JPH04149305A - 再帰性反射ブロックの製造方法 - Google Patents

再帰性反射ブロックの製造方法

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JPH04149305A
JPH04149305A JP2272334A JP27233490A JPH04149305A JP H04149305 A JPH04149305 A JP H04149305A JP 2272334 A JP2272334 A JP 2272334A JP 27233490 A JP27233490 A JP 27233490A JP H04149305 A JPH04149305 A JP H04149305A
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Isamu Shimizu
勇 清水
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はセメントコンクリート系のプレス成型、振動成
型、振動プレス成型、などの即時脱型によるガラスビー
ズ入り再帰性反射ブロックの製造方法に関するものであ
る。
[従来の技術と問題点] セメントコンクリートブロックの表層部分となるガラス
ビーズを混合したコンクリートは、打設脱型したままで
は、はとんど再帰性反射は得られないので、セメントの
硬化後、ブロック表面を希塩酸などにより、洗浄してガ
ラスビーズ表面を露出させることにより、再帰性反射プ
ロ、りが製造されている。このような反射ブロックは一
般に表層部分が厚く、施工後摩耗が進行しても、フンク
リートの中の新しいガラスビーズが露出するtめ、反射
性能の低下が少ないことで知られてしる。
しかし、製造上中和剤としての酸類を使用す2ことで、
布置ガスの発生、洗浄液の飛散など安づ衛生上困難な問
題がある。また、非常に作業性力悪く、コンクリート強
度の低下の原因にもなり、このことが生産性を下げる要
因となる。
[発明が解決しようとする課8] 本発明は上記問題を解決するためになされたものであり
、その目的とするところは、ガラスビーズ混入のセメン
トコンクリート反射ブロックの反射性能とその耐久性を
損なわず、しかもガラスビーズの露出加工方法に酸類な
どの中和剤を使わないで衛生的、かつ簡便な製造方法を
提供することにある。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するため、本発明が採用した手段は、プ
レス成型、振動成型、振動プレス成型などの即時脱型方
法で成型する比較的混線水量の少ないコンクリートブロ
ー、りで、粗骨材と細骨材とセメントおよび、水を混合
してなるスランプ値0の表層と、ガラスビーズと細骨材
と白色セメントと着色顔料、および、水を混合してなる
スランプ値0の表層とを振動、またはプレス、あるいは
振動プレスなどで一体成型を行なうか、または後者の表
層配合だけのコンクリートを振動、またはプレス、ある
いは振動プレスなどにより無垢に成型を行なう、その成
型直後の未硬化のブロック表面に比較的少量の一定水圧
の水を一流体または二流体スプレーにて噴霧し、その噴
霧水でプo +7り表面上のガラスビーズを覆っている
セメントの濃度を薄める前工程と、そのブロックの養生
硬化後、合成樹脂製のような比較的硬度の小さいブラシ
により、湿式あるいは乾式でブロック表面をブラッシン
グし、表面上のガラスビーズの球面を露出させる後工程
によって再帰性反射ブロックを製造することにある。
[作用コ 即時脱型方法で成型するコンクリートブロックは、打設
時における形状保持の点から比較的混練水量が少ないパ
サパサのコンクリートを振動などにより、締め固めて脱
型する0本発明者は、このようなブロー、りは空隙率が
大きくポーラスであり、比較的吸水性が大きいことに着
目した。
粗骨材80〜120重量部、細骨材50−100重量部
、セメント35〜65重量!$2水9〜231jL量部
を混合してなるパサパサのコンクリートを基層とし5粒
径範FM88〜840 !、屈折率1.45以上のガラ
スビーズ35〜75重量部、細骨材75〜160重量部
、顔料0〜5重量部、白色セメント30〜60重量部、
水7〜21重量部を混合してなるパサパサのコンクリー
トを表層としてプレス、振動、または振動プレスなどの
即時脱型方式で一体成型した直後の未硬化のブロック表
面、または後者の表層配合だけのコンクリートを振動、
プレス、あるいは振動プレスのような即時脱型により無
垢に成型した直後の未硬化のブロック表面に水を適当な
圧力1例えば0.5〜5Kg/cゴ、適当な吐出量、例
えば1〜15交/−in、適当な噴霧量1例えば0.3
〜2旦/ゴの範囲で一流体方式あるいは二流体方式のス
プレーで噴霧し、ガラスビーズ表面付近のコンクリート
中の微粒骨材、白色セメント、顔料、などの微粒成分を
噴霧液によって洗い、ゆるませ、ブロックの中へ浸透さ
せてプロー2り表面部分のセメント濃度を低下させる。
この噴霧工程では、水量は比較的少量で、溢れるほど多
くはなく、噴%後直にブロック表面上の噴霧液がブロッ
クに吸い込まれてなくなる程度であり、この操作を2〜
3回繰り返すとより効果的である。ただし、インターバ
ルは20分以内が適当である。
なお、−船釣に、即時脱型方法で成型するコンクリート
フロックは、混線水だけではセメントノ水和反応に必要
な水量の確保が困難な場合が多く、十分な強度発現が得
られないが、本発明はブロックに噴霧液が浸透すること
により反応水を補充し、十分な強度が得られる。
噴霧工程後に養生し、取り扱いに耐える強度発現の後2
合成樹脂製のような比較的硬度の小さいブラシにより、
湿式あるいは乾式でブロック表面をブラッシングして、
低濃度のセメントによる固着力が低下した部分を除去し
、ブロー2り表面のガラスビーズの球面を露出させて再
帰性反射ブロックを製造する。
このブラッシング工程では、薄皮状に覆っている結合力
の弱い微粒成分を除去し、ガラスビーズの球面の一部を
露出することが目的のため、ポリアミド、樹脂製、ポリ
塩化ビニル製、ポリエステル製、および動植物繊維製な
どの比較的ソフトなブラシが良く、スチール製、あるい
は炭化珪素などの固い研磨材を含有する合成樹脂製のブ
ラシは、ガラスビーズの球面を破損するので適さない。
[実施例] 次に本発明の実施例について述べる。
[実施例−1] 第1図に示すように、コンクリート基層lOの上にガラ
スビーズ21を含む表層20を設けて、プレス成型によ
りコンクリート平板を一体成型した。その成型直後に表
層表面に噴霧液を一流体方式(圧力3Kg/crn’、
噴霧量0.7Kg/crn’、吐出量2.2jL/■i
n )で噴霧した。第2図に示すように、表R20の表
面は微粒成分22が薄皮状に覆う。
養生硬化後、このコンクリート平板表面をポリアミド樹
脂製の繊維を円盤板の外側から同心円状に植毛した構造
のブラシで水洗いしながらブラッシングすると、第3図
に示すように、微粒成分の薄層がとれ、平板表面のガラ
スビーズ21の球面の一部が均一に露出し、再帰反射機
能を十分備えた平板ブロックが得られた。
コンクリートの配合は次のとおりである。
基層 砕石砂(0,15〜5mm) 砕石砂利(9〜12mm) 玉砂利(9〜12mm) ポルトランドセメント 水 部数 表層 部数 ガラスビーズ(105〜840弘)  200硅砂(0
,15〜1.2mm)   500白色ポルトランドセ
メント    20〇二酸化チタン         
  lO水                    
      60[実施例−2] コンクリート基層の上に表層を設けて、振動成型により
床用コンクリートブロックを一体成型した。その成型直
後に表層表面に噴霧液を一流体方式(圧力2Kg/cr
n’、噴霧量0 、5Kg/ cm”、吐出量1.6J
l/5in)で各2回噴霜した。ただし、1回と2回の
インターバルを10分間とした。
養生硬化後のコンクリートブロック表面を実施例−1と
同一のブラシで水洗いしながらブラッシングすると、ブ
ロック表面のガラスビーズの球面の一部が均一に露出し
、再帰反射機能を十分備えた床用ブロックが得られた。
コンクリートの配合は次のとおりである。
基層 部数 砂(0,15〜5mm)     310砕石砂利(9
〜12mm)     280ポルトランドセメント 
     130水                
          40混和剤          
     1表層 ガラスビーズ(105〜840μ) 砕砂(0,15〜1.2mm) ポルトランドセメント 二酸化チタン 水 混和剤 部数 [発明の効果] 上記のとおり、本発明はガラスビーズ混入セメントコン
クリートの即時脱型成型方式により1帰性反射ブロック
の製造方法であり、成型直後(水噴霧の前工程を行なう
ことにより、養生後の2塩酸などによる酸洗いを、水に
よるブラッシン・に置き換えられるので、安全衛生の上
でも、生p性の上でも、フンククリート強度の点からも
俊才ている。設備に関しても簡易なもので出来るの1コ
スト面でも優れた製造方法である。
【図面の簡単な説明】
第1図は基層と表層とからなる振動成型によ先鋭型直後
のコンクリートブロックを模式的に示1断面図である。 第2図は脱型直後にスプレーで噴霧し、養生徊のコンク
リートブロックを模式的に示す断面図1ある。 第3図はブラッシング工程後のコンクリートフロー、り
を模式的に示す断面図である。 図において、符号10は基層、20は表層、21はガラ
スビーズ、22は微粒成分をそれぞれ示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)粗骨材と細骨材とセメントおよび、水を混合してな
    るスランプ値0の基層と、ガラスビーズと細骨材と白色
    セメントと着色顔料および、水を混合してなるスランプ
    値0の表層とを振動、またはプレス、あるいは振動プレ
    スのような即時脱型方法で一体成型をおこない、脱型直
    後の未硬化のブロック表面に比較的少量の水を噴霧し、
    その噴霧水でブロック表面上のセメントと細骨材中の微
    粒成分および着色顔料等を洗い、ゆるませ、そのブロッ
    クの中へ吸い込ませることにより、ブロック表面のガラ
    スビーズを覆っているセメントの濃度を低下させて、ガ
    ラスビーズとの固着力を小さくする前工程と、そのブロ
    ックの養生硬化後、合成樹脂製のような比較的硬度の小
    さいブラシにより、湿式あるいは乾式でブロック表面を
    ブラッシングし、ガラスビーズの球面の一部分を露出さ
    せる後工程とからなる再帰性反射ブロックの製造方法。
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