JP3368140B2 - 電子部品の実装方法及びその構造 - Google Patents

電子部品の実装方法及びその構造

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JP3368140B2 JP06667396A JP6667396A JP3368140B2 JP 3368140 B2 JP3368140 B2 JP 3368140B2 JP 06667396 A JP06667396 A JP 06667396A JP 6667396 A JP6667396 A JP 6667396A JP 3368140 B2 JP3368140 B2 JP 3368140B2
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    • H05K3/3494Heating methods for reflowing of solder

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品をフェイ
スダウンボンディングによって基板に実装する方法とそ
の構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図3(a)〜(d)及び図4は従来例を
示すもので、図3(a)(b)にはフェイスダウンボン
ディングを要する電子部品21の要部断面図及び下面図
を、図3(c)(d)には実装用基板23の断面図及び
上面図を、図4には部品実装方法及び構造の説明図をそ
れぞれ示してある。電子部品21の下面所定位置には外
部電極21aが形成され、該外部電極21a上には半
田,Au等から成るバンプ22が形成されている。一
方、基板23の上面所定位置には電子部品21の外部電
極21aに対応した外部電極23aが形成されている。
【0003】上記の電子部品21を基板23に実装する
ときには、図4に示すように、電子部品21のバンプ2
2と基板23の外部電極23aとを位置合わせして重ね
合わせた後、半田,導電性樹脂,異方導電性樹脂等の接
合材を用いてバンプ22と外部電極23aとの電気的及
び機械的な接合を行う。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の実装方法で
は、バンプ22を形成するためにメッキ,蒸着,ボール
ボンディング等の工程が必要で、バンプ形成のために工
数及びコストを要する問題点がある。また、電子部品2
1が発熱素子であるときにはバンプ22を通じて放熱が
なされるが、バンプ22の大きさが外部電極21aより
も小さいこと、またバンプ22自体に高さがあることが
放熱性に悪影響を及ぼす問題点がある。
【0005】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、バンプ形成に要する工数
及びコストを排除できると共に、電子部品が発熱素子で
あるときの放熱性を向上できる電子部品の実装方法とそ
の構造を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る実装方法は、発熱素子である電子部品
をフェイスダウンボンディングによってAl 2 3 ,ガラ
スセラミック,AlNの何れかから成る基板に実装する
方法であって、電子部品の膜電極はAuメッキ膜から成
基板の膜電極はAu厚膜から成り、電子部品の膜電極
と基板の膜電極とを直接重ね合わせた状態で膜電極相互
の接触部分に所定の荷重及び熱を加えて膜電極相互を金
属間拡散により直接接合する、ことをその特徴としてい
る。また、本発明に係る実装構造は、発熱素子である
子部品がフェイスダウンボンディングによってAl
2 3 ,ガラスセラミック,AlNの何れかから成る基板
に実装された構造であって、電子部品の膜電極はAuメ
ッキ膜から成り基板の膜電極はAu厚膜から成り、電子
部品の膜電極と基板の膜電極とは直接重ね合わされてい
て、膜電極相互の接触部分に所定の荷重及び熱を加える
ことによる金属間拡散により直接接合されている、また
は、膜電極相互の接触部分に所定の荷重及び熱を加える
ことと超音波振動の付与とレーザ光の照射の少なくとも
一方の併用による金属間拡散により直接接合されてい
る、ことをその特徴としている。
【0007】本発明では、電子部品の電極と基板の
電極とを金属間拡散によって直接接合しているので、従
来のようなバンプを必要としない、電子部品と基板と
の接触面積を拡大でき、しかも、両者間の距離小さく
できる。
【0008】
【発明の実施の形態】図1(a)〜(d)及び図2は本
発明の一実施形態を示すもので、図1(a)(b)には
フェイスダウンボンディングを要する電子部品1の要部
断面図及び下面図を、図1(c)(d)には実装用基板
2の断面図及び上面図を、図2には部品実装方法及び構
造の説明図をそれぞれ示してある。
【0009】電子部品1は例えばGaAsのFETで、
その下面所定位置には、膜厚数μmのAuメッキ膜から
成る外部電極1aが形成されている。一方、基板2は例
えばAl23から成り、その上面所定位置には、膜厚1
〜10μmのAu厚膜から成る外部電極2aが上記電子
部品1の外部電極1aに対応して形成されている。
【0010】上記の電子部品1を基板2に実装するとき
には、図2に示すように、電子部品1の外部電極1aと
基板2の外部電極2aとを位置合わせして重ね合わせた
後、ヒータHを内蔵した加圧加熱治具Jを用いて、電子
部品1に1kgfの荷重を加えながらこれを300℃に
加熱する。この荷重と熱によって互いの電極接触部分に
金属間拡散が生じ、電子部品1の外部電極1aと基板2
の外部電極2aとが電気的及び機械的に接合される。電
子部品1と基板2の隙間をエポキシ等の樹脂で封止する
場合には、基板2上の必要エリアに予め樹脂をポッティ
ングしてからその上に電子部品1をボンディングすると
よい。
【0011】上記の電極接合をより的確に行うには、電
子部品1と基板2の電極1a,2aがともに表面酸化し
難く、しかもある程度の厚みがあって変形し易いことが
肝要である。また、両方の電極表面が平滑すぎず少なく
とも基板2側の電極2aの表面にはある程度の凹凸(厚
膜電極の表面に現れる程度の凹凸)があった方がよく、
また基板2側の電極幅を極力均一にして各電極2aへの
荷重が不均一になることを防止するとよい。
【0012】このように、上述の実装方法によれば、電
子部品1の外部電極1aと基板2の外部電極2aとを金
属間拡散によって直接的に接合できるので、部品実装に
従来のようなバンプを必要とせず、バンプ形成に要する
工数及びコストを排除して部品実装を簡単且つ低コスト
で実施できる利点がある。
【0013】また、電子部品1と基板2との接触面積が
大きくなり、しかも距離も小さくなることから、電子部
品1の外部電極1aと基板2の外部電極2aとの間の熱
抵抗を低減して、電子部品1が発熱素子であるときの放
熱性を格段向上できる利点がある。ちなみに本実施形態
による接合では、従来法で20℃/Wであった熱抵抗を
10℃/Wとすることができた。
【0014】尚、上述の実施形態では、基板としてAl
23から成るものを例示したが、ガラスセラミックやA
lNから成る基板を用いることも可能であり、AlN基
板の場合には放熱性をさらに向上させることができる。
【0015】また、上述の実施形態では、基板側の電極
としてAu厚膜から成るものを例示したが、Ag系また
はCu系厚膜から成る電極を使用すれば低コスト化がさ
らに実現でき、Cu系厚膜を使用した場合はマイグレー
ションも軽減できる。
【0016】さらに、上述の実施形態では、電子部品と
してGaAsFETを例示したが、Al電極を備えたS
iIC等の他の部品も同様の方法で実装できる。
【0017】さらにまた、上述の実施形態では、荷重及
び熱に基づく金属間拡散により接合を行うものを例示し
たが、電極接合時に接合部分に超音波振動を付与するよ
うにしたり、また電極接合時に接合部分にレーザ光を照
射するようにすれば、これら振動及びレーザ光によって
拡散作用を助長して接合促進を図ることができる。特に
レーザ光照射の場合はその照射熱を金属間拡散に補助的
に利用できるので、加圧加熱治具の熱量を低くしても所
期の電極接合が可能となり、また加圧加熱治具からの熱
によって電子部品自体が受ける熱ダメージを軽減でき
る。
【0018】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
電子部品の膜電極と基板の膜電極とを金属間拡散によっ
て直接接合しているので、従来のようなバンプを必要と
せず、バンプ形成に要する工数及びコストを排除して部
品実装を簡単且つ低コストで実施できる。また、電子部
品と基板との接触面積を拡大でき、しかも、両者間の距
離を小さくできるので、電子部品の電極と基板の
極との間の熱抵抗を低減して電子部品が発熱素子である
ときの放熱性を格段向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電子部品の要部断面図及び下面図
と、実装用基板の断面図及び上面図
【図2】本発明に係る部品実装方法及び構造の説明図
【図3】従来例を係る電子部品の要部断面図及び下面図
と、実装用基板の断面図及び上面図
【図4】従来例に係る部品実装方法及び構造の説明図
【符号の説明】
1…電子部品、1a…外部電極、2…基板、2a…外部
電極。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−161780(JP,A) 特開 平8−31867(JP,A) 特開 平7−273243(JP,A) 特開 平8−45994(JP,A) 特開 平7−176567(JP,A) 特開 平4−286889(JP,A) 特開 平4−290294(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/32 H01L 21/60 H05K 1/18

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 発熱素子である電子部品をフェイスダウ
    ンボンディングによってAl 2 3 ,ガラスセラミック,
    AlNの何れかから成る基板に実装する方法であって、 電子部品の膜電極はAuメッキ膜から成り基板の膜電極
    はAu厚膜から成り、 電子部品の膜電極と基板の膜電極とを直接重ね合わせた
    状態で膜電極相互の接触部分に所定の荷重及び熱を加え
    て膜電極相互を金属間拡散により直接接合する、 ことを特徴とする電子部品の実装方法。
  2. 【請求項2】 膜電極相互の接触部分に荷重及び熱を加
    えるときに同部分に超音波振動を付与する、 ことを特徴とする請求項1記載の電子部品の実装方法。
  3. 【請求項3】 膜電極相互の接触部分に荷重及び熱を加
    えるときに同部分にレーザ光を照射する、 ことを特徴とする請求項1または2記載の電子部品の実
    装方法。
  4. 【請求項4】 発熱素子である電子部品がフェイスダウ
    ンボンディングによってAl 2 3 ,ガラスセラミック,
    AlNの何れかから成る基板に実装された構造であっ
    て、 電子部品の膜電極はAuメッキ膜から成り基板の膜電極
    はAu厚膜から成り、 電子部品の膜電極と基板の膜電極とは直接重ね合わされ
    ていて、膜電極相互の接触部分に所定の荷重及び熱を加
    えることによる金属間拡散により直接接合されている、 ことを特徴とする電子部品の実装構造。
  5. 【請求項5】 発熱素子である電子部品がフェイスダウ
    ンボンディングによってAl 2 3 ,ガラスセラミック,
    AlNの何れかから成る基板に実装された構造であっ
    て、 電子部品の膜電極はAuメッキ膜から成り基板の膜電極
    はAu厚膜から成り、 電子部品の膜電極と基板の膜電極とは直接重ね合わされ
    ていて、膜電極相互の接触部分に所定の荷重及び熱を加
    えることと超音波振動の付与とレーザ光の照射の少なく
    とも一方の併用による金属間拡散により直接接合されて
    いる、 ことを特徴とする電子部品の実装構造。
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