JP3339450B2 - 表面波装置の製造方法 - Google Patents

表面波装置の製造方法

Info

Publication number
JP3339450B2
JP3339450B2 JP05419299A JP5419299A JP3339450B2 JP 3339450 B2 JP3339450 B2 JP 3339450B2 JP 05419299 A JP05419299 A JP 05419299A JP 5419299 A JP5419299 A JP 5419299A JP 3339450 B2 JP3339450 B2 JP 3339450B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acoustic wave
surface acoustic
base member
wave device
cap member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP05419299A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000252778A (ja
Inventor
重人 田賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP05419299A priority Critical patent/JP3339450B2/ja
Priority to US09/506,459 priority patent/US6543109B1/en
Priority to KR1020000008451A priority patent/KR20000076704A/ko
Priority to EP00400562A priority patent/EP1033810B1/en
Priority to DE60034836T priority patent/DE60034836T2/de
Priority to CN00103835A priority patent/CN1130822C/zh
Publication of JP2000252778A publication Critical patent/JP2000252778A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3339450B2 publication Critical patent/JP3339450B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/08Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/05Holders; Supports
    • H03H9/10Mounting in enclosures
    • H03H9/1064Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices
    • H03H9/1071Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the SAW device
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02818Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • H03H9/02929Means for compensation or elimination of undesirable effects of ageing changes of characteristics, e.g. electro-acousto-migration
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/05Holders; Supports
    • H03H9/058Holders; Supports for surface acoustic wave devices
    • H03H9/059Holders; Supports for surface acoustic wave devices consisting of mounting pads or bumps
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/25Constructional features of resonators using surface acoustic waves
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/64Filters using surface acoustic waves
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02543Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
    • H03H9/02574Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of combined substrates, multilayered substrates, piezoelectrical layers on not-piezoelectrical substrate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/42Piezoelectric device making
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49004Electrical device making including measuring or testing of device or component part
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49005Acoustic transducer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/49147Assembling terminal to base
    • Y10T29/49149Assembling terminal to base by metal fusion bonding

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ベース部材にバン
プ接合により接続・固定した表面波素子をベース部材と
キャップ部材とを接合したパッケージ内に気密封止した
表面波装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、表面波素子を金属バンプ接合
してベース部材に接続・固定し、表面波素子をベース部
材とキャップ部材とを接合したパーッケージ内に気密封
止した構造の表面波装置が知られている。従来、このよ
うな表面波装置において、ベース部材とキャップ部材の
気密封止にはその接合にコバール等を用いたシーム溶接
工法が一般的に採用されている。
【0003】また、シーム溶接工法以外の気密封止の方
法として、ベース部材またはキャップ部材のいずれかの
接合部にロウ材を設け、例えばキャップ部材に小型のヒ
ータブロックを直接接触させて、キャップ部材を加熱し
てロウ材を溶融し、その後冷却してベース部材とキャッ
プ部材とを接合するロウ材封止工法がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記シ
ーム溶接工法によりベース部材とキャップ部材とを接合
した場合、シーム溶接時にキャップ部材やベース部材の
接合部の一部のみが高温となり、他の部分との間に大き
な温度差が生じた状態でベース部材とキャップ部材とが
接合される。その後の表面波装置の冷却に伴い、ベース
部材とキャップ部材との間に大きな残留応力が生じて、
図3に示すようにベース部材10やキャップ部材30等
が大きく変形する。そして、この変形により、表面波素
子20とベース部材10とを接続・固定する金属バンプ
51や金属バンプ51と接合した電極12,25等に応
力が集中し、金属バンプ51や電極12,25の破損、
はがれ等の接続不具合が発生し、特性不良になるという
問題があった。
【0005】また、ロウ材封止工法によりベース部材と
キャップ部材とを接合した場合にも、その接合部領域の
みを局部的に加熱した場合には、接合部と他の部位との
温度差が大きくなり、接合後にベース部材が変形して、
シーム溶接工法と同様の接続不具合が発生するという問
題があった。
【0006】表面波装置においては、表面波素子の表面
(表面波伝播面)に電極が振動する空間を必要とし、半
導体装置のように素子とベース部材の間に樹脂等を充填
し金属バンプへの応力の集中を緩和させて接合強度を向
上することができないので、表面波装置の信頼性を向上
させるためには、金属バンプに加わる応力を低減するこ
とが非常に重要である。
【0007】そこで、本発明の目的は、ベース部材とキ
ャップ部材との接合時に金属バンプ接合部に加わる応力
を低減して、金属バンプ接合部での接続不具合が生じが
たい、信頼性に優れた表面波装置の製造方法を提供する
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ベース部材と、ベース部材にバンプ接合
された表面波素子と、表面波素子を気密封止するように
ベース部材に接合されたキャップ部材とを備えた表面波
装置の製造方法において、表面波素子とベース部材とを
融点が450℃以上の金属バンプによりバンプ接合し、
ベース部材とキャップ部材との接合に金属バンプよりも
低い融点のロウ材を用い、構成部材の全体をロウ材の融
点よりも高い温度となるように均一に加熱してロウ材を
溶融させてベース部材とキャップ部材とを接合すること
を特徴とする。
【0009】上記の製造方法によれば、ベース部材とキ
ャップ部材との接合時に部材間に温度差が生じないの
で、冷却後に表面波装置にかかる残留応力を小さくする
ことができ、金属バンプ接合部に加わる応力を大幅に低
減することができる。したがって、金属バンプやバンプ
接合部の電極の破損、はがれ等の接続不具合が発生しな
くなる。なお、表面波素子は、予め融点が450℃以上
の金属バンプによりバンプ接合されて、ベース部材に強
固に支持固定されるとともに電気的に接続される。
【0010】ロウ材として、半田、Au−Sn合金また
は低融点ガラスが用いられる。
【0011】なお、本発明における表面波装置は、表面
波共振子、表面波フィルタ、表面波遅延線等の表面波を
利用した装置一般を含むものであり、装置の種類や用途
に応じて、1つ以上の任意の数のインターデジタルトラ
ンスデューサ(IDT)が圧電基板上に設けられる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の一実施形態に係る表面波
装置の構成を図1及び図2を参照して説明する。図1は
表面波装置の断面図、図2は表面波素子の平面図であ
る。本実施形態の表面波装置は、表面波素子20の複数
の電極パッド25とベース部材10の凹部内上面の複数
の電極ランド12とが金属バンプ51でバンプ接合され
て、表面波素子20がベース部材10に支持固定される
とともに電気的に接続されている。また、表面波素子2
0を覆うようにキャップ部材30がベース部材10に高
融点半田からなるロウ材52により接合されて、表面波
素子20がベース部材10とキャップ部材30とで形成
されたパッケージ内(空間内)に気密封止されている。
表面波装置においては、表面波素子20の表面波伝播面
とベース部材10との間には、図示のように表面波を効
率よく伝播するためにギャップ(空間)が設けられてい
る。
【0013】表面波素子20は、図2に示すように圧電
基板21を備え、圧電基板21の上面にはIDT電極2
2、反射器電極23、各IDT電極22から引き出され
た引出電極24、各引出電極24に接続した電極パッド
25からなる電極パターンが形成されている。電極パタ
ーンはAlまたはAlを含む合金からなり周知の薄膜形
成法により形成される。圧電基板21としては、タンタ
ル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、水晶等の圧電性の材
料が用いられる。
【0014】ベース部材10は複数のセラミックを積層
することにより凹部形状に形成され、下面、凹部の内面
及び内部に複数の電極ランド12を含む入出力用、アー
ス用の電極パターンが形成されている。なお、図示省略
しているが、ベース部材10の下面には入出力用の端子
電極が形成されており、この表面波装置は、ベース部材
10の下面を実装面として、実装基板(回路基板)に実
装されて用いられる。
【0015】キャップ部材30はFe−Ni合金やFe
等を含む合金からなる金属板であり、必要に応じてメッ
キ処理される。
【0016】この表面波装置は以下のように製造され
る。まず、表面波素子20の各電極パッド25上にAu
またはAuを主成分とした金属バンプ51をボールボン
ディング法により形成する。次に表面波素子20をフェ
イスダウン方式、すなわちIDT電極等が形成された表
面波伝播面をベース部材10に対向させて、例えば超音
波と熱を同時に印加することにより、各電極パッド25
とこれに対応するベース部材10の各電極ランド12と
を金属バンプ51で接合して、表面波素子20をベース
部材10に接続・固定する。
【0017】金属バンプ51としては、Auに限るもの
ではなく、後工程のベース部材10とキャップ部材30
との接合時に溶融や軟化の起こりにくい、融点が450
℃以上の金属材料が用いられる。
【0018】上記バンプ接合では超音波と熱を同時に印
加した工法で説明したが、超音波のみあるいは熱のみを
印加してバンプ接合を行う工法であってもよい。また、
金属バンプ形成の方法はボールボンディング工法に限る
ものではなく、例えば、メッキによるバンプ形成法等の
他の金属バンプ形成法を採用してもよい。
【0019】次に、ベース部材10に予めロウ材52と
なる高融点はんだを圧着したキャップ部材30を重ね合
わせ、リフロー炉に投入して、ベース部材10、表面波
素子20及びキャップ部材30の全ての構成部材をロウ
材52の融点よりも高温となるように均一に加熱してロ
ウ材52を溶融し、その後冷却してベース部材10とキ
ャップ部材30とを接合する。
【0020】以上のように、本実施形態の表面波装置の
製造方法では、表面波装置全体を均一に加熱してベース
部材とキャップ部材との接合を行っているので、この接
合時に部材間に温度差が生じないので、冷却後に表面波
装置にかかる残留応力は極めて小さなものとなり、金属
バンプ接合部に加わる応力は大幅に低減されている。し
たがって、金属バンプやバンプ接合部の電極の破損、は
がれ等の接続不具合の発生を大幅に低減することがで
き、歩留まりの向上、故障率の低減、信頼性の向上を図
ることができる。
【0021】ロウ材としては、半田以外にAu−Sn合
金、低融点ガラスを用いることができる。また、上記実
施形態例では、キャップ部材にロウ材を圧着したもので
説明したが、ベース部材にロウ材を予備形成するように
してもよく、また印刷により形成するようにしてもよ
い。
【0022】また、上記実施形態では、ベース部材とキ
ャップ部材との接合にリフロー炉を用いたもので説明し
たが、これに限るものではなく、表面波装置全体を均一
に加熱できる加熱炉やオーブンを用いてもよい。
【0023】また、キャップ部材の材料はFe−Ni合
金またはFeを含む合金に限定されるものではなく、ロ
ウ材との間で良好な気密性を得ることができる材料であ
ればよい。また金属に限るものでもなく、キャップ部材
にセラミックを用いてもよく、この場合、ロウ材として
低融点ガラスを用いることもできる。また、金属製のベ
ース部材を用いてもよい。
【0024】また、ベース部材及びキャップ部材の形状
は上記実施形態に限るものではなく、例えば平板状のベ
ース部材と凹部状のキャップ部材とでパッケージを構成
してもよい。また、表面波素子の電極パターンも上記実
施形態に限定されるものではない。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
表面波素子は融点が450℃以上の金属バンプによりベ
ース部材に強固に接続・固定し、かつ、表面波装置全体
を均一に加熱してベース部材とキャップ部材との接合を
行って、金属バンプ接合部に加わる応力を大幅に低減し
ているので、金属バンプやバンプ接合部での接続不具合
の発生を大幅に低減することができ、信頼性の高い表面
波装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施形態に係る表面波装置の断面図である。
【図2】一実施形態に係る表面波素子の平面図である。
【図3】従来の表面波装置のベース部材とキャップ部材
の接合時の変形を説明するための簡易断面図である。
【符号の説明】
10 ベース部材 12 電極ランド 20 表面波素子 25 電極パッド 30 キャップ部材 51 金属バンプ 52 ロウ材

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベース部材と、ベース部材にバンプ接合
    された表面波素子と、表面波素子を気密封止するように
    ベース部材に接合されたキャップ部材とを備えた表面波
    装置の製造方法において、 表面波素子とベース部材とを融点が450℃以上の金属
    バンプによりバンプ接合し、ベース部材とキャップ部材
    との接合に金属バンプよりも低い融点のロウ材を用い、
    構成部材の全体をロウ材の融点よりも高い温度となるよ
    うに均一に加熱してロウ材を溶融させてベース部材とキ
    ャップ部材とを接合することを特徴とする表面波素子の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の表面波装置の製造方法
    において、ロウ材として、半田、Au−Sn合金または
    低融点ガラスを用いることを特徴とする表面波装置の製
    造方法。
JP05419299A 1999-03-02 1999-03-02 表面波装置の製造方法 Expired - Lifetime JP3339450B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05419299A JP3339450B2 (ja) 1999-03-02 1999-03-02 表面波装置の製造方法
US09/506,459 US6543109B1 (en) 1999-03-02 2000-02-17 Method of manufacturing a surface acoustic wave apparatus
KR1020000008451A KR20000076704A (ko) 1999-03-02 2000-02-22 탄성표면파 장치의 제조방법
EP00400562A EP1033810B1 (en) 1999-03-02 2000-03-02 A method of manufacturing a surface acoustic wave apparatus
DE60034836T DE60034836T2 (de) 1999-03-02 2000-03-02 Herstellungsverfahren für akustische Oberflächenwellenanordnungen
CN00103835A CN1130822C (zh) 1999-03-02 2000-03-02 表面声波装置的制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05419299A JP3339450B2 (ja) 1999-03-02 1999-03-02 表面波装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000252778A JP2000252778A (ja) 2000-09-14
JP3339450B2 true JP3339450B2 (ja) 2002-10-28

Family

ID=12963692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05419299A Expired - Lifetime JP3339450B2 (ja) 1999-03-02 1999-03-02 表面波装置の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6543109B1 (ja)
EP (1) EP1033810B1 (ja)
JP (1) JP3339450B2 (ja)
KR (1) KR20000076704A (ja)
CN (1) CN1130822C (ja)
DE (1) DE60034836T2 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3702961B2 (ja) * 2002-10-04 2005-10-05 東洋通信機株式会社 表面実装型sawデバイスの製造方法
JP3972900B2 (ja) * 2003-04-23 2007-09-05 株式会社村田製作所 表面実装型電子部品の筐体構造
JP3689414B2 (ja) * 2003-06-03 2005-08-31 東洋通信機株式会社 弾性表面波デバイスの製造方法
KR100746330B1 (ko) * 2005-11-24 2007-08-03 한국과학기술원 초음파를 이용한 전자부품간의 접속방법
CN102959989B (zh) * 2010-08-24 2015-11-25 株式会社村田制作所 超声波产生装置
WO2012127979A1 (ja) * 2011-03-22 2012-09-27 株式会社村田製作所 電子部品モジュールの製造方法及び電子部品モジュール
JP2013046167A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Seiko Epson Corp 振動デバイス、及び振動デバイスの製造方法
JP5742954B2 (ja) * 2011-10-03 2015-07-01 株式会社村田製作所 超音波発生装置
JP5565544B2 (ja) * 2012-08-01 2014-08-06 株式会社村田製作所 電子部品及び電子部品モジュール

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5992552A (ja) * 1982-11-19 1984-05-28 Hitachi Ltd 半導体装置
JPS62181517A (ja) * 1986-02-05 1987-08-08 Murata Mfg Co Ltd 表面波装置
US5058800A (en) * 1988-05-30 1991-10-22 Canon Kabushiki Kaisha Method of making electric circuit device
JPH04196324A (ja) * 1990-11-28 1992-07-16 Hitachi Ltd バンプ形成方法及び装置並びにこれを適用した電子装置
JPH06350376A (ja) * 1993-01-25 1994-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 気密封止された圧電デバイスおよび気密封止パッケージ
US5459368A (en) * 1993-08-06 1995-10-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Surface acoustic wave device mounted module
JPH07154185A (ja) 1993-10-04 1995-06-16 Nec Corp 弾性表面波装置およびその製造方法
FR2714200B1 (fr) * 1993-11-25 1996-12-27 Fujitsu Ltd Dispositif à onde acoustique de surface et son procédé de fabrication.
US5939817A (en) * 1994-09-22 1999-08-17 Nippon Electric Co Surface acoustic wave device
JP3171043B2 (ja) * 1995-01-11 2001-05-28 株式会社村田製作所 弾性表面波装置
JP3301262B2 (ja) * 1995-03-28 2002-07-15 松下電器産業株式会社 弾性表面波装置
JP3328102B2 (ja) * 1995-05-08 2002-09-24 松下電器産業株式会社 弾性表面波装置及びその製造方法
JPH09232899A (ja) 1996-02-23 1997-09-05 Rohm Co Ltd 電子素子のパッケージ実装方法
JPH1032460A (ja) 1996-07-18 1998-02-03 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波装置
JPH1098352A (ja) 1996-09-24 1998-04-14 Toyo Commun Equip Co Ltd 弾性表面波デバイス
JPH10256409A (ja) 1997-03-10 1998-09-25 Toyo Commun Equip Co Ltd 圧電デバイスのパッケージの製造方法
JPH10256415A (ja) 1997-03-10 1998-09-25 Toyo Commun Equip Co Ltd 圧電デバイスのパッケージ構造
JPH10313227A (ja) 1997-05-13 1998-11-24 Murata Mfg Co Ltd 弾性表面波装置
JPH11204681A (ja) * 1998-01-12 1999-07-30 Sumitomo Metal Smi Electron Devices Inc セラミックパッケージの製造方法
US6321444B1 (en) * 2000-04-11 2001-11-27 Japan Radio Co., Ltd. Method of making surface acoustic wave device
DE69938989D1 (de) 1998-05-29 2008-08-14 Fujitsu Ltd Akustisches Oberflächenwellenfilter mit verbesserter Unterdrückung ausserhalb eines Durchlassbereichs
US6329739B1 (en) * 1998-06-16 2001-12-11 Oki Electric Industry Co., Ltd. Surface-acoustic-wave device package and method for fabricating the same
JP2000286526A (ja) * 1999-03-30 2000-10-13 Murata Mfg Co Ltd 表面実装構造及びその表面実装構造に用いられる表面実装型電子部品
JP3351402B2 (ja) * 1999-04-28 2002-11-25 株式会社村田製作所 電子素子、弾性表面波素子、それらの実装方法、電子部品または弾性表面波装置の製造方法、および、弾性表面波装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP1033810A2 (en) 2000-09-06
CN1265538A (zh) 2000-09-06
EP1033810B1 (en) 2007-05-16
EP1033810A3 (en) 2000-09-20
DE60034836T2 (de) 2007-11-29
KR20000076704A (ko) 2000-12-26
US6543109B1 (en) 2003-04-08
JP2000252778A (ja) 2000-09-14
CN1130822C (zh) 2003-12-10
DE60034836D1 (de) 2007-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3303791B2 (ja) 電子部品の製造方法
US7211934B2 (en) Electronic device and method of manufacturing the same
US7816794B2 (en) Electronic device and method of fabricating the same
JP3726998B2 (ja) 表面波装置
JP2001053178A (ja) 電子回路装置が封止され回路基板に実装される電子部品及びその製造方法
JP3339450B2 (ja) 表面波装置の製造方法
JP2007096597A (ja) 弾性表面波デバイスおよびその製造方法
JP3428488B2 (ja) 電子部品の製造方法
JP3710560B2 (ja) 表面弾性波デバイスの実装構造及び実装方法
JP2004153579A (ja) 弾性表面波装置及びその製造方法
JP2002343827A (ja) 電子部品およびその製造方法
WO2004109796A1 (ja) 電子部品装置
JP2004129193A (ja) 弾性表面波装置
JP2001102905A (ja) 弾性表面波装置
JP2000269368A (ja) 表面波装置
JP2000353934A (ja) 弾性表面波装置
JPH08213764A (ja) 電子部品およびその製造方法
JP4296778B2 (ja) 弾性表面波装置の製造方法
JP2004356913A (ja) 圧電装置及びその製造方法
JP2001257236A (ja) 電子デバイスの製造方法
JP3795644B2 (ja) 接合方法
JPH1098352A (ja) 弾性表面波デバイス
JPH09148878A (ja) 弾性表面波デバイス
JPH11163670A (ja) 圧電デバイス
JP2000252784A (ja) 表面波装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080816

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080816

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090816

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090816

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100816

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100816

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110816

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120816

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120816

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130816

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term