JP3438583B2 - 異方導電性フィルムの接続方法 - Google Patents

異方導電性フィルムの接続方法

Info

Publication number
JP3438583B2
JP3438583B2 JP12570998A JP12570998A JP3438583B2 JP 3438583 B2 JP3438583 B2 JP 3438583B2 JP 12570998 A JP12570998 A JP 12570998A JP 12570998 A JP12570998 A JP 12570998A JP 3438583 B2 JP3438583 B2 JP 3438583B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acf
conductive particles
conductive film
anisotropic conductive
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP12570998A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH11326935A (ja
Inventor
泰行 ▲高▼野
雅俊 竹田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP12570998A priority Critical patent/JP3438583B2/ja
Publication of JPH11326935A publication Critical patent/JPH11326935A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3438583B2 publication Critical patent/JP3438583B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/831Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus
    • H01L2224/83101Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector the layer connector being supplied to the parts to be connected in the bonding apparatus as prepeg comprising a layer connector, e.g. provided in an insulating plate member

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、LCD(Liqu
id Crystal Display−液晶ディスプ
レイ−)とフレキシブル基板との接続剤などとして用い
られる異方導電性フィルムの接続方法に関するものであ
る。 【0002】 【従来の技術】導電接続剤として用いられている異方導
電性フィルム−Anisotropic Conduc
tive Film−(以下、「ACF」という。)
は、金属コートプラスチック粒子や金属粒子を熱硬化性
樹脂等の樹脂に分散した導電フィルムであり、その異方
導電性および接着性を利用して、電子部品と基板との電
気的接続に広く利用されている。 【0003】以下に、従来のACFおよびACFの接続
技術について説明する。ここで図4は従来のACFを示
す断面図、図5は図4のACFによる実装プロセスを連
続的に示す工程図、図6は半導体チップに対するボール
バンプ(二段突起接続部材)の形成プロセスを連続的に
示す工程図、図7は半導体チップ上に形成されためっき
バンプとボールバンプとの構成を示す比較図、図8はボ
ールバンプの形成された半導体チップを図4に示すAC
Fによりプリント基板に接続した状態を示す断面図であ
る。 【0004】まず、ACFの構成について図4を参照し
て説明する。ACF6は、既に述べたように、熱硬化性
樹脂等の絶縁性と接着性を兼ねた接着剤7中に金属コー
トプラスチック粒子や金属粒子等の導電粒子5を分散配
置した接着フィルムである。そして、ACF6における
導電粒子7の充填量と導電率の関係から、ACF6の導
電粒子充填量に対する導電率には異方性がある。すなわ
ち、ACF6は、その膜厚方向で高い導電性を示す一
方、導電粒子5が互いに孤立しているため、平面方向に
は高い絶縁性を示すという特徴を持ったものである。 【0005】次に、従来の半導体チップ1をACF6を
用いてプリント配線基板8に接続するプロセスについて
図5を参照しながら説明する。 【0006】まず、仮載せツール9を用いて、一方の接
続対象部材であるプリント配線基板8とACF6とを熱
と荷重(約80℃で5sec、数十g/バンプ)を加え
て仮圧着する(図5(a))。 【0007】次に、チップ最終工程において金のめっき
バンプ10が形成された他方の接続対象部材である半導
体チップ1をACF6が仮圧着されたプリント基板8の
チップ実装部に位置合わせし、熱を加えずに荷重の印加
のみで仮実装する。なお、めっきバンプ10は、めっき
下地の接続金属としてたとえばTi,Crなど、金属間
化合物生成防止のバリアメタルとしてたとえばPt,N
i,Cuなどが積層され、最上層に金めっきにてバンプ
が形成されたものである(図5(b))。 【0008】そして、最後に熱圧着用の加熱ツール11
を用いて熱と荷重を印加(約200℃で20sec、数
十g/バンプ)して本圧着を行う。このとき、加熱・加
圧によってACF6中の接着剤7が溶融しながら、めっ
きバンプ10とプリント基板8とのパターンの間から流
れ出し(図5(c))、分散されている導電粒子5がめ
っきバンプ10とプリント基板8のパターン間に捕獲さ
れて電気的導通が取られる。また、導電粒子5とめっき
バンプ10との間の機械的接触、および導電粒子5とプ
リント基板8のパターンとの間の機械的接触は、ACF
6内の接着剤7の硬化収縮力と接着剤の高い接着力によ
り保持されている(図5(d))。 【0009】ここで、バンプに関しては、先にも述べた
ように、現状のACF接合ではめっきによるものが殆ど
である。しかしながら、最近、低コストで汎用性が高い
という理由で、図6に示すプロセスにて形成されるボー
ルバンプ(二段突起接続部材)2を用いるケースが増え
てきている。 【0010】ボールバンプ2を形成するための具体的な
プロセスは、まずキャピラリ14から突出している金ワ
イヤ12の先端にイニシャルボール13を形成する。次
に超音波、荷重および温度の印加により、半導体チップ
1上の電極にこのイニシャルボール13をボンディング
する。そして、キャピラリ14を引き上げて金ワイヤ1
2を切断する。最後に、切断された先端を平坦なプレー
トを押し当てることにより、ボールバンプ2が形成され
る。 【0011】しかしながら、このようなボールバンプ2
でACF接合を実現するには、幾つかの課題がある。つ
まり、図7に示すように、めっきバンプ10と異なり、
ボールバンプ2は形状が二段になるという性質上、半導
体チップ1との接合面積が減少するという問題がある。
このことは、ACF接合の信頼性確保のために必須の電
気的接続に関与する導電粒子5の数が減少することに繋
がり、信頼性の低下を引き起こす。 【0012】また、今後、プリント基板8のパターンピ
ッチの狭ピッチ化に伴うパターン間隔の狭小化が進むこ
とにより、図8のa部に示すように、導電粒子5による
パターン間ショートの可能性が出てくる。 【0013】ここで、その絶縁性不良の問題を回避する
ためにACF6中の導電粒子5の数を低減させると、さ
らなる狭ピッチ化に伴うボールバンプ2の形状の小型化
つまり接合部面積の減少により、ACF6の接合信頼性
を保持する接合部の捕獲粒子数が低減し、信頼性の低下
を引き起こすといった悪循環が生じてくる。 【0014】 【発明が解決しようとする課題】このように、従来のA
CFでは、ボールバンプを用いて半導体チップをプリン
ト基板に実装した場合、ボールバンプの二段突起構造に
よる接合部面積の低減およびパターンピッチの狭ピッチ
化に伴うボールバンプ形状の小型化つまり接合部面積の
小型化により、ACFの接合信頼性を保持する接合部の
導電粒子数が低減して接合信頼性の低下を引き起こす。 【0015】また、狭ピッチ化に伴うバンプ間の狭スペ
ース化により、導電粒子によるバンプ間ショートといっ
た絶縁性不良の問題が出てくる。そして、その絶縁性不
良の問題を回避するためにACF中の導電粒子数を低減
させると、ACFの接合信頼性を保持する接合部の導電
粒子数がさらに低減して信頼性の低下を引き起こすこと
になる。 【0016】そこで、本発明は、キャピラリにより形成
されたボールバンプから成る二段突起接続部材が形成さ
れた一方の接続対象部材と他方の接続対象部材とを高い
接合信頼性のもとで接合することのできる異方導電性フ
ィルムの接続方法を提供することを目的とする。 【0017】 【0018】 【0019】【課題を解決するための手段】 本発明の異方導電性フィ
ルムの接続方法は、絶縁性と接着性とを有する樹脂で形
成された絶縁層と、絶縁性と接着性とを有する樹脂中に
電気的に導通をさせる多数の導電粒子が分散配置された
粒子層とを有する異方導電性フィルムを用いて、少なく
とも一方の接続対象部材はキャピラリにより形成された
ボールバンプから成る二段の突起に形成された二段突起
接続部材を有し、対向する2つの接続対象部材を電気的
に接続し且つ機械的に固着する異方導電フィルムの接続
方法であって、二段突起接続部材を有する接続対象部材
と異方導電性フィルムの絶縁層とを対向させて配置し、
接続対象部材を介して異方導電性フィルムを加熱し且つ
加圧して対向する2つの接続対象部材を電気的に接続し
且つ機械的に固着するようにし、前記粒子層の厚みを前
記二段突起接続部材の先端部の段を構成する突出量以下
したことを特徴とするものである。 【0020】これにより、二段突起接続部材が形成され
た一方の接続対象部材と他方の接続対象部材とを高い接
合信頼性のもとで接合することが可能になる。 【0021】 【0022】 【0023】 【0024】【発明の実施の形態】 本発明は、絶縁性と接着性とを有
する樹脂で形成された絶縁層と、絶縁性と接着性とを有
する樹脂中に電気的に導通をさせる多数の導電粒子が分
散配置された粒子層とを有する異方導電性フィルムを用
いて、少なくとも一方の接続対象部材はキャピラリによ
り形成されたボールチップから成る二段の突起に形成さ
れた二段突起接続部材を有し、対向する2つの接続対象
部材を電気的に接続し且つ機械的に固着する異方導電
フィルムの接続方法であって、二段突起接続部材を有す
る接続対象部材と異方導電性フィルムの絶縁層とを対向
させて配置し、接続対象部材を介して異方導電性フィル
ムを加熱し且つ加圧して対向する2つの接続対象部材を
電気的に接続し且つ機械的に固着するようにし、前記粒
子層の厚みを前記二段突起接続部材の先端部の段を構成
する突出量以下にしたことを特徴とする異方導電性フィ
ルムの接続方法であり、二段突起接続部材が形成された
一方の接続対象部材と他方の接続対象部材とを高い接合
信頼性のもとで接合することが可能になるという作用を
有する。 【0025】 【0026】 【0027】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図3を用いて説明する。なお、これらの図面におい
て同一の部材には同一の符号を付しており、また、重複
した説明は省略されている。 【0028】図1は本発明の一実施の形態によるACF
を2つの接合対象部材とともに示す断面図、図2は図1
のACFを想到するに至ったACFの構成を示す説明
図、図3は図2のACFによる電気的接続の状態を示す
説明図である。 【0029】図1に示すように、本実施の形態のACF
20は、半導体チップ1とプリント基板8という2つの
接続対象部材間を電気的および機械的に接続するもの
で、絶縁層3と、絶縁層3とともに積層構造をなす粒子
層4とから構成されている。 【0030】ここで、絶縁層3は、絶縁性および接着性
を有するたとえばエポキシ系の樹脂からなる。また、粒
子層4は、絶縁性および接着性を有する。たとえばエポ
キシ系の樹脂中に多数の導電粒子5が分散配置されたも
のからなる。導電粒子5には、たとえば金属コートプラ
スチック粒子や金属粒子などが用いられる。なお、絶縁
層3および粒子層4の樹脂はエポキシ系のものに限定さ
れるものではなく、さらに熱硬化性、熱可塑性の樹脂で
もよい。そして、絶縁層3と粒子層4の樹脂の材質は異
なるものであってもよい。 【0031】このようなACF20は、膜厚方向に押圧
されると、押圧力によって導電粒子5が相互に接合し、
これらが連携して膜厚方向に対してのみ電気的導通を発
生させるようになっている。 【0032】なお、一方の接続対象部材である半導体チ
ップ1には二段の突起に形成された二段突起接続部材で
あるボールバンプ(二段突起接続部材)2が形成されて
いる。ここで、ボールバンプ2の材質としては金やアル
ミなどが使用できるが、特にACF20による接合では
金であることが好ましい。また、他方の接続対象部材で
あるプリント基板8には電極8aが形成されている。こ
こで、プリント基板8の基板にはたとえばセラミックな
どからなる。また、電極8aはたとえば銅やタングステ
ンなどからなり、望ましくは金めっきによる表面処理が
施されている。 【0033】そして、ACF20の絶縁層3をボールバ
ンプ2の形成された半導体チップ1側に、粒子層4を電
極8aの形成されたプリント基板8側にそれぞれ向けて
ACF20に圧力を加えると、ボールバンプ2と電極8
aとが電気的に接続されて半導体チップ1とプリント基
板8とが機械的に接続される。 【0034】図示するように、ACF20の粒子層4の
厚みをt1、全体の厚みをt2とし、ボールバンプ2の
先端部(つまり、対向する接続対象部材であるプリント
基板8に近い側)の突出量をt3、全体の突出量をt4
とした場合において、粒子層4の厚みt1は先端部の突
出量t3と同じか、それよりも薄くなっている。 【0035】ここで、ACF20を前述のような絶縁層
3と粒子層4とからなる2層構造とした理由を図2およ
び図3を用いて説明する。 【0036】図2において、隣接するボールバンプ2に
おいて、バンプ基部の間隔をG1、先端部の間隔をG2
とした場合、G2>G1の関係が成立している。したが
って、ACF6中の導電粒子5数を増大させることによ
り接合に関与する粒子数を増大させようとすると、G1
部においてショートの発生率が高くなる。これに対し、
G2部はG1部よりスペースが広いため、必然的にショ
ートの発生率は低くなる。 【0037】このようなACF6の接合では、図3にお
いて、まずツール加熱により、ACF6はボールバンプ
2側つまり半導体チップ1側から溶融し始める。する
と、加圧によりボールバンプ2の下に位置する導電粒子
5がボールバンプ2の周囲へと押し出されていく。さら
に加熱および加圧が進行すると、プリント基板8側が溶
融し始め、同様に導電粒子5はボールバンプ2の周囲へ
と押し出されていく。そして、最終的にプリント基板8
に最も近い導電粒子5が流動し始めようとしたところ
で、これらの導電粒子5は加圧によりボールバンプ2と
プリント基板8との間に押さえ込まれる。 【0038】したがって、接合に関与している導電粒子
5はプリント基板8側に最も近いところに位置する導電
粒子5であり、半導体チップ1側の導電粒子5は、接合
時にその殆どが流動してしまうために、接合には関与し
ていない。 【0039】とするならば、図1に示すように、接合に
殆ど関与しない部分には導電粒子5を含まない絶縁層3
を形成し、接合に関与する部分には導電粒子5を含む粒
子層4を形成する。そして、このような2層構造におい
て、導電粒子5を含む粒子層4の厚みt1をボールバン
プ2の先端部の突出量t3以下とする。 【0040】なお、ここでのACF20は、形状の異な
る各々のボールバンプ2に対応して、粒子層4の厚みを
コントロールするものである。 【0041】このような構成のACF20により、ショ
ート発生率の高いG1部においては高い絶縁性を保つこ
とが可能となる。 【0042】また、導電粒子5を含む粒子層4では、図
2に示す導電粒子5を含む層のみで構成されたACF6
の導電粒子5が凝集されているので、接合に関与する導
電粒子5の数の向上が図られいる。例えば50μm厚、
導電粒子数4万個/mm2のACF20において、導電
粒子5を含む粒子層厚25μm、導電粒子5を含まない
絶縁層厚25μmという2層構造にしたとき、接合に関
与する部分の導電粒子数は2倍になる。また、導電粒子
5を含む粒子層厚18μm、導電粒子5を含まない絶縁
層厚32μmという2層構造にしたとき、接合に関与す
る部分の導電粒子数は約3倍になる。したがって、全体
の導電粒子5の数を増大させることなく、接合に関与す
る導電粒子5の数を増大させることが可能となる。 【0043】なお、このとき、導電粒子5を含む粒子層
4の粒子数が増えることによりG2部の絶縁性の悪化が
懸念されるが、ACF20のトータルの厚みの中で考え
れば、単層の状態でも2層構造にしても導電粒子5の数
は変わらず、また、ACF20は接合時に熱により流動
することから、導電粒子5はG2部のみに溜まることな
く全体に流動する。よって、絶縁性に関しても良好な信
頼性を得ることが可能になる。さらに、狭ピッチ化に伴
う接合部の導電粒子数の低減という問題も、導電粒子5
数を増大することなく解決することができる。 【0044】これにより、二段突起接続部材が形成され
た一方の接続対象部材である半導体チップ1と他方の接
続対象部材であるプリント基板8とを高い接合信頼性の
もとで接合することが可能になる。 【0045】以上の説明は粒子層4の厚みをコントロー
ルするものであるが、2層構造のACF20の導電粒子
5を含む粒子層4の厚さがどのようなものであっても対
応が可能とするには、ボールバンプ2の形成条件をコン
トロールするようにする。このときには、ボールバンプ
2の二段突起の先端部の突出量を2層構造ACF20の
粒子層4の厚以上に加工するようにする。 【0046】具体的には、ボールバンプ2の先端の高さ
のバラツキや形状を整えるためにフラットニング工程の
フラットニング荷重を制御したり、使用するキャピラリ
で形状を制御することにより行う(図6参照)。これに
より、2層構造のACF20における粒子層4の厚みに
左右されることなく、接合信頼性に係わる接合部捕獲粒
子数を十分に確保し、また絶縁信頼性を向上し、接合信
頼性を高めることが可能になる。 【0047】 【発明の効果】以上のように、本発明によれば、二段突
起接続部材が形成された一方の接続対象部材と他方の接
続対象部材とを高い接合信頼性のもとで接合することが
可能になるという有効な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施の形態によるACFを2つの接
合対象部材とともに示す断面図 【図2】図1のACFを想到するに至ったACFの構成
を示す説明図 【図3】図2のACFによる電気的接続の状態を示す説
明図 【図4】従来のACFを示す断面図 【図5】図4のACFによる実装プロセスを連続的に示
す工程図 【図6】半導体チップに対するボールバンプ(二段突起
接続部材)の形成プロセスを連続的に示す工程図 【図7】半導体チップ上に形成されためっきバンプとボ
ールバンプとの構成を示す比較図 【図8】ボールバンプの形成された半導体チップを図4
に示すACFによりプリント基板に接続した状態を示す
断面図 【符号の説明】 1 半導体チップ(接続対象部材) 2 ボールバンプ(二段突起接続部材) 3 絶縁層 4 粒子層 5 導電粒子 8 プリント配線基板(接続対象部材) 20 異方導電性フィルム(ACF)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1345

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】絶縁性と接着性とを有する樹脂で形成され
    た絶縁層と、絶縁性と接着性とを有する樹脂中に電気的
    に導電をさせる多数の導電粒子が分散配置された粒子層
    とを有する異方導電性フィルムを用いて、少なくとも一
    方の接続対象部材は、キャピラリにより形成されたボー
    ルバンプから成る二段の突起に形成された二段突起接続
    部材を有し、対向する2つの接続対象部材を電気的に接
    続し且つ機械的に固着する異方導電フィルムの接続方
    法であって、 前記二段突起接続部材を有する前記接続対象部材と前記
    異方導電性フィルムの前記絶縁層とを対向させて配置
    し、 前記接続対象部材を介して前記異方導電性フィルムを加
    熱し且つ加圧して対向する2つの前記接続対象部材を電
    気的に接続し且つ機械的に固着するようにし、前記粒子
    層の厚みを前記二段突起接続部材の先端部の段を構成す
    る突出量以下にしたことを特徴とする異方導電性フィル
    ムの接続方法。
JP12570998A 1998-05-08 1998-05-08 異方導電性フィルムの接続方法 Expired - Fee Related JP3438583B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12570998A JP3438583B2 (ja) 1998-05-08 1998-05-08 異方導電性フィルムの接続方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12570998A JP3438583B2 (ja) 1998-05-08 1998-05-08 異方導電性フィルムの接続方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11326935A JPH11326935A (ja) 1999-11-26
JP3438583B2 true JP3438583B2 (ja) 2003-08-18

Family

ID=14916809

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12570998A Expired - Fee Related JP3438583B2 (ja) 1998-05-08 1998-05-08 異方導電性フィルムの接続方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3438583B2 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002075064A (ja) * 2000-08-23 2002-03-15 Tdk Corp 異方導電性フィルム及びその製造方法並びに異方導電性フィルムを用いた表示装置
JP2002280716A (ja) * 2001-03-19 2002-09-27 Pioneer Electronic Corp 電子部品の取付方法及び接着体
JP3966516B2 (ja) * 2001-06-20 2007-08-29 東レエンジニアリング株式会社 実装方法および装置
JP2005260138A (ja) * 2004-03-15 2005-09-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 基板装置
CN101897245B (zh) * 2007-12-17 2013-03-13 日立化成工业株式会社 电路连接材料及电路部件的连接结构

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11326935A (ja) 1999-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5347222B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2769491B2 (ja) 電気的装置
JP2001176918A (ja) テープキャリア型半導体装置、その製造方法及びそれを用いた液晶モジュール
US6528889B1 (en) Electronic circuit device having adhesion-reinforcing pattern on a circuit board for flip-chip mounting an IC chip
JPH1126631A (ja) 半導体装置とその製造方法
JP3436170B2 (ja) 異方性導電フィルム、これを用いた半導体装置及びその製造方法
JP2008186843A (ja) フレキシブル基板の接合構造
JP3725300B2 (ja) Acf接合構造
JP2000277649A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3438583B2 (ja) 異方導電性フィルムの接続方法
JPH114064A (ja) 異方性導電樹脂及びこれを用いた電子部品の実装構造
JPH10125725A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3458707B2 (ja) 実装ユニット
JP2004247621A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2006310583A (ja) 複合基板およびその製造方法
JP3468103B2 (ja) 電子部品の実装方法
JPH1116946A (ja) 半導体装置の実装方法
JP4520052B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2967560B2 (ja) フィルムキャリアの接続構造体
JP3383774B2 (ja) 半導体素子の実装方法
JP3598058B2 (ja) 回路基板
JPH0513120A (ja) 異方性導電テープコネクタと光硬化性樹脂を用いた電子部品実装構造
JPH11135173A (ja) 厚さ方向導電シート及びその製造方法
JP3934739B2 (ja) 差込み型電子制御ユニット、および配線基板とプラグ部材との接続構造
JPH1187898A (ja) チップ実装用配線板

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080613

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090613

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100613

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100613

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees