WO1997047032A1

WO1997047032A1 - Device for controlling treating station

Info

Publication number: WO1997047032A1
Application number: PCT/JP1997/001903
Authority: WO
Inventors: Yoshikatsu Miura; Masaya Nagata; Junji Harada
Original assignee: Tokyo Electron Limited
Priority date: 1996-06-07
Filing date: 1997-06-05
Publication date: 1997-12-11
Also published as: EP0915507A1; EP0915507B1; TW370643B; DE69738566D1; US6282457B1; JP3237854B2; EP0915507A4

Description

明細書

処理ステ一ションの管理装匿

技術分野

本発明は、例えば' 布現像装置及び露光装置を組み合わせた処理システムを管现する処理ステーションの管理装置に関する。

背景技術

半導体製造プロセスの中に、半導体ウェハの表面にレジストを塗布し、次いでこの半導体ウェハに対して露光を行った後、現像処理を行い、こうして所定バターンに対応するマスクを形成する工程がある。この工程は、 F A化や、ウェハ材料の大口径化にともなレ、、塗布現像装置と露光装置との接続が必要となっている。塗布現像装置と露光装置とが別体に構成されている理由は以下のことである。即ち、露光工程におけるパターンの情報伝達媒体として光、 X線、 ¾子線、ィオン線などの種類があるが、媒体の種類によって、あるレ、はパタ一ンの種別によつて露光装置の機種が異なるのに対し、塗布現像工程では処理の種類が変わってもレジストゃ現像液の種類、あるいはベーキングなどの処理時問を変えるだけで対応でき、ハード構成については共通に使用できる部分が多いため装置を共通化することができ、従って、塗布現像装置と露光装置とが一体化せずに別体な構造としている。

塗布現像装置及び露光装置は、夫々パーソナルコンピュータなどの制御装置を備えており、各制御装置によりマニュアルでスタート指示や口ット投入の開始の指示あるいはレシピの入力などを行うことができるように構成されている。ところで半導体製造工場では、 1つのフロアに塗布現像装置及び露光装置のが多数設置されており、これら装置の複数組を上位の制御部で管理するようにしている ₍₎ こうした管理を行うための従来の構成では、塗布現像装匮と露光装置の組が複数組、例えば 6組が複数のリモートコントロ一ラにそれぞれ接続され、更に複数のリモートコントローラ力;、例えば 1フロア全体を管理するホストコンピュータに接続されている。各組の各装置とリモートコントローラとの接続は、各組の各装置に設けられている制御装置（パーソナルコンピュータ）のインターフェイスとリモートコントロ一ラ側のインタ一フェイスとを夫々ケーブルで接続することによって ί亍ゎれる。

リモートコント口一ラには、塗布現像のためのレシピ（処现レシピ）と露光のためのレシピとを組み合わせたレシビの複数の組が夫々識別コードと対応付けて格納されている。このリモートコントローラは、ホストコンピュータから識別コ —ドを受けとることにより、あるいは操作パネルからマニュアルで識別コ一ドが入力されることにより識別コードに対応した塗布現像レシピ及び露光レシピの組が選択され、これらレシピが塗布現像装置及び露光装置にそれぞれダゥンロードされる。

各組の各装置の管理については、各操作パネルでマニュアル操作によって処理の設定や指示を行うこともできる力リモートコントロ一ラを用いる場合には、リモートコントローラからスタート指示、ロットの切り替わり指示、及びレチクルの交換指示などや選択された塗布現像レシピ及び露光レシピなどが対応する装置に ί り分けて送られると共に、これら装置から処理の進渉状況や処理結果あるいはアラーム報告などがリモートコントローラに送られる。また、布現像装置の制御装置と露光装置の制御装置とは、ウェハ受け渡し用のタイミングを通 ^するためのケーブルによって互レ、に接続されている。即ち、各組の両装置間で搬送装置によりウェハを受け渡しするときに、塗布現像装置側の搬送装置、露光装置側の搬送口ボット及び中間の受け渡しのための搬送ロボットが所定のシ一ケンスに従って動作するように、各ロボッ卜の動作時にタイミング信号を装置の一方から他方に送り、両装置間でのウェハの自動受け渡しを行うようにしている。しかしながら従来の集中管理装置では、次のような問題がある。

( 1 ) 通信量にともなう、リモートコントローラの処理負荷が多いので、きめ細か！/、管理が困難である。即ちリモートコントローラは、多数台の布現像装置及び露光装置を集中管理しているので、各ウェハの所在など詳細な情報を吸い上げて制御指示を各装置に出力しようとすると、通信量及び処理の負荷が大きくなつてしまう。一方、塗布、露光及び現像工程は、ある処理が終了してから次ぎの処理に移るまでの時間（タクト時間）について全体的に厳しい管理が要求される c 例えば、化学増幅型レジストを用いて i線露光などで、例えば、（) . 2 5ミクロンクラスの微細処理をする場合、露光後のベ一ク前処理までの処理時問を厳格に管理する必要がある。この場合、リモートコントローラは、塗布現像装置及び露光装置から通信にて各ウェハの所在情報を周期的に取り込んで、適格な制御指示を出さなければならないが、リモートコントローラ側では大きな負担になっている。

また、塗布現像処理及び露光処理は、夫々塗布現像レシピ及び露光レシピに基づいて行われ、これらレシピは、ウェハの種別に応じたものが使用される。装置側で使用するレシピの変更は、リモートコントローラから新たなレシピを各装置にダウンロードすることにより行われるが、 1つのレシピの内容が多く、特に露光レシピは、露光量、波長、露光時間など非常に多く、このためこれらレシピをリモ一トコントロ一ラ側から各露光装置に対してダウンロードすることは通信の負荷が大きく、システムとして非常に効率が悪い。

更に、リモートコントローラと各装置との間の接続ケーブルの数が多く、またリモートコントローラとホストコンピュータとの問のケーブルも含めるとフロア全体で引き回されるケーブルの数が多くて作業の邪魔になることがあるし、また信頼性も低くなるという問題もあった。更にまた、リモートコントローラがダウンすると、集中管理下に置かれている塗布現像装置及び露光装置がダウンするという問題もあった。

本究明は、システム全体の効率化を図り、処ステーション内部の決め細かい制御を容易に行うことができる処理システムの管理装置を提供することを目的としている。

発明の開示

本発明は、第 1の処理ステーションまたは第 2の処理ステーションの一方で被処理体に第 1の処理を施した後、他方で前記被処理体に第 2の処理を行う処理システムにおいて、ホストコンピュータに結合され、このホストコンピュータからの処理指令に従って前記第 1の処理ステーションによる処理を制御する第 1の制御部と、この第 1の制御部を介して処理指令に従って第 2の処理ステ一ションによる処理を制御する第 2の制御部と、処理指令とは独立した搬送制御情報を生成し、この搬送制御情報に従って第 1の処理ステ一ションおよび前記第 2の処理ステ一ション問で前記被処理体の搬送を制御する第 3の制御部とにより構成される処理ステ一ションの管理装置を提供する。

また、この発明においては、前記第 1の制御部は、ホストコンピュータからの前記処理指令を取り込んで、第 1の処理ステ一ションを制御すると共に処理指令に対応する指示を第 2の制御部に出力し、また第 2の制御部から第 2の処理ステ

—ションの状況報告を取り込んでこの状況報に応じた処理指令を第 2の制御部に出力する処理指令部と、第 2の制御部から笫の処理ステ一ションの状況報告を取り込んでその状況報告を第 1の処理ステーションの状?兄報告と共にホストコンビュータに送る状況報告部とを備え、前記第 2の制御部は、第】の制御部から送られた処理指令に基づいて、第 2の処理ステーションの各部に対して処理指令を出力する処理指令部と、第 2の処理ステ一ションの状況報 ^を笫 1の処理ステーシヨンに送る状況報告部とを備えている。

この処理システムとしては、第 1の処理ステーションで被処 ¾体に対して前処现をし、次いで被処理体を第 2の処理ステーションに搬送してここで中間処理をし、更に被処理体を第 1の処理ステーションに搬送して、ここで、後処理をするシステム、例えば被処理体に塗布現像処理を行う塗布現像装^及び被処理体に対して露光を行う露光装置を組み合わせたシステムを一例として挙げることができる。

本発明において、第 1及び第 2の制御部の間の処理指令、状況報告の -例としては、第]の制御部が、塗布現像装置及び露光装置における被処现体の所在情報を取り込み、第 2の制御部に被処理体のタクト時間を管理するための指令を出力するといった場を挙げることができる。

また、通信の手法については、ホスト制御部から第 1の制御部に送られる処理指令の通信の宛先を、その処理指令が第 1の処理ステーションに係るものか、第 2の処理ステーションにかかるものかにかかわらず、第 1の処现ステ一ションとするようにしてもよい。

更にまた、ォ一トモ一ドまたはマニュアルモードの一方を選択できるモード選択部を設け、ォ一トモ一ドを選択したときには、ホスト制御部から第 1の制御部に送られる処理指令の通信の宛先は、その処理指令が第 1の処ステーションに係るものか第 2の処理ステ一ションにかかるものであるかにかかわらず、第 1の処理ステーションであり、マエユアルモードを選択したときには、ホスト制御部力ら第 1の制御部に送られる処理指令の通信の宛先は、その処理指令が第 2の処理ステーションに係るものである場合には第 2の処理ステーションであるようにしてもよい。

更に、本発明は、ホスト制御部からレシピの内容を第 1の制御部に送らずにレシピの識別コ―ドを送るようにしてもよい。この場合、第 1の制御部は、第 ]の処理ステーションで処理を行うための第 1のレシピ群及び第 2の処理ステ一ションで処理を行うための第 2のレシピ群を、識別コードに対応付けて格納した記憶部と、ホスト制御部から送られた識別コ一ドに基づいて第 1のレシピ群及び第 2 のレシピ鮮の中から対応する第 1のレシピ及び第 2のレシピを選択し、選択された第 2のレシピを前記第 2の制御部に送るレシピ選択部とを備えた構成となる。本発明では、ある種別の最初の被処理体が第 1の処理ステーションから第 2の処理ステーションに送られる前に、種別に対応する第 2のレシピを第 1の制御部から第 2の制御部に送るようにしてもよい。また、オートモードまたはマ二ユアルモードの一方を選択できるモード選択部を設け、ォ一トモ一ドを選択したときにはホスト制御部からの識別コードに基づいて第】の制御部の記憶部から第 2のレシピを選択し、マニュアルモードを選択したときには、ホスト制御部から第 2のレシピの内容を第 1の制御部を経由して第 2の制御部に送るようにしてもよレ、„

図面の簡単な説明

図 1は、本発明の実施例に係る処理システム全体を示す概略平面図である。図 2は、本発明の実施例に係る処理システム全体を示す概略斜視図である。図 3は、本発明の実施例に係る管理装置の通信のための接続構成を示す説明図である。

図 4は、露光装 Sを示す概略斜視図である。

図 5は、本発明の実施例に係る管理装置の全体構成を示す構成図である。図 6は、第 2の制御部のメモリ内にレシピと言哉別コードとを対応付けて格納したイメージを示す説明図である。図 7は、ホストコンピュータ、塗布現像装置及び露光装置間の通信の様子を時系列的にポす説明図である。

図 8は、ホストコンピュータ、塗布現像装置及び露光装置問の通信の内容を示す説明図である。

図 9 Λおよび 9 Bは、通信データを模式的に示す説明図である。

図 1 0は、塗布現像装置の操作部における操作 |两面の種類を説明するための説明図である。

発明を実施するための最良の形態

以下に本発明に係る処理ステーションの赞¾装置の実施例を図 1〜図 3に基づいて詳述する。

処理システム 1 0 0は、被処理体としての半導体ウェハ wに電子線感応レジスト液を塗布し、露光処理後のウェハ wを現像処理する塗布現像装 B 2と、この塗布現像装置 2によってレジスト膜が形成されたウエノ、 Wに電子ビームを照射して露光処理する電子ビーム露光装置 3と、塗布現像装匱と電子ビーム露光装匱 3 の間でウェハ Wの受け渡しを行う搬送装置 4とからなる。この実施例では、塗布現像装置 2及び露光装置 3は、夫々第 1の処理ステ一ション及び第 2の処理ステ —シヨンに相当する。

本実施例の特徴は、ホストコンピュータにより塗布現像装置及び露光装置の組を集中管理するにあたり、図 2及び図 3に示すように塗布現像装置 2の制御部 2 0 (図 2参照）をホスト制御部、例えばホストコンピュータ 5に接;^し、露光装置 3の制御部 3 0はホストコンピュータ 5に接続せずに塗布現像装置 2の制御部 2 0に接続し、こうしてホストコンピュータ 5との通信は塗布現像装置 2で行い、ホストコンピュータ 5から見ると両装置 2、 3をあたかも 1つの装置として捉え、露光装置 3に対する指示や情報の収集については塗布現像装置 2側で一元管理を行うようにした点にある。

先ず、両装置 2、 3の装置構成及び処理の流れに関して簡単に説明する。塗布現像装置 2は、ウェハ Wを搬入し、搬出するローダ部 2 1、ウェハ Wを洗する先浄部 2 2、ウェハ Wの表面を疎水化処理するァドヒージョン部 2 3、ウェハ W の表面にレジスト液を塗布し、且つサイドリンス処理によりウェハ周緣部の余分なレジス卜を除去する機能を備えたレジスト塗布部 2 4、レジスト塗布の前後でウェハ Wを加熱してプリべ一ク並びにボストべ一クを行うベーク部 2 5、上記ァドヒージョン部 2 3の下段に酉己置され、ウェハ Wを所定度に冷却する冷却部 2 6、電子ビーム露光装置 3で露光処理されたウェハ Wを現像処理し、且つ現像後のレジストパターンをリンス処理する機能を備えた現像部 2 7などを集合化して構成されている。

このレジスト塗布現像装置 2の中央部には、その長手方向に沿って 2つに分割されたメイン搬送路 L l、 L 2が配置されると共に、それぞれにメイン搬送ア - ム M l、 M 2が移動自在に設けられている。処理部 2 2〜 2 7の各々は、メイン搬送路 L 1、 L 2の両側に配置されており、メイン搬送路 L 1、 L 2間には、メィン搬送アーム M 1、 M 2間でウェハ Wの受け渡しを行うための待機台 2 8が設けられている。

また、レジスト塗布現像装置 6の露光装置 3側の端部には、カセットステージ 4 1が設けられると共に、露光装置 3側にもカセットステージ 3 1が設けられ、これらカセットステージ 4 1 , 3 間に介在する搬送装置 4は、カセッ卜ステ-- ジ 4 1、 3 1間で、ウェハ Wを収納したカセット Cの受け渡しをするために X、 Υ、 Ζ、 Θ方向に移動可能なカセット搬送アーム 4 2が設けられている。

露光装置 3は、図 4にも示すように、カセットステージ 3 1と、ウェハ搬送用の搬送アーム 3 2と、露光部 3 3とを備えている。露光部 3 3は、投影光学系やレチクルステ一ジや露光ステージなどが設けられた真空容器 3 4、この Η空容器 3 4内のウェハ Wに電子ビームを照射する電子銃 3 5、レチクルを収納するレチクル収納部 3 6などを備えている。

上述の処理システムでは、レジスト塗布現像装匱 2の未処理のウェハ Wの入つたカセッ卜 Cから一方のメイン搬送アーム M lによってウェハ Wが取り出され、 —方のメイン搬送路 L 1の両側に設けられた処理部 2 2〜 2 6へ順次搬送されてレジスト塗布処理が施された後、待機台 2 8を介して他方のメイン搬送アーム M 2に受け渡されてカセットステージ 4 1の各カセット Cに収容される。カセットステージ 4 1のカセットはカセット搬送アーム 4 2により、露光装置 3側のカセットステージ 3 1上に移され、その後、ウェハ Wは搬送アーム 3 2を用いて所定の処理順序に従って露光部 3 3内へ搬人されて露光処理される。

また、露光装置 3から塗布現像装 S 2内にウェハ Wを搬入する時は、露光部 3 3から処理済みのウェハ Wを搬送アーム 3 2が受取り、元のカセット C内に戻された後、カセット搬送アーム 4 2及びカセットステージ 4 1を介して上記他方のメイン搬送アーム M 2へ受け渡される。なお、塗布現像装置 2と露光装置 3との問のウェハの受け渡しについては、カセット単位ではなく枚葉で行うように、つまりウエノ、を一枚ずっ受け渡すようにしてもよい ₍，

ウェハ Wは上記他方のメイン搬送アーム M 2によって現像部 2 7へ搬送されて現像処理された後、待機台 2 8を介して上一方のメイン搬送アーム M 1に受け渡され、ローダ部 2 1へ搬送されて処理済ウェハ用のカセット C内に収納される,, 上記のような搬送系は、ホストコンピュータからの制御によらず、中央処理ュニット 7によるソフト的な切り換えおよび一定の駆動タイミング信号によつて制御 1される。即ち、ホストコンピュータは搬送系の制御ためのレシピ怙報を発しなく、搬送系はホストコンピュータ力ら独した形で動作する。

次に、上述の処理システムの管理装置について、図 5を参照しながら説明する。塗布現像装匱 2の第 1の制御部 2 0は、インタ一フェイス 6 1を介して、ホス卜コンピュータ 5に接続されると共に、インターフェイス 6 2を介して露光装置 3の第 2の制御部 3 0に接続されている。この接続については、例えば R S 2 3 2 C方式の通信ケーブル Λ 1が用いられる。制御部 2 0、 3 0としては、例えばパーソナルコンピュータが用いられる。前記インターフェイス 6 1、 6 2には、通信制御部 6 3が接続され、この通信制御部 6 3には中央処理ュニッ卜 7が接されている。

この中央処理ユニット 7は、処理指令部 7 1、レシピ選択部 7 2及び状況報;¹,' 部 7 3を備えており、記憶部である第 1のメモリ 6 4及び第 2のメモリ 6 5が接続されている。処理指令部 7 1は、ホス卜コンピュータ 5からの処理指示、例えば処理開始指示やウェハの口ットの切り替わり指示などに基づレ、て塗布現像装置 2及び露光装置 3に対して指令を出力するなどの機能をしている。

レシピ選択部 7 2は、ホストコンピュ一タ 5から送られる識別コ一ドに基づいて第 1のメモリ 6 4のレシピ群の中から対応する処理レシピ（舉にレシピという）を選択する機能を有する。状況報告部 7 3は、第 2のメモリ 6 5の中に取り込まれた塗布現像装置 2及び露光装置 3の状況報告、例えばあるロッ卜の処理開始報告や処理結果報告などをホストコンピュータ 5に送る機能を lする。

第 1のメモリ 6 4は、塗布現像装置（CZT装置） 2で用いる、レシピ（第 1 のレシピ）と露光装置 3で用いるレシピ（第 2のレシピ）とが、夫々識別コードと対応付けて格納されている。レシピとは、処理の手順や処理条件などが決められたデ一タであり、処理の種別が変われば、レシピも変更される。レシピの具体例については、塗布現像装置の場合、洗浄部 2 2などの各部の処理時問、洗浄液や現像液の種類、レジスト液の吐出量、ベーク時ゃク一リング時の各温度などが挙げられ、また露光装置の場合、レチクルの種別、露光！;、露光時問などが举げられる。

図 6は、第 1のメモリ 6 4內のデータのイメージを示す図である。第 1のレシピである塗布現像装置用のレシピが処理の種別に応じて複数種類用意され、各レシピは、夫々識別コ一ド I C 1〜！ C nが対応付けられて格納されている。また、第 2のレシピである露光装置用のレシピが処理の種別に応じて複数用意され、各レシピは夫々識別コ一ド I S ]〜！ S nが対応付けられて格納されている。

また、中央処理ュニット 7には、タツチパネルゃキ一ボ一ドなどからなる操作部 6 6が接続されている。この操作部 6 6は、塗布現像装置 2及び露光装置 3に対して処理開始指令、ロットの切替指令、塗布現像用のレシピ及び露光装置用のレシピの設定、露光装置 3のレチクルの異物検査指示などを入力する他、インラィンォ一トモ一ド /ィンラインマニュアルモードのモード切替を行う部分である。この例では、モード切替部 6 6 aは操作部 6 6に含まれることになる。更に、中央処理ュニット 7には、ウェハ搬送用のタイミング信号を露光装置 3側に送るための入出力ポ一ト 6 7が接続されている。

露光装置 2の第 2の制御部 3 0は、インタ一フェイス 8 1、通信制御部 8 2、中央処理ュニット 8 3、メモリ 8 4、操作部 8 5及び入出力ポ一ト 8 6を備えている。インタ一フェイス 8 1は第 1の制御部 2 0のインターフェイス 6 2と、例えば R S 2 3 2 C方式の通信ケーブル A 2で接続されている。中央処理ュニッ卜 8 3は、処理指令部 8 3 a及び状況報告部 8 3 bを備えている。処理指令部 8 3 aは、第 1の制御部 2 0からケーブル A 2及びインタ一フェイス 8 1を介して送られてきた処理指示に基づレ、て、露光装置の各部に対して指令を出力するなどの機能を有している。状況報告部 8 3 bは、露光装^ 3の状況報告、例えばある口ットの処理開始、処理結果報告、ウェハの所在情報、アラーム出力の報告などを塗布現像装置 2に送る機能を有する。

また、屮央処理ュニット 8 3は、第 1の制御部 2 0からインタ一フェイス 8 1 を介して送られてきた第 2のレシピをメモリ 8 4に格納する機能を有し、処理指令部 8 3 aはメモリ 8 4内の第 2のレシピを参照して露光装置 3の各部に対して指令を出力するここで、処理指令の出力に関して述べておくと、塗布現像装置 2の各モジュール（各処理部をなす個々の部屋）、露光部 3 3、各搬送系の駆動部にはシーケンサが設けられており、処理指令部 7 ]、 8 3 aからの処理指令はこれらシーケンサに送られることになる。

操作部 8 5は、露光装置 3の処迎条件の設定や処理開始指令などの入力を行うためのものであり、第 2の制御部 3 0からも、第 1の制御部 2 0側からと同様に露光装置 3を操作できるようになっているが、本実方 δί例におけるインラインォートモ一ド及びインラインマニュアルモードを用いた処理の流れでは、この操作部 8 5を用いないものとして説明する。

人出力ポート 8 6は、第 ]の制御部 2 0の人出カポ一ト 6 7に信ケ一ブル A 3により接;^されている。この信号ケーブル Λ 3は、塗布現像装置 2側のカセットステージ 4 1と露光装置 3側のカセットステージ 3 1との問でカセッ卜 Cを力セットアーム 4 2により受け渡しを行うためのタイミング信を、塗布現像装置 2から露光装置 3へ、また露光装置 3から塗布現像装置 2へ送るためのものであり、このタイミング信号に基づいてカセットアーム 4 2の受け渡し動作が、例えば第 2の制御部 3 0により制御される。即ち、搬送装置 4は、ホストコンビユータ 5からのレシピ情報からは独立したタイミング信号に基づレ、て機械制御部 7 4 によって制御される。言い換えれば、ホストコンピュータ 5は搬送装匱のためのレシピ情報を送出することがなく、搬送装置 4は、例えば、その位^的状態に応じて中央処理ュニット 7力ら発生するタイミング信号により機械制御部 7 4によつて制される。ホストコンピュータ 5は、第 1の制御部 2 0に処理指令を出力する処理指令部 5 1、第 1の制御部 2 0から送られた塗布現像装置 2及び露光装置 3の状況報告を収集する情報収集部 5 2などを備えている。

次に、上述実施例の作用について述べる。塗布現像装置 2、 3で行う一連の処理の制御モードとしてオートモードとマニュアルモードとを選択できるが、量産を行うときにはォ一卜モードが選択される。先ず、オートモードを選択した場合、ホストコンピュータ 5の処理指令部 5 1から、図 7に示すように処理開始指示、これから処理システム 1 0 0で処理すべきウェハの口ッ卜に対応する識別コード、塗布現像のレシピに対応する識別コ一ド及び露光のレシビに対応する識別コ一ド、露光装置 3で用いるレチクルの種別名、レチクル交換時の異物検杏の有無、及びパイロットウェハの指定などを塗布現像装置 2の第 1の制御部 2 0に送信する。このときの送信データ（処理指令）に付される装置デバイス（送り先）は塗布現像装置 2であるから、通信制御部 6 3ではこのデータを中央処理ュニット 7に送る。中央処理ユニット 7は処理すべきウェハのロットを認識すると共に、レシピ選択部 7 2が第 1のメモリ 6 4から、ホストコンピュータ 5から送信されたレシピの識別コ一ドに夫々対応する塗布現像レシピ及び露光レシピを選択して第 2のメモリ 6 5に格納し、更にホストコンピュータ 5から送られた各指示を第 2のメモリ 6 5內に格納する。

なお、パイロットウェハとは、あるロットの処理を行う前に、塗布現像装置 2 のローダ部 2 1に置かれたカセット Cの中からテス卜をするために取り出されるウェハである。このパイロットウェハについて --連の処理を行レ、、ノ、。ターンの線幅を観察してその線幅が予定の値から外れていたら露光量を変えるなど、オペレ —タによりレシピを修正し、合格したら残りのウェハについて処理が行われる。パイロットウェハの処理が終了した後、第 1の制御部 2 0の処理指令部 7 1から塗布現像装匱 2の各部のシーケンサに指示が出され、第 2のメモリ 6 5内の塗布現像レシピに基づレ、て既述した一連の処理が行われると共に、塗布現像装置 2 の各部からウェハの所在やレジスト温度など種々の状況が状況報告部 7 3に報告され、メモリ 6 5内に格納される。

一方、第 1の制御部 2 0の処理指令部 7 1は、ホストコンピュータ 5から受け取った指示に基づき、通信ライン A 2を介して露光装匿 3側の第 2の制御部 3 0 に、レチクルの種別、レチクルゴミ検査の有無、処理スタート指、選択された露光レシピ、処理枚数などの指示を送る。これら指示に基づレ、て第 2の制御部 3 0は、露光装置 3の各部を制御して一連の処理を行うと共に、各部からウェハの所在や露光量などの種々の状況を収集し、収集した情報を通信ライン Λ 2を介して塗布現像装置 2側に送る。塗布現像装置側に送られた状況報告は、第 2のメモリ 6 5に格納される。

また、 ^布現像装 ί¾ と露光装 3との問のカセット Cの受け渡しのために、通信ライン Λ 3を介して中央処理ュニット 7、 8 3間でタイミング信号の授受が行われ、このタイミング信号に基づレ、てカセットアーム 4 2が制御される。このタイミング信 -はホス卜コンビュ一タ 5から送られたものではなく、搬送装置の位置的状態などに応じて中央処理ュニット 7により独立的に発生され、搬送装置 4を駆動制御する。

塗布現像装置 2側の制御部 2 0は、露光装置 3側から受け取った所在情報に » づいて、例えば露光後のウェハに対するタクト時問（ある処现が終了した後、次の処埋開始までの時間であって、ここでは露光終了から現像開始までの時間）が所定の時間になるように、各部を制御する。

指定枚数だけウェハの露光処¾が終了すると、露光装 3個ら通信ライン A 2を介して、露光完了報告や処理結果が塗布現像装置 2側に送られ、第 2のメモリ 6 5内に格納される。指定された口ッ卜について全てのウェハの現像が終了した後、塗布現像装置 2からホストコンピュータ 5へ完了報告が行われる。このとき、第 1の制御部 2 0の状況報告部 7 3から前記完了報告と共に、塗布現像装置 2及び露光装置 3における処理結果報告がホストコンピュータ 5に送られる。なお、ロットが切り替わるときには、新しいロットの最初のウェハが露光装置 3に搬入される前に、露光レシピが第 2の制御部 3 ⁽⁾のメモリ 8 4内に格納されるここでいう露光装置 3に搬入される前とは、例えばアーム 3 2がカセット C内からウェハを取り出す前の時点である。

ホストコンピュータ 5、塗布現像装置 2及び露光装置 3問の通信事項の一例が図 8に示されている。ここで、処理結果とは、処理したロットの I D (識別コ一ド）、処理開始時刻、処理終了時刻、カセットに入れた処理済みのウェハ枚数、塗布現像レシピ及び露光レシピの各識別コ一ド、及びレチクルのゴミ検杏結果などの他、処理条件、レジスト温度、クーリングプレート温度、現像液 ¾1度、周辺露光照度など）などである。

装置ステータス報告とは、塗布現像装置 2についてはオフラインノアイドル Z 塗布現像中のいずれの状態であるかが報告され、また、露光装置 3についてはォフライン/アイドル/オペレータサポート待ち/露光中のいずれの状態であるかが報告される。処理進渉イベント報告とは、ローダ部 2 1のカセットの搬入完了報告や、ロットの処理開始（終了）報 i¹?などであり、イベントが変化する度に、塗布現像装置 2側からホストコンピュータ 5に報告される。

次に、インラインマニュアルモードを選択した場合について述べると、この場合には、ホストコンピュータ 5から見ると、塗布現像装置 2及び露光装置 3の 2 つの装置が存在する。つまり、既述のインラインォ一トモ一ドでは、図 9 Λに示すようにホストコンピュータ 5から出力される情報の宛名は塗布現像装置 2の 1 つであり、塗布現像装置 2からホストコンピュータ 5へ送られる情報の差し出し名は塗布現像装置 2の 1つであったのに対し、インラインマニュアルモードでは、ホストコンピュータ 5から出力される情報の宛名及びホス卜コンピュータ 5が受け取る情報の差し出し名は塗布現像装置 2及び露光装^ 3の 2つが存在する。情報の宛名を露光装臀 3とした場合には、その情報は第 1の制御部 2 0の通^ 制御部 6 3を介して通信ライン Λ 2を通って第 2の制御部 3 0に送られ、差し出し名が露光装置、宛名がホストコンピュータ 5である情報は、通信制御部 6 3を介してホス卜コンピュータ 5に送られる。こうすることによって露光装置 3はホストコンピュータ 5から直接管理されることになる。

また、インラインマニュアルモードでは、ホストコンピュータ 5から露光レシピの内容が露光装置を送り先として塗布現像装置 2 (詳しくは第 1の制御部 2

0 ) に送られる。第 1の制御部 2 0の通信制御部 6 3では、受け取ったデータの送り先が露光装置であるため、インタ一フヱイス 6 2から通信ライン Λ 2を介して第 2の制御部 3 0に送信される。塗布現像レシピについては、オートモードのようにホストコンピュータ 5力ら識別コードを第 1の制御部 2 0に送ってもよい力露光レシピのようにレシピの内容を送ってもよい。

このマニュアルモードは、例えば？ ¾産に入る前の処理システムの立上げ時に用いられる。立上げ時には、レシピの内容を調整することが多いので、種々のレシピの内容を第 1の制御部 2 0に持たせておくことにすると、微妙に内容を変えた莫大な数のレシピを格納しておかなければならず効率的でなレ、。特に、露光レシピの内容は口が多いので、ホストコンピュータ 5側から、レシピを送り、そのレシピに基づレ、た処理結朵に応じて修正したレシピの内容を第 1の制御部 2 0を経由して第 2の制御部 3 0に送るようにした方が効率的である。

ただしマニュアルモ一ドにおいて、塗布現像レシピについてもホストコンピュ —夕 5側からレシピの內容を送るようにしてもよいし、あるいは塗布現像レシピについてはレシピの内容を、霜光レシピについては識別コ一ドを送るようにしてちょレ、。

ここで、第 1の制御部 2 ()の操作部 6 6に関して説明すると、この操作部では、塗布現像装 ι 2自身の操作画面に加えて、塗布現像装置 2側で露光装置 3を制御する（インライン制御）ために必要な画面が追加して用意される。この追加画面の例を図 1 0に示す。インライン処理開始画面は、塗布現像装置 2側で両装置 2、 3を -元管理するための設定画面であり、ロットの指定、カセット内のウェハの指定、塗布現像レシピ及び露光レシピの指定などを行うことができる。処理表/ 画面には、塗布現像の実績データ及び露光績データが表示される。また、パイロットウェハ指示画面により、いずれのウェハをパイロットウェハとするかを指示することができ、露光レシピ編集画面により露光レシピの編集を行うことができる。更に、レチクル情報表示画面に、レチクルのゴミ検查結果などが表示され、処现進渉状況表示画面にはウェハの所在情報などが表示される。

これら幽 Ίΐίにより、オフライン時には、露光装置 3に対して秫々の設定を行うことができ、またオンライン時、オフライン時を含めて各情報を把握することができる。なおメンテナンス等を行うときにはィンライン制御を解除することにより、露光装 ί¾ 3側の操作部 8 5により露光装置 3に対して稗々の操作を行うことができる。

即ち、中央処理ュニット 7とは別に機械制御部 7 4が現像塗布装置の機械的制御を行うと共に露光装置との問でウェハの搬送を制御する。この現像塗布装置と露光装置との問のウェハ搬送に関して、機械制御部 7 4内のウェハ搬送制御部は、中央処理ュニッ卜 7から独立しており、ウェハの有無と露光装置の状態信号 A 3 によってウェハの受け渡しが行われる。つまり、通信制御部 6 3を中心として实行される露光レシピ情報のやり取りがこの装置に実装されていなくとも、ウェハ搬送は機能する。逆に、通信制御部 6 3を中心として実行される露光レシピ情報のやり取りは、ウェハ搬送制御部から独立しており、搬送制御部がこの装置に実装されてレ、なくとも、レシピ情報のやり取りが実現できる。

以.ヒのように上述の実施例では、塗布現像装置 2及び露光装置 3よりなる装置の組について、ホストコンピュータ 5により複数組を集中管理するシスデムにおいて、ホストコンピュータ 5との間の通信を塗布現像装置 2側で行い、ホストコンピュ一タ 5に対してはあたかも 1つの装置のように見せて、塗布現像装置 2及び露光装置 3の処理指令の受け取り及び両装置 ' 、 3の状況報告の送信を塗布現像装 iS 2側で行うようにする一方、搬送装置 4の駆動制御はホストコンピュータのレシピから独立したタイミング信^によって行われ、 Γ ί装置 2、 3のアラーム発生時の対処や、ウェハの所在情報に基づくタクト時間の管理などは塗布現像装置 2で行い、装置 2、 3内部の細かい制御については、通信を介さず塗布現像装置 2により一元管理するようにしているため次のような効果がある。

1 ) ホス卜コンピュータ 5と処理ステーション（装置 2、 3側）との通信量が少なくなり、ホス卜コンピュータ 5における処理の負担が小さくて済む。

2 ) 装置 2、 3に対してきめ細かい制御を効率よく行うことができる。特に化学増幅型レジストを用いた場合、露光後のタクト時間について厳しい管理が要求されること力ら、上述の管理手法は好適である。なお、化学増幅型のレジストとは、露光することにより感光剤から酸が生成し、この酸が加熱処理により拡散して触媒として作用し、レジスト材料の主成分であるべ一ス樹脂を分解したり、分子構造を変えて現像液に対して可溶化あるレ、は不溶化するものである。このレジストにおいては、空気中の微量なアンモニア等が酸と接触することをできるだけ避ける必要があり、このためタクト時間を厳密に管理しなければならない。

露光装置は、稀々のパターンに対応するため機種が多く、こうした異なる機種の露光装置に対して、従来のようにリモートコントローラで集中管理することは極めて困難であり、ましてやタクト時間の管现とレ、つた細かレ、制御は不可能とヽえるが、本実施例の場合には、既述のように塗布現像装置 2側で一元符理していることから容易に実施できる。

3 ) 通信ケーブルが少なくて済むので信頼性が向上する。また柒中管理のリモ —トコントロ一ラを介在させていないため、リモートコントローラダウン時の各装置の続行不能という問題がなくなる。

4 ) ホストコンピュータ 5からは塗布現像レシピ及び露光レシピの識別コードを通信することとし、この識別コ一ドに対応するレシピ内容を各塗布現像装置 2 侧で選択するようにしているため、ホストコンピュータ 5の処 il負荷及び通信负荷が少なく、また、処理に用いるレシピを各装 2、 3のメモリ内へ口一ドするまでの時間も^装置毎で行うため短時間で済み、こうした点力ゝらも効率のよいシステムである。

5 ) インラインマニュアルモードでは、塗布 ¾像装置 2及び露光装置 3は別々にホストコンピュータ 5により管理され、ホストコンピュータ 5から露光レシピの内容を塗布現像装置 2を経由して露光装置 3側にロードしていろため、デバイス試作ラインや工場立上げ時に、ホストコンピュータ 5側で露光レシピを微妙に修正しながら、最適なレシピを容易に见レ、出すことができる。即ち、立上げ時などにおいては、特に、露光レシピを微妙に調整しなければならず、しかも露光レシピの内容が多いため、制御部 2 0側に露光レシピをデータべ一スとして持たせることにすると、その量が膨大になり、パソコンのメモリ容量を大きく占有してしまうため、ホストコンピュータ 5側で管理した方が得策である。また、ホス卜コンピュータ 5は塗布現像装置 2及び露光装匮 3から夫々状態報告を吸レ、上げて、対応する処理指令を夫々両装置 2、 3に与えているため、ホストコンピュータ 5 が厳密に両装置 2、 3を管理することができる。

以上において本発明は、ホストコンピュータ 5を塗布現像装置に接続する代りに露光装置に接続し、露光装置の制御部により両装 i を一元管理するようにしてもよいが、塗布現像装置では、露光装置よりも処理の種類が多く、並行して処理されるウェハの数も多いことから、露光装置側で一元管理すると、塗布現像装置との間の通信量が多くなり、また、露光装置の制御部に追加するデータやプログラムが膨大になるため既述の実施例のように構成する方が有利である _n

更に、本発明が対象となる処理システムは、上述の装置の組み合わせに限らず被処理体に対して〗つの処理を行う処理ステーシヨンと次レ、で他の処现を行う処理ステーションを組み合わせたものであればよいが、実施例の組み合わせのように、前工程及び後工程を行う処理ステーションと、前工程と後ェとの問に中問工程を行う処理スデ一シヨンとの組み合わぜの場合には、被処理体の所在の関連が被処理体のタクトタイムに大きく影響するため、こうしたシステムに適用することが有利である。なお、被処理体としてはウェハに限らず液晶パネル板であつてもよレ、。

産業上の利用" J能性

本発明によれば、例えば量産工程でホスト制御部から簡単な指示を出すだけで運用することができるなど処理システム全体の効率化を図ることができ、処理ステ一ション内部のきめ細かレ、制御を行うことができる。

Claims

請求の範囲

1 . 第 1の処理ステ一ションまたは第 'λの処理ステ一ションの一方で被処理体に第 1の処理を施した後、他方で前記被処理体に第 2の処现を行う処理システムにおいて、

ホストコンピュータに結合され、このホストコンビュ一タからの処理指令に従って前記第 1の処理ステ一ションによる処理を制御する第 1の制御部と、前記第 1の制御部に接続され、この第 1の制御部を介して前記処现指令に従って翁第 2の処理ステ一ションによる処理を制御する第 2の制御部と、前記処理指令とは独立した搬送制御情報を生成し、この搬送制御情報に従つて前記第 1の処理ステ一ションおよび前記第 2の処理ステーション問で前記被処理体の搬送を制御する第 3の制御部と、

により構成される処理ステーションの管理装置。

2 . 前記第 1の制御部は、前記ホストコンピュータからの前記処理指令を取り込んで、前記第 1の処理ステーションを制御すると共に前記処理指令に対応する指示を第 2の制御部に出力し、また前記第 2の制御部から第 2の処理ステ一ションの状況報告を取り込んでこの状況報告に応じた処理指令を第 2の制御部に出力する処指令部と、前記第 2の制御部から第 2の処理ステ一ションの状況報告を取り込んでその状況報告を第 1の処理ステーションの状況報; とにホストコンピュータに送る状況報部とを備え、前,记第 2の制御部は、第 1 の制御部から送られた処理指令に基づレ、て、第 2の処理ステ一ションの各部に対して処理指令を出力する処理指令部と、第 ' の処理ステーションの状況報告を第 1の処理ステーションに送る状況報告部とを備えた、請求項 1の処理ステ一ションの管理装置。

3 . 前記処理システムは、前記処理指令に従って前記第 1の処理ステーションで被処理体に対して前処理をし、次いで前記搬送制御情報に従って前記被処理体を第 2の処理ステ -シヨンに搬送してここで中問処理をし、更に前記搬送制御情報に従って前記被処理体を第 1の処理ステーションに搬送してここで後処瑰をするシステムである請求 ¾ 1の処理ステーションの' 理装置。

4 . 前記ホストコンピュータは、前記処理指令が第 1の処理ステ一ションに係るものか第 2の処理ステーションにかかるものかにかかわらず、前記処理指令を前記第 1の処理ステーションに送る請求項 1の処理ステーションの管理装置。

5 . ホストコンピュータからの情報に従って第 1の処理ステーションである塗布現像装置で被処理体に対してレジストを塗布し、次、で前記被処理体を第 ²の処理ステーションである露光装置に搬送してここで露光をし、更に前記被処理体を塗布現像装置に搬送してここで現像する処理システムにおいて、

前記ホストコンピュータからレシピ情報を受け、前記 '塗布現像装置の処理動作を制御する第 1の制御部と、

前記第 1の制御部を介して前記ホストコンピュータからの前記レシピ情報に従って前記露光装置による露光処理を制御する第 2の制御部と、

前記レシピ情報とは独立した搬送制御情報に従って前記第 1の処理ステ一ションおよび前記第 2の処理ステ一ション問で前記被処理体の搬送を制御する第 3の制御部と、

を備え、

前記第 1の制御部は、前記ホストコンピュータからの前記レシピ情報を取り込んで塗布現像装置による塗布現像処理を制御すると共に、前記レシピ情報に対応する指示を前記露光装置の第 2の制御部に出力する処理指令部と、前記第 2 の制御部から前記露光装置の状況報告を取り込んで、この露光状況報告を前記塗布現像装置の状況報告と共に前記ホストコンビュータに送る状況報告部と、

前記第 2の制御部は、第 1の制御部から送られたレシピ情報に基づレ、て、前記露光装置の各部に対してレシピ情報を出力する処理指令部と前記露光装置の状況報告を塗布現像装置に送る状況報告部とを備えた、

処理ステーションの管理装置。

6 . 前記第 1の制御部は、前記塗布現像装匱及び前記露光装置における被処理体の所在情報を取り込み、前記露光装置に被処理体のタクト時問を管理するための指令を出力するように構成されている請求項 5の処理ステーションの管理装置。

7 . 前記ホストコンピュータは、前記レシピ情報が第 1の処理ステーションに係るものか第 2の処理ステ一ションにかかるものかにかかわらず、前記レシピ情報を前記第 1の処理ステーションに送る請求項 5の処理ステーションの管理装置。

8 . 前記第 1の制御部は、ォートモ一ドまたはマニュアルモードの一方を選択できるモード選択部を有し、ォートモ一ドが選択されたときには、前記ホストコンピュータは、前記レシピ情報が第 1の処理ステーションに係るものか第 2の処理ステーションにかかるものであるかにかかわらず、そのレシピ情報を第 1の処理ステ一シヨンに送り、マニュアルモードが選択されたときには、前記ホストコンピュ一タは前記レシピ情報が第 2の処理ステ一ションに係るものである場合には第 2の処理ステーションに送る請求 ¾ 5の処理ステ一ションの管现装

9 . ホストコンピュータからの処理指令に従って、第 1の処理ステ一ションまたは第 2の処 ¾ステ一ションの一方で被処理体に第 1の処理を施した後、他方で前^被処理体に第 2の処理を行う処理システムにおレ、て、

前記処理指令に従つて前記第 1の処理ステーションの処理動作を制御する第 1の制御部と、

前記第 1の制御部を介して前記ホス卜コンピュータからの処现指令に従つて第 2の処理ステ一ションの処理動作を制御する第の制御部と、

前記処理指令とは独立した搬送制御情報を生成し、この搬送制御情報に従つて前記第 ]の処理ステ一ションおよび前記第 2の処理ステーション問で前記被処理体の搬送を制御する第 3の制御部と、

で構成され、

前記第 1の制御部は、第 1の処理ステーションで処理を行うための第 1の処理レシピ群及び第 2の処理ステ一ションで処 ¾を行うための第 ' の処理レシピ群を、識別コードに対応付けて格納した記憶部と、前記ホストコンピュータから送られた識別コ一ドに基づいて第 1の処理レシピ群及び第 2の処理レシピ群の屮力 iら対応する第 1の処理レシピ及び第 2の処理レシピを選択し、選択された第 2 の処理レシピを前記第 2の制御部に送る処理レシピ選択手段とを備えた、

処理ステーションの管理装匱。

1 0 . ある種別の最初の被処理体が前記第 1の処理ステ一ションから前記第 2の処理ステーションに送られる前に、前記第 1の制御部は、前記種別に対応する第 2の処理 iレシピを第 1の制御部から第 ' の制御部に送る請求項 9の処理ステーションの管理装置。

1 1 · 前記第 1の制御部は、ォートモ一ドまたはマニュアルモードのづ /を選択できるモード選択部およびォ一トモ一ドが選択されたときには、前記ホストコンビュータからの識別コ一ドに基づいて前記第 1の制御部の記憶部から第 2の処理レシピを選択し、マニュアルモ一ドを選択したときには、前記ホストコンビユータから第 2の処理レシピの内容を第 1の制御部を経由して第 2の制御部に送るレシピ選択部を有する請求项 1 0の処理ステーションの管理装置。

1 2 . 前記ホストコンピュータは、前記処理指令が第 1の処理ステーションに係るものか第 2の処理ステ一ションにかかるものかにかかわらず、前記処理指令を前記第 1の処理ステ一ションに送る請求項 9の処理ステージョンの管理装：。