JPS63128303A - 光透過体及びその製造方法 - Google Patents
光透過体及びその製造方法Info
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- JPS63128303A JPS63128303A JP27390086A JP27390086A JPS63128303A JP S63128303 A JPS63128303 A JP S63128303A JP 27390086 A JP27390086 A JP 27390086A JP 27390086 A JP27390086 A JP 27390086A JP S63128303 A JPS63128303 A JP S63128303A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発暫は光回路部品で用いるプリズム、光導波路等の光
透過体とその製造方法に関する。
透過体とその製造方法に関する。
(従来の技術)
光合分波器等の光回路部品は光通信システムを構築する
上で重要となる部品の一つである。このうち光合分波器
は波長多重元伝送を行う上でキーコンポーネントとなる
部品である。光合分波器は基本的には、光を合分波する
干渉フィルタのような合分波素子、プリズムや光導波路
のような光透過体、それに元ファイバあるいは発受光素
子内蔵モジュールでS成されている。光合分波器に要求
される項目は低損失、低漏話、言頓性、低コスト等であ
り、これらをできるだけ満足させるため各f1111嘴
成が提案され、実用化されている。しかしながら、上記
要求項目のうち、特に低漏話については、必ずし賜満足
できる構成はえられてシらず。
上で重要となる部品の一つである。このうち光合分波器
は波長多重元伝送を行う上でキーコンポーネントとなる
部品である。光合分波器は基本的には、光を合分波する
干渉フィルタのような合分波素子、プリズムや光導波路
のような光透過体、それに元ファイバあるいは発受光素
子内蔵モジュールでS成されている。光合分波器に要求
される項目は低損失、低漏話、言頓性、低コスト等であ
り、これらをできるだけ満足させるため各f1111嘴
成が提案され、実用化されている。しかしながら、上記
要求項目のうち、特に低漏話については、必ずし賜満足
できる構成はえられてシらず。
また低漏話を満足させようとすると特殊な工夫が必訝と
なり結果的に高価になるといった問題点があった。
なり結果的に高価になるといった問題点があった。
第5図は従来の光合分波器の構成列を説明する図である
。第5図の従来列では、干渉フィルタ16 。
。第5図の従来列では、干渉フィルタ16 。
16’、16’がはり合わされたプリズム15を中心に
して1発光素子18.受光素子19.19’、光ファイ
バ20)こそれぞれレンズ17が付き対向的に配置され
ている。またこの列では、3波長双方向伝送用で一つの
送信波長λ1,2つの受信波長λ、。
して1発光素子18.受光素子19.19’、光ファイ
バ20)こそれぞれレンズ17が付き対向的に配置され
ている。またこの列では、3波長双方向伝送用で一つの
送信波長λ1,2つの受信波長λ、。
λ、が便用されている。第5図の場合1例えば受光素子
19への異種光信号の漏れ込み、すなわち。
19への異種光信号の漏れ込み、すなわち。
漏話としては、干渉フィルタ16’i通過したλ1゜λ
、の光信号、プリズム開面から反射され、受光素子19
で受光されるλ1λ2それにg@元素子18からの光軸
上を進まない波長λ1の漏れ込み等が考えられる。この
うち、前2者に対しては、適切な干渉フィルタ11弔す
る。受光素子とレンズをスリーブ内に収納することなど
によって比較的容易に解決することができるが、後者の
漏れ込みは。
、の光信号、プリズム開面から反射され、受光素子19
で受光されるλ1λ2それにg@元素子18からの光軸
上を進まない波長λ1の漏れ込み等が考えられる。この
うち、前2者に対しては、適切な干渉フィルタ11弔す
る。受光素子とレンズをスリーブ内に収納することなど
によって比較的容易に解決することができるが、後者の
漏れ込みは。
前2者に比較して多いことから、満足できる対策は行な
われていない。すなわち、後者の元?遮断する方法とし
ては、受光素子19の周辺のプリズムあるいはフィルタ
に光吸収を引きおこすような樹脂を塗布する。あるいは
特殊なスリーブを使用するなど、結果的に高価となるよ
うな対策を施こしても満足な遮断はえられていない。こ
の理由としては、λ、の光軸上を進まない元は、プリズ
ム側面、干渉フィルタ端面等で多重反射を繰シ返し。
われていない。すなわち、後者の元?遮断する方法とし
ては、受光素子19の周辺のプリズムあるいはフィルタ
に光吸収を引きおこすような樹脂を塗布する。あるいは
特殊なスリーブを使用するなど、結果的に高価となるよ
うな対策を施こしても満足な遮断はえられていない。こ
の理由としては、λ、の光軸上を進まない元は、プリズ
ム側面、干渉フィルタ端面等で多重反射を繰シ返し。
樹脂が塗布されていないわずかのすき間から受光素子1
9に漏れ込むためと考えられる。この問題点は、受’′
ltJ素子19に対しても同様にして生じている。
9に漏れ込むためと考えられる。この問題点は、受’′
ltJ素子19に対しても同様にして生じている。
(発明が解決しようとする問題点)
前述のように、従来の技術では、受光素子への異種信号
の漏れ込み、待lこ、発光素子からの元軸上を進まない
光信号の漏れ込みの防止は、結果的に高価となる対策を
施こしても必ずしも満足できるものはえられないといっ
た問題点があった。これに対し1本発明は、受光素子へ
の異種信号の漏れ込みを防止し、かつ高価とならない1
元什分彼器等の光回路部品で用いるyt、透過体とその
製造方法と提供することを目的とする。
の漏れ込み、待lこ、発光素子からの元軸上を進まない
光信号の漏れ込みの防止は、結果的に高価となる対策を
施こしても必ずしも満足できるものはえられないといっ
た問題点があった。これに対し1本発明は、受光素子へ
の異種信号の漏れ込みを防止し、かつ高価とならない1
元什分彼器等の光回路部品で用いるyt、透過体とその
製造方法と提供することを目的とする。
(問題点全解決するための手段)
本発明による光合分波器等の光回路部品用として便用す
るプリズムあるいは光導波路等の光透過体は、本来光信
号が通過すべき部分とその近傍のみが光吸収が小さく、
その池の部分は光信号が通過すべき部分卦よびその近傍
より光吸収が大きい構成となっている。また1本発明に
よる光透過体は、あらかじめ成形・加工されたプリズム
、光導波路等に対し、全体あるいは必要に応じて部分的
に*rIi!等の電磁波を照射して被照射部分を着色さ
せた後、光信号が通過すべき部分およびその近傍に光照
射を行員1尤信号が通過すべき部分お工びその近傍を脱
色させることによシ実現される。
るプリズムあるいは光導波路等の光透過体は、本来光信
号が通過すべき部分とその近傍のみが光吸収が小さく、
その池の部分は光信号が通過すべき部分卦よびその近傍
より光吸収が大きい構成となっている。また1本発明に
よる光透過体は、あらかじめ成形・加工されたプリズム
、光導波路等に対し、全体あるいは必要に応じて部分的
に*rIi!等の電磁波を照射して被照射部分を着色さ
せた後、光信号が通過すべき部分およびその近傍に光照
射を行員1尤信号が通過すべき部分お工びその近傍を脱
色させることによシ実現される。
(作用)
本発明による光透過体は本来光が通過すべき部分が光吸
収が小さく、mの部分は光吸収が大きいWl成となって
いるため1例えば、第5図の従来列のような配置で、受
光素子19に漏れ込む異種信号である。プリズム@面や
干渉フィルタ端面で多重反射される元や1発光素子18
から放射される元のうち元軸上を進まない光は1元吸収
の大きい部分によ#)、吸収されるため、受光素チェ9
への漏れ込みは甑めて小さくなシ、従来の問題点は解決
される。
収が小さく、mの部分は光吸収が大きいWl成となって
いるため1例えば、第5図の従来列のような配置で、受
光素子19に漏れ込む異種信号である。プリズム@面や
干渉フィルタ端面で多重反射される元や1発光素子18
から放射される元のうち元軸上を進まない光は1元吸収
の大きい部分によ#)、吸収されるため、受光素チェ9
への漏れ込みは甑めて小さくなシ、従来の問題点は解決
される。
また、光が通過すべき部分は、紫外線、可視光あるいは
近赤外線の照射によシ容易に、γ線等の照射を行う前の
透過率までに回復させることができるので、光の通過部
分の損失を増大させることはない。
近赤外線の照射によシ容易に、γ線等の照射を行う前の
透過率までに回復させることができるので、光の通過部
分の損失を増大させることはない。
さらに1本発明による光透過体は電磁波照射。
光照射が巻本工程であシ、同時に多量の元透過本t&:
製面できるから0本製麿工徨を経ることによるコスト高
は少なくすることができる。
製面できるから0本製麿工徨を経ることによるコスト高
は少なくすることができる。
(実施91)
以下本発明の実′m列について図面?参照して詳細lこ
説明する。
説明する。
第1図は本発明の一実施例を説明する図で、プリズム茫
使用した光透過体で第5図のyt、会分彼器用として実
施したものである。第5図の元ファイバ20と受光素子
19とか対向する光通過部分。
使用した光透過体で第5図のyt、会分彼器用として実
施したものである。第5図の元ファイバ20と受光素子
19とか対向する光通過部分。
干渉フィルタ16と16’が対向する光通過部分。
干渉フィルタ16’と16″が対向する光通過部分のみ
が1元吸収が小さく、これに対し、池の部分は光吸収が
光通過部分よシも大きくなっている。
が1元吸収が小さく、これに対し、池の部分は光吸収が
光通過部分よシも大きくなっている。
第1図の実施列は、あらかじめ成形・加工されたプリズ
ムにrgを照射し、プリズムを着色させた後、@2図の
ように、光の通過部分EこArレーザを照射し%光通過
部分を脱色させることにより実現した。
ムにrgを照射し、プリズムを着色させた後、@2図の
ように、光の通過部分EこArレーザを照射し%光通過
部分を脱色させることにより実現した。
ガラスtζγ腺等の電磁波を照射すると着色し。
紫外線から近赤外の領域で光吸収が増大し、その吸収は
照射線量率、全線量が大きい程増大することはよく知ら
れていることである。また、この着色したガラスは元、
持に9視から紫外にかけての元の照射にニジ脱色され、
脱色の速さは照射される元の強さに比例する。
照射線量率、全線量が大きい程増大することはよく知ら
れていることである。また、この着色したガラスは元、
持に9視から紫外にかけての元の照射にニジ脱色され、
脱色の速さは照射される元の強さに比例する。
第1図の実施列で用いた光学ガラスBK−7は60CO
を線源とした6XIO’レントデン/時間でのγ線照射
にニジ、波長0.8〜1.6μmの領域で30〜60
d B 、/cm の光吸収2示した。この着色カラス
に波長488nmで100mWのアルゴンレーザヲ照射
したところ、照射された部分は1 cm長さで10分以
内−こ脱色され、γ線照射以前と同じ透過率となった。
を線源とした6XIO’レントデン/時間でのγ線照射
にニジ、波長0.8〜1.6μmの領域で30〜60
d B 、/cm の光吸収2示した。この着色カラス
に波長488nmで100mWのアルゴンレーザヲ照射
したところ、照射された部分は1 cm長さで10分以
内−こ脱色され、γ線照射以前と同じ透過率となった。
このような特性ともつガラスBK−7製のプリズムに上
記の条件でγ線を照射し、第2図の1のような着色ガラ
スを作シ、これに第2図のような方向でArレーザを照
射して、第1図の実施列を実現した。
記の条件でγ線を照射し、第2図の1のような着色ガラ
スを作シ、これに第2図のような方向でArレーザを照
射して、第1図の実施列を実現した。
第1図の実施例ではプリズム側面で多重反射する光が1
発元素子から放射され、元軸上を進まない元は、光吸収
の大きい着色した部分で吸収され受光素子への漏れ込み
は低減される。
発元素子から放射され、元軸上を進まない元は、光吸収
の大きい着色した部分で吸収され受光素子への漏れ込み
は低減される。
第3図は本発明の他の実施例を示す上面図で。
4仮3内に三次元光導波路4と干渉フィルタ挿入用凹部
5が形成されている。そして。光導波路以外の苓坂部は
1元吸収が大きく着色させられている。第3図の実施列
は、第1図の実施列と同様。
5が形成されている。そして。光導波路以外の苓坂部は
1元吸収が大きく着色させられている。第3図の実施列
は、第1図の実施列と同様。
あらかじめ導波路4と凹部が形成されたものの全体にγ
線?照射したのち、導波路4近傍のみで元が透過するマ
スクを使い半導体露光用水銀紫外線照射することによ#
)実現した。
線?照射したのち、導波路4近傍のみで元が透過するマ
スクを使い半導体露光用水銀紫外線照射することによ#
)実現した。
第3図では、導e賂端面や、干渉フィルタ設置部等で散
乱され漏話の要因となる光は光吸収の大きい部分で吸収
され、漏話倉低減することができる。
乱され漏話の要因となる光は光吸収の大きい部分で吸収
され、漏話倉低減することができる。
さらlこ第4図は0本発明のもう一つの実施列?示す上
面図で、を仮6上に二次元導波路とディオデシックVン
ズ71回折烙子8が形成されている。
面図で、を仮6上に二次元導波路とディオデシックVン
ズ71回折烙子8が形成されている。
第4図は、2波以上の元が9で二次元導波路に入射し、
導波路中lこ伝播し1回折格子8によシ分波され、10
に;吹かれた光検出器によシ分離された波長の元を検出
するためのものである。第4図の実施例も第31図の実
施列と同様、γ線照射した後4光用マスク?用いて1元
が導波される部分のみを脱色した。第4図のような着色
部を形成しないときは、0次や2次以上の回折光が基仮
瑞面での反射や、レンズによる屈折によシ漏話の原因と
なりていたが、第4図のように着色部を形成することに
エリ、これらの元を吸収さぜ漏話を低減さぜることがで
きる。
導波路中lこ伝播し1回折格子8によシ分波され、10
に;吹かれた光検出器によシ分離された波長の元を検出
するためのものである。第4図の実施例も第31図の実
施列と同様、γ線照射した後4光用マスク?用いて1元
が導波される部分のみを脱色した。第4図のような着色
部を形成しないときは、0次や2次以上の回折光が基仮
瑞面での反射や、レンズによる屈折によシ漏話の原因と
なりていたが、第4図のように着色部を形成することに
エリ、これらの元を吸収さぜ漏話を低減さぜることがで
きる。
な卦1本発明の詳細な説明lこおいては%着色用@源と
してγ線を、脱色用光源としてArレーザと水銀ランプ
を用いる方法を説明したが着色用光源として、X線等の
池の・線源または脱色用yt、源としてはKrレーザ等
比較的高密度元パワーがえられる光源を使用する方法も
本発明にa用される。
してγ線を、脱色用光源としてArレーザと水銀ランプ
を用いる方法を説明したが着色用光源として、X線等の
池の・線源または脱色用yt、源としてはKrレーザ等
比較的高密度元パワーがえられる光源を使用する方法も
本発明にa用される。
以上の説明のように1本発明による光透過体は。
光の通過すべき部分のみが、光吸収が小さく、その他の
部分は光吸収が大きくなっているので、光軸上を進まな
く、また反射等によ)漏話の要因となる光は光吸収の大
きい部分で吸収されてしまうので、漏話が低減される。
部分は光吸収が大きくなっているので、光軸上を進まな
く、また反射等によ)漏話の要因となる光は光吸収の大
きい部分で吸収されてしまうので、漏話が低減される。
また1本発明の制令方法は檻本的に電磁波照射と光照射
であり、同時に多くの光透過体を製潰できることから1
本発明の工穆茫経ることlこよるコスト高は小さくする
ことができる。
であり、同時に多くの光透過体を製潰できることから1
本発明の工穆茫経ることlこよるコスト高は小さくする
ことができる。
第1図乃至第4図は本発明の実sf!1を示す図。
第5図は従来列を説明する図である。
l、15・・・プリズム、2・・・光通過部S 3.6
・・・導波路基板、4・・・三次元導波路、5・・・凹
部、7・・・レンズ、8・・・回折格子、9・・・光入
射部、IO・・・元集元部、 16.16’#16’
・・・干渉フィルタ、17・・・レンズ、18・・・発
光素子、19.19’・・・受光素子。 20・・・元ファイバ。 代理人 弁理士 則 近 憲 右 同 竹 花 喜久男第1図 第2図 第3図 第4図 d 第5図
・・・導波路基板、4・・・三次元導波路、5・・・凹
部、7・・・レンズ、8・・・回折格子、9・・・光入
射部、IO・・・元集元部、 16.16’#16’
・・・干渉フィルタ、17・・・レンズ、18・・・発
光素子、19.19’・・・受光素子。 20・・・元ファイバ。 代理人 弁理士 則 近 憲 右 同 竹 花 喜久男第1図 第2図 第3図 第4図 d 第5図
Claims (2)
- (1)光合分波器で用いるプリズム若しくは光導波路等
の光透過体において、光信号が通過すべき部分及びその
近傍のみが光吸収が小さくその池の部分は光信号が通過
すベき部分およびその近傍より光吸収が大きい構成とな
っていることを特徴とする光透過体。 - (2)成形・加工されたプリズム若しくは光導波路に対
し、全体若しくは必要に応じて部分的に電磁波を照射し
て被照射部分を着色させた後、光信号が通過すベき部分
及びその近傍に光照射を行い、光信号が通過すべき部分
及びその近傍を脱色させることを特徴とする光透過体の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27390086A JPS63128303A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 光透過体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27390086A JPS63128303A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 光透過体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63128303A true JPS63128303A (ja) | 1988-05-31 |
Family
ID=17534136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27390086A Pending JPS63128303A (ja) | 1986-11-19 | 1986-11-19 | 光透過体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63128303A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999041625A1 (fr) * | 1998-02-12 | 1999-08-19 | Japan Science And Technology Corporation | Reseau de guide d'onde optique et procede de fabrication |
-
1986
- 1986-11-19 JP JP27390086A patent/JPS63128303A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999041625A1 (fr) * | 1998-02-12 | 1999-08-19 | Japan Science And Technology Corporation | Reseau de guide d'onde optique et procede de fabrication |
EP1116965A1 (en) * | 1998-02-12 | 2001-07-18 | Japan Science and Technology Corporation | Optical waveguide array and method of manufacturing the same |
EP1116965A4 (en) * | 1998-02-12 | 2002-06-05 | Japan Science & Tech Corp | OPTICAL WAVE GUIDE ARRAY AND MANUFACTURING METHOD |
US6640039B1 (en) | 1998-02-12 | 2003-10-28 | Central Glass Co., Ltd. | Optical waveguide array and method of manufacturing the same |
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