JP2821945B2 - 再帰性反射ブロックの製造方法 - Google Patents

再帰性反射ブロックの製造方法

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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はセメントコンクリート系のプレス成型、振動
成型、振動プレス成型、などの即時脱型によるガラスビ
ーズ入り再帰性反射ブロックの製造方法に関するもので
ある。
[従来の技術と問題点] セメントコンクリートブロックの表層部分となるガラ
スビーズを混合したコンクリートは、打設脱型したまま
では、ほとんど再帰性反射は得られないので、セメント
の硬化後、ブロック表面を希塩酸などにより、洗浄して
ガラスビーズ表面を露出させることにより、再帰性反射
ブロックが製造されている。このような反射ブロックは
一般に表層部分が厚く、施工後摩耗が進行しても、コン
クリートの中の新しいガラスビーズが露出するため、反
射性能の低下が少ないことで知られている。
しかし、製造上中和剤としての酸類を使用すること
で、有毒ガスの発生、洗浄液の飛散など安全衛生上困難
な問題がある。また、非常に作業性が悪く、コンクリー
ト強度の低下の原因にもなり、このことが生産性を下げ
る要因となる。
[発明が解決しようとする課題] 本発明は上記問題を解決するためになされたものであ
り、その目的とするところは、ガラスビーズ混入のセメ
ントコンクリート反射ブロックの反射性能とその耐久性
を損なわず、しかもガラスビーズの露出加工法に酸類な
どの中和剤を使わないで衛生的、かつ簡便な製造方法を
提供することにある。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するため、本発明が採用した手段は、
プレス成型、振動成型、振動プレス成型などの即時脱型
方法で成型する比較的混練水量の少ないコンクリートブ
ロックで、粗骨材と細骨材とセメントおよび、水を混合
してなるスランプ値0の表層と、ガラスビーズと細骨材
と白色セメントと着色顔料、および、水を混合してなる
スランプ値0の表層とを振動、またはプレス、あるいは
振動プレスなどで一体成型を行なうか、または後者の表
層配合だけのコンクリートを振動、またはプレス、ある
いは振動プレスなどにより無垢に成型を行なう。その成
型直後の未硬化のブロック表面に比較的少量の一定水圧
の水を一流体または二流体スプレーにて噴霧し、その噴
霧水でブロック表面上のガラスビーズを覆っているセメ
ントの濃度を薄める前工程と、そのブロック養生硬化
後、合成樹脂製のような比較的硬度の小さいブラシによ
り、湿式あるいは乾式でブロック表面をブラッシング
し、表面上のガラスビーズの球面を露出させる後工程に
よって再帰性反射ブロックを製造することにある。
[作用] 即時脱型方法で成型するコンクリートブロックは、打
設時における形状保持の点から比較的混練水量が少ない
バサバサのコンクリートを振動などにより、締め固めて
脱型する。本発明者は、このようなブロックは空隙率が
大きくポーラスであり、比較的吸水性が大きいことに着
目した。
粗骨材80〜120重量部、細骨材50〜100重量部、セメン
ト35〜65重量部、水9〜23重量部を混合してなるバサバ
サのコンクリートを基層とし、粒径範囲88〜840μ、屈
折率1.45以上のガラスビーズ35〜75重量部、細骨材75〜
160重量部、顔料0〜5重量部、白色セメント30〜60重
量部、水7〜21重量部を混合してなるバサバサのコンク
リートを表層としてプレス、振動、または振動プレスな
どの即時脱型方式で一体成型した直後の未硬化のブロッ
ク表面、または後者の表層配合だけのコンクリートを振
動、プレス、あるいは振動プレスのような即時脱型によ
り無垢に成型した直後の未硬化のブロック表面に水を適
当な圧力、例えば0.5〜5Kg/cm2、適当な吐出量、例えば
1〜15/min、適当な噴霧量、例えば0.3〜2/m2の範
囲で一流体方式あるいは二流体方式のスプレーで噴霧
し、ガラスビーズ表面付近のコンクリート中の微粒骨
材、白色セメント、顔料、などの微粒成分を噴霧液によ
って洗い、ゆるませ、ブロックの中へ浸透させてブロッ
ク表面部分のセメント濃度を低下させる。
この噴霧工程では、水量は比較的少量で、溢れるほど
多くはなく、噴霧後直にブロック表面上の噴霧液がブロ
ックに吸い込まれてなくなる程度であり、この操作を2
〜3回繰り返すとより効果的である。ただし、インター
バルは20分以内が適当である。
なお、一般的に、即時脱型方法で成型するコンクリー
トブロックは、混練水だけではセメントの水和反応に必
要な水量の確保が困難な場合が多く、十分な強度発現が
得られないが、本発明は、ブロックに噴霧液が浸透する
ことにより反応水を補充し、十分な強度が得られる。
噴霧工程後に養生し、取り扱いに耐える強度発現の
後、合成樹脂製のような比較的硬度の小さいブラシによ
り、湿式あるいは乾式でブロック表面をブラッシングし
て、低濃度のセメントによる固着力が低下した部分を除
去し、ブロック表面のガラスビーズの球面を露出させて
再帰性反射ブロックを製造する。
このブラッシング工程では、薄皮状に覆っている結合
力の弱い微粒成分を除去し、ガラスビーズの球面の一部
を露出することが目的のため、ポリアミド樹脂製、ポリ
塩化ビニル製、ポリエステル製、および動植物繊維製な
どの比較的ソフトなブラシが良く、スチール製、あるい
は炭化珪素などの固い研磨材を含有する合成樹脂製のブ
ラシは、ガラスビーズの球面を破損するので適さない。
[実施例] 次に本発明の実施例について述べる。
[実施例−1] 第1図に示すように、コンクリート基層10の上にガラ
スビーズ21を含む表層20を設けて、プレス成型によりコ
ンクリート平板を一体成型した。その成型直後に表層表
面に噴霧液を一流体方式(圧力3kg/cm2、噴霧量0.7kg/c
m2、吐出量2.2/min)で噴霧した。第2図に示すよう
に、表層20の表面は微粒成分22が薄皮状に覆う。
養生硬化後、このコンクリート平板表面をポリアミド
樹脂製の繊維を円盤板の外側から同心円状に植毛した構
造のブラシで水洗いしながらブラッシングすると、第3
図に示すように、微粒成分の薄層がとれ、平板表面のガ
ラスビーズ21の球面の一部が均一に露出し、再帰反射機
能を十分備えた平板ブロックが得られた。
コンクリートの配合は次のとおりである。
基層 部数 砕石砂(0.15〜5mm) 1050 砕石砂利(9〜12mm) 380 玉砂利(9〜12mm) 450 ポルトランドセメント 400 水 130 表層 部数 ガラスビーズ(150〜840μ) 200 硅砂(0.15〜1.2mm) 500 白色ポルトランドセメント 200 二酸化チタン 10 水 60 [実施例−2] コンクリート基層の上に表層を設けて、振動成型によ
り床用コンクリートブロックを一体成型した。その成型
直後に表層表面に噴霧液を一流体方式(圧力2kg/cm2
噴霧量0.5kg/cm2、吐出量1.6/min)で各2回噴霧し
た。ただし、1回と2回のインターバルを10分間とし
た。
養生硬化後のコンクリートブロック表面を実施例−1
と同一のブラシで水洗いしながらブラッシングすると、
ブロック表面のガラスビーズの球面の一部が均一に露出
し、再帰反射機能を十分備えた床用ブロックが得られ
た。
コンクリートの配合は次のとおりである。
基層 部数 砂(0.15〜5mm) 310 砕石砂利(9〜12mm) 280 ポルトランドセメント 130 水 40 混和剤 1 表層 部数 ガラスビーズ(105〜840μ) 170 硅砂(0.15〜1.2mm) 500 ポルトランドセメント 170 二酸化チタン 5 水 48 混和剤 1 [発明の効果] 上記のとおり、本発明はガラスビーズ混入センメント
コンクリートの即時脱型成型方式により再帰性反射ブロ
ックの製造方法であり、成型直後の水噴霧の前工程を行
なうことにより、養生後の希塩酸などによる酸洗いを、
水によるブラッシングに置き換えられるので、安全衛生
の上でも、生産性の上でも、コンククリート強度の点か
らも優れている。設備に関しても簡易なもので出来るの
でコスト面でも優れた製造方法である。
【図面の簡単な説明】
第1図は基層と表層とからなる振動成型により脱型直後
のコンクリートブロックを模式的に示す断面図である。 第2図は脱型直後にスプレーで噴霧し、養生後のコンク
リートブロックを模式的に示す断面図である。 第3図はブラッシング工程後のコンクリートブロックを
模式的に示す断面図である。 図において、符号10は基層、20は表層、21はガラスビー
ズ、22は微粒成分をそれぞれ示す。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】粗骨材と細骨材とセメントおよび、水を混
    合してなるスランプ値0の基層と、ガラスビーズと細骨
    材と白色セメントと着色顔料および、水を混合してなる
    スランプ値0の表層とを振動、またはプレス、あるいは
    振動プレスのような即時脱型方法で一体成型をおこな
    い、脱型直後の未硬化のブロック表面に比較的少量の水
    を噴霧し、その噴霧水でブロック表面上のセメントと細
    骨材中の微粒成分および着色顔料等を洗い、ゆるませ、
    そのブロックの中へ吸い込ませることにより、ブロック
    表面のガラスビーズを覆っているセメントの濃度を低下
    させて、ガラスビーズとの固着力を小さくする前工程
    と、そのブロックの養生硬化後、合成樹脂製のような比
    較的硬度の小さいブラシにより、湿式あるいは乾式でブ
    ロック表面をブラッシングし、ガラスビーズの球面の一
    部分を露出させる後工程とからなる再帰性反射ブロック
    の製造方法。
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