JP3219185B2 - 電子発生装置、画像表示装置およびそれらの駆動回路、駆動方法 - Google Patents

電子発生装置、画像表示装置およびそれらの駆動回路、駆動方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子発生装置、画
像表示装置、及びそれらの駆動回路、駆動方法に関し、
より詳しくは表面伝導型放出素子を多数個備える画像表
示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、電子放出素子として熱陰極素
子と冷陰極素子の2種類が知られている。このうち冷陰
極素子では、たとえば電界放出型素子(以下FE型と記
す)や、金属/絶縁層/金属型放出素子(以下MIM型
と記す)や、表面伝導型放出素子などが知られている。
【0003】FE型の例としては、たとえば、W.P. Dyk
e & W.W.Dolan,"Field emission",Advance in Electron
Physics,8,89(1956)や、あるいは、C.A. Spindt,"Phys
ical Properties of thin-film field emission cathod
es withmolybdenium cones",J.Appl.Phys.,47,5248(197
6)などが知られている。図38は、C.A.Spind
tらによる素子の断面図である。同図において、301
0は基板で、3011は導電材料よりなるエミッタ配
線、3012はエミッタコーン、3013は絶縁層、3
014はゲート電極である。本素子はエミッタコーン3
012とゲート電極3014の間に適宜の電圧を印可す
ることにより、エミッタコーン3012の先端部より電
界を放出させるものである。
【0004】また、MIM型の例としては、たとえば、
C.A. Mead,"Operationof tunnel-emission Devices,J.A
ppl.Phys.,32,646(1961)などが知られている。図39
は、MIM型の断面図であり、図において、3020は
基板で、3021は金属よりなる下電極、3022は厚
さ、100オングストローム程度の薄い絶縁層、302
3は厚さ80〜300オングストローム程度の金属より
なる上電極である。MIM型は、上電極3023と下電
極3021の間に適宜の電圧を印可することにより、上
電極3023の表面より電子を放出させるものである。
【0005】また、表面伝導型放出素子としては、たと
えば、M.I. Elinson, Radio Eng.Electron Phys.,10,12
90,(1965)や、後述する他の例が知られている。表面伝
導型放出素子は、基板上に形成された小面積の薄膜に、
膜面に平行に電流を流すことにより電子放出が生ずる現
象を利用するものである。この表面伝導型放出素子とし
ては、前記エリンソン等によるSnO2薄膜を用いたも
のの他に、Au薄膜によるもの[G. Dittmer:"Thin Soli
d Films", 9,317(1972)]や、In23 /SnO2 薄膜に
よるもの[M.Hartwell and C.G.Fonstad:"IEEE Trans.ED
Conf.",519(1975)]や、カーボン薄膜によるもの[荒木
久 他:真空、第26巻、第1号、22(1983)]等が報告
されている。
【0006】これらの表面伝導型放出素子の素子構成の
典型的な例として、図37に前述のM. Hartwellらによ
る素子の平面図を示す。同図において、3001は基板
で、3004はスパッタで形成された金属酸化物よりな
る導電性薄膜である。導電性薄膜3004は図示のよう
にH字形の平面形状に形成されている。該導電性薄膜3
004に後述の通電フォーミングと呼ばれる通電処理を
施すことにより、電子放出部3005が形成される。図
中の間隔Lは、0.5〜1[mm],Wは、0.1[m
m]で設定されている。尚、図示の便宜から、電子放出
部3005は導電性薄膜3004の中央に矩形の形状で
示したが、これは模式的なものであり、実際の電子放出
部の位置や形状を忠実に表現しているわけではない。
【0007】M.Hartwellらによる素子をはじめとして上
述の表面伝導型放出素子においては、電子放出を行う前
に導電性薄膜3004に通電フォーミングと呼ばれる通
電処理を施すことにより電子放出部3005を形成する
のが一般的であった。すなわち、通電フォーミングと
は、前記導電性薄膜3004の両端に一定の直流電圧、
もしくは、例えば1V/分程度の非常にゆっくりとした
レートで昇圧する直流電圧を印加して通電し、導電性薄
膜3004を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質せ
しめ、電気的に高抵抗な状態の電子放出部3005を形
成することである。尚、局所的に破壊もしくは変形もし
くは変質した導電性薄膜3004の一部には、亀裂が発
生する。通電フォーミング後に導電性薄膜3004に適
宜の電圧を印加した場合には、前記亀裂付近において電
子放出が行われる。
【0008】上述の表面伝導型放出素子は、構造が単純
で製造も容易であることから、大面積にわたり多数の素
子を形成できる利点がある。そこで、たとえば本出願人
による特開昭64−31332号において開示されるよ
うに、多数の素子を配列して駆動するための方法が研究
されている。また、表面伝導型放出素子の応用について
は、たとえば、画像表示装置、画像記録装置などの画像
形成装置や、荷電ビーム源、等が研究されている。
【0009】特に、画像表示装置への応用としては、た
とえば本出願人によるUSP5,066,883や特開平2-25755
1号において開示されているように、表面伝導型放出素
子と電子ビームの照射により発光する蛍光体とを組み合
わせて用いた画像表示装置が研究されている。表面伝導
型放出素子と蛍光体とを組み合わせて用いた画像表示装
置は、従来の他の方式の画像表示装置よりも優れた特性
が期待されている。たとえば、近年普及してきた液晶表
示装置と比較しても、自発光型であるためバックライト
を必要としない点や、視野角が広い点が優れていると言
える。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】発明者らは、上記従来
技術に記載したものをはじめとして、さまざまな材料、
製法、構造の表面伝導型放出素子を試みてきた。さら
に、多数の表面伝導型放出素子を配列したマルチ電子
源、ならびにこのマルチ電子源を応用した画像表示装置
について研究を行ってきた。
【0011】発明者らは、たとえば図40に示す電気的
な配線方法によるマルチ電子源を試みてきた。すなわ
ち、表面伝導型放出素子を2次元的に多数個配列し、こ
れらの素子を図示のようにマトリックス状に配線したマ
ルチ電子源である。図中、1002は表面伝導型放出素
子を模式的に示したもの、1003は行配線、1004
は列配線である。行配線1003および列配線1004
は、実際には有限の電気抵抗を有するものであるが、図
においては配線抵抗4004および4005として示さ
れている。上述のような配線方法を、単純マトリックス
配線と呼ぶ。
【0012】なお、図示の便宜上、6x6のマトリック
スで示しているが、マトリックスの規模はむろんこれに
限ったわけではなく、たとえば画像表示装置用のマルチ
電子源の場合には、所望の画像表示を行うのに足りるだ
けの素子を配列し配線するものである。表面伝導型放出
素子を単純マトリックス配線したマルチ電子源において
は、所望の電子ビームを出力させるため、行配線100
3および列配線1004に適宜の電気信号を印加する。
たとえば、マトリックスの中の任意の1行の表面伝導型
放出素子を駆動するには、選択する行の行配線1003
には選択電圧Vsを印加し、同時に非選択の行の行配線
1003には非選択電圧Vnsを印加する。これと同期
して列配線1004に電子ビームを出力するための駆動
電圧Veを印加する。この方法によれば、配線抵抗40
04および4005による電圧降下を無視すれば、選択
する行の表面伝導型放出素子には、Ve−Vsの電圧が
印加され、また非選択行の表面伝導型放出素子にはVe
−Vnsの電圧が印加される。Ve,Vs,Vnsを適
宜の大きさの電圧にすれば選択する行の表面伝導型放出
素子だけから所望の強度の電子ビームが出力されるはず
であり、また列方向配線の各々に異なる駆動電圧Veを
印加すれば、選択する行の素子の各々から異なる強度の
電子ビームが出力されるはずである。また、表面伝導型
放出素子の応答速度は高速であるため、駆動電圧Veを
印加する時間の長さを変えれば、電子ビームが出力され
る時間の長さも変えることができるはずである。
【0013】したがって、表面伝導型放出素子を単純マ
トリックス配線したマルチ電子源にはいろいろな用途が
考えられており、例えば、画像情報に応じた電圧信号を
適宜印加すれば、画像表示装置用の電子源として応用で
きるものと期待される。しかしながら、実際に電圧源を
マルチ電子源に接続し前記の電圧印加方法で駆動した場
合には、配線抵抗で電圧降下が発生するために各表面伝
導型放出素子に実効的に印加される電圧がばらつくとい
う問題が発生していた。
【0014】各素子に印加される電圧がばらつく原因と
して、まず第一に、単純マトリックス配線では各表面伝
導型放出素子ごとに配線長が異なる(すなわち、配線抵
抗の大きさが素子ごとに異なる)ことが挙げられる。第
二に、行配線の各部分の配線抵抗4004で発生する電
圧降下の大きさが一様でないことが挙げられる。これ
は、選択する行の行配線から当該行に接続された各表面
伝導型放出素子に電流が分岐して流れるため、配線抵抗
4004の各々に流れる電流の大きさが一様でないため
に起きるものである。
【0015】第三に、駆動するパターン(画像表示装置
の場合には表示する画像パターン)によって配線抵抗で
生じる電圧降下の大きさが変化することが挙げられる。
これは、駆動するパターンによって、配線抵抗に流れる
電流が変化するために起きるものである。以上のような
原因により、各表面伝導型放出素子に印加される電圧に
ばらつきが発生すると、各表面伝導型放出素子から出力
される電子ビーム強度が所望の値からずれる琴似なり、
応用上不都合であった。例えば、画像表示装置に応用し
た場合には、表示画像の輝度が不均一になったり、表示
画像パターンによって輝度が変動したりした。
【0016】また、電圧のばらつきは単純マトリックス
の規模が大きくなるほど顕著になる傾向がある為、画像
表示装置の場合には画素数を制限する要因ともなった。
このような点に鑑みて鋭意研究した結果、本発明者らは
上記の電圧印加方法とは異なる駆動方法をすでに試みて
いる。すなわち、表面伝導型放出素子を単純マトリック
ス配線したマルチ電子を駆動する際、列方向配線には駆
動電圧Veを印加するための電圧源を接続するのではな
く、所望の電子ビームを出力するのに必要な電流を供給
するための電流源を接続して駆動する方法である。この
方法は、表面伝導型放出素子に流れる電流(以下、素子
電流Ifと記す)と放出される電子ビーム(以下、放出
電流Ieと記す)との間の強い相関関係に着目した結果
考案された方法であり、素子電流Ifの大きさを制限す
ることにより放出電流Ieの大きさを制御するものであ
る。
【0017】つまり、表面伝導型放出素子の(素子電流
If)対(放出電流Ie)特性を参照して各表面伝導型
放出素子に流す素子電流Ifの大きさを決定し、列方向
配線に接続した電流源からこれを供給するのである。具
体的には、(素子電流If)対(放出電流Ie)特性を
記憶させたメモリや、流すべき素子電流Ifを決定する
ための演算器や、制御電流源などの電気回路を組み合わ
せることにより駆動回路を構成すればよい。このうち制
御電流源には、流すべき素子電流Ifの大きさを一旦電
圧信号にした後、電圧/電流変換回路で電流に変換する
ような回路形式を用いてもよい。
【0018】この方法によれば、前述の電圧源を接続し
て駆動する方法と比較して、配線抵抗で電圧降下が発生
したとしてもその影響を受けにくいため、出力される電
子ビーム強度のバラツキや変動を低減するのに大きな効
果が認められた。しかしながら、電流源を接続して駆動
する方法には全く問題がないわけではなく、以下に述べ
るような問題が発生していた。
【0019】図41並びに図42を参照して、この問題
点について説明する。図41は、従来行われていた駆動
方法を説明するための図であり、マトリックスう配線さ
れた複数の電子放出素子301と、駆動回路が示されて
いる。図は、複数の電子放出素子のうち第M行目の電子
放出素子を駆動して電子放出させる場合を例示したもの
である。なお、以後の説明では、駆動すべき電子放出素
子を選択素子、駆動しない電子放出素子を半選択素子と
呼ぶ。
【0020】図示のように、M行目を駆動する場合に
は、M行目の行配線には電圧源Vs(例えば、出力電圧
が−7ボルトとする)が接続され、他の行配線にはグラ
ンドレベル(即ち、0ボルト)が接続される。電圧源V
sの極性から容易に判るように、駆動すべきM行目の行
配線は、0ボルトよりも低い電圧(−7ボルト)に保持
される。
【0021】また、各列配線にはそれぞれ個別に制御電
流源302(controlled currentsource)が接続されて
おり、選択素子には制御電流源302から駆動電流が供
給される。図42は、静電電流源をより具体的に示した
回路図で、カレントミラー方式の電圧/電流変換回路で
ある。図中の311はオペアンプ、312はRオームの
抵抗値をもつ抵抗、313と315はpnpトランジス
タ、313はnpnトランジスタ、316は列配線と接
続するための端子である。本回路の出力電流Ioutと
入力電圧Vinの間には、下記の関係が成立する。
【0022】Iout=Vin/R 即ち、入力電圧Vinの大きさを変えることにより、出
力電流Ioutの大きさを制御することが可能である。
そこで、電子放出素子から所望の放出電流Ieを得るの
に必要な電子電流Ifoの値を、予め電子放出素子の放
出電流Ie/素子電流If特性に基づいて決定し、この
決定した素子電流Ifoの値になるように制御電流現の
出力電流Ioutを制御していた。
【0023】しかしながら、制御電流の出力電流Iou
tの一部が、半選択素子に分流してしまうという問題が
生じていた。これは、制御電流源がIfoの電流を出力
する際には、端子316の電圧が実効的にはグランドレ
ベルよりも大きな値となることに起因する。図41に示
すように、Ioutの一部は各半選択素子に分流してし
まい、選択素子に流れる駆動電流Isが実効的にはIo
utよりもかなり小さくなってしまう。マトリックス配
線されている電子放出素子の数が多ければ多いほど、半
選択素子に分流する電流も大きくなり、問題はより顕著
になる。例えば、Ioutが1.5mAだとして、半選
択素子に流れる電流Ihsが1素子あたり0.001m
A打とすると、1000行のマトリックスであったなら
Ihsの総和は約1mAとなり、選択素子にはわずかI
s=0.5mAしか供給できないのである。 (Iout=Is+ΣIhf) このため、例えば画像表示装置にこの駆動方法を適用す
る場合、表示画像の輝度の正確性を確保するために、制
御電流源の出力電流Ioutの大きさを、半選択素子に
流れてしまう電流とIfoとを加算した値に補正してお
く必要があった。このための補正回路を付加することに
より、装置が大型化し、製造コストが増大するという問
題が生じていた。
【0024】また、電子を放出していない半選択素子に
電流が流れるため、無効に電力を消費するという問題も
あった。一方、上記の駆動回路のうち、列配線に接続す
る制御電流を制御電圧源に置き換え、いわゆる電圧駆動
を行った場合にも、半選択素子に電流が流れると配線部
分で大きな電圧降下が発生していた。このため選択素子
に供給されるくづ電圧が低下し、表示画像の輝度が損な
われていた。そこで、制御電圧源には補正回路を付加す
る必要があり、装置が大型化するとともに製造コストが
増大するという問題が発生していた。また、半選択素子
においては、無効に電力を消費していた。
【0025】本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的は、多数の電子放出素子をマトリ
ックス配線したマルチ電子源において、複雑な補正手段
を要せずとも所望の強度の電子ビームを正確に出力する
ことが可能で、しかも半選択素子の消費電力を低減しう
るような駆動方法を達成することである。言い換えれ
ば、出力の正確性に優れ、消費電力が小さな駆動回路を
用いた画像表示装置を低いコストで提供することであ
る。
【0026】さらには、上記電子源を画像表示装置に適
用することも本発明の範疇である。即ち、複雑な補正手
段を要せずとも形成画像の輝度が正確に保たれ、消費電
力が小さく、安価な画像表示装置を提供することも本発
明の目的である。
【0027】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
めに、本発明者が鋭意努力した結果、以下の発明を得
た。即ち、本発明の電子発生装置または画像表示装置の
駆動回路は、複数の電子放出素子を複数のデータ配線と
複数の走査配線でマトリックス配線したマルチ電子源を
駆動する駆動回路において、電子放出させる電子放出素
子が接続されている走査配線に第1の電圧(Vs)を印
加し、電子放出させない電子放出素子が接続されている
走査配線に第2の電圧(Vns)を印加する第1の駆動
手段と、電子放出させる電子放出素子が接続されている
データ配線に第3の電圧(Ve)を印加し、電子放出さ
せない電子放出素子が接続されているデータ配線に第4
の電圧(Vg)を印加する第2の駆動手段とを備え、前
記第2の電圧(Vns)を、前記第3の電圧(Ve)と
おおむね等しいことを特徴とする。ここで、前記おおむ
ねの範囲は、前記第3の電圧(Ve)のデータ配線ごと
のばらつきの上限と下限の範囲内であるといい。また、
前記走査配線に印加される前記第1の電圧(Vs)と前
記第2の電圧(Vns)は、各行を選択する走査信号に
基づくといい。更に、映像信号を変調して変調信号を生
成する変調手段をさらに備えるといい。また、前記デー
タ配線に印加される前記第3の電圧(Ve)と前記第4
の電圧(Vg)は、各列に接続された電子放出素子を駆
動するための変調信号に基づくといい。また、前記変調
は、パルス幅変調であっても、振幅変調であってもい
い。また、前記電子放出素子は、一対の素子電極に印加
される電圧と対応して放出される電子量との関係におい
て、電子放出-非電子放出の境界点である閾値電圧点Vt
hを含む非線形特性を有する表面伝導型放出素子である
といい。また、前記第2の電圧(Vns)と前記第4の
電圧(Vg)間の電位差と、前記第4の電圧(Vg)と
前記第1の電圧(Vs)間の電位差とが、共に前記閾値
電圧点Vthより小さいといい。また、前記第1の電圧
(Vs)と前記第2の電圧(Vns)を、プッシュプル
構造によって発生させるといい。また、第2の駆動手段
はさらに、前記電子放出素子に流れる素子電流と前記電
子放出素子の入出力効率のばらつきを補正する補正値を
格納する格納手段と、前記格納手段に格納された補正値
と前記変調信号に基づいて、前記第3の電圧(Ve)と
前記第4の電圧(Vg)を生成することもできる。ま
た、前記第2の駆動手段は、前記データ配線に接続され
た制御電流源を有し、前記マルチ電子源を電流駆動する
といい。本発明の画像表示装置とは、複数の電子放出素
子を複数のデータ配線と複数の走査線マトリックス配線
したマルチ電子源から放出された電子によって発光する
発光手段とを有するものである。
【0028】本発明は、電子発生装置と画像表示装置の
駆動方法をも包含する。即ち、本発明の電子発生装置の
駆動方法は、複数の電子放出素子を複数のデータ配線と
複数の走査配線でマトリックス配線したマルチ電子源
と、前記マルチ電子源を駆動する駆動回路を有する電子
発生装置の駆動方法において、電子放出させる電子放出
素子が接続されている走査配線に第1の電圧(Vs)を
印加し、電子放出させない電子放出素子が接続されてい
る走査配線に第2の電圧(Vns)を印加し、電子放出
させる電子放出素子が接続されているデータ配線に第3
の電圧(Ve)を印加し、電子放出させない電子放出素
子が接続されているデータ配線に第4の電圧(Vg)を
印加し、前記第2の電圧(Vns)を前記第3の電圧
(Ve)とおおむね等しいことを特徴とする。ここで、
前記おおむねのはには、前記第3の電圧(Ve)のデー
タ配線ごとのばらつきの上限と下限の範囲内であるのが
いい。また、前記走査線配線に印加される前記第1の電
圧(Vs)と前記第2の電圧(Vns)は、各行を選択
する走査信号に基づくといい。また、映像信号を変調し
て変調信号を生成する手段をさらに備えるといい。ま
た、前記データ配線に印加される前記第3の電圧(V
e)と前記第4の電圧(Vg)は、各列に接続された電
子放出素子を駆動するための変調信号に基づくといい。
また、前記変調は、パルス幅変調であっても振幅変調で
あってもいい。本発明の画像表示装置の駆動方法は、電
子発生装置から放出された電子によって発光するする発
光手段を有する画像表示装置に、前記電子発生装置の駆
動方法を使用することを特徴とする。
【0029】
【発明の実施の形態】本発明の根本思想は、多数の電子
放出素子をマトリックス配線したマルチ電子源を駆動す
る際に、選択素子と同じ列の半選択素子に流れる半選択
電流を大幅に低減させることで問題の解決を図るという
ことである。半選択素子に流れる電流を実質的には無視
し得る小ささ(望ましくはゼロ)にまで低減すること
で、列配線に接続された駆動回路から供給される駆動信
号を殆ど(望ましくは全く)損失なく選択素子に印加し
ようとするものである。
【0030】その為に、半選択素子が接続されている行
配線に印可する電圧Vnsを、電子放出させる列配線に
印可する電圧Veとおおむね等しく設定する。基本的に
はVnsをVeと等しく設定するのであるが、ここで
「おおむね等しい」と表現したのは、「全く等しい」と
いう定義では場合によっては不適切な場合があるからで
ある。
【0031】例えば、マトリックス配線された多数の電
子放出素子の特性が均一で、しかもマトリックス配線の
電気抵抗が極めて小さな場合には、どの列配線に対して
も等しいVeを印加すればよい。この場合には、Vns
をVeと全く等しく設定できる。しかし、各電子放出素
子の素子電圧Vg対放出電流Ieの特性間にばらつきが
大きかったり、あるいは配線の電気抵抗が比較的大きな
場合には、列配線毎にVeの大きさを変えた方が電子放
出量の正確性が増す。この場合には、列敗戦後とにVe
が異なるわけで、そうした時にどのようにしてVnsを
定めるかという問題が生ずる。こうした場合には、全列
配線のVeの相加平均値や相乗平均値と等しい大きさに
Vnsを定めたり、最も行配線の駆動回路に近い位置に
ある列のVe(即ち、Veの最小値)と等しい大きさに
Vnsを定めることになる。何れの場合にも、着目する
列によってはVeの値とVnsの値は、正確に言えば若
干の差があることになる。「おおむね等しい」と表現し
たのは、本発明がそのような実施形態も含んでいるため
である。また列配線に制御電流源を接続する定電流駆動
の場合各列配線のVeが自然に変わりうる。このVeの
ばらつきのなかでも、前記のようにして、または、別の
方法でVnsを定めることができる。つまり、前記のよ
うに、全列配線のVeの平均値やVeの最小値にVns
を定める以外にも、Vnsを推定のVe付近で適当に動
かし、表示画像の特性を見ながら、Vnsの電圧値を設
定することもできる。電流駆動の場合、配線列に印可す
る電圧Veは、どの行を走査しているかなど時間によっ
て変わりうるため、前記の様にVnsを推定のVe付近
で動かし表示特性のよいところで設定する方法も有効で
ある。
【0032】本発明は、列配線に輝度に応じた時間幅で
定電流や定電圧を出力して画像表示をするパルス幅変調
を行うのが望ましいが、輝度の大きさの電流や電圧を出
力する振幅変調を行ってもよい。振幅変調の場合もVn
sを変調するVeの平均値に合わせたり、VgとVeの
最大値の間で適当に定めることができる。また、上述の
ように、各電子放出素子のVg−Ie特性間のばらつき
が大きかったり、あるいは配線の電気抵抗が比較的大き
な場合には、選択する行を変えるごとにVeの大きさを
変えた方が電子放出量の正確性が増す場合がある。この
場合には、選択する行を切り替える毎に、選択中の行の
Veに合わせてVnsを変更することができる。
【0033】以上をまとめると、Vnsを設定する際に
は、以下の4つの方法のいずれかを用いて設定するのが
望ましい。第1の方法は、電気回路の特性を数値解析し
てVeの大きさを推定し、その推定値に基づいてVns
の電圧値を設定する方法である。第2の方法は、列配線
の電圧Veをモニタする手段を設けておくとともに、V
nsの電圧源を出力制御可能な可変電圧源を用い、実際
の駆動時にVeを測定しながらVeの測定値とVnsの
出力電圧が一致するようにフィードバックをかける方法
である。
【0034】第3の方法は、試験的に電子源を駆動さ
せ、その状態で列配線の電圧Veを測定して、測定値に
基づいてVnsの電圧値を設定する方法である。第4の
方法は、表示画像を見ながら、Vnsの電圧値を推定の
Ve付近に適当に動かし、表示画像の原画像信号に対す
る忠実性のちょうど良い所にVnsの電圧値を設定する
方法である。
【0035】本発明は、列配線に制御電流源を接続する
定電流駆動、または、列配線に制御電圧源を接続する定
電圧駆動のいずれにも適用できる。また、本発明に用い
る電子放出素子は、望ましくは、表面伝導型放出素子で
あるが、図38を使って説明したFE型放出素子や図3
9を使って説明したMIM型放出素子などでもいい。後
に述べる全ての実施形態で、駆動回路は列配線をデータ
配線として変調信号を出力し、行配線を走査配線として
走査信号を出力している。しかし、本発明は列配線を走
査配線として走査信号を出力し、行配線をデータ配線と
して変調信号を出力する形態も含む。
【0036】また、後に述べる全ての実施形態では、変
調回路を正極性に走査回路を負極性にして、変調回路か
ら電子放出素子に電流を流している。しかし、本発明
は、変調回路を負極性に走査回路を正極性にして、走査
回路から素子に電流を流してもいい。 [実施形態1]本実施形態のマルチ電子源の駆動方法と
それを用いた画像表示装置は、例えば図1に示すように
以下の構成を備える。図は、マトリックス配線された多
数の電子放出素子のうち、5行目の2列目と3列目と5
Rつ目の素子(図中、白抜きで示す)から、電子放出さ
せる場合を例示している。
【0037】即ち行、列方向の配線の交点付近で、表面
伝導型放出素子の一対の素子電極をそれぞれ結線した行
配線と列配線に単純マトリックス構成のマルチ電子源6
01と、変調信号に基づいて所定の電流信号を生成し、
列配線を通じて表面伝導型放出素子を駆動する変調回路
602を備える。また走査信号Tscanに基づいて行
方向配線を順次選択する走査回路603を備える。走査
回路603は、選択した行配線(図中Dx5)に電位V
sを印加し、非選択の行配線(図中Dx5以外)に電位
Vnsを印加する。ここで変調回路602は、電子を放
出させない素子と接続された列配線(図中Dy1,Dy
4,Dy6)の電位をVgに固定し、電子を放出させる
素子と接続された列配線(図中Dy2,Dy3,Dy
5)には定電流駆動でVeを印加する。ここで、Veと
Vsの電位差は素子から所望の電子放出量が得られる電
位差であり、VnsとVgの電位差及びVgとVsの電
位差が、ともに素子の電子放出が起こる閾値Vthより
も小さくなる電位差である。かつ、本発明では、Vns
がVeと等しくなるように設定する。
【0038】なお、図では便宜的に6×6素子のマトリ
ックスを示しているが、本実施形態では50行100列
のマトリックスを作製した。なお、Vnsを供給するた
めの電圧源には、可変電圧を用いると、電圧の微調整が
行なえるため、好適である。この構成によれば、電子放
出させる素子のある列配線に接続された素子のうち、選
択された走査信号を印加した配線上の素子(図中(a)
の素子)にはVe−Vsの電位が印加されるが、半選択
素子、即ち走査信号を印加していない配線上の素子(同
(b))への印加電圧はVe−Vns即ち0となる。よ
って、2列目、3列目、5列目においては、列配線に注
入された電流は全て電子放出させる素子に流れ、半選択
素子に分流することがない。よって、半選択素子に分流
する電流分の補正を行なわなくても良いので、簡単な回
路で各素子を定電流で駆動できることが本実施形態の一
つのポイントである。
【0039】次に本発明の実施形態である画像表示装置
の駆動方法について詳細に説明する。まず、図2を参照
して、表面伝導型放出素子を含む画像表示装置の構成に
ついて説明する。図中101は表示パネルで、端子Dx
1からDx50及びDy1からDy100を介して外部
の電気回路と接続されている。またフェースプレート上
の高圧端子は外部の高圧電源513に接続され高電圧V
aを印加して放出電子を加速するようになっている。こ
のうち、端子Dx1からDx50には前述のパネル内に
設けられているマルチ電子源、即ち50行100列の行
列状にマトリックス配線された表面伝導型放出素子群を
1行ずつ順次駆動してゆくための走査信号が印加され
る。
【0040】一方、端子Dy1からDy100には前記
走査信号により選択された一行の表面伝導型放出素子の
各素子の出力電子ビームを制御するための変調信号が印
加される。次に、走査回路102について説明する。同
回路は、内部に50個のスイッチング素子を備えるもの
で、各スイッチング素子は、不図示の直流電圧源の2つ
の出力電圧VsもしくはVnsのいずれか一方を選択
し、表示パネル101の端子Dx1ないしDx50と電
気的に接続するものである。各スイッチング素子は、タ
イミング信号発生回路104(後述)が出力する制御信
号Tscanに基づいて動作するものだが、実際には例
えばFETのようなスイッチング素子を組み合わせるこ
とにより、例えば図3のようなpush−pull構成
で容易に実現できる。図4に示すように、制御信号Ts
canから生成された各行配線に対応するタイミング信
号Txmに同期して、出力Vxmが電位VsとVnsの
2値間で切り換えられる。
【0041】尚、前記直流電源電圧Vsは、本実施形態
の場合には後述する図16で例示した表面伝導型放出素
子の特性(電子放出しきい値電圧が8[V])に基づき
−7[V]とした。また所望の電子放出電流が1μAと
すると、その時素子に流す電流Isは0.5mAとな
る。ある列配線に注目すると、各駆動電源と列配線の等
価回路は図5となる。制御電流604からの出力電流I
totは Itot=Is+I1 …(1) となる。ここでI1は選択していない素子に流れる電流
である。また、 Ve=Vs+Is・Rs =Vns+I1・Rns …(2) となる。ここでRnsは選択されていない素子の並列抵
抗値である。本例ではItot=Is、即ち、(1)式
でI1=0となるようにVnsを決定するので、(2)
式から、 Vns=Vs+Is・Rs …(3) となる。ここでVsは−7[V]、素子の抵抗Rsは2
9[kΩ]、Isは0.5mAであるのでVnsは7.
5[V]となる。これにより選択した素子には14.5
[V]が印加されるようになる。これらの設定により選
択された素子のある列配線上の選択されていない素子へ
の印加電圧は0[V]となり、選択された素子のない列
配線上の素子への印加電圧は7[V]あるいは7.5
[V]となりどれも電子放出しきい値電圧以下となる。
次に、図2で入力された画像信号の流れについて説明す
る。入力されたコンポジット画像信号をデコーダで3原
色の輝度信号及び水平、垂直同期信号(HSYNC,V
SYNC)に分離する。タイミング信号発生回路104
では、HSYNC,VSYNC信号に同期した各種タイ
ミング信号を発生させる。RGB輝度信号はS/H回路
等で適当なタイミングでサンプリングされ保持される。
保持された信号は、シフトレジスタ回路106で画像形
成パネルの各蛍光体のならびに対応した順番に並んだ一
行ごとのパラレル画像信号に変換され、ラッチ回路10
5により記憶される。
【0042】続いて、パルス幅変調回路111で画像信
号に強度に対応したパルス幅を持つパルス信号に変換さ
れる。パルス信号は電圧/電流変換回路112により電
圧量から電流量に変換される。画像形成時には、電流出
力は表示パネルの端子Dy1ないしDy100を通じて
表示パネル101内の表面伝導型放出素子に通電され
る。電流出力パルスが供給されたパネルでは、走査回路
102が選択した行に接続された表面伝導型放出素子の
みが、供給されたパルス幅に応じた期間だけ電子を放出
し、蛍光体が発光する。走査回路102が選択する行を
順次走査することで、2次元画像が形成される。
【0043】次に、電圧/電流変換回路112について
説明する。電圧/電流変換回路は入力された電圧信号の
振幅に応じて表面伝導型放出素子に流す電流を制御する
回路である。電圧/電流変換回路112は、列配線の本
数分の入力する信号に対して、それぞれ電圧/電流変換
器を備え、その出力はそれぞれ表示パネルの端子Dy
1、Dy2、Dy3、・・・Dy100に接続されてい
る。各電圧/電流変換回路112は、例えば、図6のよ
うなカレントミラー回路による定電流回路で構成されて
いる。図において、2001はオペアンプ、2002は
NPNトランジスタ、2003はPNPトランジスタ、
2006はMOSFET、2004は抵抗(抵抗値R)
である。図中電源電圧Vは想定される列配線に印加され
る電圧の最大値にトランジスタ2003のVceを加え
た電位とする。本実施形態では、V=10[V]とし
た。図6の回路によれば入力する電圧信号Vinの振幅
に応じて出力する電流Ioutが決定され、 Iout=Vin/R …(4) なる関係が成立する。そこで、電圧/電流変換回路の設
計パラメータを適当な値にすることで電圧信号に応じて
表面伝導型放出素子に流すIoutを制御できる。
【0044】また、図6の回路では入電圧がVref以
下の場合、FET2006がonとなり出力電圧がVg
すなわちグランドとなるようにしたある。これにより、
電子放出をさせない列の素子は、選択行、非選択行に関
わらず半選択状態となる。尚、本実施形態では上述のよ
うに電子放出させない列の列配線に印加する電圧Vgを
グランドレベル(0ボルト)に設定したが、一般にはV
gはVsとVnsのほぼ中間の電圧を設定すれば良い。
【0045】次に、実際の変調回路からの入力波形がど
のような電流波形に変換されるかを示したのが図7であ
る。表示パネルの列配線Dy1に注目し、行配線Dx
1,Dx2,Dx3,Dx4,…に接続された素子を駆
動するために、図6の回路に時間と共に図7(a)に示
すような電圧Vinの入力が行われたとする。この電圧
パルスの各パルス幅は輝度データを反映し、波高値は先
の式(1)から出力電流Ioutが0.5mAとなる電
圧となっている。この時の電圧/電流変換回路出力Io
utの波形は(b)のように波高値が0.5mAとな
る。ここで図のaはパネルの持つ容量成分によるリンギ
ングであるがこれは素子に流れる電流とはならない。さ
らに電圧/電流変換回路の出力電圧Voutは(c)の
ようになる。パネル容量成分のために立ち上がり、立ち
下がりなまった波形となり、さらに誘導成分のために図
中Bのようなリンギングが発生するがパルスの最終波高
値の平均はVe即ち7.5[V]となる。電圧波形のな
まりやリンギングは本例の主旨とは関連しないので、以
降無視する。さらにこれら条件で駆動した際の放出電流
Ieの様子を(d)に示す。どの素子からの放出電流も
1μAにそろっている。
【0046】本実施形態によれば、半選択素子へ分流す
る電流をなくすことができ、変調回路からの出力電流と
選択した素子を流れる電流を一致させることができるた
め表示画面全体に渡って原画像信号に対して極めて忠実
な輝度で画像を表示できる。また、半選択素子で消費さ
れる電力も低減できる。尚、本実施形態において、電圧
/電流変換回路は一実施形態として図6の構成のものを
説明したが、回路構成はこれに限られず、入力信号に応
じて表面伝導型放出素子に流す電流を変調できるもので
あればよい。たとえば、大きな出力電流が必要な場合
は、トランジスタの部分にダーリントン接続しても良
い。 (表示パネルの構成と製造法)次に、本実施形態を適用
した画像表示装置の表示パネルの構成と製造法につい
て、具体的な例を示して説明する。
【0047】図8は、本実施形態に用いた表示パネルの
斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの1部を切
り欠いて示している。図中、1005はリアプレート、
1006は側壁、1007はフェースプレートであり、
1005〜1007により表示パネルの内部を真空に維
持するための気密容器を形成している。気密容器を組み
立てるにあたっては、各部材の接合部に十分な強度と気
密性を保持させるため封着する必要があるが、たとえ
ば、フリットガラスを接合部に塗布し、大気中あるいは
窒素雰囲気中で、摂氏400〜500度で10分以上焼
成することにより封着を達成した。気密容器内部を真空
に排気する方法については後述する。
【0048】リアプレート1005には、基板1001
が固定されているが、該基板上には表面伝導型放出素子
1002がNxM個形成されている。(N,Mは2以上
の正の整数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜
設定される。たとえば、高品位テレビジョンの表示を目
的とした表示装置においては、N=3000,M=10
00以上の数を設定することが望ましい。)前記NxM
個の表面伝導型放出素子は、M本の行配線1003とN
本の列配線1004により単純マトリックス配線されて
いる。前記、1001〜1004によって構成される部
分をマルチ電子源と呼ぶ。なお、マルチ電子源の製造方
法や構造については、後で詳しく述べる。
【0049】本実施形態においては、気密容器のリアプ
レート1005にマルチ電子源の基板1001を固定す
る構成としたが、マルチ電子源の基板1001が十分な
強度を有するものである場合には、気密容器のリアプレ
ートとしてマルチ電子源の基板1001自体を用いても
よい。また、フェースプレート1007の下面には、蛍
光膜1008が形成されている。本実施形態はカラー表
示装置であるため、蛍光膜1008の部分にはCRTの
分野で用いられる赤、緑、青、の3原色の蛍光体が塗り
分けられている。各色の蛍光体は、たとえば図9Aに示
すようにストライプ状に塗り分けられ、蛍光体のストラ
イプの間には黒色の導電体1010が設けてある。黒色
の導電体1010を設ける目的は、電子ビームの照射位
置に多少のずれがあっても表示色にずれが生じないよう
にする事や、外光の反射を防止して表示コントラストの
低下を防ぐ事、電子ビームによる蛍光膜のチャージアッ
プを防止する事などである。黒色の導電体1010に
は、黒鉛を主成分として用いたが、上記の目的に適する
ものであればこれ以外の材料を用いても良い。
【0050】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は前記
図9Aに示したストライプ状の配列に限られるものでは
なく、たとえば図9Bに示すようなデルタ状配列や、そ
れ以外の配列であってもよい。なお、モノクロームの表
示パネルを作成する場合には、単色の蛍光体材料を蛍光
膜1008に用いればよく、また黒色導電材料は必ずし
も用いなくともよい。
【0051】また、蛍光膜1008のリアプレート側の
面には、CRTの分野では公知のメタルバック1009
を設けてある。メタルバック1009を設けた目的は、
蛍光膜1008が発する光の一部を鏡面反射して光利用
率を向上させる事や、負イオンの衝突から蛍光膜100
8を保護する事や、電子ビーム加速電圧を印加するため
の電極として作用させる事や、蛍光膜1008を励起し
た電子の導電路として作用させる事などである。メタル
バック1009は、蛍光膜1008をフェースプレート
基板1007上に形成した後、蛍光膜表面を平滑化処理
し、その上にAlを真空蒸着する方法により形成した。
なお、蛍光膜1008に低電圧用の蛍光体材料を用いた
場合には、メタルバック1009は用いない。
【0052】また、本実施形態では用いなかったが、加
速電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、フ
ェースプレート基板1007と蛍光膜1008との間
に、たとえばITOを材料とする透明電極を設けてもよ
い。また、Dx1〜DxmおよびDy1〜DynおよびHvは、
当該表示パネルと不図示の電気回路とを電気的に接続す
るために設けた気密構造の電気接続用端子である。Dx1
〜Dxmはマルチ電子源の行方向配線1003と、Dy1〜
Dynはマルチ電子源の列方向配線1004と、Hvはフ
ェースプレートのメタルバック1009と電気的に接続
している。
【0053】また、気密容器内部を真空に排気するに
は、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポ
ンプとを接続し、気密容器内を10のマイナス7乗[T
orr]程度の真空度まで排気する。その後、排気管を
封止するが、気密容器内の真空度を維持するために、封
止の直前あるいは封止後に気密容器内の所定の位置にゲ
ッター膜(不図示)を形成する。ゲッター膜とは、たと
えばBaを主成分とするゲッター材料をヒーター、もし
くは高周波加熱により加熱し蒸着して形成した膜であ
り、該ゲッター膜の吸着作用により気密容器内は1x1
0マイナス5乗ないしは1x10マイナス7乗[Tor
r]の真空度に維持される。
【0054】以上、本実施形態の表示パネルの基本構成
と製法を説明した。次に、前記実施形態の表示パネルに
用いたマルチ電子源の製造方法について説明する。本発
明の画像表示装置に用いるマルチ電子源は、表面伝導型
放出素子を単純マトリックス配線した電子源であれば、
表面伝導型放出素子の材料や形状あるいは製法に制限は
ない。しかしながら、発明者らは、表面伝導型放出素子
の中では、電子放出部もしくはその周辺部を微粒子膜か
ら形成したものが電子放出特性に優れ、しかも製造が容
易に行えることを見いだしている。したがって、高輝度
で大画面の画像表示装置のマルチ電子源に用いるには、
最も好適であると言える。そこで、上記実施形態の表示
パネルにおいては、電子放出部もしくはその周辺部を微
粒子膜から形成した表面伝導型放出素子を用いた。そこ
で、まず好適な表面伝導型放出素子について基本的な構
成と製法および特性を説明し、その後で多数の素子を単
純マトリックス配線したマルチ電子源の構造について述
べる。 (表面伝導型放出素子の好適な素子構成と製法)電子放
出部もしくはその周辺部を微粒子膜から形成する表面伝
導型放出素子の代表的な構成には、平面型と垂直型の2
種類があげられる。 (平面型の表面伝導型放出素子)まず最初に、平面型の
表面伝導型放出素子の素子構成と製法について説明す
る。図10A,10Bに示すのは、平面型の表面伝導型
放出素子の構成を説明するための平面図(図10A)お
よび断面図(図10B)である。図中、1101は基
板、1102と1103は素子電極、1104は導電性
薄膜、1105は通電フォーミング処理により形成した
電子放出部、1113は通電活性化処理により形成した
薄膜である。
【0055】基板1101としては、たとえば、石英ガ
ラスや青板ガラスをはじめとする各種ガラス基板や、ア
ルミナをはじめとする各種セラミクス基板、あるいは上
述の各種基板上にたとえばSiO2を材料とする絶縁層
を積層した基板などを用いることができる。また、基板
1101上に基板面と平行に対向して設けられた素子電
極1102と1103は、導電性を有する材料によって
形成されている。たとえば、Ni,Cr,Au,Mo,
W,Pt,Ti,Cu,Pd,Ag等をはじめとする金
属、あるいはこれらの金属の合金、あるいはIn23
−SnO2をはじめとする金属酸化物、ポリシリコンな
どの半導体、などの中から適宜材料を選択して用いれば
よい。電極を形成するには、たとえば真空蒸着などの製
膜技術とフォトリソグラフィー、エッチングなどのパタ
ーニング技術を組み合わせて用いれば容易に形成できる
が、それ以外の方法(たとえば印刷技術)を用いて形成
してもさしつかえない。
【0056】素子電極1102と1103の形状は、当
該電子放出素子の応用目的に合わせて適宜設計される。
一般的には、電極間隔Lは通常は数百オングストローム
から数百マイクロメーターの範囲から適当な数値を選ん
で設計されるが、なかでも表示装置に応用するために好
ましいのは数マイクロメーターより数十マイクロメータ
ーの範囲である。また、素子電極の厚さdについては、
通常は数百オングストロームから数マイクロメーターの
範囲から適当な数値が選ばれる。
【0057】また、導電性薄膜1104の部分には、微
粒子膜を用いる。ここで述べた微粒子膜とは、構成要素
として多数の微粒子を含んだ膜(島状の集合体も含む)
のことをさす。微粒子膜を微視的に調べれば、通常は、
個々の微粒子が離間して配置された構造か、あるいは微
粒子が互いに隣接した構造か、あるいは微粒子が互いに
重なり合った構造が観測される。
【0058】微粒子膜に用いた微粒子の粒径は、数オン
グストロームから数千オングストロームの範囲に含まれ
るものであるが、なかでも好ましいのは10オングスト
ロームから200オングストロームの範囲のものであ
る。また、微粒子膜の膜厚は、以下に述べるような諸条
件を考慮して適宜設定される。すなわち、素子電極11
02あるいは1103と電気的に良好に接続するのに必
要な条件、後述する通電フォーミングを良好に行うのに
必要な条件、微粒子膜自身の電気抵抗を後述する適宜の
値にするために必要な条件、などである。
【0059】具体的には、数オングストロームから数千
オングストロームの範囲のなかで設定するが、なかでも
好ましいのは10オングストロームから500オングス
トロームの間である。また、微粒子膜を形成するのに用
いられうる材料としては、たとえば、Pd,Pt,R
u,Ag,Au,Ti,In,Cu,Cr,Fe,Z
n,Sn,Ta,W,Pb,などをはじめとする金属
や、PdO,SnO2 ,In23 ,PbO,Sb23
などをはじめとする酸化物や、HfB2 ,ZrB2 ,L
aB6 ,CeB6 ,YB4 ,GdB4 などをはじめとす
る硼化物や、TiC,ZrC,HfC,TaC,Si
C,WCなどをはじめとする炭化物や、TiN,Zr
N,HfNなどをはじめとする窒化物や、Si,Geな
どをはじめとする半導体や、カーボン、などがあげら
れ、これらの中から適宜選択される。
【0060】以上述べたように、導電性薄膜1104を
微粒子膜で形成したが、そのシート抵抗値については、
10の3乗から10の7乗[オーム/sq]の範囲に含
まれるよう設定した。なお、導電性薄膜1104と素子
電極1102および1103とは、電気的に良好に接続
されるのが望ましいため、互いの一部が重なりあうよう
な構造をとっている。その重なり方は、図10A,10
Bの例においては、下から、基板、素子電極、導電性薄
膜の順序で積層したが、場合によっては下から基板、導
電性薄膜、素子電極、の順序で積層してもさしつかえな
い。
【0061】また、電子放出部1105は、導電性薄膜
1104の一部に形成された亀裂状の部分であり、電気
的には周囲の導電性薄膜よりも高抵抗な性質を有してい
る。亀裂は、導電性薄膜1104に対して、後述する通
電フォーミングの処理を行うことにより形成する。亀裂
内には、数オングストロームから数百オングストローム
の粒径の微粒子を配置する場合がある。なお、実際の電
子放出部の位置や形状を精密かつ正確に図示するのは困
難なため、図10A,10Bにおいては模式的に示し
た。
【0062】また、薄膜1113は、炭素もしくは炭素
化合物よりなる薄膜で、電子放出部1105およびその
近傍を被覆している。薄膜1113は、通電フォーミン
グ処理後に、後述する通電活性化の処理を行うことによ
り形成する。薄膜1113は、単結晶グラファイト、多
結晶グラファイト、非晶質カーボン、のいずれかか、も
しくはその混合物であり、膜厚は500[オングストロ
ーム]以下とするが、300[オングストローム]以下
とするのがさらに好ましい。
【0063】なお、実際の薄膜1113の位置や形状を
精密に図示するのは困難なため、図10A,10Bにお
いては模式的に示した。また、平面図(図10A)にお
いては、薄膜1113の一部を除去した素子を図示し
た。以上、好ましい素子の基本構成を述べたが、本実施
形態においては以下のような素子を用いた。
【0064】すなわち、基板1101には青板ガラスを
用い、素子電極1102と1103にはNi薄膜を用い
た。素子電極の厚さdは1000[オングストロー
ム]、電極間隔Lは2[マイクロメーター]とした。微
粒子膜の主要材料としてPdもしくはPdOを用い、微
粒子膜の厚さは約100[オングストローム]、幅Wは
100[マイクロメータ]とした。
【0065】次に、好適な平面型の表面伝導型放出素子
の製造方法について説明する。図11A−11Eは、表
面伝導型放出素子の製造工程を説明するための断面図
で、各部材の表記は前記図10Aと同一である。 1)まず、図11Aに示すように、基板1101上に素
子電極1102および1103を形成する。
【0066】形成するにあたっては、あらかじめ基板1
101を洗剤、純水、有機溶剤を用いて十分に洗浄後、
素子電極の材料を堆積させる。(堆積する方法として
は、たとえば、蒸着法やスパッタ法などの真空成膜技術
を用ればよい。)その後、堆積した電極材料を、フォト
リソグラフィー・エッチング技術を用いてパターニング
し、図11Aに示した一対の素子電極(1102と11
03)を形成する。
【0067】2)次に、図11Bに示すように、導電性
薄膜1104を形成する。形成するにあたっては、まず
図11Aの基板に有機金属溶液を塗布して乾燥し、加熱
焼成処理して微粒子膜を成膜した後、フォトリソグラフ
ィー・エッチングにより所定の形状にパターニングす
る。ここで、有機金属溶液とは、導電性薄膜に用いる微
粒子の材料を主要元素とする有機金属化合物の溶液であ
る。(具体的には、本実施形態では主要元素としてPd
を用いた。また、本実施形態では塗布方法として、ディ
ッピング法を用いたが、それ以外のたとえばスピンナー
法やスプレー法を用いてもよい。) また、微粒子膜で作られる導電性薄膜の成膜方法として
は、本実施形態で用いた有機金属溶液の塗布による方法
以外の、たとえば真空蒸着法やスパッタ法、あるいは化
学的気相堆積法などを用いる場合もある。
【0068】3)次に、図11Cに示すように、フォー
ミング用電源1110から素子電極1102と1103
の間に適宜の電圧を印加し、通電フォーミング処理を行
って、電子放出部1105を形成する。通電フォーミン
グ処理とは、微粒子膜で作られた導電性薄膜1104に
通電を行って、その一部を適宜に破壊、変形、もしくは
変質せしめ、電子放出を行うのに好適な構造に変化させ
る処理のことである。微粒子膜で作られた導電性薄膜の
うち電子放出を行うのに好適な構造に変化した部分(す
なわち電子放出部1105)においては、薄膜に適当な
亀裂が形成されている。なお、電子放出部1105が形
成される前と比較すると、形成された後は素子電極11
02と1103の間で計測される電気抵抗は大幅に増加
する。
【0069】通電方法をより詳しく説明するために、図
12に、フォーミング用電源1110から印加する適宜
の電圧波形の一例を示す。微粒子膜で作られた導電性薄
膜をフォーミングする場合には、パルス状の電圧が好ま
しく、本実施形態の場合には同図に示したようにパルス
幅T1の三角波パルスをパルス間隔T2で連続的に印加
した。その際には、三角波パルスの波高値Vpfを、順
次昇圧した。また、電子放出部1105の形成状況をモ
ニターするためのモニターパルスPmを適宜の間隔で三
角波パルスの間に挿入し、その際に流れる電流を電流計
1111で計測した。
【0070】実施形態においては、たとえば10のマイ
ナス5乗[torr]程度の真空雰囲気下において、た
とえばパルス幅T1を1[ミリ秒]、パルス間隔T2を
10[ミリ秒]とし、波高値Vpfを1パルスごとに
0.1[V]ずつ昇圧した。そして、三角波を5パルス
印加するたびに1回の割りで、モニターパルスPmを挿
入した。フォーミング処理に悪影響を及ぼすことがない
ように、モニターパルスの電圧Vpmは0.1[V]に
設定した。そして、素子電極1102と1103の間の
電気抵抗が1x10の6乗[オーム]になった段階、す
なわちモニターパルス印加時に電流計1111で計測さ
れる電流が1x10のマイナス7乗[A]以下になった
段階で、フォーミング処理にかかわる通電を終了した。
【0071】なお、上記の方法は、本実施形態の表面伝
導型放出素子に関する好ましい方法であり、たとえば微
粒子膜の材料や膜厚、あるいは素子電極間隔Lなど表面
伝導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じ
て通電の条件を適宜変更するのが望ましい。 4)次に、図11Dに示すように、活性化用電源111
2から素子電極1102と1103の間に適宜の電圧を
印加し、通電活性化処理を行って、電子放出特性の改善
を行う。
【0072】通電活性化処理とは、前記通電フォーミン
グ処理により形成された電子放出部1105に適宜の条
件で通電を行って、その近傍に炭素もしくは炭素化合物
を堆積せしめる処理のことである。(図においては、炭
素もしくは炭素化合物よりなる堆積物を部材1113と
して模式的に示した。)なお、通電活性化処理を行うこ
とにより、行う前と比較して、同じ印加電圧における放
出電流を典型的には100倍以上に増加させることがで
きる。
【0073】具体的には、10のマイナス4乗ないし1
0のマイナス5乗[torr]の範囲内の真空雰囲気中
で、電圧パルスを定期的に印加することにより、真空雰
囲気中に存在する有機化合物を起源とする炭素もしくは
炭素化合物を堆積させる。堆積物1113は、単結晶グ
ラファイト、多結晶グラファイト、非晶質カーボン、の
いずれかか、もしくはその混合物であり、膜厚は500
[オングストローム]以下、より好ましくは300[オ
ングストローム]以下である。
【0074】通電方法をより詳しく説明するために、図
13Aに、活性化用電源1112から印加する適宜の電
圧波形の一例を示す。本実施形態においては、一定電圧
の矩形波を定期的に印加して通電活性化処理を行った
が、具体的には,矩形波の電圧Vacは14[V],パ
ルス幅T3は,1[ミリ秒],パルス間隔T4は10
[ミリ秒]とした。
【0075】なお、上述の通電条件は、本実施形態の表
面伝導型放出素子に関する好ましい条件であり、表面伝
導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じて
条件を適宜変更するのが望ましい。図11Dに示す11
14は,該表面伝導型放出素子から放出される放出電流
Ieを捕捉するためのアノード電極で、直流高電圧電源
1115および電流計1116が接続されている。(な
お、基板1101を、表示パネルの中に組み込んでから
活性化処理を行う場合には、表示パネルの蛍光面をアノ
ード電極1114として用いる。)活性化用電源111
2から電圧を印加する間、電流計1116で放出電流I
eを計測して通電活性化処理の進行状況をモニターし、
活性化用電源1112の動作を制御する。電流計111
6で計測された放出電流Ieの一例を図13Bに示す
が、活性化電源1112からパルス電圧を印加しはじめ
ると、時間の経過とともに放出電流Ieは増加するが、
やがて飽和してほとんど増加しなくなる。このように、
放出電流Ieがほぼ飽和した時点で活性化用電源111
2からの電圧印加を停止し、通電活性化処理を終了す
る。
【0076】なお、上述の通電条件は、本実施形態の表
面伝導型放出素子に関する好ましい条件であり、表面伝
導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じて
条件を適宜変更するのが望ましい。以上のようにして、
図11Eに示す平面型の表面伝導型放出素子を製造し
た。 (垂直型の表面伝導型放出素子)次に、電子放出部もし
くはその周辺を微粒子膜から形成した表面伝導型放出素
子のもうひとつの代表的な構成、すなわち垂直型の表面
伝導型放出素子の構成について説明する。
【0077】図14は、垂直型の基本構成を説明するた
めの模式的な断面図であり、図中の1201は基板、1
202と1203は素子電極、1206は段差形成部
材、1204は微粒子膜を用いた導電性薄膜、1205
は通電フォーミング処理により形成した電子放出部、1
213は通電活性化処理により形成した薄膜、である。
垂直型が先に説明した平面型と異なる点は、素子電極の
うちの片方(1202)が段差形成部材1206上に設
けられており、導電性薄膜1204が段差形成部材12
06の側面を被覆している点にある。したがって、図1
0A−Bの平面型における素子電極間隔Lは、垂直型に
おいては段差形成部材1206の段差高Lsとして設定
される。なお、基板1201、素子電極1202および
1203、微粒子膜を用いた導電性薄膜1204、につ
いては、前記平面型の説明中に列挙した材料を同様に用
いることが可能である。また、段差形成部材1206に
は、たとえばSiO2 のような電気的に絶縁性の材料を
用いる。
【0078】次に、垂直型の表面伝導型放出素子の製法
について説明する。図15A〜Fは、製造工程を説明す
るための断面図で、各部材の表記は図14と同一であ
る。 1)まず、図15Aに示すように、基板1201上に素
子電極1203を形成する。 2)次に、図15Bに示すように、段差形成部材を形成
するための絶縁層を積層する。絶縁層は、たとえばSi
2をスパッタ法で積層すればよいが、たとえば真空蒸
着法や印刷法などの他の成膜方法を用いてもよい。
【0079】3)次に、図15Cに示すように、絶縁層
の上に素子電極1202を形成する。 4)次に、図15Dに示すように、絶縁層の一部を、た
とえばエッチング法を用いて除去し、素子電極1203
を露出させる。 5)次に、図15Eに示すように、微粒子膜を用いた導
電性薄膜1204を形成する。形成するには、前記平面
型の場合と同じく、たとえば塗布法などの成膜技術を用
いればよい。
【0080】6)次に、前記平面型の場合と同じく、通
電フォーミング処理を行い、電子放出部を形成する。
(図11Cを用いて説明した平面型の通電フォーミング
処理と同様の処理を行えばよい。) 7)次に、前記平面型の場合と同じく、通電活性化処理
を行い、電子放出部近傍に炭素もしくは炭素化合物を堆
積させる。(図11Dを用いて説明した平面型の通電活
性化処理と同様の処理を行えばよい。) 以上のようにして、図15Fに示す垂直型の表面伝導型
放出素子を製造した。 (表示装置に用いた表面伝導型放出素子の特性)以上、
平面型と垂直型の表面伝導型放出素子について素子構成
と製法を説明したが、次に表示装置に用いた素子の特性
について述べる。
【0081】図16に、表示装置に用いた素子の、(放
出電流Ie)対(素子印加電圧Vf)特性、および(素
子電流If)対(素子印加電圧Vf)特性の典型的な例
を示す。なお、放出電流Ieは素子電流Ifに比べて著
しく小さく、同一尺度で図示するのが困難であるうえ、
これらの特性は素子の大きさや形状等の設計パラメータ
を変更することにより変化するものであるため、2本の
グラフは各々任意単位で図示した。
【0082】表示装置に用いた素子は、放出電流Ieに
関して以下に述べる3つの特性を有している。第一に、
ある電圧(これを閾値電圧Vthと呼ぶ)以上の大きさ
の電圧を素子に印加すると急激に放出電流Ieが増加す
るが、一方、閾値電圧Vth未満の電圧では放出電流I
eはほとんど検出されない。
【0083】すなわち、放出電流Ieに関して、明確な
閾値電圧Vthを持った非線形素子である。第二に、放
出電流Ieは素子に印加する電圧Vfに依存して変化す
るため、電圧Vfで放出電流Ieの大きさを制御でき
る。第三に、素子に印加する電圧Vfに対して素子から
放出される電流Ieの応答速度が速いため、電圧Vfを
印加する時間の長さによって素子から放出される電子の
電荷量を制御できる。
【0084】以上のような特性を有するため、表面伝導
型放出素子を表示装置に好適に用いることができた。た
とえば,多数の素子を表示画面の画素に対応して設けた
表示装置において、第一の特性を利用すれば、表示画面
を順次走査して表示を行うことが可能である。すなわ
ち、駆動中の素子には所望の発光輝度に応じて閾値電圧
Vth以上の電圧を適宜印加し、非選択状態の素子には
閾値電圧Vth未満の電圧を印加する。駆動する素子を
順次切り替えてゆくことにより、表示画面を順次走査し
て表示を行うことが可能である。
【0085】また、第二の特性かまたは第三の特性を利
用することにより、発光輝度を制御することができるた
め、諧調表示を行うことが可能である。 (多数素子を単純マトリックス配線したマルチ電子源の
構造)次に、上述の表面伝導型放出素子を基板上に配列
して単純マトリックス配線したマルチ電子源の構造につ
いて述べる。
【0086】図17に示すのは、図8の表示パネルに用
いたマルチ電子源の平面図である。基板上には、図10
A−Bで示したものと同様な表面伝導型放出素子が配列
され、これらの素子は行配線電極1003と列配線電極
1004により単純マトリックス状に配線されている。
行配線電極1003と列配線電極1004の交差する部
分には、電極間に絶縁層(不図示)が形成されており、
電気的な絶縁が保たれている。
【0087】図17のA−A’に沿った断面を、図18
に示す。なお、このような構造のマルチ電子源は、あら
かじめ基板上に行配線電極1003、列配線電極100
4、電極間絶縁層(不図示)、および表面伝導型放出素
子の素子電極と導電性薄膜を形成した後、行配線電極1
003および列配線電極1004を介して各素子に給電
して通電フォーミング処理と通電活性化処理を行うこと
により製造した。 [実施形態2]本発明に係わる実施形態2について説明
する。
【0088】本実施の形態のマルチ電子源の駆動方法と
それを用いた画像表示装置は、図19に示すように以下
の構成を備える。すなわち実施形態1と同様の表面伝導
型放出素子を行列状に構成した単純マトリックス構成の
マルチ電子源605と、電流信号を生成して列配線を通
じて表面伝導型放出素子を駆動する変調回路606と、
行配線を順次選択する走査回路607を備える。走査回
路607は、選択した行配線(図中Dx5)に電位Vs
を固定し、非選択の行配線(図中Dx5以外)に電位V
nsを固定する。変調回路606は、電子を放出させな
い素子に対する列配線(図中Dy1,Dy4,Dy6)
の駆動電位をVgに固定し、電子を放出させる素子に対
する変調信号を印加する列配線(図中Dy2,Dy3,
Dy5)にはVeを印加する。図では6×6素子のマト
リックスしか示していないが、本実施形態では500×
1000素子のマトリックスを構成した。本実施形態で
は、配線抵抗が高いために、それによる電圧降下が無視
できなくなる。即ち選択した行配線上の全素子から電子
放出させる場合、選択した行配線の電圧Vslの分布は
図20のようになる。電流信号駆動回路の出力電圧Ve
は、選択された各素子にかかる電圧が所望の電子放出量
1μAが得られる電圧で一定となるように列配線ごとに
変化する。即ち走査回路67に近い列配線即ちDy1に
印加されるVeよりも遠い列配線即ちDy1000に印
加されるVeの方が高くなる。また同時に選択される素
子数によっても同じ列配線に印加される電圧Veは変化
する。ここでVnsとVgの電位差及びVgとVsの電
位差が、ともに素子の電子放出が起こる閾値よりも小さ
くなるようにする。かつVnsをVeの最小値Vemi
nと等しくなるように設定する。
【0089】この構成によれば、電子放出させる素子の
ある列配線に接続された素子のうち、選択された走査信
号を印加した行配線上の素子にはVe−Vslの電位が
印加されるが、選択されていない、即ち走査信号を印加
していない行配線上の素子への印加電圧はVe−Vns
即ち0に近い値となり、その素子に流れる電流は無視で
きる値となる。よって各表面伝導型放出素子を駆動する
ために列配線に注入された電流は全て電子放出させる素
子に流れ、半選択素子に分流することがない。よって半
選択素子に分流する分についての補正を行う必要がない
ため、簡単な回路で各素子を定電流で駆動できることが
本実施形態の一つのポイントである。
【0090】次に画像表示装置の駆動方法について詳細
に説明する。まず、図21を参照して、表面伝導型放出
素子を含む画像表示装置の構成について説明する。図中
401は表示パネルで、端子Dx1からDx50及びD
y1からDy100を介して外部の電気回路と接続され
ている。またフェースプレート上の高圧端子は外部の高
圧電源513に接続され高電圧Vaが印加されて放出電
子を加速するようになっている。このうち、端子Dx1
からDx500には前述のパネル内に設けられているマ
ルチ電子源、即ち500行1000列の行列状にマトリ
ックス配線された表面伝導型放出素子群を1行ずつ順次
駆動してゆくための走査信号が印加される。
【0091】一方、端子Dy1からDy1000には前
記走査信号により選択された一行の表面伝導型放出素子
の各素子の出力電子ビームを制御するための変調信号が
印加される。次に、走査回路402について説明する。
同回路は、内部に500個のスイッチング素子を備える
もので、各スイッチング素子は、不図示の電圧源の出力
電圧VsもしくはVns発生回路414からの出力電圧
Vnsのいずれか一方を選択し、表示パネル401の端
子Dx1ないしDx500と電気的に接続するものであ
る。各スイッチング素子は、先の実施形態1と同様の図
3に示した回路で、図4に示すように、制御信号Tsc
anから生成された各行配線に対応するタイミング信号
Txmに同期して、出力Vxmが電位VsとVnsの2
値間で切り換えられる。Ve選択回路413は、Veを
印加されている列配線のうち走査回路402に一番近い
列配線を選択して、その電位をVeminとしてVns
発生回路414に送る。Ve選択回路413は、具体的
には図22のように各列配線FETによるアナログスイ
ッチ502が接続されていて、各FETのゲートはVe
を印加されている列配線で走査回路に一番近い列に対応
するスイッチのみがonとなるプライオリティー回路5
01に接続されている。また全ての列配線にVgが印加
された場合は0[V]が出力されるようになっている。
Vns発生回路414はVeminと等しい電位をVn
sとして走査回路402に送る。即ち、本実施形態では
電子放出させる列の列配線電位のうち、最小の値を実際
にモニタし、それに基づいてVnsの電圧値を設定し
た。
【0092】本実施形態では、前記直流電源電圧Vsを
−7.5[V]とした。先に述べた行配線の電圧降下が
あるため、図23に示すように選択した行配線中の電位
Vslは選択した素子数によって様々に変化する。また
実施形態1と同じく所望の電子放出電流が1μAのとき
各素子への印加電圧は14.5[V]で一定となるの
で、列配線への印加電圧Veは、走査駆動回路402に
近い側では7.0[V]、遠い側では選択された素子数
が少ない場合には7.0[V]、多い場合には8[V]
と変化する。選択されていない行配線への印加電圧Vn
s、即ち行配線に印加される電位Veの最小値Vemi
nは選択された素子数や位置によって変化する。本実施
形態では7.0[V]から7.5[V]の範囲で変化し
た。
【0093】これらの設定により選択された素子のある
列配線上の半選択素子への印加電圧は0[V]から0.
5[V]となり、選択された素子のない列配線上の素子
への印加電圧は7[V]ないし7.5[V]の間とな
り、ともに電子放出しきい値電圧Vth以下となる。こ
こで素子に0.5[V]を印加した場合に流れる電流は
1素子当たり数十nAと非常に少なく、半選択状態の素
子の電流の総和をIfnもわずか数十μAであり、選択
素子の電流0.5mAと比較して充分小さく、補正の必
要はない。
【0094】次に、入力された画像信号の流れについて
説明する。入力されたコンポジット画像信号強度に対応
したパルス幅を持つパルス信号に変換し、さらに電流信
号に変換する方法は実施形態1と同様である。実際の変
調回路からの入力波形がどのような電流波形に変換され
るかを示したのが図24である。表示パネルの列配線D
y1およびDy1000に注目し、行配線Dx1,Dx
2,Dx3,Dx4,…に接続された素子を駆動するた
めに、図6の回路に時間とともに図24(a)に示すよ
うな電圧Vinの入力が行われたとする。この電圧パル
スの各パルス幅は輝度データを反映し、波高値は出力電
流Ioutが0.5mAとなる電圧であり、電圧/電流
変換回路出力Ioutの波形は(b)のように波高値が
0.5mAで揃っている。このとき電圧/電流変換回路
はの出力電圧Voutは(c)のようになる。行配線の
抵抗による電圧降下のために電圧波高値は走査回路から
遠いほど、即ちDy1よりもDy1000への印加電圧
のほうが高くなる。また列配線の抵抗による電圧降下の
ために極わずかであるが、列配線の駆動回路から遠いほ
ど、即ちDx1を選択したときよりもDx500を選択
したときの方が駆動電圧が高くなる。また、同じ行配線
上でも各素子への印加パルスの幅が異なるので、1つの
パルス内でも同時に選択されている素子数が時間ととも
に減るために、印加電圧は図24(c)のAのように1
つのパルス内で段々と低くなる。さらにこれら条件で駆
動した際の放出電流Ieの様子を(d)に示す。どの素
子からの放出電流も1μAに揃っている。
【0095】本実施形態によれば、半選択素子への回り
込み電流をほとんどなくすことができ、変調回路からの
出力電流と選択した素子を流れる電流を一致させること
ができるため表示画面全体に渡って原画像信号に対して
極めて忠実な輝度で画像を表示できる。尚、本実施形態
においては選択していない行配線への印加電圧Vnsを
列配線への印加電圧Veの最低値となるように走査駆動
回路に一番近いVeの電位を選択した。これは必ずしも
最低値に限るものではなく、Veの変化する範囲内の値
であれば、半選択素子に流れる電流をほとんどなくすこ
とができる。また、列方向配線に印加される電圧を測定
することなく、電気回路の計算機シミュレーションで算
出した印加電圧Veの最低値、例えば本実施形態では7
[V]に固定しても効果が得られた。 [実施形態3]本発明に係わる実施形態3について説明
する。本実施の形態のマルチ電子源の駆動方法とそれを
用いた画像表示装置は、図25に示すように以下の構成
を備える。
【0096】すなわち実施形態1と同様に、表面伝導型
放出素子を行列状に構成した単純マトリックス構成のマ
ルチ電子源601と、電流信号を生成して列配線を通じ
て表面伝導型放出素子を駆動する変調回路602と、行
配線を順次選択する走査回路603を備える。走査回路
603は、選択した行配線(図中Dx5)に電位Vsを
固定し、非選択の行配線(図中Dx5以外)に電位Vn
sに固定する。さらに変調回路602は、電子を放出さ
せない素子に対する列配線(図中Dy1,Dy4,Dy
6)の駆動電位をVgに固定し、電子を放出させる素子
に対する変調信号を印加する列配線(図Dy2,Dy
3,Dy5)にはVeを印加する。図では6×6素子の
マトリックスしか示していないが、本実施形態では50
行100列のマトリックスを構成した。また本実施形態
で表面伝導型放出素子は電流放出効率が素子毎にばらつ
いている、即ち素子に通電する電流量と、素子から高圧
が印加されたフェースプレートへ放出される電流量との
比が素子毎に異なっている。よって電流信号駆動回路の
出力電圧Veは、選択された各素子にかかる電圧が所望
の電子放出量1μAが得られる電圧となるように各列配
線毎に自動的に変化する。
【0097】またVnsとVgの電位差及びVgとVs
の電位差が、ともに素子の電子放出が起こる閾値Vth
よりも小さくなるようにする。かつVnsが各列毎に異
なるVeの相加平均値Veaveと等しくなるように設
定する。この構成によれば、電子放出させる素子のある
列配線に接続された素子のうち、電子放出させる素子に
はVe−Vsの電位が印加されるが、半選択素子への印
加電圧はVe−Veave即ち0に近い値となり、その
素子に流れる電流は無視できる値となる。よって各表面
伝導型放出素子を駆動するために列配線に注入された電
流は全て電子放出させる素子に流れ、半選択素子に分流
することがない。よって半選択素子に分流する電流分の
補正を行わなくても良いので、簡単な回路で各素子を定
電流で駆動できることが本実施形態の一つのポイントで
ある。
【0098】次に画像表示装置の駆動方法について詳細
に説明する。まず、図26を参照して、表面伝導型放出
素子を含む画像表示装置の構成について説明する。図中
601は表示パネルで、端子Dx1からDx50及びD
y1からDy100を介して外部の電気回路と接続され
ている。またフェースプレート上の高圧端子は外部の高
圧電源513に接続され高電圧Vaが印加されて放出電
子を加速するようになっている。このうち、端子Dx1
からDx500には前述のパネル内に設けられているマ
ルチ電子源、即ち50行100列の行列状にマトリック
ス配線された表面伝導型放出素子群を1行ずつ順次駆動
してゆくための走査信号が印加される。
【0099】一方、端子Dy1からDy100には前記
走査信号により選択された一行の表面伝導型放出素子の
各素子の出力電子ビームを制御するための変調信号が印
加される。次に、走査回路402について説明する。同
回路は、内部に50個のスイッチング素子を備えるもの
で、各スイッチング素子は、不図示の電圧源の出力電圧
VsもしくはVns発生回路415からの出力電圧Vn
sのいずれか一方を選択し、表示パネル401の端子D
x1ないしDx50と電気的に接続するものである。各
スイッチング素子は、先の実施形態1と同様の図3に示
した回路である。走査回路402は、図6Bに示すよう
に、制御信号Tscanから生成された各行配線に対応
するタイミング信号Txmに同期して、選択行にはVs
を、非選択行にはVnsを出力する。Vns発生回路4
15は後述する方法で取得した行毎に異なるVns接地
値を、制御信号Tscsnに基づいてメモリから順次読
み出し、対応する電位Vnsを発生させて走査回路40
2に送る。
【0100】即ち本実施形態では、選択する行を切り替
える毎に、Vnsを最適な値に変更することができる。
次に、入力された画像信号の流れについて説明する。入
力されたコンポジット画像信号を画像信号強度に対応し
たパルス幅を持つパルス信号に変換する方法は実施形態
1と同様である。
【0101】得られたパルス信号から効率補正回路10
8で、後述の方法で取得した各素子の効率ばらつきデー
タに基づき、効率をパルスの波高値に反映させたドライ
ブパルスが生成される。ドライブパルスは電圧/電流変
換回路112により電圧量から電流量に変換され、表示
パネルの端子Dy1ないしDy100を通じて表示パネ
ル501内の表面伝導型放出素子に通電される。
【0102】本実施形態では、前記直流電源電圧Vsを
−7.5[V]とした。また所望の電子放出電流が1μ
Aのとき各素子への印加電圧は14[V]から15
[V]の間でばらつく。よって列方向配線への印加電圧
Veは図27のように6.5[V]から7.5[V]の
間でばらつく。選択する行ごとのVeの平均値Veav
eも図のようにばらつく。
【0103】ここで各素子の放出電流量/通電電流量の
効率ばらつきデータの取得方法、及びそのばらつきデー
タから各行毎に設定されるVnsについて述べる。デー
タ取得系を図28に示す。表示パネル511のフェース
プレートには、各素子からの放出電流量を計測する電流
計514を通して高圧電源513で高電圧を印加してあ
り、測定した電流量を制御装置511に送るようになっ
ている。制御装置511からの信号に基づいて端から1
素子ずつ選択する。即ち行配線Dx1ないしDx50に
は電位VnsとVsを切り換えて印加するが、図29の
ように端から順次1つの行方向配線を選択してVsを印
加する。また列配線DyないしDy100にはそれぞれ
上記電圧/電流変換回路図25と同じ回路を接続し、特
定の出力電流を注入する動作と電位Vgを印加する動作
を切り換えている。図のように端から順次1つの列配線
を選択して特定の電流を注入すべく電位Veを印加す
る。これによりマトリックス状に構成された素子を端か
ら1素子ずつ選択して駆動することができる。ここで標
準的な素子では1μAの放出電子量を得るためには0.
5[mA]の素子電流が必要であり、その時の素子への
印加電圧は14.5[V]であるので、1素子選択して
駆動する際、注入電流Ifの初期値を0.5[mA]と
し、電位Vsは−7.5[V]で固定し、電位Vnsの
初期値を7[V]とした。これら設定値で選択した素子
を駆動してその列配線への印加電圧VeをVe計測回路
515を用いて測定し、その電位と同じ電位となるよう
に電位Vnsを変更する。さらに選択した素子から放出
された電流Ieを電流計514で測定する。測定したI
eが所望の電流値1[μA]に達していない場合、設定
電流Ifを設定電流刻み0.1[mA]だけ上げ、Ve
を測定し、Vnsを設定して、Ieを計測する。Ieが
所望の電流を越えていた場合は設定電流を刻み幅だけ下
げて同様にしてIeを測定する。設定電流の刻み幅を繰
り返し毎に半分減らし、これらの一連の処理をIeが所
望の電流値1[μA]±0.01[μA]に収束するま
で繰り返す。そして収束したときの(設定電流If)を
補正データとして効率補正用のLUT1(Look U
p Table1)メモリに書き込む、またそのときの
VeをそのアドレスのVeとして一時記憶しておく。
【0104】ここで所望のIeに収束せずにVeが設定
可能範囲(本実施形態では6[V]ないし8[V]以
内)を越えてしまった場合、そのアドレスの素子は異常
素子として効率補正用のLUT1には0を書き込み、V
eの一時記憶値として標準値7[V]を書き込んでお
く。1つの選択素子の設定値が決定した後、順次隣の素
子を選択していき同様の処理でそのアドレスの補正用デ
ータとVeの一時記憶を繰り返す。
【0105】1つの行についての上記一連の処理が終了
した後に、一時記憶しておいた各Veの平均値Veav
eを計算し、その値をその行のVns設定値としてVn
s発生回路中のLUT2に書き込む。以上一連のフロー
チャートを図30に示す。このようにして表示パネル内
の全素子に対する効率補正値と各行のVns瀬って位置
を取得する。
【0106】これらの設定により選択された素子のある
列配線上の選択されていない素子への印加電圧は0
[V]から0.5[V]となり、選択された素子のない
列配線上の素子への印加電圧は7[V]ないし7.5
[V]の間となり電子放出しきい値電圧以下となる。素
子に0.5[V]を印加した場合に流れる電流は1素子
当たり数十nAと非常に少ないため、半選択素子の電流
の総和Ifnもわずか数十μAであり、選択素子の電流
0.5mAと比較して充分小さく、補正の必要はない。
【0107】次に実際の変調回路からの入力波形がどの
ような電流波形に変換されるかを示したのが図31であ
る。表示パネルの列配線Dy1およびDy100に注目
し、行配線Dx1,Dx2,Dx3,Dx4,…に接続
された素子を駆動するために、図6の回路に時間ととも
に図31(a)に示すような電圧Vinの入力が行われ
たとする。この電圧パルスの各パルス幅は輝度データを
反映し、波高値は出力電流Ioutが上述の方法で取得
したLUT1の補正値に基づいて各素子に注入する電流
値となる電圧であり、電圧/電流変換回路出力Iout
の波形は(b)のように波高値がLUT1の補正値に一
致している。このとき電圧/電流変換回路はの出力電圧
は(c)のようになる。各列配線毎に異なる値となる。
【0108】さらにこれら条件で駆動した際の放出電流
Ieの様子を(d)に示す。どの素子からの放出電流も
1[μA]±0.01[μA]以内に揃っている。本実
施形態によれば、半選択素子への回り込み電流をなくす
ことができ、変調回路からの出力電流と選択した素子を
流れる電流を一致させることができるため表示画面全体
に渡って原画像信号に対して極めて忠実な輝度で画像を
表示できる。
【0109】尚、本実施形態においては選択していない
行方向配線への印加電圧Vnsを、列方向配線への印加
電圧Veの1行分の平均値に設定したが、1行の平均で
はなく全行に対しての平均に設定しても効果が得られ
る。また必ずしも最低値に限るものではなく、Veの変
化する範囲内の値、たとえば変化する範囲内の値、例え
ば最小値としても半選択素子に流れる電流に低減する効
果が得られる。 [実施形態4]本発明に係わる実施形態4について説明
する。本実施形態のマルチ電子源の駆動方法とそれを用
いた画像表示装置は、図32に示すように以下の構成を
備える。
【0110】すなわち実施形態1と同様の行列状に電子
源を構成した単純マトリックス構成の表面伝導型放出素
子601と、行方向配線を順次選択する走査駆動部60
3を備え、選択した行方向配線に電位Vsを印加し、非
選択の行方向配線に電位Vnsに印加する。また、列方
向配線を通じて表面伝導型放出素子に変調信号を印加す
べく電圧駆動部610を備える。電圧駆動部は電子を放
出させない素子の列方向配線の電位をVgに固定し、電
子を放出させる素子の列方向配線には変調電圧パルス信
号Veを印加する。即ち、本実施形態の場合には、変調
回路はV/I変換回路を持たない。
【0111】図では6×6素子のマトリックスしか示し
ていないが、本実施形態では1000行100列のマト
リックスを構成した。本実施形態の場合列方向配線の抵
抗が大きい。ここでVnsとVgの電位差及びVgとV
sの電位差が、ともに素子の電子放出が起こる閾値より
も小さくなるようにする。かつVnsが各列配線への印
加電圧Veと等しくなるように設定する。
【0112】この構成によれば、電子放出させる素子の
ある列配線に接続された素子のうち、選択された行配線
上の素子にはVe−Vsの電位が印加されるが、非選択
の行配線上の素子への印加電圧はVe−Vns即ち0と
なり、その素子に流れる電流は無視できる。よって各表
面伝導型放出素子を駆動するために列配線に注入された
電流は全て電子放出させる素子に流れ、半選択素子に回
り込むことがない。よって半選択素子に流れる電流によ
る電圧降下を補正する必要がなく、簡単な回路で各素子
を定電流で駆動できることが本実施形態の一つのポイン
トである。
【0113】次に画像表示装置の駆動方法について詳細
に説明する。まず、図33を参照して、表面伝導型放出
素子を含む画像表示装置の構成について説明する。図中
601は表示パネルで、端子Dx1からDx1000及
びDy1からDy100を介して外部の電気回路と接続
されている。またフェースプレート上の高圧端子は外部
の高圧電源513に接続され高電圧Vaが印加されて放
出電子を加速するようになっている。このうち、端子D
x1からDx1000には前述のパネル内に設けられて
いるマルチ電子源、即ち1000行100列の行列状に
マトリックス配線された表面伝導型放出素子群を1行ず
つ順次駆動してゆくための走査信号が印加される。
【0114】一方、端子Dy1からDy100には前記
走査信号により選択された一行の表面伝導型放出素子の
各素子の出力電子ビームを制御するための変調信号が印
加される。次に、走査回路402について説明する。同
回路は、内部に1000個のスイッチング素子を備える
もので、各スイッチング素子は、不図示の電圧源の出力
電圧Vs、もしくはVnsすなわち列配線への印加電圧
Veに等しい電位のいずれか一方を選択し、表示パネル
601の端子Dx1ないしDx1000と電気的に接続
するものである。各スイッチング素子は、先の実施形態
1と同様の図3に示した回路である。走査回路402
は、図4に示すように、制御信号Tscanから生成さ
れた各行配線に対応するタイミング信号Txmに同期し
て、出力VxmをVsかVnsのいずれかに切り換え
る。
【0115】本実施形態では、前記直流電源電圧Vsを
−7.5[V]とした。また実施形態1と同じく所望の
電子放出電流が1[μA]のとき各素子への印加電圧は
14.5[V]で一定となるので、行配線への印加電圧
Veは7.0[V]とした。よって選択されていない行
配線への印加電圧Vnsも同じく7.0[V]とした。
【0116】これらの設定により半選択素子への印加電
圧は0[V]となる。の間でばらつく。選択する行ごと
のVeの平均値Veaveも図のようにばらつく。次
に、入力された画像信号の流れについて説明する。入力
されたコンポジット画像信号を画像信号強度に対応した
パルス幅を持つパルス信号に変換する方法は実施形態1
と同様である。
【0117】このパルス信号を受けて駆動電圧発生回路
612から波高値がVe即ち7.0[V]となるパルス
を発生され、この出力を表示パネルの列配線Dy1ない
しDy100に接続した。本実施形態で用いた表示パネ
ルは、列方向配線の抵抗が高いために従来技術で述べた
電圧印加方法で駆動した場合、それによる電圧降下が無
視できなくなる。すなわち列方向につながる素子のうち
選択されていない素子に流れる半選択電流による電圧降
下が大きくなり、列配線駆動部に近い素子を選択した場
合と、遠い素子を駆動した場合では列配線に印加される
変調信号の電圧は同じでも、素子への印加電圧が異なっ
てしまう。即ち、駆動部に近い素子に印加される電圧の
方が、遠い素子に印加される電圧よりも高くなってしま
う。しかし、本例の方法によれば、選択されていない素
子に流れる半選択流量が無くなり、駆動部からの遠近に
かかわらず均一の駆動が可能となり、表示画面全体に渡
って原画像信号に対して極めて忠実な輝度で画像を表現
できる。 (実施形態5)以上、実施形態1〜実施形態4でマルチ
電子源並びに表示パネルについて説明したが、これらが
内蔵する表面伝導型放出素子を他の種類の電子放出素子
で代用して実施した場合にも本発明の駆動方法は有効で
あった。
【0118】発明者等は、電子放出素子としてFE素子
を用いたマルチ電子源ならびに表示パネルに対して前記
実施形態1〜前記実施形態4の駆動方法を実施したとこ
ろ、半選択素子に流れる電流を大幅に低減できた。たと
えば、図34Aあるいは図34Bあるいは図34Cに例
示するような横形FE素子を表面伝導型放出素子の代わ
りに用いた。図34A〜図34Cにおいて、1101は
ガラス基板、701は電子放出部、702は負電極、7
03はゲート(正電極)、である。これらの横形FE素
子はいずれも負電極702とゲート713の間に適宜の
駆動電圧を印可することで、電子放出部701より電子
ビームを放出されるものである。
【0119】図35に、前記図34Aに示した横形FE
素子をマトリックス配線したマルチ電子源の平面図を例
として示す。図中、704は横形FE素子の負電極70
2どうしを共通接続するための行配線、705は横形F
E素子のゲート同士を共通接続するための列配線であ
る。ここに例示したマルチ電子源並びに該マルチ電子源
を備えた画像表示装置に対しても、本発明の駆動方法を
適用すれば複雑な補償回路を設けなくても所望強度の電
子ビームを正確に出力させることが可能であった。ま
た、半選択素子で消費される電力も低減できた。
【0120】さらには、上述の例とは異なる他の電子放
出素子を用いた電子源や画像形成装置に対しても本発明
は有効であった。たとえば、Spindt型電界放出素子やMI
M型放出素子に対しても、もちろん有効であった。 (実施形態6)図36は、前記説明による表面伝導型放
出素子をマルチ電子源として用いたディスプレイパネル
に、例えばテレビジョン放送をはじめとする種々の画像
情報源より提供される画像情報を表示できるように構成
した多機能表示装置の一応用例を示すための図である。
【0121】図中、2100はディスプレイパネル、2
101はディスプレイパネルの駆動回路、2102はデ
ィスプレイコントローラ、2103はマルチプレクサ、
2104はデコーダ、2105は入出力インターフェー
ス回路、2106はCPU、2107は画像生成回路、
2108および2109および2110は画像メモリイ
ンターフェース回路、2111は画像入力インターフェ
ース回路、2112および2113はTV信号受信回
路、2114は入力部である。
【0122】なお、本表示装置は、例えばテレビジョン
信号のように映像情報と音声情報の両方を含む信号を受
信する場合には、当然映像の表示と同時に音声を再生す
るものであるが、本発明に係る実施の形態の特徴と直接
関係しない音声情報の受信,分離,再生,処理,記憶な
どに関する回路やスピーカなどについては説明を省略す
る。
【0123】以下、画像信号の流れに沿って各部の機能
を説明してゆく。まず、TV信号受信回路2113は、
例えば、電波や空間光通信などのような無線伝送系を用
いて伝送されるTV画像信号を受信するための回路であ
る。受信するTV信号の方式は特に限られるものではな
く、例えば、NTSC方式、PAL方式、SECAM方
式などの方式でもよい。また、これらよりさらに多数の
走査線よりなるTV信号(例えば、MUSE方式をはじ
めとするいわゆる高品位TV)は、大面積化や大画素数
化に適した前記ディスプレイパネルの利点を生かすのに
好適な信号源である。TV信号受信回路2113で受信
されたTV信号は、デコーダ2104に出力される。
【0124】また、TV信号受信回路2112は、例え
ば同軸ケーブルや光ファイバーなどのような有線伝送系
を用いて伝送されるTV画像信号を受信するための回路
である。前記TV信号受信回路2113と同様に、受信
するTV信号の方式は特に限られるものではなく、また
本回路で受信されたTV信号もデコーダ2104に出力
される。
【0125】また、画像入力インターフェース回路21
11は、例えばTVカメラや画像読み取りスキャナなど
の画像入力装置から供給される画像信号を取り込むため
の回路で、取り込まれた画像信号はデコーダ2104に
出力される。また、画像メモリインターフェース回路2
110は、ビデオテープレコーダ(以下VTRと略す)
に記憶されている画像信号を取り込むための回路で、取
り込まれた画像信号はデコーダ2104に出力される。
【0126】また、画像メモリインターフェース回路2
109は、ビデオディスクに記憶されている画像信号を
取り込むための回路で、取り込まれた画像信号はデコー
ダ2104に出力される。また、画像メモリインターフ
ェース回路2108は、いわゆる静止画ディスクのよう
に、静止画像データを記憶している装置から画像信号を
取り込むための回路で、取り込まれた静止画像データは
デコーダ2104に出力される。
【0127】また、入出力インターフェース回路210
5は、本表示装置と、外部のコンピュータもしくはコン
ピュータネットワークもしくはプリンタなどの出力装置
とを接続するための回路である。画像データや文字デー
タ・図形情報の入出力を行うのはもちろんのこと、場合
によっては本表示装置の備えるCPU2106と外部と
の間で制御信号や数値データの入出力などを行うことも
可能である。
【0128】また、画像生成回路2107は、前記入出
力インターフェース回路2105を介して外部から入力
される画像データや文字・図形情報や、あるいはCPU
2106より出力される画像データや文字・図形情報に
基づき表示用画像データを生成するための回路である。
本回路の内部には、例えば、画像データや文字・図形情
報を蓄積するための書き換え可能メモリや、文字コード
に対応する画像パターンが記憶されている読みだし専用
メモリや、画像処理を行うためのプロセッサなどをはじ
めとして画像の生成に必要な回路が組み込まれている。
【0129】本回路により生成された表示用画像データ
は、デコーダ2104に出力されるが、場合によっては
前記入出力インターフェース回路2105を介して外部
のコンピュータネットワークやプリンタ入出力すること
も可能である。また、CPU2106は、主として本表
示装置の動作制御や、表示画像の生成や選択や編集に関
わる作業を行う。
【0130】例えば、マルチプレクサ2103に制御信
号を出力し、ディスプレイパネルに表示する画像信号を
適宜選択したり組み合わせたりする。また、その際には
表示する画像信号に応じてディスプレイパネルコントロ
ーラ2102に対して制御信号を発生し、画面表示周波
数や走査方法(例えば、インターレースかノンインター
レースか)や一画面の走査線の数など表示装置の動作を
適宜制御する。
【0131】また、前記画像生成回路2107に対して
画像データや文字・図形情報を直接出力したり、あるい
は、前記入出力インターフェース回路2105を介して
外部のコンピュータやメモリをアクセスして画像データ
や文字・図形情報を入力する。なお、CPU2106
は、むろんこれ以外の目的の作業にも関わるものであっ
ても良い。例えば、パーソナルコンピュータやワードプ
ロセッサなどのように、情報を生成したり処理する機能
に直接関わっても良い。
【0132】あるいは、前述したように入出力インター
フェース回路2105を介して外部のコンピュータネッ
トワークと接続し、例えば数値計算などの作業を外部機
器と協同して行っても良い。また、入力部2114は、
前記CPU2106に使用者が命令やプログラム、ある
いはデータなどを入力するためのものであり、例えばキ
ーボードやマウスのほか、ジョイスティック,バーコー
ドリーダー,音声認識装置など多様な入力機器を用いる
事が可能である。
【0133】また、デコーダ2104は、前記2107
ないし2113より入力される種々の画像信号を3原色
信号、または輝度信号とI信号,Q信号に逆変換するた
めの回路である。なお、同図中に点線で示すように、デ
コーダ2104は内部に画像メモリを備えるのが望まし
い。これは、例えばMUSE方式をはじめとして、逆変
換するに際して画像メモリを必要とするようなテレビ信
号を扱うためである。また、画像メモリを備えることに
より、静止画の表示が容易になる、あるいは前記画像生
成回路2107およびCPU2106と協同してがぞの
間引き,補間,拡大,縮小,合成をはじめとする画像処
理や編集が容易に行えるようになるという利点が生まれ
るからである。
【0134】また、マルチプレクサ2103は、前記C
PU2106より入力される制御信号に基づき表示画像
を適宜選択するものである。すなわち、マルチプレクサ
2103はデコーダ2104から入力される逆変換され
た画像信号のうちから所望の画像信号を選択して駆動回
路2101に出力する。その場合には、一画面表示時間
内で画像信号を切り替えて選択することにより、いわゆ
る多画面テレビのように、一画面を複数の領域に分けて
領域によって異なる画像を表示することも可能である。
【0135】また、ディスプレイパネルコントローラ2
102は、前記CPU2106より入力される制御信号
に基づき駆動回路2101の動作を制御するための回路
である。まず、ディスプレイパネルの基本的な動作にか
かわるものとして、例えばディスプレイパネルの駆動用
電源(不図示)の動作シーケンスを制御するための信号
を駆動回路2101に対して出力する。
【0136】また、ディスプレイパネルの駆動方法に関
わるものとして、例えば画面表示周波数や走査方法(例
えば、インターレースかノンインターレースか)を制御
するための信号を駆動回路2101に対して出力する。
また、場合によっては表示画像の輝度やコントラストや
色調やシャープネスといった画質の調整に関わる制御信
号を駆動回路2101に対して出力する場合もある。
【0137】また、駆動回路2101は、ディスプレイ
パネル2100に印加する駆動信号を発生するための回
路であり、前記マルチプレクサ2103から入力される
画像信号と、前記ディスプレイパネルコントローラ21
02より入力される制御信号に基づいて動作するもので
ある。以上、各部の機能を説明したが、図36に例示し
た構成により、本表示装置においては多様な画像情報源
より入力される画像情報をディスプレイパネル2100
に表示する事が可能である。
【0138】すなわち、テレビジョン放送をはじめとす
る各種の画像信号はデコーダ2104において逆変換さ
れた後、マルチプレクサ2103において適宜選択さ
れ、駆動回路2101に入力される。一方、ディスプレ
イコントローラ2102は、表示する画像信号に応じて
駆動回路2101の動作を制御するための制御信号を発
生する。駆動回路2101は、上記画像信号と制御信号
に基づいてディスプレイパネル2100に駆動信号を印
加する。
【0139】これにより、ディスプレイパネル2100
において画像が表示される。これらの一連の動作は、C
PU2106により統括的に制御される。また、本表示
装置においては、前記デコーダ2104に内蔵する画像
メモリや、画像生成回路2107およびCPU2106
が関与することにより、単に複数の画像情報の中から選
択したものを表示するだけでなく、表示する画像情報に
対して、例えば拡大,縮小,回転,移動,エッジ強調,
間引き,補間,色変換,画像の縦横比変換などをはじめ
とする画像処理や、合成,消去,接続,入れ換え,はめ
込みなどをはじめとする画像編集を行う事も可能であ
る。また、本実施形態の説明では特に触れなかったが、
上記画像処理や画像編集と同様に、音声情報に関しても
処理や編集を行うための専用回路を設けても良い。
【0140】したがって、本表示装置は、テレビジョン
放送の表示機器,テレビ会議の端末機器,静止画像およ
び動画像を扱う画像編集機器,コンピュータの端末機
器,ワードプロセッサをはじめとする事務用端末機器,
ゲーム機などの機能を一台で兼ね備える事が可能で、産
業用あるいは民生用として極めて応用範囲が広い。な
お、上記図36は、表面伝導型放出素子を電子ビーム源
とするディスプレイパネルを用いた表示装置の構成の一
例を示したにすぎず、これのみに限定されるものではな
い事は言うまでもない。例えば、図36の構成要素のう
ち、使用目的上必要のない機能に関わる回路は省いても
差し支えない。また、これとは逆に、使用目的によって
はさらに構成要素を追加しても良い。例えば、本表示装
置をテレビ電話機として応用する場合には、テレビカメ
ラ,音声マイク,照明機,モデムを含む送受信回路など
を構成要素に追加するのが好適である。
【0141】本表示装置においては、とりわけ表面伝導
型放出素子をマルチ電子源とするディスプレイパネルが
容易に薄形化できるため、表示装置全体の奥行きを小さ
くすることが可能である。それに加えて、表面伝導型放
出素子をマルチ電子源とするディスプレイパネルは大画
面化が容易で輝度が高く視野角特性にも優れるため、本
表示装置は臨場感あふれ迫力に富んだ画像を視認性良く
表示する事が可能である。
【0142】尚、本発明は、複数の機器から構成される
システムに適用しても、1つの機器から成る装置に適用
しても良い。また、本発明はシステム或は装置にプログ
ラムを供給することによって達成される場合にも適用で
きることはいうまでもない。以上説明したように本実施
形態によれば、表面伝導型放出素子をマトリックス状に
配線し、配線上で生じる電圧分布に起因する電子放出分
布を補償することが出来る駆動方法において、配線への
印加電圧の組み合わせを工夫することにより、非選択素
子への回り込み電流を低減できる。
【0143】これにより、非常に低コストで、マルチ電
子源全体にわたって、源信号のレベルを極めて忠実に反
映した電子放出量での駆動が可能である。
【0144】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
多数の電子放出素子をマトリックス配線したマルチ電子
源において、駆動すべき電子放出素子と同じ列にある他
の電子放出素子(すなわち半選択素子)に流れる電流を
大幅に低減できる。このため、列配線を通じて供給され
る変調信号は、ほとんど損失なく駆動すべき電子放出素
子に印加される。従って、半選択素子に流れる電流分を
補償するために従来のような複雑な補正回路を設けなく
ても、簡単に所望の強度の電子ビームを正確に出力する
ことが可能である。しかも半選択素子の消費電力が低減
された。言い換えれば、出力の正確性に優れ、消費電力
が小さな電子源装置を低いコストで低減することが出来
た。
【0145】さらには、上記マルチ電子源を画像表示装
置に適用した結果、複雑な補正回路を要せずとも形成画
像の輝度が正確に保たれ、消費電力が小さく、安価な画
像表示装置を提供することも出来た。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態1のマルチ電子源と駆動回路を表す図
である。
【図2】実施形態1の画像表示装置の駆動回路図であ
る。
【図3】走査回路の内部構造を表す図である。
【図4】図3の回路の入出力特性を表すタイムチャート
である。
【図5】電流の流れを示す等価回路図である。
【図6】実施形態1に用いた変調回路の構成図である。
【図7】信号波形を示すタイムチャートである。
【図8】表示パネルの構成を示す図である。
【図9A】蛍光体の構成を示す図である。
【図9B】蛍光体の構成を示す図である。
【図10A】平面型の表面伝導型放出素子の構成を示す
平面図である。
【図10B】平面型の表面伝導型放出素子の構成を示す
断面図である。
【図11A】表面伝導型放出素子の製造工程を示す図で
ある。
【図11B】表面伝導型放出素子の製造工程を示す図で
ある。
【図11C】表面伝導型放出素子の製造工程を示す図で
ある。
【図11D】表面伝導型放出素子の製造工程を示す図で
ある。
【図11E】表面伝導型放出素子の製造工程を示す図で
ある。
【図12】フォーミング電圧波形を示す図である。
【図13A】通電活性化処理での印加電圧波形を示す図
である。
【図13B】通電活性化処理で計測された放出電流波形
を示す図である。
【図14】垂直型の表面伝導型放出素子の構成を示す断
面図である。
【図15A】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を
示す図である。
【図15B】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を
示す図である。
【図15C】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を
示す図である。
【図15D】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を
示す図である。
【図15E】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を
示す図である。
【図15F】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を
示す図である。
【図16】表面伝導型放出素子の入出力特性を示す図で
ある。
【図17】表示パネルに用いたマルチ電子源の平面図で
ある。
【図18】図18のA−A’に沿った断面図である。
【図19】実施形態2の電子源の駆動回路図である。
【図20】各列の電子放出素子に印加される電圧を示す
グラフである。
【図21】第2実施形態の画像表示装置の駆動回路図で
ある。
【図22】Veの最小値を検知するための回路である。
【図23】駆動パターンの違いによる印加電圧の差を示
すためのグラフである。
【図24】実施形態2の信号波形を示すタイムチャート
である。
【図25】実施形態3の電子源の駆動回路図である。
【図26】実施形態3の画像表示装置の駆動回路図であ
る。
【図27】変調信号の電圧平均値Veaveを示すグラ
フである。
【図28】Ve測定回路を備えた電子源の駆動回路図で
ある。
【図29】1行ずつVeを測定する手順を示す図であ
る。
【図30】各素子の特性を計測するとともに、各行毎に
Veaveを定めるための手順を示すフローチャートで
ある。
【図31】実施形態3の信号波形を示すフローチャート
である。
【図32】実施形態4である電圧駆動による電子源の駆
動回路図である。
【図33】実施形態4である電圧駆動による画像表示装
置の駆動回路図である。
【図34A】横型FEの斜視図である。
【図34B】横型FEの斜視図である。
【図34C】横型FEの斜視図である。
【図35】横型FEを使ったマルチ電子源の斜視図であ
る。
【図36】マルチ画像表示装置の構成図である。
【図37】従来の表面伝導型放出素子の斜視図である。
【図38】従来のFE型放出素子の断面図である。
【図39】従来のMIM型放出素子の断面図である。
【図40】単純マトリックス配線したマルチ電子源の等
価回路図である。
【図41】マルチ電子源の電流の流れを表す図である。
【図42】従来のV/I変換回路図である。
【符号の説明】
102,402,603,607 走査回路 602,606 変調回路 601,605 マルチ電子源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01J 1/316 H01J 1/30 E (56)参考文献 特開 平6−289814(JP,A) 特開 平6−301355(JP,A) 特開 昭56−138792(JP,A) 特開 昭59−181880(JP,A) 特開 平6−67621(JP,A) 特開 平6−342636(JP,A) 特開 平2−61697(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G09G 3/00 - 3/38 H01J 1/316 H01J 29/98 H01J 31/12 H04N 5/66 - 5/74

Claims (21)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 それぞれが一対の素子電極に印加される
    電圧と対応して放出される電子量との関係において、電
    子放出−非電子放出の境界点である閾値電圧点Vthを含
    む非線形特性を有する複数の表面伝導型放出素子を複数
    のデータ配線と複数の走査配線でマトリクス配線したマ
    ルチ電子源と前記マルチ電子源を駆動する駆動回路とを
    有する電子発生装置において、 前記駆動回路は、電子放出させる表面伝導型放出素子が
    接続されている走査配線に第1の電圧(Vs)を印加
    し、電子放出させない表面伝導型放出素子が接続されて
    いる走査配線に第2の電圧(Vns)を印加する第1の
    駆動手段と、 電子放出させる表面伝導型放出素子が接続されているデ
    ータ配線に第3の電圧(Ve)を印加し、電子放出させ
    ない表面伝導型放出素子が接続されているデータ配線に
    第4の電圧(Vg)を印加する第2の駆動手段とを備
    え、 前記第2の電圧(Vns)は、前記第3の電圧(Ve)
    のデータ配線ごとのばらつきの上限と下限の範囲内であ
    り、前記第2の電圧(Vns)と前記第4の電圧(V
    g)間の電位差と、前記第4の電圧(Vg)と前記第1
    の電圧(Vs)間との電位差が、共に前記閾値電圧点V
    thより小さいことを特徴とする電子発生装置。
  2. 【請求項2】 前記走査配線に印加される前記第1の電
    圧(Vs)と前記第2の電圧(Vns)は、各行を選択
    する走査信号に基づくことを特徴とする請求項1に記載
    の電子発生装置。
  3. 【請求項3】 映像信号を変調して変調信号を生成する
    変調手段をさらに備えることを特徴とする請求項1に記
    載の電子発生装置。
  4. 【請求項4】 前記データ配線に印加される前記第3の
    電圧(Ve)と前記第4の電圧(Vg)は、各列に接続
    された表面伝導型放出素子を駆動するための変調信号に
    基づくことを特徴とする請求項3に記載の電子発生装
    置。
  5. 【請求項5】 前記変調は、パルス幅変調であることを
    特徴とする請求項3に記載の電子発生装置。
  6. 【請求項6】 前記変調は、振幅変調であることを特徴
    とする請求項3に記載の電子発生装置。
  7. 【請求項7】 前記駆動回路は、前記第1の電圧(V
    s)と前記第2の電圧(Vns)を、プッシュプル構造
    によって発生させることを特徴とする請求項1に記載の
    電子発生装置。
  8. 【請求項8】 前記第2の駆動手段はさらに、 前記表面伝導型放出素子に流れる素子電流と前記電子放
    出素子の入出力効率のばらつきを測定する測定手段と、 前記測定手段で測定された入出力効率のばらつきを補正
    する補正値を格納する格納手段と、 前記格納手段に格納された補正値と変調信号に基づい
    て、前記第3の電圧(Ve)と前記第4の電圧(Vg)
    を生成することを特徴とする請求項1に記載の電子発生
    装置。
  9. 【請求項9】 請求項1からのいずれか1項に記載の
    電子発生装置と、 前記電子発生装置から放出された電子によって発光する
    発光手段とを有することを特徴とする画像表示装置。
  10. 【請求項10】 それぞれが一対の素子電極に印加され
    る電圧と対応して放出される電子量との関係において、
    電子放出−非電子放出の境界点である閾値電圧点Vthを
    含む非線形特性を有する複数の表面伝導型放出素子を複
    数のデータ配線と複数の走査配線でマトリクス配線した
    マルチ電子源を駆動する駆動回路において、 電子放出させる表面伝導型放出素子が接続されている走
    査配線に第1の電圧(Vs)を印加し、電子放出させな
    表面伝導型放出素子が接続されている走査配線に第2
    の電圧(Vns)を印加する第1の駆動手段と、 電子放出させる表面伝導型放出素子が接続されているデ
    ータ配線に第3の電圧(Ve)を印加し、電子放出させ
    ない表面伝導型放出素子が接続されているデータ配線に
    第4の電圧(Vg)を印加する第2の駆動手段とを備
    え、 前記第2の電圧(Vns)は、前記第3の電圧(Ve)
    のデータ配線ごとのばらつきの上限と下限の範囲内であ
    り、前記第2の電圧(Vns)と前記第4の電圧(V
    g)間の電位差と、前記第4の電圧(Vg)と前記第1
    の電圧(Vs)間との電位差が、共に前記閾値電圧点V
    thより小さいことを特徴とする駆動回路。
  11. 【請求項11】 前記走査配線に印加される前記第1の
    電圧(Vs)と前記第2の電圧(Vns)は、各行を選
    択する走査信号に基づくことを特徴とする請求項1
    記載の駆動回路。
  12. 【請求項12】 映像信号を変調して変調信号を生成す
    る変調手段をさらに備えることを特徴とする請求項1
    に記載の駆動回路。
  13. 【請求項13】 前記データ配線に印加される前記第3
    の電圧(Ve)と前記第4の電圧(Vg)は、各列に接
    続された表面伝導型放出素子を駆動するための変調信号
    に基づくことを特徴とする請求項12に記載の駆動回
    路。
  14. 【請求項14】 前記変調は、パルス幅変調であること
    を特徴とする請求項1に記載の駆動回路。
  15. 【請求項15】 前記変調は、振幅変調であることを特
    徴とする請求項1に記載の駆動回路。
  16. 【請求項16】 それぞれが一対の素子電極に印加され
    る電圧と対応して放出される電子量との関係において、
    電子放出−非電子放出の境界点である閾値電圧点Vthを
    含む非線形特性を有する複数の表面伝導型放出素子を複
    数のデータ配線と複数の走査配線でマトリクス配線した
    マルチ電子源と前記マルチ電子源を駆動する駆動回路と
    を有する電子発生装置の駆動方法であって、 電子放出させる表面伝導型放出素子が接続されている走
    査配線に第1の電圧(Vs)を印加し、 電子放出させない表面伝導型放出素子が接続されている
    走査配線に第2の電圧(Vns)を印加し、 電子放出させる表面伝導型放出素子が接続されているデ
    ータ配線に第3の電圧(Ve)を印加し、 電子放出させない表面伝導型放出素子が接続されている
    データ配線に第4の電圧(Vg)を印加し、 前記第2の電圧(Vns)は、前記第3の電圧(Ve)
    のデータ配線ごとのばらつきの上限と下限の範囲内であ
    り、前記第2の電圧(Vns)と前記第4の電圧(V
    g)間の電位差と、前記第4の電圧(Vg)と前記第1
    の電圧(Vs)間との電位差が、共に前記閾値電圧点V
    thより小さいことを特徴とする駆動方法。
  17. 【請求項17】 前記走査配線に印加される前記第1の
    電圧(Vs)と前記第2の電圧(Vns)は、各行を選
    択する走査信号に基づくことを特徴とする請求項16
    記載の駆動方法。
  18. 【請求項18】 映像信号を変調して変調信号を生成す
    る変調工程をさらに備えることを特徴とする請求項16
    に記載の駆動方法。
  19. 【請求項19】 前記データ配線に印加される前記第3
    の電圧(Ve)と前記第4の電圧(Vg)は、各列に接
    続された表面伝導型放出素子を駆動するための変調信号
    に基づくことを特徴とする請求項18に記載の駆動方
    法。
  20. 【請求項20】 前記変調は、パルス幅変調であること
    を特徴とする請求項18に記載の駆動方法。
  21. 【請求項21】 前記変調は、振幅変調であることを特
    徴とする請求項18に記載の駆動方法。
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