを適用し
ている。しかし、当該遅延回路4又は5の入力データか
ら見た場合、その反転データが入力される第2段及び第
4段のインバータゲート22及び24も、第1段及び第
3段のインバータゲート21及び23と同様なエッジ遷
移特性を有している。すなわち、入力データのエッジか
ら見ると、その立上りエッジの遷移時間を、立下りエッ
ジの遷移時間より長くするように機能している。
【0036】従って、当該遅延回路4又は5への図6
(A)に示すような広いパルス幅の入力データは、当該
遅延回路4又は5から出力される際には、図6(B)に
示すように、狭いパルス幅の出力データに変換される。
入力データのパルス幅が狭い場合には、出力データにお
いてパルスがなくなることも生じる。
【0037】なお、第1段及び第3段のインバータゲー
ト21及び23の遷移特性と、第2段及び第4段のイン
バータゲート22及び24の遷移特性とが上述のように
対称的であるので、当該遅延回路4又は5からの出力デ
ータにおける立上りエッジと立下りエッジの遷移時間は
ほぼ等しいものとなっている。
【0038】図7は、以上のような構成の遅延回路4及
び5を適用したことのメリットを説明するための遅延回
路4に係るタイムチャートの一例である。
【0039】一般的な構成の遅延回路4を適用した場
合、図7(A1)に示す短パルスを有するその入力デー
タは、所定時間だけ遅延されて図7(A2)に示すよう
にそのまま出力データとなり、その結果、図7(A3)
に示すように、ナンドゲート6からの第1の書込みパル
スデータWDにおいてメモリセルの動作を保証できない
短いパルス幅の有意パルスが生じることもある。
【0040】これに対して、図5に示した構成の遅延回
路4を適用した場合には、図7(B1)に示す上記と同
様な入力データが入力されても、遅延回路4からの出力
データにおいては、図7(B2)に示すように、入力デ
ータにおける短パルスが除去され、その結果、図7(B
3)に示すように、ナンドゲート6からの第1の書込み
パルスデータWDにおいて、メモリセルの動作を保証し
得る十分なパルス幅の有意パルスが得られる。
【0041】以上のように、上記第1実施例によれば、
一旦得られた第1及び第2の書込みパルスデータを、入
力データとの論理をとってパルス整形して、最終的な第
1及び第2の書込みパルスデータを得るようにしたの
で、書込み時の途中において入力データが変化したとし
ても、変化後のレベルに応じた十分なパルス幅のしかも
良好な形状の書込みパルスを得ることができ、メモリセ
ルに正確にデータを書き込むことができる。
【0042】また、上記第1実施例によれば、遅延回路
として、PMOSとNMOSとの遷移特性が非対称なC
MOS構成のインバータゲートを縦続接続したものを適
用したので、雑音等の影響で遅延回路の入力データに短
パルスが生じていても、その影響を排除して、メモリセ
ルを正しく動作させることができる書込みパルスを得る
ことができる。
【0043】このように書込みパルスデータのパルスが
他のパルスと明確に切り分けられ、しかも、パルス形状
も良好であるので、データ線及び又はビット線に対する
図示しないリセット回路によるリセットも、確実及び高
速に実行でき、次読出し動作が高速で実行できるように
なる。
【0044】(B)第2実施例 次に、本発明による半導体記憶装置のデータ入力回路の
第2実施例を図面を参照しながら詳述する。ここで、図
8がこの第2実施例の構成を示すものであり、上述した
図1との同一、対応部分には、同一符号を付して示して
いる。
【0045】この第2実施例は、図1及び図8の比較か
ら明らかなように、第1実施例におけるナンドゲート2
及び3の構成部分を変更したものである。ナンドゲート
2及び3は、チップセレクト信号CS/及びライトイネ
ーブル信号WE/が共に有意であることを開条件とし、
それぞれ入力データDINの反転信号及び入力データD
INを通過させるゲート手段(スイッチ)となっている
ので、トランスファゲートを利用した構成に置き換える
ことができ、このようにしたものが第2実施例となって
いる。
【0046】ここで、2個のインバータゲート30及び
31と、トランスファゲート32と、PMOS34とが
ナンドゲート2に対応し、インバータゲート31と、ト
ランスファゲート33と、PMOS35とがナンドゲー
ト3に対応している。PMOS34及び35は、プルア
ップ用のものである。
【0047】チップセレクト信号CS/及びライトイネ
ーブル信号WE/が共に“L”(有意)であると、ナン
ドゲート1から“H”が出力され、このナンドゲート1
の出力信号及びそのインバータゲート31を介した反転
信号が制御信号として与えられる両トランスファゲート
32及び33はオン動作し、両PMOS34及び35は
オフ動作する。この状態においては、入力データDIN
は、インバータゲート30を介して反転された後、トラ
ンスファゲート32を通過して遅延回路4及びナンドゲ
ート6に与えられ、また、入力データDINは、トラン
スファゲート33を通過して遅延回路5及びナンドゲー
ト7に与えられる。
【0048】一方、チップセレクト信号CS/及びライ
トイネーブル信号WE/の少なくとも一方が“H”であ
ると、ナンドゲート1から“L”が出力され、両トラン
スファゲート32及び33はオフ動作し、両PMOS3
4及び35はオン動作する。この状態においては、入力
データDINのインバータゲート30を介した反転信号
はトランスファゲート32を通過できず、また、入力デ
ータDINはトランスファゲート33を通過できず、遅
延回路4及びナンドゲート6には、プルアップ用のPM
OS34の機能によって“H”が入力され、遅延回路5
及びナンドゲート7には、プルアップ用のPMOS35
の機能によって“H”が入力される。
【0049】このようにして第1実施例のナンドゲート
2及び3と同一の真理値表に従う論理レベルの変換が実
行される。
【0050】従って、この第2実施例によっても、一旦
得られた第1及び第2の書込みパルスデータを、入力デ
ータとの論理をとってパルス整形して、最終的な第1及
び第2の書込みパルスデータを得るようにしたので、書
込みイネーブル状態中において入力データが変化したと
しても、変化後のレベルに応じた十分なパルス幅のしか
も良好な形状の書込みパルスを得ることができ、メモリ
セルに正確にデータを書き込むことができ、また、遅延
回路として、PMOSとNMOSとの遷移特性が非対称
なCMOS構成のインバータゲートを縦続接続したもの
を適用したので、雑音等の影響で遅延回路の入力データ
に短パルスが生じていても、その影響を排除して、メモ
リセルを正しく動作させ得る書込みパルスが得られる。
【0051】これに加えて、第2実施例によれば、構成
(パターン面積)の一段の小形化を達成することが期待
できる。
【0052】例えば、CMOSで実現する場合におい
て、トランジスタレベルの素子数で第1及び第2実施例
を比較すると以下の通りである。第1実施例の場合、反
転取込み構成を有するナンドゲート2が8素子、ナンド
ゲート3が6素子の計14素子で構成される。一方、第
2実施例の場合、2個のインバータゲート30及び31
がそれぞれ2素子、2個のトランスファゲート32及び
33がそれぞれ2素子、2個のプルアップ用PMOSが
それぞれ1素子の計10素子で構成され、第1実施例よ
り4素子少なく構成できて、その分パターン面積を押さ
えることが期待できる。
【0053】(C)第3実施例 次に、本発明による半導体記憶装置のデータ入力回路の
第3実施例を図面を参照しながら詳述する。ここで、図
9がこの第3実施例の構成を示すブロック図である。
【0054】この第3実施例は、nビットパラレル入力
の半導体記憶装置用のものである。なお、上記第1実施
例及び第2実施例も、当然に、nビットパラレル入力用
に拡張適用できるものである。この第3実施例の特徴
は、書込みパルスデータは全ての入力ビットデータに共
通に形成すること、その書込みパルスデータから各ビッ
トについての第1及び第2の書込みパルスデータの形成
と書込みパルスのパルス整形とを同一の論理素子によっ
て行なっている点にある。
【0055】図9において、各入力ビットデータDIN
1、…、DINnはそれぞれ対応する2入力アンドゲー
ト40−1、…、40−nの一方の入力端子に入力され
る。これらアンドゲート40−1〜40−nの他方の入
力端子には、チップセレクト信号CS/及びライトイネ
ーブル信号WE/のノア出力を得る後述するノアゲート
50からの出力信号が与えられる。かくして、各アンド
ゲート40−1、…、40−nからはそれぞれ、チップ
セレクト信号CS/及びライトイネーブル信号WE/が
共に“L”の書込み許容時に、対応する入力ビットデー
タDIN1、…、DINnと同じ論理レベルをとり、こ
れ以外では常時“L”をとる信号が出力される。
【0056】第1実施例について説明したように、書込
みパルスを出力させるタイミングは、(1) チップセレク
ト信号CS/及びライトイネーブル信号WE/が共に
“L”(有意)になった変化時点直後と、(2) チップセ
レクト信号CS/及びライトイネーブル信号WE/が共
に“L”(有意)である書込み期間途中においてデータ
が変化した直後である。
【0057】書込みパルスデータ発生部41は、(1) の
場合に書込みパルスデータを発生させるものであり、各
書込みパルスデータ発生部42U−1、42D−1、
…、42U−n、42D−nは、(2) の場合に書込みパ
ルスデータを発生させるものである。
【0058】書込みパルスデータ発生部41は、ノアゲ
ート50、遅延回路51、2入力ナンドゲート52から
構成されている。ノアゲート50は、上述したように、
チップセレクト信号CS/及びライトイネーブル信号W
E/のノア出力を得るものであり、チップセレクト信号
CS/及びライトイネーブル信号WE/が共に“L”
(有意)であるときに“H”を出力する。この出力信号
は、遅延回路51にそのまま入力されると共に、反転さ
れてナンドゲート52に入力される。ナンドゲート52
にはこの遅延回路を介した信号も入力される。これによ
り、ナンドゲート52からは、ノアゲート50の出力信
号が“H”に変化した時点(チップセレクト信号CS/
及びライトイネーブル信号WE/が共に“L”に変化し
た時点)から、遅延回路51で規定される所定時間だけ
“L”をとる書込みパルスデータが出力される。
【0059】各書込みパルスデータ発生部42U−i、
42D−i(iは1〜n)には、対応するアンドゲート
40−iを通過した入力ビットデータ(DINi)が入
力される。
【0060】書込みパルスデータ発生部42U−iは、
同一構成を有し、書込みパルスデータ発生部42U−1
に詳細構成を示すように、遅延回路61U−i及び2入
力ナンドゲート62U−iから構成されており、入力ビ
ットデータ(DINi)は、遅延回路61U−iにその
まま入力されると共に、反転されてナンドゲート62U
−iに入力される。ナンドゲート62U−iには遅延回
路61U−iを介した信号も入力される。これにより、
ナンドゲート62U−iからは、入力ビットデータ(D
INi)が“L”から“H”に変化した時点から、遅延
回路61U−iで規定される所定時間だけ“L”をとる
書込みパルスデータが出力される。
【0061】一方、各書込みパルスデータ発生部42D
−iは同一構成を有し、書込みパルスデータ発生部42
D−1に詳細構成を示すように、遅延回路61D−i及
び2入力ナンドゲート62D−iから構成されており、
入力ビットデータ(DINi)は、遅延回路61D−i
及びナンドゲート62D−iにそのまま入力される。ナ
ンドゲート62D−iには遅延回路61D−iを介した
信号の反転信号も入力される。これにより、ナンドゲー
ト62D−iからは、入力ビットデータ(DINi)が
“H”から“L”に変化した時点から、遅延回路61D
−iで規定される所定時間だけ“L”をとる書込みパル
スデータが出力される。
【0062】入力パラレルデータが変化する場合は、そ
の1以上のビットデータが同時に変化する。従って、書
込みパルスデータ発生部41、42U−1、42D−
1、…、42U−n、42D−nのいずれか1以上から
書込みパルスデータが出力されたことは、アンドゲート
40−1〜40−nの機能をも考慮すると、書込み期間
途中においてデータが変化した直後であることを表して
いる。
【0063】全ての書込みパルスデータ発生部41、4
2U−1、42D−1、…、42U−1及び42D−1
からの書込みパルスデータは、2n+1入力のナンドゲ
ート43に与えられる。かくして、ナンドゲート43か
らは、チップセレクト信号CS/及びライトイネーブル
信号WE/が共に“L”(有意)になった変化時点直後
と、書込み期間途中においてパラレルデータが変化した
直後において、所定期間だけ“H”をとる共通書込みパ
ルスデータWDが出力される。
【0064】この共通書込みパルスデータWDは、出力
段に設けられている全ての2入力ナンドゲート44a−
1、44b−1、…、44a−1、44b−1の一方の
入力端子に与えられる。
【0065】第1の書込みパルスデータの出力用の各ナ
ンドゲート44a−iの他方の入力端子には、対応する
アンドゲート40−iを通過した入力ビットデータ(D
INi)が反転されて入力される。かくして、ナンドゲ
ート44a−iからは、入力ビットデータ(DINi)
が“L”の状態で、有意レベルである“H”の共通書込
みパルスデータWDが入力されたときに、そのパルス幅
を有する“L”パルスを有する出力信号を送出する。こ
の出力信号が、対応する入力ビットデータDINiに対
する最終的な第1の書込みパルスデータWDATAiと
して送出される。
【0066】また、第2の書込みパルスデータの出力用
の各ナンドゲート44b−iの他方の入力端子には、対
応するアンドゲート40−iを通過した入力ビットデー
タ(DINi)がそのまま入力される。かくして、ナン
ドゲート44b−iからは、入力ビットデータ(DIN
i)が“H”の状態で、有意レベルである“H”の共通
書込みパルスデータWDが入力されたときに、そのパル
ス幅を有する“L”パルスを有する出力信号を送出す
る。この出力信号が、対応する入力ビットデータDIN
iに対する最終的な第2の書込みパルスデータWDAT
Ai/として送出される。
【0067】ここで、一対の出力用ナンドゲート44a
−i及び44b−iの一方には、入力ビットデータ(D
INi)を判定して入力すると共に他方にはそのまま入
力しているので、これらナンドゲート44a−i及び4
4b−iからの出力である第1及び第2の書込みパルス
データWDATAi及びWDATAi/が共に“L”に
なることはない。
【0068】この第3実施例の構成によれば、チップセ
レクト信号CS/及びライトイネーブル信号WE/が共
に“L”になった書込みイネーブル直後と、チップセレ
クト信号CS/及びライトイネーブル信号WE/が共に
“L”(有意)である書込み期間途中においてパラレル
データが変化した直後において、入力ビットデータDI
Niの論理レベルに応じて、第1又は第2の書込みパル
スデータWDATAi又はWDATAi/の一方に
“L”をとる書込みパルスが生じる。
【0069】ここで、チップセレクト信号CS/及びラ
イトイネーブル信号WE/が共に“L”になった時点か
ら、さほど時間が経過していない時点でパラレルデータ
が変化した場合には、書込みパルスデータ発生部41か
らの最初の書込みパルスと、書込みパルスデータ発生部
42U−1、42D−1、…、42U−n又は42D−
nからの次の書込みパルスとが連結されて、ナンドゲー
ト43からパルス幅の広い書込みパルスが出力されるこ
とがあるが、入力ビットデータ(DINi)が入力され
る一対のナンドゲート44a−i及び44b−iによっ
て、これらが明確に切り分けられる。
【0070】なお、図9において、抵抗記号で表してい
る要素45−1〜45−n、46は、伝送される信号形
状に悪影響を与える配線負荷(抵抗成分や容量成分でな
る)等を表している。
【0071】従って、上記第3実施例によっても、一旦
得られた書込みパルスデータを、入力データとの論理を
とってパルス整形して、最終的な第1及び第2の書込み
パルスデータを得るようにしたので、書込み時の途中に
おいて入力データが変化したとしても、変化後のレベル
に応じた十分なパルス幅のしかも良好な形状の書込みパ
ルスを得ることができ、メモリセルに正確にデータを書
き込むことができるようになる。
【0072】また、上記第3実施例によっても、各遅延
回路として、図5に示す構成のものを適用した場合に
は、雑音等の影響で遅延回路の入力データに短パルスが
生じていても、その影響を排除して、メモリセルを正し
く動作させることができる書込みパルスを得ることがで
きる。
【0073】さらに、第3実施例によれば、書込みパル
スは全ての入力ビットデータに共通に形成し、その書込
みパルスデータから各ビットについての第1及び第2の
書込みパルスデータの形成と書込みパルスのパルス整形
とを同一の論理素子によって行なっているので、全体構
成(配線領域等に反映される)を小さくすることができ
る。
【0074】第1及び第2実施例をnビットのパラレル
入力用に適用した場合、各ビットデータのそれぞれにつ
いて、データDIN、WD及びWD/をパルス整形部に
伝送するための配線パターンが必要であり、全ビットに
ついて見ると、3×n本の配線パターンが必要である。
これに対して、第3実施例においては、各ビットデータ
と共通書込みパルスデータの配線パターンをパルス整形
機能等を担う部分に引き回せば良く、n+1本の配線パ
ターンで済むため、配線領域が減り、その結果、チップ
面積の減少という効果が得られる。
【0075】(D)他の実施例 上記第3実施例は、複数ビットのパラレル入力用のもの
であるが、その技術的思想を、1ビット用の回路に適用
することができる。
【0076】上記各実施例においては、半導体記憶装置
単体を意識したものであるが、マイクロコンピュータ等
の半導体集積回路に組み込まれた半導体記憶装置部分に
本発明を適用することができる。従って、対象とするメ
モリセルがレジスタを構成するような場合にも本発明を
適用できる。
【0077】各種データの有意レベルが上記各実施例に
限定されないことは勿論であり、各種データの有意レベ
ルに応じて用いる論理ゲートの種類を選定すれば良い。
【0078】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、書込み
制御信号及び書込みデータに基いて、中間的な書込みパ
ルスデータを形成する書込みパルス発生手段と、この中
間的な書込みパルスデータと入力された書込みデータと
の論理演算を行なって、一対のデータ線のそれぞれに与
える最終的な第1及び第2の書込みパルスデータを形成
するデータ再入力手段とを有するので、書込み制御信号
がイネーブルになった時点からさほど時間が経過してい
ない書込み制御信号のイネーブル状態において書込みデ
ータが変化したとしても、さらにその後に書込みデータ
が変化したとしても、最終的な第1及び第2の書込みパ
ルスデータとして、相前後するパルスが切り分けられて
いる、しかも良好なパルス形状を有するものが得られる
ようになり、メモリセルへの書込みが正確に実行され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例の構成を示すブロック図である。
【図2】従来の構成を示すブロック図である。
【図3】従来の欠点の説明用タイミングチャートであ
る。
【図4】第1実施例の各部タイミングチャートである。
【図5】第1実施例の遅延回路の構成例を示すブロック
図である。
【図6】図5の遅延回路の入出力を示す信号波形図であ
る。
【図7】図5の遅延回路を適用したことの利点説明用の
タイミングチャートである。
【図8】第2実施例の構成を示すブロック図である。
【図9】第3実施例の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1、50…ノアゲート、2、3、40−1〜40−n…
アンドゲート、4、5、51、61U−1〜61U−
n、61D−1〜61D−n…遅延回路、6、7、4
3、44a−1〜44a−n、44b−1〜44b−
n、52、62U−1〜62U−n、62D−1〜62
D−n…ナンドゲート、10、11…オアゲート、21
〜24…インバータゲート。

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 メモリセルに書込みパルス信号を与える
    半導体記憶装置のデータ入力回路において、 書込み制御信号及び入力データ信号を受け取り、前記書
    込み制御信号がイネーブル状態に変化した場合、または
    前記書込み制御信号がイネーブル状態において入力デー
    タ信号が変化した場合にワンショットパルス信号を出力
    するパルス発生手段と、 前記ワンショットパルス信号及び前記入力データ信号を
    受け取り、前記ワンショットパルス信号及び前記入力デ
    ータ信号の論理演算により前記ワンショットパルス信号
    を整形して前記書込みパルス信号として出力するパルス
    整形手段とを有し、 前記パルス発生手段は、 受け取った前記書込み制御信号と前記入力データ信号と
    から、論理演算を行ない論理信号を出力する第1の論理
    回路部と、 前記パルス信号検出部からの前記論理信号を遅延させる
    遅延回路部と、 前記第1の論理回路部から与えられた論理信号と前記遅
    延回路部から与えられた遅延された論理信号とに基づい
    て、前記ワンショットパルス信号を出力する第2の論理
    回路部とを備え、 前記遅延回路部は、PMOSトランジスタとNMOSト
    ランジスタとの遷移特性が非対称なCMOSインバータ
    を複数個縦続接続させたものである ことを特徴とする半
    導体記憶装置のデータ入力回路。
  2. 【請求項2】 メモリセルに複数の書込みパルス信号を
    与える半導体記憶装置のデータ入力回路において、 書込み制御信号および複数の入力データ信号のうちのひ
    とつを受け取り、書込み制御信号がイネーブル状態のと
    き受け取った複数の入力データ信号のうちのひとつを出
    力する複数の入力データ選定手段と、 書込み制御信号を受け取り、この書込み制御信号が変化
    した場合にワンショットパルス信号を出力する制御パル
    ス発生手段と、 前記入力データ選定手段から出力された複数の入力デー
    タ信号のうちのひとつを受け取り、この受け取った入力
    データ信号が変化した場合にワンショットパルス信号を
    出力する複数のデータパルス発生手段と、 前記制御パルス発生手段および前記データパルス発生手
    段が出力したワンショットパルス信号を受け取り、受け
    取った信号の論理をとってパルスデータ信号を出力する
    パルス調整手段と、 前記入力データ選定手段から出力された複数の入力デー
    タ信号のうちのひとつと前記パルスデータとを受け取
    り、受け取った信号の論理をとって前記書込みパルス信
    号として出力する複数のパルス整形手段とを有すること
    を特徴とする半導体記憶装置のデータ入力回路。
  3. 【請求項3】 前記パルス整形手段は、前記メモリセル
    の近傍に設けられることを特徴とする請求項に記載の
    半導体記憶装置のデータ入力回路。
  4. 【請求項4】 前記制御パルス発生手段および前記デー
    タパルス発生手段のそれぞれは、 前記書込み制御信号及び前記入力データ信号を受け取
    り、論理演算を行なって論理信号を出力する第1の論理
    回路部と、 前記第1の論理回路部からの前記論理信号を遅延させる
    遅延回路部と、 前記第1の論理回路部から与えられた前記論理信号と前
    記遅延回路部から与えられた遅延された前記論理信号と
    に基づいて、論理演算を行なって前記ワンショットパル
    ス信号を出力する第2の論理回路部とを有することを特
    徴とする請求項に記載の半導体記憶装置のデータ入力
    回路。
  5. 【請求項5】 前記遅延回路部は、PMOSトランジス
    タとNMOSトランジスタとの遷移特性が非対称なCM
    OSインバータを複数個縦続接続させたことを特徴とす
    る請求項に記載の半導体記憶装置のデータ入力回路。
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