JP2777057B2 - プレート又はディスクをラッカ塗布又は被覆する装置 - Google Patents
プレート又はディスクをラッカ塗布又は被覆する装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、毛管間隙を用いて基板
をラッカ塗布又は被覆する装置であって、毛管間隙が液
状の被覆媒体によって満たされていて、該毛管間隙の上
端部を越えて、基板がラッカ塗布又は被覆時に、ラッカ
塗布もしくは被覆される表面を下に向けて移動させら
れ、これにより、毛管作用及び粘着作用によって薄い層
が、基板の下を向けられた表面にラッカ塗布又は被覆さ
れるようになっており、毛管間隙の上に、ラッカ塗布又
は被覆される基板を毛管間隙の上端部を越えて移動させ
るための搬送装置が設けられている形式のものに関す
る。
をラッカ塗布又は被覆する装置であって、毛管間隙が液
状の被覆媒体によって満たされていて、該毛管間隙の上
端部を越えて、基板がラッカ塗布又は被覆時に、ラッカ
塗布もしくは被覆される表面を下に向けて移動させら
れ、これにより、毛管作用及び粘着作用によって薄い層
が、基板の下を向けられた表面にラッカ塗布又は被覆さ
れるようになっており、毛管間隙の上に、ラッカ塗布又
は被覆される基板を毛管間隙の上端部を越えて移動させ
るための搬送装置が設けられている形式のものに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】薄膜技術の範囲において、特に、ＬＣＤ
スクリーン、半導体製造のためのマスク、半導体基板又
はセラミック基板等を製造する場合における薄膜技術の
範囲においては、しばしば次のような課題、すなわち方
形又は円形のプレートに、ラッカ又はその他のまず初め
は液状媒体から成る均一な層、例えばカラーフィルタ
（Ｆａｒｂｆｉｌｔｅｒ）又は特殊な保護層を設けると
いう課題が生じる。ＰＣＴ／ＤＥ９３／００３９２に基
づいて、このようなラッカ塗布兼被覆過程の改良策が公
知である。この公知の装置によって、特に方形のプレー
トにおけるラッカ層厚の均一性とラッカの消費量の節減
とを達成することができた。しかもこの場合には、それ
以前において必要であった、プレートを回転させる動作
が不要になり、かつプレートを回転させるために要した
機械的な費用も節約することができた。
スクリーン、半導体製造のためのマスク、半導体基板又
はセラミック基板等を製造する場合における薄膜技術の
範囲においては、しばしば次のような課題、すなわち方
形又は円形のプレートに、ラッカ又はその他のまず初め
は液状媒体から成る均一な層、例えばカラーフィルタ
（Ｆａｒｂｆｉｌｔｅｒ）又は特殊な保護層を設けると
いう課題が生じる。ＰＣＴ／ＤＥ９３／００３９２に基
づいて、このようなラッカ塗布兼被覆過程の改良策が公
知である。この公知の装置によって、特に方形のプレー
トにおけるラッカ層厚の均一性とラッカの消費量の節減
とを達成することができた。しかもこの場合には、それ
以前において必要であった、プレートを回転させる動作
が不要になり、かつプレートを回転させるために要した
機械的な費用も節約することができた。
【０００３】
【発明の課題】本発明の課題は、ＰＣＴ／ＤＥ９３／０
０３９２に開示された装置をさらに改良して、プレート
を回転させる必要がなく、しかもさらに単純な構造を備
えた装置を提供することである。
０３９２に開示された装置をさらに改良して、プレート
を回転させる必要がなく、しかもさらに単純な構造を備
えた装置を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、冒頭に述べた形式の装置におい
て、基板を、ラッカ塗布又は被覆時に毛管間隙の縁部と
接触させることなしに、該毛管間隙及びその縁部との間
に小さな間隔をおいて該毛管間隙を越えて移動させるこ
とを目的として、搬送装置が、プレート又はディスクと
して構成されたラッカ塗布又は被覆される基板を保持す
るための保持装置を備えたリニア搬送装置として構成さ
れている。
に本発明の構成では、冒頭に述べた形式の装置におい
て、基板を、ラッカ塗布又は被覆時に毛管間隙の縁部と
接触させることなしに、該毛管間隙及びその縁部との間
に小さな間隔をおいて該毛管間隙を越えて移動させるこ
とを目的として、搬送装置が、プレート又はディスクと
して構成されたラッカ塗布又は被覆される基板を保持す
るための保持装置を備えたリニア搬送装置として構成さ
れている。
【０００５】
【発明の効果】本発明は、特に、ＬＣＤスクリーン、半
導体製造のためのマスク、半導体基板又はセラミック基
板を製造するための薄膜技術のために適しており、本発
明によればこのような薄膜技術において、方形又は円形
のプレートに、ラッカ又はその他のまず初めは液状の媒
体、例えばカラーフィルタ又は特殊な保護層から成る均
一な層を設けることができる。プレート又はディスク
は、ラッカ塗布又は被覆される面を下に向けて、毛管間
隙及びその縁部の上端部の上に小さな間隔をおいて該毛
管間隙を越えて移動させられる。毛管間隙からはラッカ
が、自動的にかつ特に均一な速度で供給される。毛管作
用によってラッカ又はその他の被覆液は、自動的に一定
の速度で重力に抗して毛管間隙内を上方に向かって上昇
し、毛管間隙の上端部において進出する。毛管間隙の上
においてラッカ流は細いラインとして、リニア搬送装置
によって均一かつ低速度で移動させられる被覆すべきプ
レート表面に接触し、そこにおいて粘着によってしっか
りと保持され、プレートの運動速度に関連して該プレー
トの表面に規定の層厚で付着し、該プレートを被覆す
る。プレート表面に対するラッカの粘着によって、毛管
間隙からの進出後にラッカが側方に流れることを回避す
ることができ、ひいては層厚の均一性の劣化を防止する
ことができる。
導体製造のためのマスク、半導体基板又はセラミック基
板を製造するための薄膜技術のために適しており、本発
明によればこのような薄膜技術において、方形又は円形
のプレートに、ラッカ又はその他のまず初めは液状の媒
体、例えばカラーフィルタ又は特殊な保護層から成る均
一な層を設けることができる。プレート又はディスク
は、ラッカ塗布又は被覆される面を下に向けて、毛管間
隙及びその縁部の上端部の上に小さな間隔をおいて該毛
管間隙を越えて移動させられる。毛管間隙からはラッカ
が、自動的にかつ特に均一な速度で供給される。毛管作
用によってラッカ又はその他の被覆液は、自動的に一定
の速度で重力に抗して毛管間隙内を上方に向かって上昇
し、毛管間隙の上端部において進出する。毛管間隙の上
においてラッカ流は細いラインとして、リニア搬送装置
によって均一かつ低速度で移動させられる被覆すべきプ
レート表面に接触し、そこにおいて粘着によってしっか
りと保持され、プレートの運動速度に関連して該プレー
トの表面に規定の層厚で付着し、該プレートを被覆す
る。プレート表面に対するラッカの粘着によって、毛管
間隙からの進出後にラッカが側方に流れることを回避す
ることができ、ひいては層厚の均一性の劣化を防止する
ことができる。
【０００６】被覆時における毛管間隙と基板との間の間
隔は、有利には０．２ｍｍ未満である。
隔は、有利には０．２ｍｍ未満である。
【０００７】毛管間隙は有利には請求項３に記載のよう
に構成されており、この場合毛管間隙の幅は有利には
０．５ｍｍ未満である。
に構成されており、この場合毛管間隙の幅は有利には
０．５ｍｍ未満である。
【０００８】本発明の別の有利な構成では、毛管間隙の
幅を無段階式に変化させるための調節装置が設けられて
おり、該調節装置によって、装置の運転中における毛管
間隙幅の調節が可能である。このように構成されている
と、その全長にわたって毛管作用のために最も適した幅
を有する毛管間隙を形成することができる。そしてこれ
によって、種々異なった被覆すべきプレート形式に毛管
の幾何学形状を合わせることができる。
幅を無段階式に変化させるための調節装置が設けられて
おり、該調節装置によって、装置の運転中における毛管
間隙幅の調節が可能である。このように構成されている
と、その全長にわたって毛管作用のために最も適した幅
を有する毛管間隙を形成することができる。そしてこれ
によって、種々異なった被覆すべきプレート形式に毛管
の幾何学形状を合わせることができる。
【０００９】本発明の別の有利な構成では、各ラッカ塗
布動作後に毛管間隙を、有利には２〜３ｍｍの幅に開放
するための手段が設けられている。このように構成され
ていると、ラッカ塗布動作時にのみ望まれている、毛管
間隙におけるラッカの自動的な上昇が、回避される。ラ
ッカが毛管間隙内に長く滞在していると、ラッカの特性
が変化し、これによってラッカ塗布結果に不都合な影響
が与えられることが分かっている。
布動作後に毛管間隙を、有利には２〜３ｍｍの幅に開放
するための手段が設けられている。このように構成され
ていると、ラッカ塗布動作時にのみ望まれている、毛管
間隙におけるラッカの自動的な上昇が、回避される。ラ
ッカが毛管間隙内に長く滞在していると、ラッカの特性
が変化し、これによってラッカ塗布結果に不都合な影響
が与えられることが分かっている。
【００１０】本発明のさらに別の有利な構成では、毛管
間隙を各ラッカ塗布過程又は被覆過程の開始直前に所定
の毛管間隙幅に狭めて、少量の被覆液体を毛管間隙から
上方に押し出し、これによってプレート又はディスクの
ラッカ塗布又は被覆を開始するための手段が設けられて
いる。毛管間隙を機械的に狭めることによって、毛管間
隙内におけるラッカはまず初め機械的に上方に向かって
押される。この動作は、ラッカが毛管間隙の上端部から
進出して、そこにある被覆すべきプレート表面に接触す
るまで、続く。これによってラッカ塗布過程が開始さ
れ、このラッカ塗布過程は次いで、いまや毛管状の間隙
における毛管作用とプレートの運動と粘着作用とによっ
て、上に述べたように引き続き行われる。
間隙を各ラッカ塗布過程又は被覆過程の開始直前に所定
の毛管間隙幅に狭めて、少量の被覆液体を毛管間隙から
上方に押し出し、これによってプレート又はディスクの
ラッカ塗布又は被覆を開始するための手段が設けられて
いる。毛管間隙を機械的に狭めることによって、毛管間
隙内におけるラッカはまず初め機械的に上方に向かって
押される。この動作は、ラッカが毛管間隙の上端部から
進出して、そこにある被覆すべきプレート表面に接触す
るまで、続く。これによってラッカ塗布過程が開始さ
れ、このラッカ塗布過程は次いで、いまや毛管状の間隙
における毛管作用とプレートの運動と粘着作用とによっ
て、上に述べたように引き続き行われる。
【００１１】
【実施例】次に図面につき本発明の実施例を説明する。
【００１２】図１には本発明による被覆装置１０の第１
実施例が示されている。フレーム１１にはトラフ１２
と、リニア搬送ユニット１５のためのスタンド１３，１
４とが固定されている。リニア搬送ユニット１５の可動
部分は下方を向いている。そしてこの可動部分には、ラ
ッカ塗布されるプレートのための回転可能な保持装置１
６が固定されている。プレート１７は例えば、マスク又
はＬＣＤスクリーンを製造するために、ラッカ被覆され
ることが望まれているガラスプレートである。プレート
１７は例えば真空によって吸い込まれて、プレート保持
装置１６に固定されている。このためにプレート保持装
置１６は、図示されていない適当な真空孔を有してい
る。本発明の枠内においてはしかしながらまた、当業者
にとって公知の別の保持装置を使用することも可能であ
る。
実施例が示されている。フレーム１１にはトラフ１２
と、リニア搬送ユニット１５のためのスタンド１３，１
４とが固定されている。リニア搬送ユニット１５の可動
部分は下方を向いている。そしてこの可動部分には、ラ
ッカ塗布されるプレートのための回転可能な保持装置１
６が固定されている。プレート１７は例えば、マスク又
はＬＣＤスクリーンを製造するために、ラッカ被覆され
ることが望まれているガラスプレートである。プレート
１７は例えば真空によって吸い込まれて、プレート保持
装置１６に固定されている。このためにプレート保持装
置１６は、図示されていない適当な真空孔を有してい
る。本発明の枠内においてはしかしながらまた、当業者
にとって公知の別の保持装置を使用することも可能であ
る。
【００１３】トラフ１２は図１において横断面図で示さ
れており、図２においては拡大して示されている。トラ
フ１２における中空室１８は、部分的にラッカによって
満たされている。このラッカ充填部には、上から２つの
薄いプレート１９，２０が沈み込んでいる。プレート１
９は箇所３３においてトラフ１２の上縁部と堅く結合さ
れている。そしてこのプレート１９は不動である。これ
に対してプレート２０は、適当な装置を介してリニア運
動ユニット２２と結合されている。このリニア運動ユニ
ット２２を介してプレート２０は、矢印の方向で往復動
可能である。これによってプレート１９と２０との間の
間隙２４の幅は、無段階式に調節されることができる。
れており、図２においては拡大して示されている。トラ
フ１２における中空室１８は、部分的にラッカによって
満たされている。このラッカ充填部には、上から２つの
薄いプレート１９，２０が沈み込んでいる。プレート１
９は箇所３３においてトラフ１２の上縁部と堅く結合さ
れている。そしてこのプレート１９は不動である。これ
に対してプレート２０は、適当な装置を介してリニア運
動ユニット２２と結合されている。このリニア運動ユニ
ット２２を介してプレート２０は、矢印の方向で往復動
可能である。これによってプレート１９と２０との間の
間隙２４の幅は、無段階式に調節されることができる。
【００１４】最適なラッカ結果又は被覆結果を得るため
に、その都度の被覆液は、規定の温度を有し、かつ極め
て清浄でなくてはならない。したがって被覆液は、貯蔵
タンク２８から温度ユニット２９とフィルタ３０とを介
してトラフ１２に搬送される。この場合被覆液の搬送は
例えば、貯蔵タンクにおいて過圧（ガスクッション）を
生ぜしめることによって、又は、液体が測地学的な高さ
の差によってトラフに搬送されるように貯蔵タンクを適
当に配置することによって、実施することができる。し
かしながらまた、当業者にとって公知のその他の液体搬
送形式を用いることも可能である。
に、その都度の被覆液は、規定の温度を有し、かつ極め
て清浄でなくてはならない。したがって被覆液は、貯蔵
タンク２８から温度ユニット２９とフィルタ３０とを介
してトラフ１２に搬送される。この場合被覆液の搬送は
例えば、貯蔵タンクにおいて過圧（ガスクッション）を
生ぜしめることによって、又は、液体が測地学的な高さ
の差によってトラフに搬送されるように貯蔵タンクを適
当に配置することによって、実施することができる。し
かしながらまた、当業者にとって公知のその他の液体搬
送形式を用いることも可能である。
【００１５】被覆装置の全自動化された構成のために、
符号３１で示された箇所には自動式のローディング装置
が取り付けられ、かつ符号３２で示された箇所には自動
式のアンローディング装置が取り付けられている。ロー
ディング装置（３１）は、ラッカ塗布されるプレート１
７を、規定の箇所に装着されたマガジンから取り出し
て、プレート保持装置１６に供給する。アンローディン
グ装置（３２）は、プレート１７をプレート保持装置１
６から引き受けて、再び、規定の箇所に装着されたマガ
ジンに搬送する。
符号３１で示された箇所には自動式のローディング装置
が取り付けられ、かつ符号３２で示された箇所には自動
式のアンローディング装置が取り付けられている。ロー
ディング装置（３１）は、ラッカ塗布されるプレート１
７を、規定の箇所に装着されたマガジンから取り出し
て、プレート保持装置１６に供給する。アンローディン
グ装置（３２）は、プレート１７をプレート保持装置１
６から引き受けて、再び、規定の箇所に装着されたマガ
ジンに搬送する。
【００１６】ラッカ塗布兼被覆装置の作業形式は以下の
通りである： まず始めにプレート１７が、自動的にか又は手によっ
て、プレート保持装置１６に固定される。プレート保持
装置１６の回転によって、このポジションはなお修正さ
れることができる。プレートホルダはこの時点におい
て、図１において符号３１で示されている箇所の近傍に
位置している。プレート１７が適正なポジションにおい
てプレート保持装置１６に固定されている場合には、リ
ニア搬送ユニット１５は、符号２６で示された矢印の方
向、つまりトラフ１２に向かって運動させられる。
通りである： まず始めにプレート１７が、自動的にか又は手によっ
て、プレート保持装置１６に固定される。プレート保持
装置１６の回転によって、このポジションはなお修正さ
れることができる。プレートホルダはこの時点におい
て、図１において符号３１で示されている箇所の近傍に
位置している。プレート１７が適正なポジションにおい
てプレート保持装置１６に固定されている場合には、リ
ニア搬送ユニット１５は、符号２６で示された矢印の方
向、つまりトラフ１２に向かって運動させられる。
【００１７】このようにしてプレート１７は側部から、
間隙２４の上縁部に接近させられる。プレート１７の前
縁２５が間隙２４のすぐ上に位置するや否や、トラフ１
２におけるプレート２０はプレート１９に向かって接近
運動させられ、この接近運動は、両プレート１９，２０
の間において適当な毛管間隙幅が得られるまで続く。間
隙２４がこのように狭くなることによって、少量の液体
が間隙２４の表面から、プレート１７の被覆される表面
の最前のラインに押し付けられる。これによって被覆動
作が始まる。プレート１７はいまやリニア搬送ユニット
１５を介して、矢印２６の方向に等速度で移動させられ
る。この場合粘着力によって、薄い液体層がプレート表
面に付着する。そして必要な液体流は、間隙２４におけ
る毛管作用によって補充される。
間隙２４の上縁部に接近させられる。プレート１７の前
縁２５が間隙２４のすぐ上に位置するや否や、トラフ１
２におけるプレート２０はプレート１９に向かって接近
運動させられ、この接近運動は、両プレート１９，２０
の間において適当な毛管間隙幅が得られるまで続く。間
隙２４がこのように狭くなることによって、少量の液体
が間隙２４の表面から、プレート１７の被覆される表面
の最前のラインに押し付けられる。これによって被覆動
作が始まる。プレート１７はいまやリニア搬送ユニット
１５を介して、矢印２６の方向に等速度で移動させられ
る。この場合粘着力によって、薄い液体層がプレート表
面に付着する。そして必要な液体流は、間隙２４におけ
る毛管作用によって補充される。
【００１８】被覆動作は、プレート１７の後縁２７が間
隙２４を通過するや否や、終了する。その後で両プレー
ト１９，２０は次の被覆動作の開始まで、先に述べた理
由から、互いの間に２ｍｍ〜３ｍｍの間隔を有するよう
に、移動させられる。そしてプレート１７はさらに、該
プレートがプレート保持装置１６から自動的に又は手に
よって解離される範囲（アンローディグ箇所３２）に向
かって走行する。
隙２４を通過するや否や、終了する。その後で両プレー
ト１９，２０は次の被覆動作の開始まで、先に述べた理
由から、互いの間に２ｍｍ〜３ｍｍの間隔を有するよう
に、移動させられる。そしてプレート１７はさらに、該
プレートがプレート保持装置１６から自動的に又は手に
よって解離される範囲（アンローディグ箇所３２）に向
かって走行する。
【図１】本発明によるラッカ塗布兼被覆装置の構造を示
す図である。
す図である。
【図２】被覆動作の開始に際して毛管間隙を備えた、図
１に示されたトラフを示す横断面図である。
１に示されたトラフを示す横断面図である。
１０ 被覆装置、 １１ フレーム、 １２ トラフ、
１３，１４ スタンド、 １５ リニア搬送ユニッ
ト、 １６ プレート保持装置、 １７ プレート、
１８ 中空室、 １９，２０ プレート、 ２２ リニ
ア運動ユニット、２８ 貯蔵タンク、 ２９ 温度ユニ
ット、 ３０ フィルタ
１３，１４ スタンド、 １５ リニア搬送ユニッ
ト、 １６ プレート保持装置、 １７ プレート、
１８ 中空室、 １９，２０ プレート、 ２２ リニ
ア運動ユニット、２８ 貯蔵タンク、 ２９ 温度ユニ
ット、 ３０ フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トルステン ゲリッシュ ドイツ連邦共和国 カールスルーエ ロ ーンシュトラーセ 26 (72)発明者 カール アピッヒ ドイツ連邦共和国 シュテルネンフェル ス クラメンシュトラーセ 20 (72)発明者 ヤコブ セケレシュ ドイツ連邦ハ和国 プフォルツハイム イム ヨッケンレーン １ (72)発明者 マーチン カリス ドイツ連邦共和国 ミュールアッカー イム デルニッヒ （番地なし) (56)参考文献 特開 昭49−101435（ＪＰ，Ａ) 西独国特許出願公開8704976（ＤＥ, Ａ) 欧州特許出願公開42788（ＥＰ，Ａ) 欧州特許出願公開400491（ＥＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05C 1/00 - 1/16 ＰＣＩ（ＤＩＡＬＯＧ)
Claims (11)
- 【請求項１】 毛管間隙（２４）を用いて基板（１７）
をラッカ塗布又は被覆する装置であって、毛管間隙（２
４）が液状の被覆媒体によって満たされていて、該毛管
間隙の上端部を越えて、基板（１７）がラッカ塗布又は
被覆時に、ラッカ塗布もしくは被覆される表面を下に向
けて移動させられ、これにより、毛管作用及び粘着作用
によって薄い層が、基板（１７）の下を向けられた表面
にラッカ塗布又は被覆されるようになっており、毛管間
隙（２４）の上に、ラッカ塗布又は被覆される基板（１
７）を毛管間隙（２４）の上端部を越えて移動させるた
めの搬送装置（１５）が設けられている形式のものにお
いて、基板（１７）を、ラッカ塗布又は被覆時に毛管間
隙（２４）の縁部と接触させることなしに、該毛管間隙
及びその縁部との間に小さな間隔をおいて該毛管間隙を
越えて移動させることを目的として、搬送装置が、プレ
ート又はディスクとして構成されたラッカ塗布又は被覆
される基板（１７）を保持するための保持装置（１６）
を備えたリニア搬送装置（１６）として構成されている
ことを特徴とする、プレート又はディスクをラッカ塗布
又は被覆する装置。 - 【請求項２】 被覆時における毛管間隙（２４）と基板
（１７）との間の間隔が、０．２ｍｍ未満である、請求
項１記載の装置。 - 【請求項３】 毛管間隙（２４）が、互いに平行な２つ
のプレート（１９，２０）を有しており、両プレート
（１９，２０）が、被覆液体を有するトラフ（１２）に
浸漬している、請求項１記載の装置。 - 【請求項４】 毛管間隙（２４）の幅が、０．５ｍｍ未
満である、請求項２又は３記載の装置。 - 【請求項５】 毛管間隙（２４）の幅を無段階式に変化
させるための調節装置が設けられており、該調節装置に
よって、装置の運転中における毛管間隙幅の調節が可能
である、請求項１から４までのいずれか１項記載の装
置。 - 【請求項６】 各ラッカ塗布動作後に毛管間隙（２４）
を開放するための手段が設けられている、請求項５記載
の装置。 - 【請求項７】 調節装置（２２）が、毛管間隙（２４）
を２〜３ｍｍの幅に開放するように構成されている、請
求項６記載の装置。 - 【請求項８】 毛管間隙（２４）を各ラッカ塗布動作又
は被覆動作の開始直前に所定の毛管間隙幅に狭めて、少
量の被覆液体を毛管間隙（２４）から上方に押し出し、
これによってプレート又はディスク（１７）のラッカ塗
布又は被覆を開始するための手段が設けられている、請
求項６又は７記載の装置。 - 【請求項９】 １つの自動式のローディングステーショ
ン（３１）と１つの自動式のアンローディングステーシ
ョン（３２）とが設けられている、請求項１から８まで
のいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１０】 位置固定の保持装置（１６）と可動の
被覆トラフ（１２）とをもって運転可能である、請求項
１から９までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１１】 ＬＣＤスクリーン、半導体製造のため
のマスク、又は半導体基板もしくはセラミック基板を製
造するために使用される、請求項１から１０までのいず
れか１項記載の装置。
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| DE93/00392 | 1993-08-26 |
Publications (2)
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|---|---|
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| KR100209117B1 (ko) * | 1994-12-22 | 1999-07-15 | 페터 옐리히, 울리히 비블 | 기판 래커링 또는 코팅방법 및 장치 |
| DE59913661D1 (de) | 1998-12-17 | 2006-08-24 | Guardian Industries | Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines ebenen Substrates |
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| JP2005051220A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Hoya Corp | レジスト膜付基板の製造方法 |
| US7332034B2 (en) | 2003-11-21 | 2008-02-19 | Seiko Epson Corporation | Coating apparatus and coating method using the same |
| DE102004044576B4 (de) * | 2004-09-13 | 2007-09-27 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung und deren Verwendung |
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| CN101834069B (zh) * | 2010-04-07 | 2012-06-27 | 燕山大学 | 染料敏化半导体双膜片方法 |
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| KR20140069677A (ko) * | 2012-11-29 | 2014-06-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 기판 프린팅 장치 및 기판 프린팅 방법 |
| DE112017000475T5 (de) * | 2016-01-22 | 2018-10-04 | Shoda Techtron Corp. | Endflächen-Beschichtungsvorrichtung |
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