JP3237854B2 - 処理ステーションの管理装置 - Google Patents

処理ステーションの管理装置

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JP3237854B2 JP50041598A JP50041598A JP3237854B2 JP 3237854 B2 JP3237854 B2 JP 3237854B2 JP 50041598 A JP50041598 A JP 50041598A JP 50041598 A JP50041598 A JP 50041598A JP 3237854 B2 JP3237854 B2 JP 3237854B2
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義一 三浦
政也 永田
淳二 原田
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Tokyo Electron Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、例えば塗布現像装置及び露光装置を組み合
わせた処理システムを管理する処理ステーションの管理
装置に関する。
背景技術 半導体製造プロセスの中に、半導体ウエハの表面にレ
ジストを塗布し、次いでこの半導体ウエハに対して露光
を行った後、現像処理を行い、こうして所定パターンに
対応するマスクを形成する工程がある。この工程は、FA
化や、ウエハ材料の大口径化にともない、塗布現像装置
と露光装置との接続が必要となっている。塗布現像装置
と露光装置とが別体に構成されている理由は以下のこと
である。
即ち、露光工程におけるパターンの情報伝達媒体とし
て光、Ｘ線、電子線、イオン線などの種類があるが、媒
体の種類によって、あるいはパターンの種別によって露
光装置の機種が異なるのに対し、塗布現像工程では処理
の種類が変わってもレジストや現像液の種類、あるいは
ベーキングなどの処理時間を変えるだけで対応でき、ハ
ード構成については共通に使用できる部分が多いため装
置を共通化することができ、従って、塗布現像装置と露
光装置とが一体化せずに別体な構造としている。
塗布現像装置及び露光装置は、夫々パーソナルコンピ
ュータなどの制御装置を備えており、各制御装置により
マニュアルでスタート指示やロット投入の開始の指示あ
るいはレシピの入力などを行うことができるように構成
されている。ところで半導体製造工場では、１つのフロ
アに塗布現像装置及び露光装置の組が多数設置されてお
り、これら装置の複数組を上位の制御部で管理するよう
にしている。
こうした管理を行うための従来の構成では、塗布現像
装置と露光装置の組が複数組、例えば６組が複数のリモ
ートコントローラにそれぞれ接続され、更に複数のリモ
ートコントローラが、例えば１フロア全体を管理するホ
ストコンピュータに接続されている。各組の各装置とリ
モートコントローラとの接続は、各組の各装置に設けら
れている制御装置（パーソナルコンピュータ）のインタ
ーフェイスとリモートコントローラ側のインターフェイ
スとを夫々ケーブルで接続することによって行われる。
リモートコントローラには、塗布現像のためのレシピ
（処理レシピ）と露光のためのレシピとを組み合わせた
レシピの複数の組が夫々識別コードと対応付けて格納さ
れている。このリモートコントローラは、ホストコンピ
ュータから識別コードを受けとることにより、あるいは
操作パネルからマニュアルで識別コードが入力されるこ
とにより識別コードに対応した塗布現像レシピ及び露光
レシピの組が選択され、これらレシピが塗布現像装置及
び露光装置にそれぞれダウンロードされる。
各組の各装置の管理については、各操作パネルでマニ
ュアル操作によって処理の設定や指示を行うこともでき
るが、リモートコントローラを用いる場合には、リモー
トコントローラからスタート指示、ロットの切り替わり
指示、及びレチクルの交換指示などや選択された塗布現
像レシピ及び露光レシピなどが対応する装置に振り分け
て送られると共に、これら装置から処理の進捗状況や処
理結果あるいはアラーム報告などがリモートコントロー
ラに送られる。また、塗布現像装置の制御装置と露光装
置の制御装置とは、ウエハ受け渡し用のタイミング信号
を通信するためのケーブルによって互いに接続されてい
る。即ち、各組の両装置間で搬送装置によりウエハを受
け渡しするときに、塗布現像装置側の搬送装置、露光装
置側の搬送ロボット及び中間の受け渡しのための搬送ロ
ボットが所定のシーケンスに従って動作するように、各
ロボットの動作時にタイミング信号を装置の一方から他
方に送り、両装置間でのウエハの自動受け渡しを行うよ
うにしている。
しかしながら従来の集中管理装置では、次のような問
題がある。
（１）通信量にともなう、リモートコントローラの処理
負荷が多いので、きめ細かい管理が困難である。即ちリ
モートコントローラは、多数台の塗布現像装置及び露光
装置を集中管理しているので、各ウエハの所在など詳細
な情報を吸い上げて制御指示を各装置に出力しようとす
ると、通信量及び処理の負荷が大きくなってしまう。一
方、塗布、露光及び現像工程は、ある処理が終了してか
ら次ぎの処理に移るまでの時間（タクト時間）について
全体的に厳しい管理が要求される。例えば、化学増幅型
レジストを用いてｉ線露光などで、例えば、0.25ミクロ
ンクラスの微細処理をする場合、露光後のベーク前処理
までの処理時間を厳格に管理する必要がある。この場
合、リモートコントローラは、塗布現像装置及び露光装
置から通信にて各ウエハの所在情報を周期的に取り込ん
で、適格な制御指示を出さなければならないが、リモー
トコントローラ側では大きな負担になっている。
また、塗布現像処理及び露光処理は、夫々塗布現像レ
シピ及び露光レシピに基づいて行われ、これらレシピ
は、ウエハの種別に応じたものが使用される。装置側で
使用するレシピの変更は、リモートコントローラから新
たなレシピを各装置にダウンロードすることにより行わ
れるが、１つのレシピの内容が多く、特に露光レシピ
は、露光量、波長、露光時間など非常に多く、このため
これらレシピをリモートコントローラ側から各露光装置
に対してダウンロードすることは通信の負荷が大きく、
システムとして非常に効率が悪い。
更に、リモートコントローラと各装置との間の接続ケ
ーブルの数が多く、またリモートコントローラとホスト
コンピュータとの間のケーブルも含めるとフロア全体で
引き回されるケーブルの数が多くて作業の邪魔になるこ
とがあるし、また信頼性も低くなるという問題もあっ
た。更にまた、リモートコントローラがダウンすると、
集中管理下に置かれている塗布現像装置及び露光装置が
ダウンするという問題もあった。
本発明は、システム全体の効率化を図り、処理ステー
ション内部の決め細かい制御を容易に行うことができる
処理システムの管理装置を提供することを目的としてい
る。
発明の開示 本発明は、第１の処理ステーションまたは第２の処理
ステーションの一方で被処理体に第１の処理を施した
後、他方で前記被処理体に第２の処理を行う処理システ
ムにおいて、ホストコンピュータに結合され、このホス
トコンピュータからの処理指令に従って前記第１の処理
ステーションによる処理を制御する第１の制御部と、こ
の第１の制御部を介して処理指令に従って第２の処理ス
テーションによる処理を制御する第２の制御部と、処理
指令とは独立した搬送制御情報を生成し、この搬送制御
情報に従って第１の処理ステーションおよび前記第２の
処理ステーション間で前記被処理体の搬送を制御する第
３の制御部とにより構成される処理ステーションの管理
装置を提供する。
また、この発明においては、前記第１の制御部は、ホ
ストコンピュータからの前記処理指令を取り込んで、第
１の処理ステーションを制御すると共に処理指令に対応
する指示を第２の制御部に出力し、また第２の制御部か
ら第２の処理ステーションの状況報告を取り込んでこの
状況報告に応じた処理指令を第２の制御部に出力する処
理指令部と、第２の制御部から第２の処理ステーション
の状況報告を取り込んでその状況報告を第１の処理ステ
ーションの状況報告と共にホストコンピュータに送る状
況報告部とを備え、前記第２の制御部は、第１の制御部
から送られた処理指令に基づいて、第２の処理ステーシ
ョンの各部に対して処理指令を出力する処理指令部と、
第２の処理ステーションの状況報告を第１の処理ステー
ションに送る状況報告部とを備えている。
この処理システムとしては、第１の処理ステーション
で被処理体に対して前処理をし、次いで被処理体を第２
の処理ステーションに搬送してここで中間処理をし、更
に被処理体を第１の処理ステーションに搬送して、ここ
で、後処理をするシステム、例えば被処理体に塗布現像
処理を行う塗布現像装置及び被処理体に対して露光を行
う露光装置を組み合わせたシステムを一例として挙げる
ことができる。
本発明において、第１及び第２の制御部の間の処理指
令、状況報告の一例としては、第１の制御部が、塗布現
像装置及び露光装置における被処理体の所在情報を取り
込み、第２の制御部に被処理体のタクト時間を管理する
ための指令を出力するといった場合を挙げることができ
る。
また、通信の手法については、ホスト制御部から第１
の制御部に送られる処理指令の通信の宛先を、その処理
指令が第１の処理ステーションに係るものか、第２の処
理ステーションにかかるものかにかかわらず、第１の処
理ステーションとするようにしてもよい。
更にまた、オートモードまたはマニュアルモードの一
方を選択できるモード選択部を設け、オートモードを選
択したときには、ホスト制御部から第１の制御部に送ら
れる処理指令の通信の宛先は、その処理指令が第１の処
理ステーションに係るものか第２の処理ステーションに
かかるものであるかにかかわらず、第１の処理ステーシ
ョンであり、マニュアルモードを選択したときには、ホ
スト制御部から第１の制御部に送られる処理指令の通信
の宛先は、その処理指令が第２の処理ステーションに係
るものである場合には第２の処理ステーションであるよ
うにしてもよい。
更に、本発明は、ホスト制御部からレシピの内容を第
１の制御部に送らずにレシピの識別コードを送るように
してもよい。この場合、第１の制御部は、第１の処理ス
テーションで処理を行うための第１のレシピ群及び第２
の処理ステーションで処理を行うための第２のレシピ群
を、識別コードに対応付けて格納した記憶部と、ホスト
制御部から送られた識別コードに基づいて第１のレシピ
群及び第２のレシピ群の中から対応する第１のレシピ及
び第２のレシピを選択し、選択された第２のレシピを前
記第２の制御部に送るレシピ選択部とを備えた構成とな
る。
本発明では、ある種別の最初の被処理体が第１の処理
ステーションから第２の処理ステーションに送られる前
に、種別に対応する第２のレシピを第１の制御部から第
２の制御部に送るようにしてもよい。また、オートモー
ドまたはマニュアルモードの一方を選択できるモード選
択部を設け、オートモードを選択したときにはホスト制
御部からの識別コードに基づいて第１の制御部の記憶部
から第２のレシピを選択し、マニュアルモードを選択し
たときには、ホスト制御部から第２のレシピの内容を第
１の制御部を経由して第２の制御部に送るようにしても
よい。
図面の簡単な説明 図１は、本発明の実施例に係る処理システム全体を示
す概略平面図である。
図２は、本発明の実施例に係る処理システム全体を示
す概略平面図である。
図３は、本発明の実施例に係る管理装置の通信のため
の接続構成を示す説明図である。
図４は、露光装置を示す概略斜視図である。
図５は、本発明の実施例に係る管理装置の全体構成を
示す構成図である。
図６は、第２の制御部のメモリ内にレシピと識別コー
ドとを対応付けて格納したイメージを示す説明図であ
る。
図７は、ホストコンピュータ、塗布現像装置及び露光
装置間の通信の様子を時系列的に示す説明図である。
図８は、ホストコンピュータ、塗布現像装置及び露光
装置間の通信の内容を示す説明図である。
図9Aおよび9Bは、通信データを模式的に示す説明図で
ある。
図10は、塗布現像装置の操作部における操作画面の種
類を説明するための説明図である。
発明を実施するための最良の形態 以下に本発明に係る処理ステーションの管理装置の実
施例を図１〜図３に基づいて詳述する。
処理システム100は、被処理体としての半導体ウエハ
Ｗに電子線感応レジスト液を塗布し、露光処理後のウエ
ハＷを現像処理する塗布現像装置２と、この塗布現像装
置２によってレジスト膜が形成されたウエハＷに電子ビ
ームを照射して露光処理する電子ビーム露光装置３と、
塗布現像装置２と電子ビーム露光装置３の間でウエハＷ
の受け渡しを行う搬送装置４とからなる。この実施例で
は、塗布現像装置２及び露光装置３は、夫々第１の処理
ステーション及び第２の処理ステーションに相当する。
本実施例の特徴は、ホストコンピュータにより塗布現
像装置及び露光装置の組を集中管理するにあたり、図２
及び図３に示すように塗布現像装置２の制御部20（図２
参照）をホスト制御部、例えばホストコンピュータ５に
接続し、露光装置３の制御部30はホストコンピュータ５
に接続せずに塗布現像装置２の制御部20に接続し、こう
してホストコンピュータ５との通信は塗布現像装置２で
行い、ホストコンピュータ５から見ると両装置２、３を
あたかも１つの装置として捉え、露光装置３に対する指
示や情報の収集については塗布現像装置２側で一元管理
を行うようにした点にある。
先ず、両装置２、３の装置構成及び処理の流れに関し
て簡単に説明する。塗布現像装置２は、ウエハＷを搬入
し、搬出するローダ部21、ウエハＷを洗浄する洗浄部2
2、ウエハＷの表面を疎水化処理するアドヒージョン部2
3、ウエハＷの表面にレジスト液を塗布し、滑つサイド
リンス処理によりウエハ周縁部の余分なレジストを除去
する機能を備えたレジスト塗布部24、レジスト塗布の前
後でウエハＷを加熱してプリベーク並びにポストベーク
を行うベーク部25、上記アドヒージョン部23の下段に配
置され、ウエハＷを所定温度に冷却する冷却部26、電子
ビーム露光装置３で露光処理されたウエハＷを現像処理
し、且つ現像後のレジストパターンをリンス処理する機
能を備えた現像部27などを集合化して構成されている。
このレジスト塗布現像装置２の中央部には、その長手
方向に沿って２つに分割されたメイン搬送路L1、L2が配
置されると共に、それぞれにメイン搬送アームM1、M2が
移動自在に設けられている。処理部22〜27の各々は、メ
イン搬送路L1、L2の両側に配置されており、メイン搬送
路L1、L2間には、メイン搬送アームM1、M2間でウエハＷ
の受け渡しを行うための待機台28が設けられている。
また、レジスト塗布現像装置６の露光装置３側の端部
には、カセットステージ41が設けられると共に、露光装
置３側にもカセットステージ31が設けられ、これらカセ
ットステージ41、31間に介在する搬送装置４は、カセッ
トステージ41、31間で、ウエハＷを収納したカセットＣ
の受け渡しをするためにＸ、Ｙ、Ｚ、θ方向に移動可能
なカセット搬送アーム42が設けられている。
露光装置３は、図４にも示すように、カセットステー
ジ31と、ウエハ搬送用の搬送アーム32と、露光部33とを
備えている。露光部33は、投影光学系やレチクルステー
ジや露光ステージなどが設けられた真空容器34、この真
空容器34内のウエハＷに電子ビームを照射する電子銃3
5、レチクルを収納するレチクル収納部36などを備えて
いる。
上述の処理システムでは、レジスト塗布現像装置２の
未処理のウエハＷの入ったカセットＣから一方のメイン
搬送アームM1によってウエハＷが取り出され、一方のメ
イン搬送路L1の両側に設けられた処理部22〜26へ順次搬
送されてレジスト塗布処理が施された後、待機台28を介
して他方のメイン搬送アームM2に受け渡されてカセット
ステージ41の各カセットＣに収容される。カセットステ
ージ41のカセットはカセット搬送アーム42により、露光
装置３側のカセットステージ31上に移され、その後、ウ
エハＷは搬送アーム32を用いて所定の処理順序に従って
露光部33内へ搬入されて露光処理される。
また、露光装置３から塗布現像装置２内にウエハＷを
搬入する時は、露光部33から処理済みのウエハＷを搬送
アーム32が受取り、元のカセットＣ内に戻された後、カ
セット搬送アーム42及びカセットステージ41を介して上
記他方のメイン搬送アームM2へ受け渡される。なお、塗
布現像装置２と露光装置３との間のウエハの受け渡しに
ついては、カセット単位ではなく枚葉で行うように、つ
まりウエハを一枚ずつ受け渡すようにしてもよい。
ウエハＷは上記他方のメイン搬送アームM2によって現
像部27へ搬送されて現像処理された後、待機台28を介し
て上記一方のメイン搬送アームM1に受け渡され、ローダ
部21へ搬送されて処理済ウエハ用のカセットＣ内に収納
される。
上記のような搬送系は、ホストコンピュータからの制
御によらず、中央処理ユニット７によるソフト的な切り
換えおよび一定の駆動タイミング信号によって制御され
る。即ち、ホストコンピュータは搬送系の制御ためのレ
シピ情報を発しなく、搬送系はホストコンピュータから
独立した形で動作する。
次に、上述の処理システムの管理装置について、図５
を参照しながら説明する。
塗布現像装置２の第１の制御部20は、インターフェイ
ス61を介して、ホストコンピュータ５に接続されると共
に、インターフェイス62を介して露光装置３の第２の制
御部30に接続されている。この接続については、例えば
RS232C方式の通信ケーブルA1が用いられる。制御部20、
30としては、例えばパーソナルコンピュータが用いられ
る。前記インターフェイス61、62には、通信制御部63が
接続され、この通信制御部63には中央処理ユニット７が
接続されている。
この中央処理ユニット７は、処理指令部71、レシピ選
択部72及び状況報告部73を備えており、記憶部である第
１のメモリ64及び第２のメモリ65が接続されている。処
理指令部71は、ホストコンピュータ５からの処理指示、
例えば処理開始指示やウエハのロットの切り替わり指示
などに基づいて塗布現像装置２及び露光装置３に対して
指令を出力するなどの機能を有している。
レシピ選択部72は、ホストコンピュータ５から送られ
る識別コードに基づいて第１のメモリ64のレシピ群の中
から対応する処理レシピ（単にレシピという）を選択す
る機能を有する。状況報告部73は、第２のメモリ65の中
に取り込まれた塗布現像装置２及び露光装置３の状況報
告、例えばあるロットの処理開始報告や処理結果報告な
どをホストコンピュータ５に送る機能を有する。
第１のメモリ64は、塗布現像装置（C/T装置）２で用
いる、レシピ（第１のレシピ）と露光装置３で用いるレ
シピ（第２のレシピ）とが、夫々識別コードと対応付け
て格納されている。レシピとは、処理の手順や処理条件
などが決められたデータであり、処理の種別が変われ
ば、レシピも変更される。レシピの具体例については、
塗布現像装置の場合、洗浄部22などの各部の処理時間、
洗浄液や現像液の種類、レジスト液の吐出量、ベーク時
やクーリング時の各温度などが挙げられ、また露光装置
の場合、レチクルの種別、露光量、露光時間などが挙げ
られる。
図６は、第１のメモリ64内のデータのイメージを示す
図である。第１のレシピである塗布現像装置用のレシピ
が処理の種別に応じて複数種類用意され、各レシピは、
夫々識別コードIC1〜ICnが対応付けられて格納されてい
る。また、第２のレシピである露光装置用のレシピが処
理の種別に応じて複数用意され、各レシピは夫々識別コ
ードIS1〜ISnが対応付けられて格納されている。
また、中央処理ユニット７には、タッチパネルやキー
ボードなどからなる操作部66が接続されている。この操
作部66は、塗布現像装置２及び露光装置３に対して処理
開始指令、ロットの切替指令、塗布現像用のレシピ及び
露光装置用のレシピの設定、露光装置３のレチクルの異
物検査指示などを入力する他、インラインオートモード
／インラインマニュアルモードのモード切替を行う部分
である。この例では、モード切替部66aは操作部66に含
まれることになる。更に、中央処理ユニット７には、ウ
エハ搬送用のタイミング信号を露光装置３側に送るため
の入出力ポート67が接続されている。
露光装置２の第２の制御部30は、インターフェイス8
1、通信制御部82、中央処理ユニット83、メモリ84、操
作部85及び入出力ポート86を備えている。インターフェ
イス81は第１の制御部20のインターフェイス62と、例え
ばRS232C方式の通信ケーブルA2で接続されている。中央
処理ユニット83は、処理指令部83a及び状況報告部83bを
備えている。処理指令部83aは、第１の制御部20からケ
ーブルA2及びインターフェイス81を介して送られてきた
処理指示に基づいて、露光装置の各部に対して指令を出
力するなどの機能を有している。状況報告部83bは、露
光装置３の状況報告、例えばあるロットの処理開始、処
理結果報告、ウエハの所在情報、アラーム出力の報告な
どを塗布現像装置２に送る機能を有する。
また、中央処理ユニット83は、第１の制御部20からイ
ンターフェイス81を介して送られてきた第２のレシピを
メモリ84に格納する機能を有し、処理指令部83aはメモ
リ84内の第２のレシピを参照して露光装置３の各部に対
して指令を出力する。ここで、処理指定の出力に関して
述べておくと、塗布現像装置２の各モジュール（各処理
部をなす個々の部屋）、露光部33、各搬送系の駆動部に
はシーケンサが設けられており、処理指令部71、83aか
らの処理指令はこれらシーケンサに送られることにな
る。
操作部85は、露光装置３の処理条件の設定や処理開始
指令などの入力を行うためのものであり、第２の制御部
30からも、第１の制御部20側からと同様に露光装置３を
操作できるようになっているが、本実施例におけるイン
ラインオートモード及びインラインマニュアルモードを
用いた処理の流れでは、この操作部85を用いないものと
して説明する。
入出力ポート86は、第１の制御部20の入出力ポート67
に信号ケーブルA3により接続されている。この信号ケー
ブルA3は、塗布現像装置２側のカセットステージ41と露
光装置３側のカセットステージ31との間でカセットＣを
カセットアーム42により受け渡しを行うためのタイミン
グ信号を、塗布現像装置２から露光装置３へ、また露光
装置３から塗布現像装置２へ送るためのものであり、こ
のタイミング信号に基づいてカセットアーム42の受け渡
し動作が、例えば第２の制御部30により制御される。即
ち、搬送装置４は、ホストコンピュータ５からのレシピ
情報からは独立したタイミング信号に基づいて機械制御
部74によって制御される。言い換えれば、ホストコンピ
ュータ５は搬送装置のためのレシピ情報を送出すること
がなく、搬送装置４は、例えば、その位置的状態に応じ
て中央処理ユニット７から発生するタイミング信号によ
り機械制御部74によって制御される。
ホストコンピュータ５は、第１の制御部20に処理指令
を出力する処理指令部51、第１の制御部20から送られた
塗布現像装置２及び露光装置３の状況報告を収集する情
報収集部52などを備えている。
次に、上述実施例の作用について述べる。塗布現像装
置２、３で行う一連の処理の制御モードとしてオートモ
ードとマニュアルモードとを選択できるが、量産を行う
ときにはオートモードが選択される。先ず、オートモー
ドを選択した場合、ホストコンピュータ５の処理指令部
51から、図７に示すように処理開始指示、これから処理
システム100で処理すべきウエハのロットに対応する識
別コード、塗布現像のレシピに対応する識別コード及び
露光のレシピに対応する識別コード、露光装置３で用い
るレチクルの種別名、レチクル交換時の異物検査の有
無、及びパイロットウエハの指定などを塗布現像装置２
の第１の制御部20に送信する。このときの送信データ
（処理指令）に付される装置デバイス（送り先）は塗布
現像装置２であるから、通信制御部63ではこのデータを
中央処理ユニット７に送る。中央処理ユニット７は処理
すべきウエハのロットを認識すると共に、レシピ選択部
72が第１のメモリ64から、ホストコンピュータ５から送
信されたレシピの識別コードに夫々対応する塗布現像レ
シピ及び露光レシピを選択して第２のメモリ65に格納
し、更にホストコンピュータ５から送られた各指示を第
２のメモリ65内に格納する。
なお、パイロットウエハとは、あるロットの処理を行
う前に、塗布現像装置２のローダ部21に置かれたカセッ
トＣの中からテストをするために取り出されるウエハで
ある。このパイロットウエハについて一連の処理を行
い、パターンの線幅を観察してその線幅が予定の値から
外れていたら露光量を変えるなど、オペレータによりレ
シピを修正し、合格したら残りのウエハについて処理が
行われる。
パイロットウエハの処理が終了した後、第１の制御部
20の処理指令部71から塗布現像装置２の各部のシーケン
サに指示が出され、第２のメモリ65内の塗布現像レシピ
に基づいて既述した一連の処理が行われると共に、塗布
現像装置２の各部からウエハの所在やレジスト温度など
種々の状況が状況報告部73に報告され、メモリ65内に格
納される。
一方、第１の制御部20の処理指令部71は、ホストコン
ピュータ５から受け取った指示に基づき、通信ラインA2
を介して露光装置３側の第２の制御部30に、レチクルの
種別、レチクルゴミ検査の有無、処理スタート指示、選
択された露光レシピ、処理枚数などの指示を送る。これ
ら指示に基づいて第２の制御部30は、露光装置３の各部
を制御して一連の処理を行うと共に、各部からウエハの
所在や露光量などの種々の状況を収集し、収集した情報
を通信ラインA2を介して塗布現像装置２側に送る。塗布
現像装置側に送られた状況報告は、第２のメモリ65に格
納される。
また、塗布現像装置２と露光装置３との間のカセット
Ｃの受け渡しのために、通信ラインA3を介して中央処理
ユニット７、83間でタイミング信号の授受が行われ、こ
のタイミング信号に基づいてカセットアーム42が制御さ
れる。このタイミング信号はホストコンピュータ５から
送られたものではなく、搬送装置の位置的状態などに応
じて中央処理ユニット７により独立的に発生され、搬送
装置４を駆動制御する。
塗布現像装置２側の制御部20は、露光装置３側から受
け取った所在情報に基づいて、例えば露光後のウエハに
対するタクト時間（ある処理が終了した後、次の処理開
始までの時間であって、ここでは露光終了から現像開始
までの時間）が所定の時間になるように、各部を制御す
る。
指定枚数だけウエハの露光処理が終了すると、露光装
置３側から通信ラインA2を介して、露光完了報告や処理
結果が塗布現像装置２側に送られ、第２のメモリ65内に
格納される。指定されたロットについて全てのウエハの
現像が終了した後、塗布現像装置２からホストコンピュ
ータ５へ完了報告が行われる。このとき、第１の制御部
20の状況報告部73から前記完了報告と共に、塗布現像装
置２及び露光装置３における処理結果報告がホストコン
ピュータ５に送られる。なお、ロットが切り替わるとき
には、新しいロットの最初のウエハが露光装置３に搬入
される前に、露光レシピが第２の制御部30のメモリ84内
に格納される。ここでいう露光装置３に搬入される前と
は、例えばアーム32がカセットＣ内からウエハを取り出
す前の時点である。
ホストコンピュータ５、塗布現像装置２及び露光装置
３間の通信事項の一例が図８に示されている。ここで、
処理結果とは、処理したロットのID（識別コード）、処
理開始時刻、処理終了時刻、カセットに入れた処理済み
のウエハ枚数、塗布現像レシピ及び露光レシピの各識別
コード、及びレチクルのゴム検査結果などの他、処理条
件、レジスト温度、クーリングプレート温度、現像液温
度、周辺露光照度など）などである。
装置ステータス報告とは、塗布現像装置２については
オフライン／アイドル／塗布現像中のいずれの状態であ
るかが報告され、また、露光装置３についてはオフライ
ン／アイドル／オペレータサポート待ち／露光中のいず
れの状態であるかが報告される。処理進捗イベント報告
とは、ローダ部21のカセットの搬入完了報告や、ロット
の処理開始（終了）報告などであり、イベントが変化す
る度に、塗布現像装置２側からホストコンピュータ５に
報告される。
次に、インラインマニュアルモードを選択した場合に
ついて述べると、この場合には、ホストコンピュータ５
から見ると、塗布現像装置２及び露光装置３の２つの装
置が存在する。つまり、既述のインラインオートモード
では、図9Aに示すようにホストコンピュータ５から出力
される情報の宛名は塗布現像装置２の１つであり、塗布
現像装置２からホストコンピュータ５へ送られる情報の
差し出し名は塗布現像装置２の１つであったのに対し、
インラインマニュアルモードでは、ホストコンピュータ
５から出力される情報の宛名及びホストコンピュータ５
が受け取る情報の差し出し名は塗布現像装置２及び露光
装置３の２つが存在する。
情報の宛名を露光装置３とした場合には、その情報は
第１の制御部20の通信制御部63を介して通信ラインA2を
通って第２の制御部30に送られ、差し出し名が露光装
置、宛名がホストコンピュータ５である情報は、通信制
御部63を介してホストコンピュータ５に送られる。こう
することによって露光装置３はホストコンピュータ５か
ら直接管理されることになる。
また、インラインマニュアルモードでは、ホストコン
ピュータ５から露光レシピの内容が露光装置を送り先と
して塗布現像装置２（詳しくは第１の制御部20）に送ら
れる。第１の制御部20の通信制御部63では、受け取った
データの送り先が露光装置であるため、インターフェイ
ス62から通信ラインA2を介して第２の制御部30に送信さ
れる。塗布現像レシピについては、オートモードのよう
にホストコンピュータ５から識別コードを第１の制御部
20に送ってもよいが、露光レシピのようにレシピの内容
を送ってもよい。
このマニュアルモードは、例えば量産に入る前の処理
システムの立上げ時に用いられる。立上げ時には、レシ
ピの内容を調整することが多いので、種々のレシピの内
容を第１の制御部20に持たせておくことにすると、微妙
に内容を変えた莫大な数のレシピを格納しておかなけれ
ばならず効率的でない。特に、露光レシピの内容は量が
多いので、ホストコンピュータ５側から、レシピを送
り、そのレシピに基づいた処理結果に応じて修正したレ
シピの内容を第１の制御部20を経由して第２の制御部30
に送るようにした方が効率的である。
ただしマニュアルモードにおいて、塗布現像レシピに
ついてもホストコンピュータ５側からレシピの内容を贈
るようにしてもよいし、あるいは塗布現像レシピについ
てはレシピの内容を、露光レシピについては識別コード
を送るようにしてもよい。
ここで、第１の制御部20の操作部66に関して説明する
と、この操作部では、塗布現像装置２自身の操作画面に
加えて、塗布現像装置２側で露光装置３を制御する（イ
ンライン制御）ために必要な画面が追加して用意され
る。この追加画面の例を図10に示す。インライン処理開
始画面は、塗布現像装置２側で両装置２、３を一元管理
するための設定画面であり、ロットの指令、カセット内
のウエハの指定、塗布現像レシピ及び露光レシピの指定
などを行うことができる。処理表示画面には、塗布現像
の実績データ及び露光実績データが表示される。また、
パイロットウエハ指示画面により、いずれのウエハをパ
イロットウエハとするかを指示することができ、露光レ
シピ編集画面により露光レシピの編集を行うことができ
る。更に、レチクル情報表示画面に、レチクルのゴミ検
査結果などが表示され、処理進歩状況表示画面にはウエ
ハの所在情報などが表示される。
これら画面により、オフライン時には、露光装置３に
対して種々の設定を行うことができ、またオンライン
時、オフライン時を含めて各情報を把握することができ
る。なおメンテナンス等を行うときにはインライン制御
を解除することにより、露光装置３側の操作部85により
露光装置３に対して種々の操作を行うことができる。
即ち、中央処理ユニット７とは別に機械制御部74が現
像塗布装置の機械的制御を行うと共に露光装置との間で
ウエハの搬送を制御する。この現像塗布装置と露光装置
との間のウエハ搬送に関して、機械制御部74内のウエハ
搬送制御部は、中央処理ユニット７から独立しており、
ウエハの有無と露光装置の状態信号A3によってウエハの
受け渡しが行われる。つまり、通信制御部63を中心とし
て実行される露光レシピ情報のやり取りがこの装置に実
装されていなくとも、ウエハ搬送は機能する。逆に、通
信制御部63を中心として実行される露光レシピ情報のや
り取りは、ウエハ搬送制御部から独立しており、搬送制
御部がこの装置に実装されていなくとも、レシピ情報の
やり取りが実現できる。
以上のように上述の実施例では、塗布現像装置２及び
露光装置３よりなる装置の組について、ホストコンピュ
ータ５により複数組を集中管理するシステムにおいて、
ホストコンピュータ５との間の通信を塗布現像装置２側
で行い、ホストコンピュータ５に対してはあたかも１つ
の装置のように見せて、塗布現像装置２及び露光装置３
の処理指令の受け取り及び両装置２、３の状況報告の送
信を塗布現像装置２側で行うようにする一方、搬送装置
４の駆動制御はホストコンピュータのレシピから独立し
たタイミング信号によって行われ、両装置２、３のアラ
ーム発生時の対処や、ウエハの所在情報に基づくタクト
時間の管理などは塗布現像装置２で行い、装置２、３内
部の細かい制御については、通信を介さず塗布現像装置
２により一元管理するようにしているため次のように効
果がある。
１）ホストコンピュータ５と処理ステーション（装置
２、３側）との通信量が少なくなり、ホストコンピュー
タ５における処理の負担が小さくて済む。
２）装置２、３に対してきめ細かい制御を効率よく行う
ことができる。特に化学増幅型レジストを用いた場合、
露光後のタクト時間について厳しい管理が要求されるこ
とから、上述の管理手法は好適である。なお、化学増幅
型のレジストとは、露光することにより感光剤から酸が
生成し、この酸が加熱処理により拡散して触媒として作
用し、レジスト材料の主成分であるベース樹脂を分解し
たり、分子構造を変えて現像液に対して可溶化あるいは
不溶化するものである。このレジストにおいては、空気
中の微量なアンモニア等が酸と接触することができるだ
け避ける必要があり、このためタクト時間を厳密に管理
しなければならない。
露光装置は、種々のパターンに対応するため機種が多
く、こうした異なる機種の露光装置に対して、従来のよ
うにリモートコントローラで集中管理することは極めて
困難であり、ましてやタクト時間の管理といった細かい
制御は不可能といえるが、本実施例の場合には、既述の
ように塗布現像装置２側で一元管理していることから容
易に実施できる。
３）通信ケーブルが少なくて済むので信頼性が向上す
る。また集中管理のリモートコントローラを介在させて
いないため、リモートコントローラダウン時の各装置の
続行不能という問題がなくなる。
４）ホストコンピュータ５からは塗布現像レシピ及び露
光レシピの識別コードを通信することとし、この識別コ
ードに対応するレシピ内容を各塗布現像装置２側で選択
するようにしているため、ホストコンピュータ５の処理
負荷及び通信負荷が少なく、また、処理に用いるレシピ
を各装置２、３のメモリ内へロードするまでの時間も各
装置毎で行うため短時間で済み、こうした点からも効率
のよいシステムである。
５）インラインマニュアルモードでは、塗布現像装置２
及び露光装置３は別々にホストコンピュータ５により管
理され、ホストコンピュータ５から露光レシピの内容を
塗布現像装置２を経由して露光装置３側にロードしてい
るため、デバイス試作ラインや工場立上げ時に、ホスト
コンピュータ５側で露光レシピを微妙に修正しながら、
最適なレシピを容易に見い出すことができる。即ち、立
上げ時などにおいては、特に、露光レシピを微妙に調整
しなければならず、しかも露光レシピの内容が多いた
め、制御部20側に露光レシピをデータベースとして持た
せることにすると、その量が膨大になり、パソコンのメ
モリ容量を大きく占有してしまうため、ホストコンピュ
ータ５側で管理した方が得策である。また、ホストコン
ピュータ５は塗布現像装置２及び露光装置３から夫々状
態報告を吸い上げて、対応する処理指令を夫々両装置
２、３に与えているため、ホストコンピュータ５が厳密
に両装置２、３を管理することができる。
以上において本発明は、ホストコンピュータ５を塗布
現像装置に接続する代りに露光装置に接続し、露光装置
の制御部により両装置を一元管理するようにしてもよい
が、塗布現像装置では、露光装置よりも処理の種類が多
く、並行して処理されるウエハの数も多いことから、露
光装置側で一元管理すると、塗布現像装置との間の通信
量が多くなり、また、露光装置の制御部に追加するデー
タやプログラムが膨大になるため既述の実施例のように
構成する方が有利である。
更に、本発明が対称となる処理システムは、上述の装
置の組み合わせに限らず被処理体に対して１つの処理を
行う処理ステーションと次いで他の処理を行う処理ステ
ーションを組み合わせたものであればよいが、実施例の
組み合わせのように、前工程及び後工程を行う処理ステ
ーションと、前工程と後工程との間に中間工程を行う処
理スデーションとの組み合わぜの場合には、被処理体の
所在の関連が被処理体のタクトタイムに大きく影響する
ため、こうしたシステムに適用することが有利である。
なお、被処理体としてはウエハに限らず液晶パネル基板
であってもよい。
産業上の利用可能性 本発明によれば、例えば量産工程でホスト制御部から
簡単な指示を出すだけで運用することができるなど処理
システム全体の効率化を図ることができ、処理ステーシ
ョン内部のきめ細かい制御を行うことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ ５６９Ｄ (56)参考文献 特開 平８−172036（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−62873（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−44614（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−36008（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−1034（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−361519（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−213295（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−203811（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 49/07 H01L 21/02 H01L 21/027

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】塗布現像装置または露光装置の一方で被処
    理体に第１の処理を施した後、他方で前記被処理体に第
    ２の処理を行う処理システムにおいて、 オートモードまたはマニュアルモードの一方を選択でき
    るモード選択部を有し、ホストコンピュータに結合さ
    れ、このホストコンピュータからの処理指令に従って前
    記塗布現像装置による処理を制御する第１の制御部と、 前記第１の制御部に接続され、この第１の制御部を介し
    て前記処理指令に従って前記露光装置による処理を制御
    する第２の制御部と、 前記第１および第２の制御部間で前記ホストコンピュー
    タを介在してレシピ送信を行い、前記ホストコンピュー
    タとは独立して搬送制御情報を生成し、この搬送制御情
    報に従って前記塗布現像装置および前記露光装置間で前
    記被処理体の搬送を制御する第３の制御部と、 により構成され、オートモードが選択されたときには、
    前記ホストコンピュータは、前記レシピが塗布現像レシ
    ピか露光レシピかにかかわらず、前記レシピを前記塗布
    現像装置に送り、マニュアルモードが選択されたときに
    は、前記ホストコンピュータは前記レシピが露光レシピ
    である場合には前記露光装置に送る処理装置の管理装
    置。
  2. 【請求項２】前記第１の制御部は、前記ホストコンピュ
    ータからの前記処理指令を取り込んで、前記塗布現像装
    置を制御すると共に前記処理指令に対応する指示を第２
    の制御部に出力し、また前記第２の制御部から露光装置
    の状況報告を取り込んでこの状況報告に応じた処理指令
    を第２の制御部に出力する処理指令部と、前記第２の制
    御部から前記露光装置の状況報告を取り込んでその状況
    報告を塗布現像装置の状況報告と共にホストコンピュー
    タに送る状況報告部とを備え、前記第２の制御部は、第
    １の制御部から送られた処理指令に基づいて、前記露光
    装置の各部に対して処理指令を出力する処理指令部と、
    前記露光装置の状況報告を前記塗布現像装置に送る状況
    報告部とを備えた、請求項１の処理装置の管理装置。
  3. 【請求項３】前記処理システムは、前記処理指令に従っ
    て前記塗布現像装置で被処理体に対して前処理をし、次
    いで前記搬送制御情報に従って前記被処理体を前記露光
    装置に搬送してここで中間処理をし、更に前記搬送制御
    情報に従って前記被処理体を前記塗布現像装置に搬送し
    てここで後処理をするシステムである請求項１の処理装
    置の管理装置。
  4. 【請求項４】前記ホストコンピュータは、前記処理指令
    が前記塗布現像装置に係る処理指令か前記露光装置にか
    かる処理指令かにかかわらず、前記処理指令を前記塗布
    現像装置に送る請求項１の処理装置の管理装置。
  5. 【請求項５】ホストコンピュータからの情報に従って前
    記塗布現像装置で被処理体に対してレジストを塗布し、
    次いで前記被処理体を前記露光装置に搬送してここで露
    光をし、更に前記被処理体を塗布現像装置に搬送してこ
    こで現像する処理システムにおいて、 オートモードまたはマニュアルモードの一方を選択でき
    るモード選択部を有し、前記ホストコンピュータからレ
    シピを受け、前記塗布現像装置の処理動作を制御する第
    １の制御部と、 前記第１の制御部を介して前記ホストコンピュータから
    の前記レシピに従って前記露光装置による露光処理を制
    御する第２の制御部と、 前記レシピとは独立した搬送制御情報に従って前記塗布
    現像装置と前記露光装置との間で前記被処理体の搬送を
    制御する第３の制御部と、 を備え、 オートモードが選択されたときには、前記第１の制御部
    は、前記ホストコンピュータからの前記レシピを取り込
    んで塗布現像装置による塗布現像処理を制御すると共
    に、前記レシピに対応する指示を前記露光装置の第２の
    制御部に出力する処理指令部と、前記第２の制御部から
    前記露光装置の状況報告を取り込んで、この露光状況報
    告を前記塗布現像装置の状況報告と共に前記ホストコン
    ピュータに送る状況報告部と、 前記第２の制御部は、第１の制御部から送られたレシピ
    に基づいて、前記露光装置の各部に対してレシピを出力
    する処理指令部と前記露光装置の状況報告を前記塗布現
    像装置に送る状況報告部とを備えた、 処理装置の管理装置。
  6. 【請求項６】前記第１の制御部は、前記塗布現像装置及
    び前記露光装置における被処理体の所在情報を取り込
    み、前記露光装置に被処理体のタクト時間を管理するた
    めの指令を出力するように構成されている請求項５の処
    理ステーションの管理装置。
  7. 【請求項７】前記ホストコンピュータは、前記レシピが
    前記塗布現像装置に係る情報か前記露光装置にかかる情
    報かにかかわらず、前記レシピを前記塗布現像装置に送
    る請求項５の処理装置の管理装置。
  8. 【請求項８】ホストコンピュータからの処理指令に従っ
    て、塗布現像装置または露光装置の一方で被処理体に第
    １の処理を施した後、他方で前記被処理体に第２の処理
    を行う処理システムにおいて、 オートモードまたはマニュアルモードの一方を選択でき
    るモード選択部を有し、前記処理指令に従って前記塗布
    現像装置の処理動作を制御する第１の制御部と、 前記第１の制御部を介して前記ホストコンピュータから
    の処理指令に従って前記露光装置の処理動作を制御する
    第２の制御部と、 前記第１および第２の制御部間で前記ホストコンピュー
    タを介在してレシピ送信を行い、前記ホストコンピュー
    タとは独立して搬送制御情報を生成し、この搬送制御情
    報に従って前記塗布現像装置および前記露光装置間で前
    記被処理体の搬送を制御する第３の制御部と、 で構成され、 前記第１の制御部は前記塗布現像装置で処理を行うため
    の第１の処理レシピ群及び前記露光装置で処理を行うた
    めの第２の処理レシピ群を、識別コードに対応付けて格
    納した記憶部と、オートモードが選択されたときには、
    前記ホストコンピュータからの識別コードに基づいて前
    記第１の制御部の前記記憶部から前記第２の処理レシピ
    を選択し、マニュアルモードを選択したときには、前記
    ホストコンピュータから前記第２の処理レシピの内容を
    前記第１の制御部を経由して前記第２の制御部に送るレ
    シピ選択部を有する、処理装置の管理装置。
  9. 【請求項９】ある種別の最初の被処理体が前記塗布現像
    装置から前記露光装置に送られる前に、前記第１の制御
    部は、前記種別に対応する第２の処理レシピを前記第１
    の制御部から前記第２の制御部に送る請求項８の処理装
    置の管理装置。
  10. 【請求項１０】前記ホストコンピュータは、前記処理指
    令が前記塗布現像装置に係る指令か前記露光装置に係る
    指令にかかわらず、前記処理指令を前記塗布現像装置に
    送る請求項８の処理装置の管理装置。
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