JP3349422B2 - 光導波路アレイ及びその製造方法 - Google Patents
光導波路アレイ及びその製造方法Info
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- G02B6/04—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres
- G02B6/06—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres the relative position of the fibres being the same at both ends, e.g. for transporting images
- G02B6/08—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres the relative position of the fibres being the same at both ends, e.g. for transporting images with fibre bundle in form of plate
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- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、材料内部に屈折率の変
化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が
起きた領域が連続的に形成されている光導波路アレイ及
びその製造方法に関する。
化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が
起きた領域が連続的に形成されている光導波路アレイ及
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバを基体にアレイ状に組み込ん
だ光導波路アレイは、光通信における情報やイメージ情
報を伝達する手段として用いられている。光ファイバ
は、通常、コア部がクラッド部に比べ屈折率が高い構造
を持っている。そのため、開口数（ＮＡ）に相当する角
度未満で光ファイバに入射した光は、コアとクラッドと
の界面で全反射を繰り返し、光ファイバの出射側にイメ
ージ情報を伝送する。しかし、開口数（ＮＡ）に相当す
る入射角より大きな角度で光導波路アレイに入射した光
は、コアとクラッドで全反射を起こさず、クラッドを透
過して隣接する光ファイバに伝達される。クラッドに入
射した光も、同様にクラッド・コアを通り抜けて反対側
に到達する。その結果、本来伝達されるべき光が伝達さ
れるべきでない部分にまで伝達されてしまうクロストー
クの問題が現れ、光通信においては情報伝達にエラーが
多発したり、イメージ情報の場合には伝送コントラスト
の低下や伝達イメージ情報の質的低下を引き起こす。光
導波路アレイの光ファイバ間に設けた吸光体で漏れ光を
除去することにより、クロストークが抑制される（特開
平１−１８０１８０号公報，特開平３−３８９６３号公
報等参照）。この手法に従った光導波路アレイは、たと
えば図１に示すように、コア１ａの周囲を屈折率の小さ
なクラッド１ｂ及び吸光体層１ｃで二重に被覆した光フ
ァイバ１を結束して光ファイバ束２とし、多数の光ファ
イバ束２を個々にベースガラス３等の基材で挟み込んで
いる。吸光体層１ｃで漏れ光が除去されるため、コント
ラストを上げ高解像度で画質を読み取るイメージセンサ
が得られる。
だ光導波路アレイは、光通信における情報やイメージ情
報を伝達する手段として用いられている。光ファイバ
は、通常、コア部がクラッド部に比べ屈折率が高い構造
を持っている。そのため、開口数（ＮＡ）に相当する角
度未満で光ファイバに入射した光は、コアとクラッドと
の界面で全反射を繰り返し、光ファイバの出射側にイメ
ージ情報を伝送する。しかし、開口数（ＮＡ）に相当す
る入射角より大きな角度で光導波路アレイに入射した光
は、コアとクラッドで全反射を起こさず、クラッドを透
過して隣接する光ファイバに伝達される。クラッドに入
射した光も、同様にクラッド・コアを通り抜けて反対側
に到達する。その結果、本来伝達されるべき光が伝達さ
れるべきでない部分にまで伝達されてしまうクロストー
クの問題が現れ、光通信においては情報伝達にエラーが
多発したり、イメージ情報の場合には伝送コントラスト
の低下や伝達イメージ情報の質的低下を引き起こす。光
導波路アレイの光ファイバ間に設けた吸光体で漏れ光を
除去することにより、クロストークが抑制される（特開
平１−１８０１８０号公報，特開平３−３８９６３号公
報等参照）。この手法に従った光導波路アレイは、たと
えば図１に示すように、コア１ａの周囲を屈折率の小さ
なクラッド１ｂ及び吸光体層１ｃで二重に被覆した光フ
ァイバ１を結束して光ファイバ束２とし、多数の光ファ
イバ束２を個々にベースガラス３等の基材で挟み込んで
いる。吸光体層１ｃで漏れ光が除去されるため、コント
ラストを上げ高解像度で画質を読み取るイメージセンサ
が得られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】吸光体層１ｃで被覆し
た光ファイバ１では、ガラスとの密着性が要求されるこ
とから、吸光体層１ｃに使用可能な材料が制約される。
また、吸光体層１ｃの形成や光ファイバ１を束ねて基材
３に接着する必要があるため、工程が非常に複雑であ
る。ところで、レーザ光をガラス試料内部に集光照射
し、集光部分の屈折率を上昇させることによって、光導
波路を作製することが紹介されている（ヨーロッパ特許
明細書０７９７１１２−Ａ１）。この方法では、たとえ
ば石英ガラスやフッ化物ガラスをレーザ光で集光照射す
ることにより光導波路を作製している。この方法を発展
させて光導波路をアレイ状に作製すれば、光導波路アレ
イが作製されることが予想される。しかし、レーザ光の
集光照射により屈折率変化が起こるだけであるため、前
述のようにクロストークが問題となり、コントラストが
悪く伝達するイメージ情報の質が低下する。本発明は、
このような問題を解消すべく案出されたものであり、長
波長領域に固有吸収をもつ吸収物質を含むガラス材料の
内部をパルスレーザ光で集光照射することにより、屈折
率の変化及び長波長領域の固有吸収の減少が起きた連続
領域をガラス材料の内部に連続的に形成し、この連続領
域を光導波路として使用する光導波路アレイを提供する
ことを目的とする。
た光ファイバ１では、ガラスとの密着性が要求されるこ
とから、吸光体層１ｃに使用可能な材料が制約される。
また、吸光体層１ｃの形成や光ファイバ１を束ねて基材
３に接着する必要があるため、工程が非常に複雑であ
る。ところで、レーザ光をガラス試料内部に集光照射
し、集光部分の屈折率を上昇させることによって、光導
波路を作製することが紹介されている（ヨーロッパ特許
明細書０７９７１１２−Ａ１）。この方法では、たとえ
ば石英ガラスやフッ化物ガラスをレーザ光で集光照射す
ることにより光導波路を作製している。この方法を発展
させて光導波路をアレイ状に作製すれば、光導波路アレ
イが作製されることが予想される。しかし、レーザ光の
集光照射により屈折率変化が起こるだけであるため、前
述のようにクロストークが問題となり、コントラストが
悪く伝達するイメージ情報の質が低下する。本発明は、
このような問題を解消すべく案出されたものであり、長
波長領域に固有吸収をもつ吸収物質を含むガラス材料の
内部をパルスレーザ光で集光照射することにより、屈折
率の変化及び長波長領域の固有吸収の減少が起きた連続
領域をガラス材料の内部に連続的に形成し、この連続領
域を光導波路として使用する光導波路アレイを提供する
ことを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の光導波路アレイ
は、その目的を達成するため、３６０ｎｍより長い可視
光領域に固有吸収がある吸収物質を含むマトリックスを
もち、ガラス内部に集光点を調節したパルスレーザ光の
集光照射で生じた吸収物質の状態変化による屈折率の変
化及び可視光領域の固有吸収の減少が起きた部分がガラ
ス材料の内部に連続的に形成されていることを特徴とす
る。吸収物質としては、金属微粒子，半導体微粒子，遷
移金属イオン，希土類イオン，陰イオンの１種又は２種
以上がある。この光導波路アレイは、３６０ｎｍより長
い可視光領域に固有吸収がある吸収物質を含むガラス材
料の内部に集光点を調節し、屈折率の変化及び可視光領
域の固有吸収の減少を起こすエネルギー量を持つパルス
レーザ光でガラス材料を集光照射し、ガラス材料の内部
で集光点を相対移動させながら、屈折率の変化及び可視
光領域の吸収係数が減少した連続領域をガラス材料の内
部に形成することにより製造される。
は、その目的を達成するため、３６０ｎｍより長い可視
光領域に固有吸収がある吸収物質を含むマトリックスを
もち、ガラス内部に集光点を調節したパルスレーザ光の
集光照射で生じた吸収物質の状態変化による屈折率の変
化及び可視光領域の固有吸収の減少が起きた部分がガラ
ス材料の内部に連続的に形成されていることを特徴とす
る。吸収物質としては、金属微粒子，半導体微粒子，遷
移金属イオン，希土類イオン，陰イオンの１種又は２種
以上がある。この光導波路アレイは、３６０ｎｍより長
い可視光領域に固有吸収がある吸収物質を含むガラス材
料の内部に集光点を調節し、屈折率の変化及び可視光領
域の固有吸収の減少を起こすエネルギー量を持つパルス
レーザ光でガラス材料を集光照射し、ガラス材料の内部
で集光点を相対移動させながら、屈折率の変化及び可視
光領域の吸収係数が減少した連続領域をガラス材料の内
部に形成することにより製造される。
【０００５】
【作用】長波長領域に固有吸収を持つガラス内部に集光
点を設定し、ガラス材料をパルスレーザ光で集光照射す
るとき、集光点において屈折率が変化すると共に、ガラ
スの固有吸収の原因となっている吸収物質の状態を変化
させる。金属微粒子，半導体微粒子，遷移金属イオン，
希土類イオン，陰イオン等の吸収物質は、３６０ｎｍよ
り長い波長領域に固有吸収がある。パルスレーザ光の集
光照射は、分散している金属や半導体微粒子の数，微粒
子のサイズ，微粒子の形態等の微粒子分散形態をも変化
させる。遷移金属イオン，希土類イオン，陰イオン等に
あっては、イオンの価数，イオンの配位状態，イオンの
結合状態等が変化する。
点を設定し、ガラス材料をパルスレーザ光で集光照射す
るとき、集光点において屈折率が変化すると共に、ガラ
スの固有吸収の原因となっている吸収物質の状態を変化
させる。金属微粒子，半導体微粒子，遷移金属イオン，
希土類イオン，陰イオン等の吸収物質は、３６０ｎｍよ
り長い波長領域に固有吸収がある。パルスレーザ光の集
光照射は、分散している金属や半導体微粒子の数，微粒
子のサイズ，微粒子の形態等の微粒子分散形態をも変化
させる。遷移金属イオン，希土類イオン，陰イオン等に
あっては、イオンの価数，イオンの配位状態，イオンの
結合状態等が変化する。
【０００６】たとえば、金属微粒子や半導体微粒子を分
散させたガラスをパルスレーザ光で集光照射すると、微
粒子の数が減少し、微粒子のサイズが小さくなり、微粒
子がガラスの中に溶け、或いはイオン化して微粒子とし
て存在しなくなる。微粒子がガラス中に溶け、或いはイ
オン化して微粒子として存在しなくなると、吸収係数
は、微粒子が分散していない媒質と同じ値になり、照射
前に比べて減少する。微粒子のサイズが変化する場合に
は、微粒子のサイズが異なることにより吸収する波長が
変化するため、集光照射前に比べて集光照射後の照射波
長における吸収係数が減少する。一方、集光部分は、レ
ーザ光の集光照射による構造配列の変化で非集光照射部
に比較して屈折率が高くなり、光導波路構造がガラス材
料内部に形成される。したがって、イメージ情報等伝達
用のレーザ光の波長を固有吸収波長領域に設定すると、
集光点以外の部分の吸収係数が照射前と同じであるのに
対し集光点では吸収係数が減少していることから、光導
波路部を伝搬する光は効率よく伝達される。また、光導
波路部（集光照射部）から漏れ出た光が非集光照射部で
吸収されるので、伝達エラーが防止され、コントラスト
が上昇し、高解像度でイメージ情報等の画質を読み取る
ことができる。ガラス材料に分散される金属微粒子に
は、Ａｕ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ等の微粒子がある。半導体
微粒子としては、たとえば、ＣｄＳ，ＣｄＳｅ，ＣｄＴ
ｅ，ＣｕＣｌ，ＣｕＢｒ，ＺｎＳ，ＺｎＳｅ等の微粒子
がある。これら微粒子は、１種又は２種以上を複合して
ガラス材料に分散される。
散させたガラスをパルスレーザ光で集光照射すると、微
粒子の数が減少し、微粒子のサイズが小さくなり、微粒
子がガラスの中に溶け、或いはイオン化して微粒子とし
て存在しなくなる。微粒子がガラス中に溶け、或いはイ
オン化して微粒子として存在しなくなると、吸収係数
は、微粒子が分散していない媒質と同じ値になり、照射
前に比べて減少する。微粒子のサイズが変化する場合に
は、微粒子のサイズが異なることにより吸収する波長が
変化するため、集光照射前に比べて集光照射後の照射波
長における吸収係数が減少する。一方、集光部分は、レ
ーザ光の集光照射による構造配列の変化で非集光照射部
に比較して屈折率が高くなり、光導波路構造がガラス材
料内部に形成される。したがって、イメージ情報等伝達
用のレーザ光の波長を固有吸収波長領域に設定すると、
集光点以外の部分の吸収係数が照射前と同じであるのに
対し集光点では吸収係数が減少していることから、光導
波路部を伝搬する光は効率よく伝達される。また、光導
波路部（集光照射部）から漏れ出た光が非集光照射部で
吸収されるので、伝達エラーが防止され、コントラスト
が上昇し、高解像度でイメージ情報等の画質を読み取る
ことができる。ガラス材料に分散される金属微粒子に
は、Ａｕ，Ｃｕ，Ａｇ，Ｐｔ等の微粒子がある。半導体
微粒子としては、たとえば、ＣｄＳ，ＣｄＳｅ，ＣｄＴ
ｅ，ＣｕＣｌ，ＣｕＢｒ，ＺｎＳ，ＺｎＳｅ等の微粒子
がある。これら微粒子は、１種又は２種以上を複合して
ガラス材料に分散される。
【０００７】遷移金属イオン，希土類イオン，陰イオン
等を含むガラスをパルスレーザ光で集光照射すると、イ
オンの価数変化，配位状態の変化，結合状態の変化等が
生じる。価数変化，配位状態，結合状態等が変化する
と、照射前にあった固有吸収が消滅又は減少する。一
方、パルスレーザ光の集光照射により、非集光照射部に
比べて集光照射部の屈折率が高くなった光導波路構造が
ガラス材料内部に形成されている。そのため、この場合
にも光導波路部に沿った効率よい光の伝播や光導波路部
（集光照射部）から漏れ出た光の吸収が生じ、伝達エラ
ーが防止され、コントラストが上昇し、高解像度でイメ
ージ情報等の画質を読み取ることが可能になる。遷移金
属イオンとしては、Ｃｕ2+，Ｖ3+，Ｖ4+，Ｔｉ3+，Ｎｉ
2+，Ｃｏ2+，Ｆｅ2+，Ｆｅ3+，Ｍｎ2+，Ｍｎ3+，Ｃ
ｒ3+，Ｃｒ6+，Ｍｏ4+等の１種又は２種以上をガラス材
料に含ませることができる。希土類イオンとしては、Ｐ
ｒ3+，Ｎｄ3+，Ｓｍ3+，Ｅｕ3+，Ｄｙ3+，Ｈｏ3+，Ｅｒ
3+，Ｔｍ3+，Ｙｂ3+，Ｃｅ3+，Ｓｍ2+，Ｅｕ2+，Ｙｂ2+
等の１種又は２種以上をガラス材料に含ませることがで
きる。陰イオンとしては、ＯＨ- ，Ｏ2-，Ｆ- 等の１種
又は２種以上をガラス材料に含ませることができる。
等を含むガラスをパルスレーザ光で集光照射すると、イ
オンの価数変化，配位状態の変化，結合状態の変化等が
生じる。価数変化，配位状態，結合状態等が変化する
と、照射前にあった固有吸収が消滅又は減少する。一
方、パルスレーザ光の集光照射により、非集光照射部に
比べて集光照射部の屈折率が高くなった光導波路構造が
ガラス材料内部に形成されている。そのため、この場合
にも光導波路部に沿った効率よい光の伝播や光導波路部
（集光照射部）から漏れ出た光の吸収が生じ、伝達エラ
ーが防止され、コントラストが上昇し、高解像度でイメ
ージ情報等の画質を読み取ることが可能になる。遷移金
属イオンとしては、Ｃｕ2+，Ｖ3+，Ｖ4+，Ｔｉ3+，Ｎｉ
2+，Ｃｏ2+，Ｆｅ2+，Ｆｅ3+，Ｍｎ2+，Ｍｎ3+，Ｃ
ｒ3+，Ｃｒ6+，Ｍｏ4+等の１種又は２種以上をガラス材
料に含ませることができる。希土類イオンとしては、Ｐ
ｒ3+，Ｎｄ3+，Ｓｍ3+，Ｅｕ3+，Ｄｙ3+，Ｈｏ3+，Ｅｒ
3+，Ｔｍ3+，Ｙｂ3+，Ｃｅ3+，Ｓｍ2+，Ｅｕ2+，Ｙｂ2+
等の１種又は２種以上をガラス材料に含ませることがで
きる。陰イオンとしては、ＯＨ- ，Ｏ2-，Ｆ- 等の１種
又は２種以上をガラス材料に含ませることができる。
【０００８】光導波路は、３６０ｎｍより長い波長領域
に固有吸収がある吸収物質を含むガラス内部に集光点を
調節したパルスレーザ光でガラス材料を集光照射し、ガ
ラス材料の内部で集光点を相対移動させ、屈折率の変化
及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が起
きた連続領域を形成することにより製造される。この
点、波長３６０ｎｍ以下に固有吸収をもつ吸収物質をガ
ラス材料に配合しても、ガラス材料自体の固有吸収が３
６０ｎｍ以下である場合もあるため、固有吸収の減少が
容易でないことから現実的にも意味がない。しかし、固
有吸収ピーク波長が３６０ｎｍ以下であっても３６０ｎ
ｍ以上に吸収のすそがかかっていて、当該吸収物質を含
まない場合に比べ３６０ｎｍ以上の吸収係数が増大して
いる場合、レーザー光の集光照射によって当該吸収物質
の３６０ｎｍ以上の吸収係数の減少が起こるのであれば
問題ない。レーザ光としては、ガラスの種類によって異
なるが、屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域
の固有吸収を減少させるエネルギー量を持つレーザ光を
利用する。レーザーパルス光のピークパワー密度は、１
パルス当たりの出力エネルギー（Ｊ）をパルス幅（秒）
で割ったパワー（単位：ワットＷ）で表される。ピーク
パワー密度は、単位面積（ｃｍ2 ）当りのピークパワー
（Ｗ／ｃｍ2 ）で表される。
に固有吸収がある吸収物質を含むガラス内部に集光点を
調節したパルスレーザ光でガラス材料を集光照射し、ガ
ラス材料の内部で集光点を相対移動させ、屈折率の変化
及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が起
きた連続領域を形成することにより製造される。この
点、波長３６０ｎｍ以下に固有吸収をもつ吸収物質をガ
ラス材料に配合しても、ガラス材料自体の固有吸収が３
６０ｎｍ以下である場合もあるため、固有吸収の減少が
容易でないことから現実的にも意味がない。しかし、固
有吸収ピーク波長が３６０ｎｍ以下であっても３６０ｎ
ｍ以上に吸収のすそがかかっていて、当該吸収物質を含
まない場合に比べ３６０ｎｍ以上の吸収係数が増大して
いる場合、レーザー光の集光照射によって当該吸収物質
の３６０ｎｍ以上の吸収係数の減少が起こるのであれば
問題ない。レーザ光としては、ガラスの種類によって異
なるが、屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域
の固有吸収を減少させるエネルギー量を持つレーザ光を
利用する。レーザーパルス光のピークパワー密度は、１
パルス当たりの出力エネルギー（Ｊ）をパルス幅（秒）
で割ったパワー（単位：ワットＷ）で表される。ピーク
パワー密度は、単位面積（ｃｍ2 ）当りのピークパワー
（Ｗ／ｃｍ2 ）で表される。
【０００９】屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長
領域の固有吸収の減少を起こすためには、集光点におけ
るピークパワー密度が１０5 Ｗ／ｃｍ2 〜１０15Ｗ／ｃ
ｍ2であることが望ましい。ピークパワー密度が１０5
Ｗ／ｃｍ2 未満であると、集光照射によっても集光部分
で屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有
吸収に減少が起こりにくくなる。逆にピークパワー密度
が１０15Ｗ／ｃｍ2 を越えると、集光点以外の部分でも
屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸
収の減少が起きてしまう虞れがある。また、過度に大き
なエネルギー量のレーザ光を実用的に得ることは困難で
ある。
領域の固有吸収の減少を起こすためには、集光点におけ
るピークパワー密度が１０5 Ｗ／ｃｍ2 〜１０15Ｗ／ｃ
ｍ2であることが望ましい。ピークパワー密度が１０5
Ｗ／ｃｍ2 未満であると、集光照射によっても集光部分
で屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有
吸収に減少が起こりにくくなる。逆にピークパワー密度
が１０15Ｗ／ｃｍ2 を越えると、集光点以外の部分でも
屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸
収の減少が起きてしまう虞れがある。また、過度に大き
なエネルギー量のレーザ光を実用的に得ることは困難で
ある。
【００１０】レーザ光のピークパワー密度が同じであれ
ば、屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固
有吸収の減少は、レーザ光のパルス幅が狭くなるほど起
こり易くなる。この点、パルス幅の狭いレーザ光の使用
が好ましく、具体的には１０ -16 秒以下のパルス幅をも
ったレーザ光が望ましい。パルス幅が広すぎると、パル
ス幅の狭いレーザ光と同じパワー密度を得るためには非
常に大きなエネルギをもつパルス光の照射が必要にな
り、ガラス材料が破壊される虞れがある。また、レーザ
光の波長をガラスの吸収のある波長に設定すると、ガラ
ス内部に侵入したレーザ光が内部に行くにつれて光強度
を低下させる。しかし、光導波路を作製したい部分に所
定のピークパワー密度が印加される限り、レーザ光の波
長は特に制約されるものではない。
ば、屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固
有吸収の減少は、レーザ光のパルス幅が狭くなるほど起
こり易くなる。この点、パルス幅の狭いレーザ光の使用
が好ましく、具体的には１０ -16 秒以下のパルス幅をも
ったレーザ光が望ましい。パルス幅が広すぎると、パル
ス幅の狭いレーザ光と同じパワー密度を得るためには非
常に大きなエネルギをもつパルス光の照射が必要にな
り、ガラス材料が破壊される虞れがある。また、レーザ
光の波長をガラスの吸収のある波長に設定すると、ガラ
ス内部に侵入したレーザ光が内部に行くにつれて光強度
を低下させる。しかし、光導波路を作製したい部分に所
定のピークパワー密度が印加される限り、レーザ光の波
長は特に制約されるものではない。
【００１１】滑らかな光導波路構造を形成させる上で
は、パルス間隔を短く、換言すれば繰返し周期を大きく
し、第１パルスと第２パルスが可能な限り短時間で加え
る必要がある。このことから、本発明ではパルスレーザ
ーの繰返し周期を１０ｋＨｚ、好ましくは１００ｋＨｚ
以上に設定する。繰返し周期が小さいとレーザ光が離散
的に照射され、光導波路の形成に必要な連続的な屈折率
変化が得られない。なお、ガラス材料又は集光点の相対
移動速度を遅くすることにより、ガラス材料に対して連
続的にレーザ光を照射できる。しかし、第１パルス照射
後に一定間隔以上の時間をおいて第２パルスが重なった
状態で加えられるため、第１パルスで形成された屈折率
変化が第２パルスによって再変化し、滑らかな光導波路
構造が得られなくなる虞れがある。繰返し周期の上限
は、無限大の限りなく連続光に近いものである。しか
し、繰返し周期を大きくすると、一般に１パルス当りの
エネルギーが弱くなる。そのため、実際にはガラス材料
が屈折率変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸
収の減少を起こす闘値と、使用するレーザーの出力によ
って繰返し周期の上限が設定される。
は、パルス間隔を短く、換言すれば繰返し周期を大きく
し、第１パルスと第２パルスが可能な限り短時間で加え
る必要がある。このことから、本発明ではパルスレーザ
ーの繰返し周期を１０ｋＨｚ、好ましくは１００ｋＨｚ
以上に設定する。繰返し周期が小さいとレーザ光が離散
的に照射され、光導波路の形成に必要な連続的な屈折率
変化が得られない。なお、ガラス材料又は集光点の相対
移動速度を遅くすることにより、ガラス材料に対して連
続的にレーザ光を照射できる。しかし、第１パルス照射
後に一定間隔以上の時間をおいて第２パルスが重なった
状態で加えられるため、第１パルスで形成された屈折率
変化が第２パルスによって再変化し、滑らかな光導波路
構造が得られなくなる虞れがある。繰返し周期の上限
は、無限大の限りなく連続光に近いものである。しか
し、繰返し周期を大きくすると、一般に１パルス当りの
エネルギーが弱くなる。そのため、実際にはガラス材料
が屈折率変化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸
収の減少を起こす闘値と、使用するレーザーの出力によ
って繰返し周期の上限が設定される。
【００１２】３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収を
持つガラス内部に集光点を設定してレーザ光で集光照射
するとき、集光点以外の光照射部分では屈折率の変化及
び固有吸収原因となっている吸収物質の状態変化を起こ
すために必要な光量が得られない。したがって、ガラス
内部の集光部分にだけ選択的に光誘起屈折率変化及び３
６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が生じ、非
集光照射部では照射前の屈折率及び吸収物質の状態が維
持されるため、光導波路構造が形成される。光源から出
射されたレーザ光５は、図２に示すように集光点６がガ
ラス材料７の内部に位置するように集光レンズ８等の集
光装置で絞られ、ガラス材料７に出射される。集光点６
をガラス材料７の内部で相対移動させるとき、屈折率変
化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収が減少し
た連続領域がガラス材料７の内部に形成される。具体的
には、レーザ光５の集光点６に対しガラス材料７を連続
的に移動させ、ガラス材料７の内部で集光点６を連続的
に移動させ、或いは両者の組合せにより、集光点６をガ
ラス材料７に対して相対移動させる。
持つガラス内部に集光点を設定してレーザ光で集光照射
するとき、集光点以外の光照射部分では屈折率の変化及
び固有吸収原因となっている吸収物質の状態変化を起こ
すために必要な光量が得られない。したがって、ガラス
内部の集光部分にだけ選択的に光誘起屈折率変化及び３
６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が生じ、非
集光照射部では照射前の屈折率及び吸収物質の状態が維
持されるため、光導波路構造が形成される。光源から出
射されたレーザ光５は、図２に示すように集光点６がガ
ラス材料７の内部に位置するように集光レンズ８等の集
光装置で絞られ、ガラス材料７に出射される。集光点６
をガラス材料７の内部で相対移動させるとき、屈折率変
化及び３６０ｎｍより長い波長領域の固有吸収が減少し
た連続領域がガラス材料７の内部に形成される。具体的
には、レーザ光５の集光点６に対しガラス材料７を連続
的に移動させ、ガラス材料７の内部で集光点６を連続的
に移動させ、或いは両者の組合せにより、集光点６をガ
ラス材料７に対して相対移動させる。
【００１３】屈折率変化及び固有吸収減少が生じた領域
が連続しているため、光導波路１１（図３）として使用
される。光導波路１１の断面コア径は、集光レンズ６の
焦点距離によって調整される。光導波路アレイを作製す
るためには、３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収を
持つガラス材料７を基板として使用し、図３に斜視図
（ａ）及び断面図（ｂ）を示す構造の光導波路アレイを
作製する。レーザ光５の集光点６をガラス材料７の内部
で相対移動させることにより光導波路を一つ作製する第
１工程で、１本目の光導波路１１を形成する。光導波路
１１の作製開始点とは別の部分に集光点６をシフトさ
せ、１本目の光導波路１１と平行に集光点６をガラス材
料７の内部で相対移動させる第２工程により、２本目の
光導波路１２を形成する。このような工程を繰り返すこ
とにより、多数の光導波路１１，１２・・が平行になっ
た光導波路アレイ１０が形成される。光導波路１１，１
２・・が形成された部分では、屈折率の変化及び３６０
ｎｍより長い波長領域に固有吸収の減少が起きている。
他方、非集光照射部２４では、屈折率の変化及び３６０
ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が起きていな
い。したがって、光導波路１１，１２・・の固有吸収波
長領域に波長を設定したイメージ情報等伝達用のレーザ
光を入射すると、非集光照射部１９の吸収係数が照射前
と同じであるのに対し集光点６では吸収係数が減少して
いることから、光導波路１１，１２・・を介して入射光
が効率よく伝達され、光導波路１１，１２・・から漏れ
出た光は非集光照射部１９に吸収される。その結果、伝
達エラーが防止され、コントラストが高くなり、高解像
度で画質を読み取ることができる。
が連続しているため、光導波路１１（図３）として使用
される。光導波路１１の断面コア径は、集光レンズ６の
焦点距離によって調整される。光導波路アレイを作製す
るためには、３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収を
持つガラス材料７を基板として使用し、図３に斜視図
（ａ）及び断面図（ｂ）を示す構造の光導波路アレイを
作製する。レーザ光５の集光点６をガラス材料７の内部
で相対移動させることにより光導波路を一つ作製する第
１工程で、１本目の光導波路１１を形成する。光導波路
１１の作製開始点とは別の部分に集光点６をシフトさ
せ、１本目の光導波路１１と平行に集光点６をガラス材
料７の内部で相対移動させる第２工程により、２本目の
光導波路１２を形成する。このような工程を繰り返すこ
とにより、多数の光導波路１１，１２・・が平行になっ
た光導波路アレイ１０が形成される。光導波路１１，１
２・・が形成された部分では、屈折率の変化及び３６０
ｎｍより長い波長領域に固有吸収の減少が起きている。
他方、非集光照射部２４では、屈折率の変化及び３６０
ｎｍより長い波長領域の固有吸収の減少が起きていな
い。したがって、光導波路１１，１２・・の固有吸収波
長領域に波長を設定したイメージ情報等伝達用のレーザ
光を入射すると、非集光照射部１９の吸収係数が照射前
と同じであるのに対し集光点６では吸収係数が減少して
いることから、光導波路１１，１２・・を介して入射光
が効率よく伝達され、光導波路１１，１２・・から漏れ
出た光は非集光照射部１９に吸収される。その結果、伝
達エラーが防止され、コントラストが高くなり、高解像
度で画質を読み取ることができる。
【００１４】
【実施例】実施例１：Ａｕ微粒子分散ガラスを用いた光
導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１８重量部，Ｎａ2
Ｏ：１０重量部，Ｓｂ 2 Ｏ3 ：４重量部，Ａｕ：０．０
２重量部の組成をもつＡｕ微粒子分散ガラスを作製する
ため、ＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｓｂ2 Ｏ5
の原料粉末を秤量・配合し、金原料として塩化金酸の水
溶液を加えた。配合粉体４００ｇを容量３００ｃｃの白
金ルツボに投入し、大気雰囲気１４５０℃で２時間撹拌
しながら加熱溶解した。均一に溶解したガラスを真鍮型
に流し込み、厚さ５ｍｍの板に成型し、冷却した。得ら
れたガラスを４５０℃でアニールし、歪みを除去した。
ガラス中にＡｕ微粒子を析出させ暗赤色に着色させるた
め、電気炉にガラスを装入し、昇温速度５℃／分で昇温
し、７００℃で８時間保持した後、炉内で放冷した。熱
処理後のガラスを切断・研磨し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×
２ｍｍの直方体形状の試料片を切り出した。ガラス試料
の透過率スペクトルを測定したところ、５８０ｎｍ以下
の波長の光に対する透過率が０％であった。
導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１８重量部，Ｎａ2
Ｏ：１０重量部，Ｓｂ 2 Ｏ3 ：４重量部，Ａｕ：０．０
２重量部の組成をもつＡｕ微粒子分散ガラスを作製する
ため、ＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｓｂ2 Ｏ5
の原料粉末を秤量・配合し、金原料として塩化金酸の水
溶液を加えた。配合粉体４００ｇを容量３００ｃｃの白
金ルツボに投入し、大気雰囲気１４５０℃で２時間撹拌
しながら加熱溶解した。均一に溶解したガラスを真鍮型
に流し込み、厚さ５ｍｍの板に成型し、冷却した。得ら
れたガラスを４５０℃でアニールし、歪みを除去した。
ガラス中にＡｕ微粒子を析出させ暗赤色に着色させるた
め、電気炉にガラスを装入し、昇温速度５℃／分で昇温
し、７００℃で８時間保持した後、炉内で放冷した。熱
処理後のガラスを切断・研磨し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×
２ｍｍの直方体形状の試料片を切り出した。ガラス試料
の透過率スペクトルを測定したところ、５８０ｎｍ以下
の波長の光に対する透過率が０％であった。
【００１５】次いで、図２に示すように、ガラス試料７
の内部に集光点６が位置するように集光レンズ８で絞っ
たパルスレーザ光５でガラス試料７を集光照射した。Ｘ
ＹＺ方向に移動可能な電動ステージにガラス試料７を設
置し、Ｘ軸及びＹ軸方向を固定した状態でＺ軸（光軸）
に沿って集光点６を相対移動させた。パルスレーザー光
５には、アルゴンレーザー励起のチタンサファイアレー
ザーから発振されたパルス幅１．５×１０-13 秒，繰返
し周期２００ｋＨｚ、波長８００ｎｍで平均出力５００
ｍＷのパルスレーザー光を使用した。照射後のガラス試
料５を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長
領域の固有吸収の減少は、ナノ秒又はピコ秒オーダーの
ごく短時間で生じた。
の内部に集光点６が位置するように集光レンズ８で絞っ
たパルスレーザ光５でガラス試料７を集光照射した。Ｘ
ＹＺ方向に移動可能な電動ステージにガラス試料７を設
置し、Ｘ軸及びＹ軸方向を固定した状態でＺ軸（光軸）
に沿って集光点６を相対移動させた。パルスレーザー光
５には、アルゴンレーザー励起のチタンサファイアレー
ザーから発振されたパルス幅１．５×１０-13 秒，繰返
し周期２００ｋＨｚ、波長８００ｎｍで平均出力５００
ｍＷのパルスレーザー光を使用した。照射後のガラス試
料５を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波長
領域の固有吸収の減少は、ナノ秒又はピコ秒オーダーの
ごく短時間で生じた。
【００１６】ガラス試料７及び／又は集光点６を連続的
にＺ軸（光軸）方向に相対移動させることにより、ガラ
ス試料７の内部に直線状の高屈折率領域、すなわち１本
目の光導波路１１を直線状に形成した。光導波路１１の
形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光をガラス試
料７に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１の断面
が直径（コア径）１５μｍであることが判った。光導波
路１１の透過率スペクトルを測定した結果を示す図６
（ａ）にみられるように、Ａｕ微粒子によって吸収され
ていた波長帯（約５８０〜４００ｎｍ）の吸収係数が減
少し、赤色着色がなくなった領域が光導波路１１として
形成されていた。一方、非集光照射部分１９では、透過
率の変化が検出されなかった。光導波路１１のコア径
は、集光レンズ８の焦点距離を替えることにより調節で
きた。また、８００ｎｍの波長をもつレーザー光１に替
え、他の波長（たとえば、通信波長帯の１．３μｍや
１．５５μｍ）をもつレーザー光でガラス試料８を集光
照射した場合でも、同様の屈折率変化及び３６０ｎｍよ
り長い波長領域の固有吸収の減少が観測された。
にＺ軸（光軸）方向に相対移動させることにより、ガラ
ス試料７の内部に直線状の高屈折率領域、すなわち１本
目の光導波路１１を直線状に形成した。光導波路１１の
形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光をガラス試
料７に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１の断面
が直径（コア径）１５μｍであることが判った。光導波
路１１の透過率スペクトルを測定した結果を示す図６
（ａ）にみられるように、Ａｕ微粒子によって吸収され
ていた波長帯（約５８０〜４００ｎｍ）の吸収係数が減
少し、赤色着色がなくなった領域が光導波路１１として
形成されていた。一方、非集光照射部分１９では、透過
率の変化が検出されなかった。光導波路１１のコア径
は、集光レンズ８の焦点距離を替えることにより調節で
きた。また、８００ｎｍの波長をもつレーザー光１に替
え、他の波長（たとえば、通信波長帯の１．３μｍや
１．５５μｍ）をもつレーザー光でガラス試料８を集光
照射した場合でも、同様の屈折率変化及び３６０ｎｍよ
り長い波長領域の固有吸収の減少が観測された。
【００１７】ガラス試料７がレーザー光５で照射されな
いように遮断した後、ガラス試料７及び／又は集光点６
を移動させた。そして、１本目の光導波路１１に対して
平行にガラス試料７及び／又は集光点６を連続移動さ
せ、１本目の光導波路１１と平行な２本目の光導波路１
２を形成した。この作業を繰り返すことによって、図４
に示すように、複数の光導波路１１，１２・・が平行に
配列され、屈折率変化や固有吸収変化が生じていない非
集光照射部１９で光導波路１１，１２・・が包み込まれ
た構造をもつ光導波路アレイが作製された。得られた光
導波路アレイについて、５５０ｎｍの波長の光を用いて
読出しコントラストを調査したところ、後述する比較例
１の屈折率変化だけを利用して作製した光導波路アレイ
に比較して、著しく高いコントラストであった。
いように遮断した後、ガラス試料７及び／又は集光点６
を移動させた。そして、１本目の光導波路１１に対して
平行にガラス試料７及び／又は集光点６を連続移動さ
せ、１本目の光導波路１１と平行な２本目の光導波路１
２を形成した。この作業を繰り返すことによって、図４
に示すように、複数の光導波路１１，１２・・が平行に
配列され、屈折率変化や固有吸収変化が生じていない非
集光照射部１９で光導波路１１，１２・・が包み込まれ
た構造をもつ光導波路アレイが作製された。得られた光
導波路アレイについて、５５０ｎｍの波長の光を用いて
読出しコントラストを調査したところ、後述する比較例
１の屈折率変化だけを利用して作製した光導波路アレイ
に比較して、著しく高いコントラストであった。
【００１８】実施例２：Ｃｕ微粒子分散ガラスを用いた
光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，Ｃｕ：０．５重量部，ＳｎＯ：０．２５
量％の組成をもつＣｕ微粒子分散ガラスを作製するため
に、原料粉末としてＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ
3 ，Ｃｕ2 Ｏ，ＳｎＯを秤量・配合した。配合粉末４０
０ｇを実施例１と同様に加熱溶解して、厚さ６ｍｍの板
を得た後、４５０℃のアニールにより歪みを除去した。
次いで、ガラス中にＣｕ微粒子を析出させ赤色に着色さ
せるため、ガラスを電気炉に装入し、昇温速度５℃／分
で昇温し、６５０℃で４時間保持した後、炉内で放冷し
た。熱処理後のガラスを切断・研磨し、１０ｍｍ×１０
ｍｍ×４ｍｍのガラス試料を切り出した。ガラス試料の
透過率スペクトルを測定したところ、６２０ｎｍ以下の
波長の光に対する透過率が０％であった。
光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，Ｃｕ：０．５重量部，ＳｎＯ：０．２５
量％の組成をもつＣｕ微粒子分散ガラスを作製するため
に、原料粉末としてＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ
3 ，Ｃｕ2 Ｏ，ＳｎＯを秤量・配合した。配合粉末４０
０ｇを実施例１と同様に加熱溶解して、厚さ６ｍｍの板
を得た後、４５０℃のアニールにより歪みを除去した。
次いで、ガラス中にＣｕ微粒子を析出させ赤色に着色さ
せるため、ガラスを電気炉に装入し、昇温速度５℃／分
で昇温し、６５０℃で４時間保持した後、炉内で放冷し
た。熱処理後のガラスを切断・研磨し、１０ｍｍ×１０
ｍｍ×４ｍｍのガラス試料を切り出した。ガラス試料の
透過率スペクトルを測定したところ、６２０ｎｍ以下の
波長の光に対する透過率が０％であった。
【００１９】作製されたガラス試料７を実施例１と同様
にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後のガラス試
料７を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。本実施例でも、ナノ秒又はピコ秒オーダー
のごく短時間で屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波
長領域の固有吸収の減少が生じた。そして、ガラス試料
７及び／又は集光点６を連続的にＺ軸（光軸）方向に相
対移動させることにより、直線状の光導波路１１をガラ
ス試料７の内部に形成した。形成された光導波路１１
は、出射側の近視野像から光導波路の断面が直径（コア
径）１５μｍであることが判った。光導波路１１の透過
率スペクトルを測定した結果を示す図６（ｂ）にみられ
るように、Ｃｕ微粒子によって吸収されていた波長帯
（約６２０〜４００ｎｍの波長）の吸収係数が減少し、
赤色着色がなくなった領域が形成されていた。一方、非
集光照射部分１９では、透過率の変化が検出されなかっ
た。
にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後のガラス試
料７を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。本実施例でも、ナノ秒又はピコ秒オーダー
のごく短時間で屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波
長領域の固有吸収の減少が生じた。そして、ガラス試料
７及び／又は集光点６を連続的にＺ軸（光軸）方向に相
対移動させることにより、直線状の光導波路１１をガラ
ス試料７の内部に形成した。形成された光導波路１１
は、出射側の近視野像から光導波路の断面が直径（コア
径）１５μｍであることが判った。光導波路１１の透過
率スペクトルを測定した結果を示す図６（ｂ）にみられ
るように、Ｃｕ微粒子によって吸収されていた波長帯
（約６２０〜４００ｎｍの波長）の吸収係数が減少し、
赤色着色がなくなった領域が形成されていた。一方、非
集光照射部分１９では、透過率の変化が検出されなかっ
た。
【００２０】１本目の光導波路１１を作製した後、実施
例１と同様な手順で２本目以降の光導波路１２・・を形
成し、複数の光導波路１１，１２・・が平行配置され、
当初の屈折率及び固有吸収を維持した非集光照射部１９
で光導波路１１，１２・・が取り囲まれた光導波路アレ
イを作製した。このようにして、図４に示す構造をもつ
光導波路アレイを作製した。５３０ｎｍの波長の光を用
いて光導波路アレイの読出しコントラストを測定したと
ころ、屈折率変化だけを利用した比較例１の光導波路ア
レイに比較して著しく高い値を示した。
例１と同様な手順で２本目以降の光導波路１２・・を形
成し、複数の光導波路１１，１２・・が平行配置され、
当初の屈折率及び固有吸収を維持した非集光照射部１９
で光導波路１１，１２・・が取り囲まれた光導波路アレ
イを作製した。このようにして、図４に示す構造をもつ
光導波路アレイを作製した。５３０ｎｍの波長の光を用
いて光導波路アレイの読出しコントラストを測定したと
ころ、屈折率変化だけを利用した比較例１の光導波路ア
レイに比較して著しく高い値を示した。
【００２１】実施例３：Ａｇ微粒子分散ガラスを用いた
光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，ＣａＯ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，Ａｇ：０．４重量部，ＳｎＯ：０．２重
量部の組成をもつＡｇ微粒子分散ガラスを作製するため
に、ＳｉＯ2 ，ＣａＣＯ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ａｇ2 Ｏ，
ＳｎＯの原料粉末を秤量し、配合した。配合粉末４００
ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気中
１４５０℃で２時間撹拌しながら加熱溶解した。均一溶
解したガラスから実施例１と同様にして、Ａｇ微粒子の
析出によって黄色に着色した１０ｍｍ×１０ｍｍ×３ｍ
ｍのガラス試料を作製した。Ａｇ微粒子の析出には、電
気炉中、昇温速度５℃／分で昇温し、５５０℃で４時間
保持した後、炉冷する熱処理を採用した。ガラス試料の
透過率スペクトルを測定したところ、４２０ｎｍ以下の
波長の光に対する透過率が０％であった。
光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，ＣａＯ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，Ａｇ：０．４重量部，ＳｎＯ：０．２重
量部の組成をもつＡｇ微粒子分散ガラスを作製するため
に、ＳｉＯ2 ，ＣａＣＯ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ａｇ2 Ｏ，
ＳｎＯの原料粉末を秤量し、配合した。配合粉末４００
ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気中
１４５０℃で２時間撹拌しながら加熱溶解した。均一溶
解したガラスから実施例１と同様にして、Ａｇ微粒子の
析出によって黄色に着色した１０ｍｍ×１０ｍｍ×３ｍ
ｍのガラス試料を作製した。Ａｇ微粒子の析出には、電
気炉中、昇温速度５℃／分で昇温し、５５０℃で４時間
保持した後、炉冷する熱処理を採用した。ガラス試料の
透過率スペクトルを測定したところ、４２０ｎｍ以下の
波長の光に対する透過率が０％であった。
【００２２】作製されたガラス試料７に対し、実施例１
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定した結果を示す図６（ｃ）
にみられるように、Ａｇ微粒子によって吸収されていた
波長帯（約４２０〜３６０ｎｍ）の吸収係数が減少し、
黄色着色がなくなった領域が形成されていた。一方、非
集光照射部１９では、透過率の変化が検出されなかっ
た。次いで、実施例１と同様にして２本目以降の光導波
路１２・・を１本目の光導波路１１と平行に形成し、図
４に示す構造をもつ光導波路アレイを作製した。４２０
ｎｍの波長の光を用いて光導波路アレイの読出しコント
ラストを調査したところ、屈折率変化だけを利用した比
較例２の光導波路アレイに比べて著しく大きな値であっ
た。
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定した結果を示す図６（ｃ）
にみられるように、Ａｇ微粒子によって吸収されていた
波長帯（約４２０〜３６０ｎｍ）の吸収係数が減少し、
黄色着色がなくなった領域が形成されていた。一方、非
集光照射部１９では、透過率の変化が検出されなかっ
た。次いで、実施例１と同様にして２本目以降の光導波
路１２・・を１本目の光導波路１１と平行に形成し、図
４に示す構造をもつ光導波路アレイを作製した。４２０
ｎｍの波長の光を用いて光導波路アレイの読出しコント
ラストを調査したところ、屈折率変化だけを利用した比
較例２の光導波路アレイに比べて著しく大きな値であっ
た。
【００２３】実施例４：Ｐｔ微粒子分散ガラスを用いた
光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１８重量部，Ｎａ2
Ｏ：１０重量部，Ｓｂ 2 Ｏ3 ：２重量部，Ｐｔ：０．０
５重量部，の組成をもつＰｔ微粒子分散ガラスを作製す
るため、ＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｓｂ2 Ｏ
3 の原料粉末を秤量・配合し、白金原料として塩化白金
酸の水溶液を添加した。配合粉末４００ｇを容量３００
ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気１４５０℃で２時
間撹拌しながら加熱溶解した。均一溶解したガラスから
実施例１と同様にして、Ｐｔ微粒子の析出により灰色に
着色した１０ｍｍ×１０ｍｍ×４ｍｍのガラス試料を作
製した。Ｐｔ微粒子の析出には、電気炉中、昇温速度５
℃／分で昇温し、６００℃で４時間保持した後、炉冷す
る熱処理を採用した。ガラス試料の透過率スペクトルを
測定したところ、７５０〜４００ｎｍの可視波長の光に
対し、２０％と平均的に低い透過率であった。
光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１８重量部，Ｎａ2
Ｏ：１０重量部，Ｓｂ 2 Ｏ3 ：２重量部，Ｐｔ：０．０
５重量部，の組成をもつＰｔ微粒子分散ガラスを作製す
るため、ＳｉＯ2 ，Ｂ2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｓｂ2 Ｏ
3 の原料粉末を秤量・配合し、白金原料として塩化白金
酸の水溶液を添加した。配合粉末４００ｇを容量３００
ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気１４５０℃で２時
間撹拌しながら加熱溶解した。均一溶解したガラスから
実施例１と同様にして、Ｐｔ微粒子の析出により灰色に
着色した１０ｍｍ×１０ｍｍ×４ｍｍのガラス試料を作
製した。Ｐｔ微粒子の析出には、電気炉中、昇温速度５
℃／分で昇温し、６００℃で４時間保持した後、炉冷す
る熱処理を採用した。ガラス試料の透過率スペクトルを
測定したところ、７５０〜４００ｎｍの可視波長の光に
対し、２０％と平均的に低い透過率であった。
【００２４】作製されたガラス試料７に対し、実施例１
と同様にパルスレーザー１で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｐｔ微粒子に
よって吸収されていた波長帯（約７５０〜４００ｎｍ）
の吸収係数が減少し、灰色着色がなくなった領域が形成
されていた。一方、非集光照射部１９では、透過率の変
化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様にして
２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波路１１
と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路アレイ
を作製した。６００ｎｍの波長の光を用いて光導波路ア
レイの読出しコントラストを調査したところ、屈折率変
化だけを利用した比較例２の光導波路アレイに比べて著
しく大きな値であった。
と同様にパルスレーザー１で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｐｔ微粒子に
よって吸収されていた波長帯（約７５０〜４００ｎｍ）
の吸収係数が減少し、灰色着色がなくなった領域が形成
されていた。一方、非集光照射部１９では、透過率の変
化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様にして
２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波路１１
と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路アレイ
を作製した。６００ｎｍの波長の光を用いて光導波路ア
レイの読出しコントラストを調査したところ、屈折率変
化だけを利用した比較例２の光導波路アレイに比べて著
しく大きな値であった。
【００２５】実施例５：ＣｕＣｌ微粒子分散ガラスを用
いた光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：６５重量部，Ａｌ2 Ｏ3 ：６重量部，Ｂ2 Ｏ
3 ：１７重量部，Ｌｉ 2 Ｏ：４重量部，Ｎａ2 Ｏ：４重
量部，Ｋ2 Ｏ：４重量部，ＣｕＣｌ：０．５重量部，Ｓ
ｎＯ：０．２重量部の組成をもつＣｕＣｌ微粒子分散ガ
ラスを作製するため、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｂ2 Ｏ
3 ，Ｌｉ2 ＣＯ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｋ2 ＣＯ3 ，ＣｕＣ
ｌ，ＳｎＯの原料粉末を秤量・配合した。配合粉体４０
０ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気
中１４５０℃で２時間撹拌しながら加熱溶解した。均一
溶解したガラスから、実施例１と同様な手順で、１０ｍ
ｍ×１０ｍｍ×４ｍｍのガラス試料を作製した。ＣｕＣ
ｌ微粒子の析出には、電気炉中、昇温速度５℃／分で昇
温し、５５０℃で４時間保持した後、炉冷する熱処理を
採用した。ガラス試料の透過率スペクトルを測定したと
ころ、３８０ｎｍ以下の波長の光に対する透過率が０％
であった。
いた光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：６５重量部，Ａｌ2 Ｏ3 ：６重量部，Ｂ2 Ｏ
3 ：１７重量部，Ｌｉ 2 Ｏ：４重量部，Ｎａ2 Ｏ：４重
量部，Ｋ2 Ｏ：４重量部，ＣｕＣｌ：０．５重量部，Ｓ
ｎＯ：０．２重量部の組成をもつＣｕＣｌ微粒子分散ガ
ラスを作製するため、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｂ2 Ｏ
3 ，Ｌｉ2 ＣＯ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｋ2 ＣＯ3 ，ＣｕＣ
ｌ，ＳｎＯの原料粉末を秤量・配合した。配合粉体４０
０ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気
中１４５０℃で２時間撹拌しながら加熱溶解した。均一
溶解したガラスから、実施例１と同様な手順で、１０ｍ
ｍ×１０ｍｍ×４ｍｍのガラス試料を作製した。ＣｕＣ
ｌ微粒子の析出には、電気炉中、昇温速度５℃／分で昇
温し、５５０℃で４時間保持した後、炉冷する熱処理を
採用した。ガラス試料の透過率スペクトルを測定したと
ころ、３８０ｎｍ以下の波長の光に対する透過率が０％
であった。
【００２６】作製されたガラス試料７に対し、実施例１
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、ＣｕＣｌ微粒
子によって吸収されていた波長帯（約３６０〜３８０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少した領域が形成されていた。一
方、非集光照射部１９では、透過率の変化が検出されな
かった。
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、ＣｕＣｌ微粒
子によって吸収されていた波長帯（約３６０〜３８０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少した領域が形成されていた。一
方、非集光照射部１９では、透過率の変化が検出されな
かった。
【００２７】また、８００ｎｍの波長をもつレーザー光
に替え、他の波長（たとえば、第２高調波（ＳＨＧ）光
である４００ｎｍや通信波長帯の１．３μｍや１．５５
μｍ）をもつレーザー光でガラス試料７を集光照射した
場合でも、同様の屈折率変化及び３６０ｎｍより長い波
長領域の固有吸収の減少が観測された。次いで、実施例
１と同様にして２本目以降の光導波路１２・・を１本目
の光導波路１１と平行に形成し、図４に示す構造をもつ
光導波路アレイを作製した。３８０ｎｍの波長の光を用
いて光導波路アレイの読出しコントラストを調査したと
ころ、屈折率変化だけを利用した比較例３の光導波路ア
レイに比べて著しく大きな値であった。
に替え、他の波長（たとえば、第２高調波（ＳＨＧ）光
である４００ｎｍや通信波長帯の１．３μｍや１．５５
μｍ）をもつレーザー光でガラス試料７を集光照射した
場合でも、同様の屈折率変化及び３６０ｎｍより長い波
長領域の固有吸収の減少が観測された。次いで、実施例
１と同様にして２本目以降の光導波路１２・・を１本目
の光導波路１１と平行に形成し、図４に示す構造をもつ
光導波路アレイを作製した。３８０ｎｍの波長の光を用
いて光導波路アレイの読出しコントラストを調査したと
ころ、屈折率変化だけを利用した比較例３の光導波路ア
レイに比べて著しく大きな値であった。
【００２８】実施例６：Ｃｏ2+イオン含有ガラスを用い
た光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，ＣｏＯ：０．０５重量部の組成をもつＣ
ｏ2+イオン含有ガラスを作製するために、ＳｉＯ2 ，Ｂ
2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，ＣｏＯの原料粉末を秤量・配合
した。配合粉末４００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボ
に入れ、大気雰囲気中１４５０℃大気中で２時間撹拌し
ながら加熱溶解した。均一溶解したガラスを真鍮型に流
し込んで厚さ６ｍｍの板に成型し、冷却した後、４５０
℃のアニールにより歪みを除去した。次いで、切断、研
磨し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×２ｍｍのガラス試料を切り
出した。５５０〜７００ｎｍに吸収帯をもつＣｏ2+を配
合したため、得られたガラス試料の透過スペクトルを測
定したところ、５５０〜７００ｎｍの光に対する透過率
が０％であった。
た光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，ＣｏＯ：０．０５重量部の組成をもつＣ
ｏ2+イオン含有ガラスを作製するために、ＳｉＯ2 ，Ｂ
2 Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，ＣｏＯの原料粉末を秤量・配合
した。配合粉末４００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボ
に入れ、大気雰囲気中１４５０℃大気中で２時間撹拌し
ながら加熱溶解した。均一溶解したガラスを真鍮型に流
し込んで厚さ６ｍｍの板に成型し、冷却した後、４５０
℃のアニールにより歪みを除去した。次いで、切断、研
磨し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×２ｍｍのガラス試料を切り
出した。５５０〜７００ｎｍに吸収帯をもつＣｏ2+を配
合したため、得られたガラス試料の透過スペクトルを測
定したところ、５５０〜７００ｎｍの光に対する透過率
が０％であった。
【００２９】作製されたガラス試料７に対し、実施例１
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｃｏ2+イオン
によって吸収されていた波長帯（約７００〜５５０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少し、青色着色がなくなった領域が
形成されていた。一方、非集光照射部１９では、透過率
の変化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様に
して２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波路
１１と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路ア
レイを作製した。６５０ｎｍの波長の光を用いて光導波
路アレイの読出しコントラストを調査したところ、屈折
率変化だけを利用した比較例１の光導波路アレイに比べ
て著しく大きな値であった。
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｃｏ2+イオン
によって吸収されていた波長帯（約７００〜５５０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少し、青色着色がなくなった領域が
形成されていた。一方、非集光照射部１９では、透過率
の変化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様に
して２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波路
１１と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路ア
レイを作製した。６５０ｎｍの波長の光を用いて光導波
路アレイの読出しコントラストを調査したところ、屈折
率変化だけを利用した比較例１の光導波路アレイに比べ
て著しく大きな値であった。
【００３０】実施例７：Ｎｉ2+イオン含有ガラスを用い
た光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，ＮｉＯ：０．２重量部の組成をもつＮｉ
2+イオン含有ガラスを作製するために、ＳｉＯ 2 ，Ｂ2
Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，ＮｉＯの原料粉末を秤量・配合し
た。配合粉末４００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに
入れ、大気雰囲気１４５０℃で２時間撹拌しながら加熱
溶解した。均一溶解したガラスから、実施例６と同様に
して１０ｍｍ×１０ｍｍ×５ｍｍのガラス試料を作製し
た。４５０〜５５０ｎｍに吸収帯をもつＮｉ2+が配合さ
れているため、得られたガラス試料の透過スペクトルを
測定したところ、４５０〜５５０ｎｍの波長の光に対す
る透過率が０％であった。
た光導波路アレイ ＳｉＯ2 ：７２重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：２０重量部，Ｎａ2
Ｏ：８重量部，ＮｉＯ：０．２重量部の組成をもつＮｉ
2+イオン含有ガラスを作製するために、ＳｉＯ 2 ，Ｂ2
Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，ＮｉＯの原料粉末を秤量・配合し
た。配合粉末４００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに
入れ、大気雰囲気１４５０℃で２時間撹拌しながら加熱
溶解した。均一溶解したガラスから、実施例６と同様に
して１０ｍｍ×１０ｍｍ×５ｍｍのガラス試料を作製し
た。４５０〜５５０ｎｍに吸収帯をもつＮｉ2+が配合さ
れているため、得られたガラス試料の透過スペクトルを
測定したところ、４５０〜５５０ｎｍの波長の光に対す
る透過率が０％であった。
【００３１】作製されたガラス試料７に対し、実施例１
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｎｉ2+イオン
によって吸収されていた波長帯（約６５０〜４５０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少し、茶色着色がなくなった領域が
形成されていた。一方、非集光照射部１９では、透過率
の変化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様に
して２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波路
１１と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路ア
レイを作製した。５５０ｎｍの波長の光を用いて光導波
路アレイの読出しコントラストを調査したところ、屈折
率変化だけを利用した比較例１の光導波路アレイに比べ
て著しく大きな値であった。
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｎｉ2+イオン
によって吸収されていた波長帯（約６５０〜４５０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少し、茶色着色がなくなった領域が
形成されていた。一方、非集光照射部１９では、透過率
の変化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様に
して２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波路
１１と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路ア
レイを作製した。５５０ｎｍの波長の光を用いて光導波
路アレイの読出しコントラストを調査したところ、屈折
率変化だけを利用した比較例１の光導波路アレイに比べ
て著しく大きな値であった。
【００３２】実施例８：Ｐｒ3+イオン含有ガラスを用い
た光導波路アレイ ＺｒＦ4 ：５３モル部，ＢａＦ2 ：２０モル部，ＬａＦ
3 ：４モル部，ＡｌＦ 3 ：３モル部，ＮａＦ：２０モル
部，ＰｒＦ3 ：１モル部の組成をもつＰｒ3+イオン含有
ガラスを作製するため、ＺｒＦ4 ，ＢａＦ2 ，ＬａＦ
3 ，ＡｌＦ3 ，ＮａＦ，ＰｒＦ3 の原料粉末を秤量・配
合した。配合粉体５００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツ
ボに入れ、窒素雰囲気中９００℃で１時間撹拌しながら
加熱溶解した。均一溶解したガラスを真鍮の型に流し込
み、厚さ５ｍｍの板に成型、冷却した。得られたガラス
を２６０℃でアニールし、歪みを除去した。次いで、切
断、研磨し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×３ｍｍのガラス試料
を切り出した。４５０〜５５０ｎｍに吸収帯をもつＰｒ
3+を配合しているため、得られたガラス試料の透過率ス
ペクトルを測定したところ、４５０〜５５０ｎｍの波長
の光に対する透過率が５％であった。
た光導波路アレイ ＺｒＦ4 ：５３モル部，ＢａＦ2 ：２０モル部，ＬａＦ
3 ：４モル部，ＡｌＦ 3 ：３モル部，ＮａＦ：２０モル
部，ＰｒＦ3 ：１モル部の組成をもつＰｒ3+イオン含有
ガラスを作製するため、ＺｒＦ4 ，ＢａＦ2 ，ＬａＦ
3 ，ＡｌＦ3 ，ＮａＦ，ＰｒＦ3 の原料粉末を秤量・配
合した。配合粉体５００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツ
ボに入れ、窒素雰囲気中９００℃で１時間撹拌しながら
加熱溶解した。均一溶解したガラスを真鍮の型に流し込
み、厚さ５ｍｍの板に成型、冷却した。得られたガラス
を２６０℃でアニールし、歪みを除去した。次いで、切
断、研磨し、１０ｍｍ×１０ｍｍ×３ｍｍのガラス試料
を切り出した。４５０〜５５０ｎｍに吸収帯をもつＰｒ
3+を配合しているため、得られたガラス試料の透過率ス
ペクトルを測定したところ、４５０〜５５０ｎｍの波長
の光に対する透過率が５％であった。
【００３３】作製されたガラス試料７に対し、実施例１
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｐｒ3+イオン
によって吸収されていた波長帯（約５５０〜４５０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少し、黄緑色着色がなくなった領域
が形成されていた。一方、非集光照射部１９では、透過
率の変化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様
にして２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波
路と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路アレ
イを作製した。５００ｎｍの波長の光を用いて光導波路
アレイの読出しコントラストを調査したところ、屈折率
変化だけを利用した比較例４の光導波路アレイに比べて
著しく大きな値であった。
と同様にパルスレーザ光５で集光照射した。照射後の試
験片を観察すると、集光点６の屈折率が０．０１だけ上
昇していた。また、試料７又は集光点６を連続的に一方
向に相対移動させることにより、ガラス試料７の内部に
直線状の光導波路１１が形成された。この場合にも、集
光点６における屈折率変化及び固有吸収の減少は、ナノ
秒又はピコ秒オーダーのごく短時間で生じた。光導波路
１１の形成如何は、実際に８００ｎｍのレーザー光を試
験片に入射し、屈折率変化を起こしている部分にのみに
光が伝播されていることを観測することにより確認でき
た。また、出射側の近視野像から、光導波路１１は直径
（コア径）１５μｍの断面をもっていた。光導波路部１
１の透過率スペクトルを測定したところ、Ｐｒ3+イオン
によって吸収されていた波長帯（約５５０〜４５０ｎ
ｍ）の吸収係数が減少し、黄緑色着色がなくなった領域
が形成されていた。一方、非集光照射部１９では、透過
率の変化が検出されなかった。次いで、実施例１と同様
にして２本目以降の光導波路１２・・を１本目の光導波
路と平行に形成し、図４に示す構造をもつ光導波路アレ
イを作製した。５００ｎｍの波長の光を用いて光導波路
アレイの読出しコントラストを調査したところ、屈折率
変化だけを利用した比較例４の光導波路アレイに比べて
著しく大きな値であった。
【００３４】比較例１：Ａｕ微粒子分散ガラスのＡｕを
含まない以外は、実施例１と同じ組成（ＳｉＯ 2 ：７２
重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１８重量部，Ｎａ2 Ｏ：１０重量
部，Ｓｂ2 Ｏ3 ：４重量部）のガラスマトリックスとな
るように、原料粉末としてＳｉＯ2 ，Ｂ2Ｏ3 ，Ｎａ2
Ｏ，Ｓｂ2 Ｏ3 を秤量・配合した。配合粉体４００ｇを
容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気１４５
０℃で２時間攪拌しながら加熱溶解した。均一溶解した
ガラスを真鍮型に流し込み、厚さ５ｍｍの板に成型、冷
却した。得られたガラスを４５０℃でアニールし、歪み
を除去した後、切断、研磨し、厚さ４ｍｍのガラス試料
に切り出した。得られたガラス試料を実施例１と同じ条
件でパルスレーザ光で集光照射し、光導波路をガラス試
料の内部に形成した。集光照射後のガラス試料を観察し
たところ、図５に示すように、集光照射部分に屈折率変
化領域２１が形成されていた。他方、非集光照射部分２
９では、屈折率の変化が検出されなかった。実施例１と
同様な方法で作製した導波路アレイについて、５５０ｎ
ｍの光を用いて読出しコントラストを調査したところ、
固有吸収の減少がなく屈折率変化だけで読み取るため、
実施例１に比較して著しく低いコントラストであった。
含まない以外は、実施例１と同じ組成（ＳｉＯ 2 ：７２
重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１８重量部，Ｎａ2 Ｏ：１０重量
部，Ｓｂ2 Ｏ3 ：４重量部）のガラスマトリックスとな
るように、原料粉末としてＳｉＯ2 ，Ｂ2Ｏ3 ，Ｎａ2
Ｏ，Ｓｂ2 Ｏ3 を秤量・配合した。配合粉体４００ｇを
容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気１４５
０℃で２時間攪拌しながら加熱溶解した。均一溶解した
ガラスを真鍮型に流し込み、厚さ５ｍｍの板に成型、冷
却した。得られたガラスを４５０℃でアニールし、歪み
を除去した後、切断、研磨し、厚さ４ｍｍのガラス試料
に切り出した。得られたガラス試料を実施例１と同じ条
件でパルスレーザ光で集光照射し、光導波路をガラス試
料の内部に形成した。集光照射後のガラス試料を観察し
たところ、図５に示すように、集光照射部分に屈折率変
化領域２１が形成されていた。他方、非集光照射部分２
９では、屈折率の変化が検出されなかった。実施例１と
同様な方法で作製した導波路アレイについて、５５０ｎ
ｍの光を用いて読出しコントラストを調査したところ、
固有吸収の減少がなく屈折率変化だけで読み取るため、
実施例１に比較して著しく低いコントラストであった。
【００３５】比較例２：Ａｇ微粒子分散ガラスのＡｇを
含まない以外は、実施例３と同じ組成（ＳｉＯ 2 ：７２
重量部，ＣａＯ：２０重量部，Ｎａ2 Ｏ：８重量部，Ｓ
ｎＯ：０．２重量部）のガラスマトリックスとなるよう
に、原料粉末としてＳｉＯ2 ，ＣａＣＯ 3 ，Ｎａ2 ＣＯ
3 ，ＳｎＯを秤量・配合した。配合粉末４００ｇを容量
３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気中１４５０
℃で２時間攪拌しながら加熱溶解した。均一溶解したガ
ラスから、実施例３と同様にして厚み３ｍｍのガラス試
料を作製した。得られたガラス試料を実施例３と同じ条
件でパルスレーザ光で集光照射し、光導波路をガラス試
料の内部に形成した。集光照射後のガラス試料を観察し
たところ、図５に示すように、集光照射部分に屈折率変
化領域２１が形成されていた。他方、非集光照射部分２
９では、屈折率の変化が検出されなかった。実施例３と
同様な方法で作製した導波路アレイについて、４２０ｎ
ｍの光を用いて読出しコントラストを調査したところ、
固有吸収の減少がなく屈折率変化だけで読み取るため、
実施例３に比較して著しく低いコントラストであった。
含まない以外は、実施例３と同じ組成（ＳｉＯ 2 ：７２
重量部，ＣａＯ：２０重量部，Ｎａ2 Ｏ：８重量部，Ｓ
ｎＯ：０．２重量部）のガラスマトリックスとなるよう
に、原料粉末としてＳｉＯ2 ，ＣａＣＯ 3 ，Ｎａ2 ＣＯ
3 ，ＳｎＯを秤量・配合した。配合粉末４００ｇを容量
３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、大気雰囲気中１４５０
℃で２時間攪拌しながら加熱溶解した。均一溶解したガ
ラスから、実施例３と同様にして厚み３ｍｍのガラス試
料を作製した。得られたガラス試料を実施例３と同じ条
件でパルスレーザ光で集光照射し、光導波路をガラス試
料の内部に形成した。集光照射後のガラス試料を観察し
たところ、図５に示すように、集光照射部分に屈折率変
化領域２１が形成されていた。他方、非集光照射部分２
９では、屈折率の変化が検出されなかった。実施例３と
同様な方法で作製した導波路アレイについて、４２０ｎ
ｍの光を用いて読出しコントラストを調査したところ、
固有吸収の減少がなく屈折率変化だけで読み取るため、
実施例３に比較して著しく低いコントラストであった。
【００３６】比較例３ ＣｕＣｌ微粒子分散ガラスのＣｕＣｌを含まない以外
は、実施例５と同じ組成（ＳｉＯ2 ：６５重量部，Ａｌ
2 Ｏ3 ：６重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１７重量部，Ｌｉ 2 Ｏ：
４重量部，Ｎａ2 Ｏ：４重量部，Ｋ2 Ｏ：４重量部，Ｓ
ｎＯ：０．２重量部）のマトリックスとなるように、原
料粉末としてＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｂ2Ｏ3 ，ＬｉＣ
Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｋ2 ＣＯ3 ，ＳｎＯを秤量・配合
した。配合粉末４００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボ
に入れ、大気雰囲気１４５０℃で２時間攪拌しながら加
熱溶解した。均一溶解したガラスから、実施例５と同様
にして厚み４ｍｍのガラス試料を作製した。得られたガ
ラス試料を実施例５と同じ条件でパルスレーザ光で集光
照射し、光導波路をガラス試料の内部に形成した。集光
照射後のガラス試料を観察したところ、図５に示すよう
に、集光照射部分に屈折率変化領域２１が形成されてい
た。他方、非集光照射部分２９では、屈折率の変化が検
出されなかった。実施例５と同様な方法で作製した導波
路アレイについて、３８０ｎｍの光を用いて読出しコン
トラストを調査したところ、固有吸収の減少がなく屈折
率変化だけで読み取るため、実施例５に比較して著しく
低いコントラストであった。
は、実施例５と同じ組成（ＳｉＯ2 ：６５重量部，Ａｌ
2 Ｏ3 ：６重量部，Ｂ2 Ｏ3 ：１７重量部，Ｌｉ 2 Ｏ：
４重量部，Ｎａ2 Ｏ：４重量部，Ｋ2 Ｏ：４重量部，Ｓ
ｎＯ：０．２重量部）のマトリックスとなるように、原
料粉末としてＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，Ｂ2Ｏ3 ，ＬｉＣ
Ｏ3 ，Ｎａ2 ＣＯ3 ，Ｋ2 ＣＯ3 ，ＳｎＯを秤量・配合
した。配合粉末４００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボ
に入れ、大気雰囲気１４５０℃で２時間攪拌しながら加
熱溶解した。均一溶解したガラスから、実施例５と同様
にして厚み４ｍｍのガラス試料を作製した。得られたガ
ラス試料を実施例５と同じ条件でパルスレーザ光で集光
照射し、光導波路をガラス試料の内部に形成した。集光
照射後のガラス試料を観察したところ、図５に示すよう
に、集光照射部分に屈折率変化領域２１が形成されてい
た。他方、非集光照射部分２９では、屈折率の変化が検
出されなかった。実施例５と同様な方法で作製した導波
路アレイについて、３８０ｎｍの光を用いて読出しコン
トラストを調査したところ、固有吸収の減少がなく屈折
率変化だけで読み取るため、実施例５に比較して著しく
低いコントラストであった。
【００３７】比較例４ Ｐｒ3+イオン含有ガラスのＰｒＦ3 を含まない以外は、
実施例８と同じ組成（ＺｒＦ4 ：５３モル部，ＢａＦ
2 ：２０モル部，ＬａＦ3 ：４モル部，ＡｌＦ3：３モ
ル部，ＮａＦ：２０モル部）のマトリックスとなるよう
に、原料粉末として高純度のＺｒＦ4 ，ＢａＦ2 ，Ｌａ
Ｆ3 ，ＡｌＦ3 ，ＮａＦを秤量・配合した。配合粉末４
００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、窒素雰囲
気９００℃で２時間攪拌しながら加熱溶解した。均一溶
解したガラスを真鍮型に流し込み、厚さ５ｍｍの板に成
型、冷却した後、２６０℃のアニールにより歪みを除去
した。次いで、実施例８と同じ厚み３ｍｍのガラス試料
を作製した。得られたガラス試料を実施例８と同じ条件
でパルスレーザ光で集光照射し、光導波路をガラス試料
の内部に形成した。集光照射後のガラス試料を観察した
ところ、図５に示すように、集光照射部分に屈折率変化
領域２１が形成されていた。他方、非集光照射部分４２
では、屈折率の変化が検出されなかった。実施例８と同
様な方法で作製した導波路アレイについて、５００ｎｍ
の光を用いて読出しコントラストを調査したところ、固
有吸収の減少がなく屈折率変化だけで読み取るため、実
施例８に比較して著しく低いコントラストであった。
実施例８と同じ組成（ＺｒＦ4 ：５３モル部，ＢａＦ
2 ：２０モル部，ＬａＦ3 ：４モル部，ＡｌＦ3：３モ
ル部，ＮａＦ：２０モル部）のマトリックスとなるよう
に、原料粉末として高純度のＺｒＦ4 ，ＢａＦ2 ，Ｌａ
Ｆ3 ，ＡｌＦ3 ，ＮａＦを秤量・配合した。配合粉末４
００ｇを容量３００ｃｃのＰｔルツボに入れ、窒素雰囲
気９００℃で２時間攪拌しながら加熱溶解した。均一溶
解したガラスを真鍮型に流し込み、厚さ５ｍｍの板に成
型、冷却した後、２６０℃のアニールにより歪みを除去
した。次いで、実施例８と同じ厚み３ｍｍのガラス試料
を作製した。得られたガラス試料を実施例８と同じ条件
でパルスレーザ光で集光照射し、光導波路をガラス試料
の内部に形成した。集光照射後のガラス試料を観察した
ところ、図５に示すように、集光照射部分に屈折率変化
領域２１が形成されていた。他方、非集光照射部分４２
では、屈折率の変化が検出されなかった。実施例８と同
様な方法で作製した導波路アレイについて、５００ｎｍ
の光を用いて読出しコントラストを調査したところ、固
有吸収の減少がなく屈折率変化だけで読み取るため、実
施例８に比較して著しく低いコントラストであった。
【００３８】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収をもつガラ
ス内部に集光点を調節したパルスレーザ光で集光照射す
ることにより、屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波
長領域の固有吸収の減少が起きた部分がガラス材料の内
部に連続的に形成された光導波路アレイが作製される。
得られた光導波路アレイは、光導波路とその周辺部分と
で光学特性が大きく異なっているため、クロストーク等
の問題がない高信頼性の製品となる。また、従来の吸光
体を設けた光導波路アレイに比較して、複雑な工程を経
ることなく製造されるため、生産性にも優れたものとい
える。しかも、３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収
をもつガラスを適当に選ぶことにより、３６０ｎｍより
長い波長領域でクロストークなく伝搬させたい光の波長
を任意に選択できる。
は、３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収をもつガラ
ス内部に集光点を調節したパルスレーザ光で集光照射す
ることにより、屈折率の変化及び３６０ｎｍより長い波
長領域の固有吸収の減少が起きた部分がガラス材料の内
部に連続的に形成された光導波路アレイが作製される。
得られた光導波路アレイは、光導波路とその周辺部分と
で光学特性が大きく異なっているため、クロストーク等
の問題がない高信頼性の製品となる。また、従来の吸光
体を設けた光導波路アレイに比較して、複雑な工程を経
ることなく製造されるため、生産性にも優れたものとい
える。しかも、３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収
をもつガラスを適当に選ぶことにより、３６０ｎｍより
長い波長領域でクロストークなく伝搬させたい光の波長
を任意に選択できる。
【図１】 従来の光ファイバアレイの構造
【図２】 ３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収を持
つガラス材料の内部に集光点を調整したパルスレーザ光
でガラス材料を集光照射している状態
つガラス材料の内部に集光点を調整したパルスレーザ光
でガラス材料を集光照射している状態
【図３】 本実施例における光導波路アレイの斜視図
（ａ）及び断面図（ｂ）
（ａ）及び断面図（ｂ）
【図４】 ３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収を持
つガラス材料の内部に屈折率の変化及び３６０ｎｍより
長い波長領域の固有吸収の減少領域が連続的に形成され
た光導波路アレイ
つガラス材料の内部に屈折率の変化及び３６０ｎｍより
長い波長領域の固有吸収の減少領域が連続的に形成され
た光導波路アレイ
【図５】 ３６０ｎｍより長い波長領域に固有吸収を持
たないガラス材料内部に屈折率の変化した領域が連続的
に形成された光導波路アレイ
たないガラス材料内部に屈折率の変化した領域が連続的
に形成された光導波路アレイ
【図６】 Ａｕ微粒子分散ガラス（ａ），Ｃｕ微粒子分
散ガラス（ｂ）及びＡｇ微粒子分散ガラス（ｃ）のレー
ザ光集光照射部と未照射部の透過スペクトルを比較した
グラフ
散ガラス（ｂ）及びＡｇ微粒子分散ガラス（ｃ）のレー
ザ光集光照射部と未照射部の透過スペクトルを比較した
グラフ
１：光ファイバ １ａ：コア １ｂ：クラッド
１ｃ：吸光体層 ２：光ファイバの束 ３：ベース基材 ５：パルスレーザ光 ６：集光点 ７：ガラス材料
８：集光レンズ １０：光導波路アレイ １１：１本目の光導波路
１２：２本目の光導波路 １９：非集光照射部 ２１：屈折率変化領域 ２９：非集光照射部
１ｃ：吸光体層 ２：光ファイバの束 ３：ベース基材 ５：パルスレーザ光 ６：集光点 ７：ガラス材料
８：集光レンズ １０：光導波路アレイ １１：１本目の光導波路
１２：２本目の光導波路 １９：非集光照射部 ２１：屈折率変化領域 ２９：非集光照射部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−128303（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−311237（ＪＰ，Ａ) 米国特許5136677（ＵＳ，Ａ) 米国特許5028105（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 6/04 - 6/08
Claims (3)
- 【請求項１】 ３６０ｎｍより長い可視光領域に固有吸
収がある吸収物質を含むマトリックスをもち、ガラス内
部に集光点を調節したパルスレーザー光の集光照射で生
じた屈折率の変化及び可視光領域の固有吸収の減少が起
きた部分がガラス材料の内部に連続的に形成されている
ことを特徴とする光導波路アレイ。 - 【請求項２】 請求項１記載の吸収物質が金属微粒子，
半導体微粒子，遷移金属イオン，希土類イオン，陰イオ
ンの１種又は２種以上である光導波路アレイ。 - 【請求項３】 ３６０ｎｍより長い可視光領域に固有吸
収がある吸収物質を含むガラス材料の内部に集光点を調
節し、屈折率の変化及び可視光領域の固有吸収の減少を
起こすエネルギー量を持つパルスレーザ光でガラス材料
を集光照射し、ガラス材料の内部で集光点を相対移動さ
せながら、屈折率の変化及び可視光領域の吸収係数が減
少した連続領域をガラス材料の内部に形成することを特
徴とする光導波路アレイの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02987298A JP3349422B2 (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 光導波路アレイ及びその製造方法 |
| EP99901909A EP1116965B1 (en) | 1998-02-12 | 1999-01-29 | Optical waveguide array and method of manufacturing the same |
| PCT/JP1999/000377 WO1999041625A1 (fr) | 1998-02-12 | 1999-01-29 | Reseau de guide d'onde optique et procede de fabrication |
| DE69919369T DE69919369T2 (de) | 1998-02-12 | 1999-01-29 | Optisches wellenleiterarray und herstellungsmethode |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11231151A JPH11231151A (ja) | 1999-08-27 |
| JP3349422B2 true JP3349422B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=12288078
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02987298A Expired - Fee Related JP3349422B2 (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 光導波路アレイ及びその製造方法 |
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| EP (1) | EP1116965B1 (ja) |
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| US6796148B1 (en) * | 1999-09-30 | 2004-09-28 | Corning Incorporated | Deep UV laser internally induced densification in silica glasses |
| JP4124396B2 (ja) * | 1999-12-17 | 2008-07-23 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ホログラムの製造方法および装置 |
| JP4543551B2 (ja) * | 2000-12-22 | 2010-09-15 | 住友電気工業株式会社 | 光導波路デバイス |
| US7046881B2 (en) | 2001-07-30 | 2006-05-16 | Fujikura, Ltd. | Manufacturing method for optical coupler/splitter and method for adjusting optical characteristics of planar lightwave circuit device |
| US6853785B2 (en) * | 2001-12-14 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Co. | Index modulation in glass using a femtosecond laser |
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| JP2005321421A (ja) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Okamoto Glass Co Ltd | 回折光学素子およびガラス材料 |
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| KR100843430B1 (ko) * | 2007-04-04 | 2008-07-03 | 삼성전기주식회사 | 솔리톤을 이용한 광도파로 제조 방법 |
| KR20100014893A (ko) * | 2007-04-09 | 2010-02-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 위상차판 및 그 제조 방법 |
| CN105163949B (zh) | 2013-04-15 | 2017-09-05 | 肖特股份有限公司 | 用于改变玻璃和玻璃陶瓷透射的方法以及能够根据该方法制造的玻璃件或玻璃陶瓷件 |
| FR3004445B1 (fr) * | 2013-04-15 | 2019-10-18 | Schott Ag | Surface de cuisson vitroceramique a transmission localement augmentee et procede de fabrication d'une telle surface de cuisson vitroceramique |
| WO2017160720A1 (en) * | 2016-03-14 | 2017-09-21 | University Of Central Florida Research Foudation, Inc. | Laser cladding material, apparatus, and methods for transverse oscillation suppression |
| CN111221074B (zh) * | 2018-11-23 | 2022-03-25 | 华为机器有限公司 | 一种多层堆叠式光纤载体、通信设备和装配方法 |
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- 1999-01-29 DE DE69919369T patent/DE69919369T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-01-29 WO PCT/JP1999/000377 patent/WO1999041625A1/ja active IP Right Grant
- 1999-01-29 US US09/601,811 patent/US6640039B1/en not_active Expired - Fee Related
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| EP1116965A4 (en) | 2002-06-05 |
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