JP3428488B2 - 電子部品の製造方法 - Google Patents

電子部品の製造方法

Info

Publication number
JP3428488B2
JP3428488B2 JP10436299A JP10436299A JP3428488B2 JP 3428488 B2 JP3428488 B2 JP 3428488B2 JP 10436299 A JP10436299 A JP 10436299A JP 10436299 A JP10436299 A JP 10436299A JP 3428488 B2 JP3428488 B2 JP 3428488B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base member
bump
electronic component
bonding
high temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP10436299A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000299355A (ja
Inventor
裕二 木村
重人 田賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP10436299A priority Critical patent/JP3428488B2/ja
Priority to US09/537,381 priority patent/US6349870B1/en
Priority to KR1020000018915A priority patent/KR100358683B1/ko
Priority to DE10018138A priority patent/DE10018138B4/de
Publication of JP2000299355A publication Critical patent/JP2000299355A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3428488B2 publication Critical patent/JP3428488B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/60Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers
    • H10W70/67Insulating or insulated package substrates; Interposers; Redistribution layers characterised by their insulating layers or insulating parts
    • H10W70/68Shapes or dispositions thereof
    • H10W70/682Shapes or dispositions thereof comprising holes having chips therein
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/072Connecting or disconnecting of bump connectors
    • H10W72/07231Techniques
    • H10W72/07236Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/20Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
    • H10W72/251Materials
    • H10W72/252Materials comprising solid metals or solid metalloids, e.g. PbSn, Ag or Cu
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/90Bond pads, in general
    • H10W72/941Dispositions of bond pads
    • H10W72/9415Dispositions of bond pads relative to the surface, e.g. recessed, protruding
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/721Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
    • H10W90/724Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面波素子や半導
体素子等の電子部品素子をバンプで接合してベース部材
に電気的・機械的に接続してなる電子部品素子の製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、電子部品素子をバンプ接合し
てベース部材上に載置し、電子部品素子をベース部材と
キャップ部材とを接合してパッケージ内に気密封止した
構造の電子部品が知られている。この種の電子部品は、
電子部品素子をベース部材に対向させて、電子部品素子
の各電極パッドとこれに対応するベース部材の各電極ラ
ンドとをAu等のバンプで接合して電子部品素子をベー
ス部材に支持固定するとともに電気的に接続し、その
後、ベース部材にキャップ部材をシーム溶接やはんだ等
のロウ材により接合して製造される。
【0003】上記バンプ接合は、電子部品素子をベース
部材に対向させて、例えば超音波を加えながら加熱・押
圧することにより行われる。通常、このバンプ接合(超
音波印加、加熱押圧)の時間は約1秒以下で行われ、印
加する超音波出力、加圧(荷重)、温度等の接合条件は
より強い接合強度(シェア強度)を得るように設定され
る。例えば、特開平10−107078では、超音波出
力が0.04〜0.42W/バンプ、加圧が150〜3
50gf/バンプの範囲に設定してバンプ接合を行うこ
とにより、電極とバンプとの固相拡散領域が拡大して、
バンプ接合の接合強度の向上を図ることができるとされ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の電子部品の製造方法では、バンプ接合時の接合条件
を変えることにより接合強度の向上を図ることができる
が、バンプ接合時の接合時間は非常に短く、固相拡散領
域の拡大には限界があり十分な接合強度が得られない場
合があった。すなわち、バンプ接合時にバンプ材料と電
極材料が相互拡散して固相拡散領域が形成され、これに
よりバンプと電極との接合を得ているが、バンプ接合時
の接合時間は短くバンプ接合のみでは十分な固相拡散領
域を得ることができない場合があった。また、構成部材
の材料、寸法のバラツキや接合条件の接合時のバラツキ
等により目的とする接合強度が得られないという問題が
あった。
【0005】そこで、本発明の目的は、バンプとこれに
接合された電極との固相拡散領域を拡大してバンプ接合
の接合強度を向上することができ、よって、バンプ接合
部での接続不具合が生じがたい、信頼性に優れた表面波
装置の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、電子部品素子をバンプで接合してベース
部材に電気的・機械的に接続し、電子部品素子を覆うよ
うにキャップ部材をベース部材に接合してなる電子部品
の製造方法において、前記電子部品素子を前記ベース部
材にバンプを固相拡散させて接合した後に高温エージン
して該固相拡散領域を拡大させることを特徴とする。
【0007】上記の製造方法によれば、高温エージング
により、バンプとこれに接合された電子部品素子の電極
及びベース部材の電極との固相拡散領域を拡大すること
ができ、かつバラツキの小さな安定した固相拡散領域を
得ることができ、バンプ接合の接合強度を向上すること
ができる。
【0008】上記高温エージングはベース部材とキャッ
プ部材の接合の前または後のいずれに行ってもよく、バ
ンプ接合時に連続して行うようにしてもよい。
【0009】また、ベース部材とキャップ部材の接合時
に同時に行なうようにしてもよい。この場合、高温エー
ジングに相当する時間を付加するだけでよいので、工数
を低減することができる。また、上記目的を達成するた
めに、本発明は、電子部品素子をバンプで接合してベー
ス部材に電気的・機械的に接続し、電子部品素子を覆う
ようにキャップ部材をベース部材に接合してなる電子部
品の製造方法において、前記電子部品素子を前記ベース
部材にバンプ接合した後に高温エージングし、前記高温
エージングを前記ベース部材と前記キャップ部材との接
合時に同時に行なうことを特徴とする。この製造方法に
よれば、別途高温エージングの工程を設ける必要がな
く、工数を低減することができ、上記実施形態に比べ製
造コストを低減することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る電子部品の製
造方法を表面波装置を例にとって説明する。本実施形態
の表面波装置は、図1に示すように、表面波素子20の
複数の電極パッド25とベース部材10の凹部内上面の
複数の電極ランド12とがAu等のバンプ51でバンプ
接合され、表面波素子20を覆うようにキャップ部材3
0がベース部材10に高融点はんだ等のロウ材52によ
り接合されて、表面波素子20がベース部材10とキャ
ップ部材30とで形成されたパッケージ内(空間内)に
気密封止されている。
【0011】ベース部材10はアルミナ等のセラミック
スを積層することにより凹部形状に形成され、凹部内の
上面にはAuからなる電極ランド12が複数形成されて
いる。なお、図示省略しているが、ベース部材10の下
面には電極ランド12にスルーホール等により接続され
た端子電極が複数形成され、ベース部材10の下面を実
装面として実装できるように構成されている。表面波素
子20はLiTaO3、LiNbO3、水晶等の圧電基板
を備え、圧電基板上にはAlからなるIDT電極、ID
T電極に接続された電極パッド25を含む電極パターン
が周知の薄膜形成法により形成されている。
【0012】以下、本発明の一実施形態に係る表面波装
置の製造方法を説明する。まず、上記表面波素子20の
各電極パッド25上にAuまたはAuを主成分とするバ
ンプ51をボールボンディング法により形成する。な
お、バンプ形成の方法はボールボンディング法に限るも
のではなく、例えば、メッキによるバンプ形成法等の他
のバンプ形成法を採用してもよい。また、ベース部材1
0の電極ランド12上にバンプ51を予め形成するよう
にしてもよい。
【0013】次に、図2に示すように、ヒートステージ
61上にベース部材10を載せ、ベース部材10上の各
電極ランド12とこれに対応する表面波素子20の各電
極パッド25とをバンプ51を介して対向させて表面波
素子を配置し、ヒートステージ61によりベース部材1
0を加熱するとともに超音波ツール70により超音波
(振動)を印加しながら押圧して、各電極パッド25と
各電極ランド12とをバンプ51で接合する。このバン
プ接合時の加熱・押圧及び超音波印加の時間は約0.5
秒間、加熱温度は約200℃で行なった。通常、超音波
と熱を同時に印加して上記バンプ接合(AuとAuの接
合)を行う場合、加熱温度100℃〜200℃、超音波
印加時間約1秒以内で行われる。また、超音波を印加せ
ずに熱のみを印加する場合は、加熱温度300℃〜40
0℃で行われる。
【0014】次に、図3に示すように、恒温槽等の加熱
装置62内または加熱装置62上に、表面波装置を置い
て、例えば300℃の温度で約5分〜20分間高温エー
ジングを行う。
【0015】次に、図4に示すように、ベース部材10
に予めロウ材52となる高融点はんだを圧着したキャッ
プ部材30を重ね合わせて載置し、リフロー炉等の加熱
装置63により、ロウ材52を加熱・溶融して、ベース
部材10とキャップ部材30とを接合する。この接合
は、リフロー温度200℃〜360℃、リフロー時間約
20秒間で行った。なお、ベース部材とキャップ部材の
接合は、シーム溶接や樹脂接着等他の接合方法で行うよ
うにしてもよい。ロウ材としては、はんだ以外にAu−
Sn合金、低融点ガラスを用いることができる。また、
ベース部材にロウ材を予備形成するようにしてもよく、
また印刷により形成するようにしてもよい。
【0016】本実施形態の表面波装置の製造方法では、
表面波素子20をベース部材10にバンプ接合した後に
高温エージングを行っているので、バンプ51と電極パ
ッド25及び電極ランド12との固相拡散領域が拡大す
るとともに、バンプ接合時の接合条件のバラツキ等によ
る固相拡散領域のバラツキは大幅に低減されたものとな
る。すなわち、高温エージングを行うことにより、バン
プとこれに接合された電極間の固相拡散領域を拡大する
ことができ、かつバラツキの小さな安定した固相拡散領
域を得ることができ、バンプ接合の接合強度を向上する
ことができる。
【0017】上記実施形態では、高温エージングをベー
ス部材とキャップ部材の接合の前に行ったもので説明し
たが、高温エージングをベース部材とキャップ部材の接
合工程と同時に行うようにしてもよい。すなわち、上記
図4に説明したリフロー炉によるベース部材10とキャ
ップ部材30との接合工程を、接合のための時間約20
秒に、高温エージングの時間約5分〜20分を付加した
条件で行うことににより、ベース部材10とキャップ部
材30の接合と高温エージングを同時に行うことができ
る。これにより、別途高温エージングの工程を設ける必
要がなく、工数を低減することができ、上記実施形態に
比べ製造コストを低減することができる。この場合、リ
フロー温度の最高値はロウ材の融点よりも10℃〜10
0℃高い温度に設定される。
【0018】また、高温エージングをベース部材とキャ
ップ部材の接合の後に行うようにしてもよい。この場
合、高温エージングの温度はロウ材の融点よりも低い温
度で行うのが望ましい。
【0019】また、高温エージングのための加熱装置は
恒温槽やリフロー炉に限るものではなく、ホットプレー
ト等の他の加熱装置を用いてもよい。加熱装置としてバ
ンプ接合時のヒートステージを用いれば、バンプ接合後
に連続して高温エージングを行うことができ、工数を低
減することができる。
【0020】また、表面波素子の電極パッド、ベース部
材の電極ランド、バンプ材料は上記実施形態で示したも
のに限定されるものではない。例えばバンプ材料とし
て、はんだ等の金属材料、電極パッドとしてAl電極上
にAu等の電極を形成したもの、電極ランドとしてWま
たはMo等の電極上にNiメッキまたはAuメッキを施
したものを用いるようにしてもよい。
【0021】高温エージングの条件(温度、時間)はこ
れら構成部材の材料、バンプ接合条件、ベース部材とキ
ャップ部材との接合条件を考慮して設定される。特に、
高温エージングの温度はバンプとこれに接合された電極
との固相拡散領域がより効率よく拡大する温度に設定さ
れる。
【0022】次に、本発明の作用・効果を図5及び図6
を参照して説明する。図5は、高温エージングの時間と
固相拡散領域の関係を示す図であり、図6は高温エージ
ングの時間と接合強度の関係を示す図である。ベース部
材をアルミナ、電極ランドの材料をAu、表面波素子の
圧電基板をLiTaO3、電極パッドをAl、バンプ材
料をAuとし、温度300℃で高温エージングしたとき
の表面波素子の電極パッドとバンプとの接合部でのデー
タである。図5及び図6から、高温エージングを行うこ
とにより、固相拡散領域は増加し、接合強度が向上する
ことがわかる。また、エージング時間5分までは固相拡
散領域及び接合強度はほぼ時間に比例して増加すること
がわかる。これにより、高温エージングの時間は5分以
上が望ましい。
【0023】なお、上記実施形態ではキャップ部材に金
属を用いたが、キャップ部材は金属に限るものではな
く、キャップ部材にセラミックを用いてもよい。また、
ベース部材及びキャップ部材の形状は上記実施形態に限
るものではなく、例えば平板状のベース部材と凹部状の
キャップ部材とでパッケージを構成してもよい。
【0024】また、上記実施形態では表面波装置を例に
とって説明したが、例えば半導体素子をベース部材にバ
ンプ接合した半導体装置にも本発明を適用することがで
きる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の製造方法
によれば、電子部品素子をベース部材にバンプ接合した
後に高温エージングを行うので、バンプとこれに接合さ
れた電子部品素子の電極及びベース部材の電極との固相
拡散領域を拡大することができ、かつ安定した固相拡散
領域を得ることができ、バンプ接合の接合強度を向上す
ることができる。
【0026】ベース部材とキャップ部材の接合工程と高
温エージングを同時に行うことにより、別途高温エージ
ングの工程を設ける必要がなく、工数を低減することが
でき、製造コストの増加を招くこともない。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施形態に係る表面波装置の断面図である。
【図2】一実施形態に係る表面波装置のバンプ接合時の
断面図である。
【図3】一実施形態に係る表面波装置の高温エージング
時の断面図である。
【図4】一実施形態に係る表面波装置のベース部材とキ
ャップ部材の接合時の断面図である。
【図5】本発明に係る表面波装置の高温エージングの時
間と固相拡散領域の関係を示す図である。
【図6】本発明に係る表面波装置の高温エージングの時
間と接合強度の関係を示す図である。
【符号の説明】
10 ベース部材 12 電極ランド 20 表面波素子 25 電極パッド 30 キャップ部材 51 金属バンプ 52 ロウ材 61 ヒートステージ 62,63 加熱装置 70 超音波ツール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 H03H 9/02 H03H 9/25

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子部品素子をバンプで接合してベー
    ス部材に電気的・機械的に接続し、電子部品素子を覆う
    ようにキャップ部材をベース部材に接合してなる電子部
    品の製造方法において、 前記電子部品素子を前記ベース部材にバンプを固相拡散
    させて接合した後に高温エージングして該固相拡散領域
    を拡大させることを特徴とする電子部品の製造方法。
  2. 【請求項2】 電子部品素子をバンプで接合してベー
    ス部材に電気的・機械的に接続し、電子部品素子を覆う
    ようにキャップ部材をベース部材に接合してなる電子部
    品の製造方法において、 前記電子部品素子を前記ベース部材にバンプ接合した後
    に高温エージングし、 前記高温エージングを前記ベース部材と前記キャップ部
    材との接合時に同時に行なうことを特徴とする電子部品
    の製造方法。
JP10436299A 1999-04-12 1999-04-12 電子部品の製造方法 Expired - Lifetime JP3428488B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10436299A JP3428488B2 (ja) 1999-04-12 1999-04-12 電子部品の製造方法
US09/537,381 US6349870B1 (en) 1999-04-12 2000-03-29 Method of manufacturing electronic component
KR1020000018915A KR100358683B1 (ko) 1999-04-12 2000-04-11 전자 부품의 제조 방법
DE10018138A DE10018138B4 (de) 1999-04-12 2000-04-12 Verfahren zum Herstellen von Elektronikkomponenten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10436299A JP3428488B2 (ja) 1999-04-12 1999-04-12 電子部品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000299355A JP2000299355A (ja) 2000-10-24
JP3428488B2 true JP3428488B2 (ja) 2003-07-22

Family

ID=14378728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10436299A Expired - Lifetime JP3428488B2 (ja) 1999-04-12 1999-04-12 電子部品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6349870B1 (ja)
JP (1) JP3428488B2 (ja)
KR (1) KR100358683B1 (ja)
DE (1) DE10018138B4 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4137356B2 (ja) * 2000-09-07 2008-08-20 Tdk株式会社 表面弾性波素子を含む高周波モジュール部品の製造方法
JP3520414B2 (ja) 2001-04-10 2004-04-19 株式会社村田製作所 弾性表面波装置およびその製造方法、通信装置
US6778038B2 (en) * 2001-10-05 2004-08-17 Tdk Corporation Piezoelectric resonant filter, duplexer, and method of manufacturing same
JPWO2005091500A1 (ja) * 2004-03-18 2007-08-09 株式会社村田製作所 弾性表面波装置
JP5468240B2 (ja) * 2008-11-17 2014-04-09 日本電波工業株式会社 表面実装用とした温度補償水晶発振器
WO2021227010A1 (zh) * 2020-05-11 2021-11-18 中国科学院地质与地球物理研究所 一种高温固态谐振陀螺仪及其组成的钻井测量系统

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0756887B2 (ja) * 1988-04-04 1995-06-14 株式会社日立製作所 半導体パッケージ及びそれを用いたコンピュータ
US4907734A (en) * 1988-10-28 1990-03-13 International Business Machines Corporation Method of bonding gold or gold alloy wire to lead tin solder
US5071787A (en) * 1989-03-14 1991-12-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device utilizing a face-down bonding and a method for manufacturing the same
US5103290A (en) * 1989-06-16 1992-04-07 General Electric Company Hermetic package having a lead extending through an aperture in the package lid and packaged semiconductor chip
JP2984068B2 (ja) * 1991-01-31 1999-11-29 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
US5201454A (en) * 1991-09-30 1993-04-13 Texas Instruments Incorporated Process for enhanced intermetallic growth in IC interconnections
US5276955A (en) * 1992-04-14 1994-01-11 Supercomputer Systems Limited Partnership Multilayer interconnect system for an area array interconnection using solid state diffusion
US5821627A (en) * 1993-03-11 1998-10-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Electronic circuit device
US5341979A (en) * 1993-09-03 1994-08-30 Motorola, Inc. Method of bonding a semiconductor substrate to a support substrate and structure therefore
US5451274A (en) * 1994-01-31 1995-09-19 Motorola, Inc. Reflow of multi-layer metal bumps
US5867074A (en) * 1994-03-02 1999-02-02 Seiko Epson Corporation Surface acoustic wave resonator, surface acoustic wave resonator unit, surface mounting type surface acoustic wave resonator unit
US5427301A (en) * 1994-05-06 1995-06-27 Ford Motor Company Ultrasonic flip chip process and apparatus
MY112145A (en) * 1994-07-11 2001-04-30 Ibm Direct attachment of heat sink attached directly to flip chip using flexible epoxy
US5585671A (en) * 1994-10-07 1996-12-17 Nagesh; Voddarahalli K. Reliable low thermal resistance package for high power flip clip ICs
US5646068A (en) * 1995-02-03 1997-07-08 Texas Instruments Incorporated Solder bump transfer for microelectronics packaging and assembly
JP3297254B2 (ja) * 1995-07-05 2002-07-02 株式会社東芝 半導体パッケージおよびその製造方法
JP3284034B2 (ja) * 1995-10-19 2002-05-20 株式会社東芝 半導体装置およびその製造方法
DE69738289D1 (de) * 1996-07-22 2007-12-27 Honda Motor Co Ltd Verbindung zwischen leiterplatte und steckerelement
US5873161A (en) * 1996-07-23 1999-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making a Z axis interconnect circuit
JPH10107078A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Toshiba Electron Eng Corp 電子部品の製造方法及び電子部品
US5729896A (en) * 1996-10-31 1998-03-24 International Business Machines Corporation Method for attaching a flip chip on flexible circuit carrier using chip with metallic cap on solder
JPH10160794A (ja) * 1996-12-02 1998-06-19 Mitsubishi Electric Corp Ic着脱装置及びその着脱ヘッド
US5990552A (en) * 1997-02-07 1999-11-23 Intel Corporation Apparatus for attaching a heat sink to the back side of a flip chip package
JPH10289926A (ja) * 1997-04-16 1998-10-27 Toshiba Corp 半導体装置および半導体装置の製造方法
JPH1168504A (ja) * 1997-08-11 1999-03-09 Murata Mfg Co Ltd 表面波装置
US5897341A (en) * 1998-07-02 1999-04-27 Fujitsu Limited Diffusion bonded interconnect
US6127731A (en) * 1999-03-11 2000-10-03 International Business Machines Corporation Capped solder bumps which form an interconnection with a tailored reflow melting point

Also Published As

Publication number Publication date
US6349870B1 (en) 2002-02-26
JP2000299355A (ja) 2000-10-24
KR100358683B1 (ko) 2002-10-30
KR20010006978A (ko) 2001-01-26
DE10018138B4 (de) 2004-08-19
DE10018138A1 (de) 2000-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3678148B2 (ja) 圧電デバイス
CN101939832A (zh) 热机械的倒焊芯片的模片焊接
JP2001053178A (ja) 電子回路装置が封止され回路基板に実装される電子部品及びその製造方法
JP2000295069A (ja) 電子部品
JP3428488B2 (ja) 電子部品の製造方法
JP3339450B2 (ja) 表面波装置の製造方法
JPH08213425A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH1022763A (ja) 表面弾性波デバイスの実装方法
JP3520410B2 (ja) 電子部品の実装方法
JP3795644B2 (ja) 接合方法
JP4296778B2 (ja) 弾性表面波装置の製造方法
JP3368140B2 (ja) 電子部品の実装方法及びその構造
JP2821777B2 (ja) フリップチップ用ic及びその製造方法
JP3608476B2 (ja) 半導体チップ実装回路基板及び回路基板への半導体チップの実装方法
JP2000353934A (ja) 弾性表面波装置
JPH11288975A (ja) ボンディング方法及びボンディング装置
JP2002184810A (ja) ボンディング方法、ボンディング装置および実装基板
JPH11274892A (ja) 圧電振動子、ならびにその製造方法
JP3915325B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3678106B2 (ja) 圧電デバイス及びその製造方法
JPH1098352A (ja) 弾性表面波デバイス
JPH10125730A (ja) 実装構造体およびその製造方法
JPH09148878A (ja) 弾性表面波デバイス
JP2000164630A (ja) 電子部品の実装方法及び電子部品実装基板
JP2004235472A (ja) 半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090516

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100516

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100516

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110516

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120516

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130516

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140516

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term