FI108522B - Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten - Google Patents

Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten Download PDF

Info

Publication number
FI108522B
FI108522B FI955214A FI955214A FI108522B FI 108522 B FI108522 B FI 108522B FI 955214 A FI955214 A FI 955214A FI 955214 A FI955214 A FI 955214A FI 108522 B FI108522 B FI 108522B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
capillary
coating
capillary gap
gap
width
Prior art date
Application number
FI955214A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI955214A0 (fi
FI955214A (fi
Inventor
Karl Appich
Eberhard Muehlfriedel
Armin Kuebelbeck
Torsten Gerisch
Jakob Szekeresch
Martin Kallis
Original Assignee
Steag Hama Tech Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Steag Hama Tech Ag filed Critical Steag Hama Tech Ag
Publication of FI955214A0 publication Critical patent/FI955214A0/fi
Publication of FI955214A publication Critical patent/FI955214A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI108522B publication Critical patent/FI108522B/fi

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/105Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material by capillary action, e.g. using wicks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/02Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to surfaces by single means not covered by groups B05C1/00 - B05C7/00, whether or not also using other means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/08Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
    • B05C9/12Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation being performed after the application
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003Apparatus
    • C23C2/0034Details related to elements immersed in bath
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003Apparatus
    • C23C2/0035Means for continuously moving substrate through, into or out of the bath
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/006Pattern or selective deposits
    • C23C2/0062Pattern or selective deposits without pre-treatment of the material to be coated, e.g. using masking elements such as casings, shields, fixtures or blocking elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Finishing Walls (AREA)
  • Road Signs Or Road Markings (AREA)

Description

5 ; ' .!.ί 8 S 2 2
Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten Anordning för lackering eller beläggning av plattor eller paneler 5
Esillä olevan keksinnön kohteena on laite alustakerroksen lakkaamiseksi tai päällystämiseksi kapillaariraon avulla, joka on täytetty nestemäisellä päällystysaineella ja jonka yläpään kautta alustakerros johdetaan pois päällystyksen yhteydessä yhdessä 10 alaspäin olevan lakattavan tai päällystettävän pintansa kanssa, jolloin kapillaari- ja tartuntavaikutuksen ansiosta ohut kerros saostuu tälle pinnalle ja jolloin kapillaariraon yläpuolelle on asetettu kuljetuslaite lakattavaa alustakerrosta varten sen siirtämiseksi kapillaariraon yläpään yli.
15 Tällainen laite tunnetaan julkaisun USW-A-2 046 596 perusteella. Tässä julkaisussa selostetaan laite selluloidista tehdyn jatkuvan filminauhan päällystämiseksi nestemäisellä nitroselluloosalla. Tämä laite käsittää nestemäisellä nitroselluloosalla varustetun säiliön, ja tämän säiliön sivun muodostavaan, säiliöön kiinnitettyyn yhdensuuntaiseen ,:. levyyn on tehty kapillaarirako, jonka kautta nestettä nostetaan säiliöstä. Sivuseinä si- » » · · « ,..,: 20 sältää ylhäällä ja kapillaariraon päätekohdassa olevan suoran päätereunan, jota vasten . : filminauha puristetaan päättymättömän syöttöhihnan avulla ja johdetaan kulkemaan : kapillaariraon kautta vinosti ylöspäin, jolloin se nojaa kaltevasti tätä päätereunaa i » · · vasten ja muodostaa tartunta voimien välityksellä nitroselluloosakerroksen fil-’: ’: minauhaan. Tällainen laite ei sovi kuitenkaan laattojen tai levyjen vaativiin päällys- 25 tyksiin, koska nämä laatat tai levyt voivat vahingoittua, esimerkiksi naarmuuntumisen [ j johdosta, kapillaariraon päätereunaa vasten kohdistuvan puristumisen yhteydessä.
·;>·· Keksinnön tarkoituksena on saada aikaan laite, joka sopii laattojen tai levyjen •; · lakkaus- ja päällystystoimepiteitä varten.
30 . Tämä tarkoitus saavutetaan keksinnön mukaisesti edellä mainitun laitteen avulla siten, että kuljetuslaite on muodostettu lineaarisena kuljetuslaitteena, joka on varustettu pidätyslaitteella lakattavaa, laattana tai levynä muodostettua alustakerrosta -..)8 522 2 varten sen johtamiseksi pois lakkauksen tai päällystyksen yhteydessä kapillaariraon reunoja koskettamatta vähäisen etäisyyden esiintyessä sen ja raon reunojen välillä.
Keksintö sopii erityisen hyvin ohutlevytekniikkaa varten, erityisesti LCD-kuvaruutu-5 jen sekä puolijohteiden valmistuksen yhteydessä käytettyjen maskien, puolijohde- tai keramiikkakerrosten valmistukseen, suorakulmaisten tai pyöreiden levyjen varustamiseksi tasaisella lakasta tai muusta, lähinnä nestemäisestä aineesta valmistetulla kerroksella esimerkiksi värisuodattimien tai erikoisten suojakerrosten ollessa kysymyksessä. Laatat tai levyt ohjataan kulkemaan lakattavine pintoineen vähäisellä etäi-10 syydellä kapillaariraon ja sen reunojen yläpään yläpuolella. Kapillaarirako syöttää lakan automaattisesti ja erityisen tasaisella nopeudella. Kapillaarivaikutuksen johdosta lakka, tai muu päällystysneste, nousee automaattisesti vakionopeudella ylöspäin ja poistuu sen yläpäästä. Lakkavirtaus osuu kapillaariraon yläpuolella kapeana linjana päällystettävälle levypinnalle, jota siirretään lineaarisen kuljetuslaitteen avulla 15 pienellä tasaisella nopeudella ja pidätetään tartunnan välityksellä, jolloin levyn siirtonopeudesta riippuen sen päälle muodostuu määrätty kerrospaksuus ja levy tulee päällystetyksi. Lakan tarttuessa levyn pintaan ei lisäksi ole olemassa vaaraa sen suhteen, että lakka virtaisi pois kapillaariraosta tultuaan, jolloin kerrospaksuuden • »♦ · .; · · j tasaisuus voisi huonontua.
20 i : : Kapillaariraon ja alustakerroksen välinen etäisyys päällystyksen yhteydessä on \ : sopivimmin alle 0,2 mm.
Kapillaarirako voidaan muodostaa edullisesti patenttivaatimuksen 3 mukaisella : : 25 tavalla, jolloin sen leveys on sopivimmin alle 0,5 mm.
*:": Keksinnön eräs erityisen edullinen sovellusmuoto on tunnettu siitä, että käytössä on ’ '·": säätölaite kapillaariraon leveyden portaatonta muuttamista varten, mikä mahdollistaa -;··· kapillaariraon säädön laitteen käytön aikana. Tällä tavoin voidaan muodostaa :' ’ *; 30 kapillaarirako, jolla on koko pituudellaan sopivin leveys kapillaarivaikutusta varten.
* · # Tällä tavoin voidaan kapillaarigeometria sovittaa erilaisten päällystettävien levytyyp-pien mukaiseksi.
' O 8 522 3 Tätä laitetta kehitetään edullisella tavalla edelleen siten, että se varastetaan välineellä kapillaariraon avaamiseksi jokaisen lakkaustoimenpiteen yhteydessä sopivimmin 2—3 mm leveyteen asti. Tällä tavoin estetään lakan automaattinen nouseminen ka-pillaariraossa, mikä on haitallista lakkaustoimenpiteen ulkopuolella. On osoittautunut, 5 että lakan ominaisuudet muuttuvat sen viipyessä pitempään kapillaariraossa, mikä | vaikuttaa haitallisesti lakkaustulokseen. Jos kapillaarirakoa levennetään 2—3 mil limetriin, pysyy jäljelle jäävä lakka muuttumattomana.
Keksinnön eräs edullinen lisäsovellusmuoto on tunnettu siitä, että se on varastettu 10 välineellä kapillaariraon kaventamiseksi välittömästi ennen jokaisen lakkaus- tai päällystystoimenpiteen aloittamista kapillaarileveyteen, joka mahdollistaa nestemäisen päällystysaineen pienen määrän painamisen ulos ylöspäin kapillaariraosta ja siten lakkauksen tai päällystyksen saamiseksi toimimaan. Tämän kapillaariraon mekaanisen kaventamisen johdosta siinä oleva lakka tulee ensin puristetuksi mekaanisesti ylös-15 päin, kunnes se tulee ulos raon yläpäästä ja osuu siinä olevalle päällystettävälle levypinnalle. Tällä tavoin lakkaustoimenpide käynnistetään ja sitä jatketaan kapillaa-rivaikutuksen avulla nyt kapillaarisessa raossa tapahtuvan kapillaarivaikutuksen, • · · levyn siirtämisen ja tartuntavaikutuksen avulla edellä selostetulla tavalla.
. 20 Keksinnön muita yksityiskohtia ja edullisia lisäsovelluksia kuvataan seuraavassa : I j selostetussa ja piirustuksessa esitetyssä sovellusesimerkissä keksintöä millään tavoin • · i,· · rajoittamatta, sekä muissa alapatenttivaatimuksissa. Tässä piirustuksessa: ti.·
Kuvio 1 esittää kuvantoa keksinnön mukaisen lakkaus- ja päällystyslaitteen rakentees- » M : 25 ta, ja
I > I
Kuvio 2 esittää poikkileikkausta kuvion 1 mukaisella kapillaariraolla varastetusta ’ · “ * kourasta, joka on tarkoitettu päällystystoimenpiteen aloittamista varten.
» * » « ♦ * !" ‘: 30 Kuvio 1 esittää keksinnön mukaisen päällystyslaitteen ensimmäistä sovellusesimerk kiä. Alustakehykseen 11 on kiinnitetty sekä koura 12 että myös pylväät 13 ja 14 lineaarista kuljetusyksikköä 15 varten. Lineaarisen kuljetinyksikön 15 liikkuva osa -18 522 4 ulottuu alaspäin. Siilien on kiinnitetty kierrettävä pidätyslaite 16 lakattavaa levyä 17 varten. Levy 17 voi käsittää esimerkiksi lasilevyn, joka on määrä päällystää lakalla maskin tai LCD-kuvaruudun päällystämiseksi sen jälkeen. Levy 17 imetään kiinni esimerkiksi tyhjön avulla levypidätyslaitteeseen 16. Tätä varten pidätyslaitteessa 16 5 on vastaavat kuviossa näkymättömät tyhjöporausreiät.
Keksinnön puitteissa voidaan kuitenkin käyttää myös muita pidätyslaitteita, jotka ovat alaan perehtyneelle henkilölle tunnettuja.
10 Kouru 12 on esitetty poikkileikkauksena kuviossa 1 ja suurennettuna kuviossa 2. Kourun 12 ontto tila 18 on täytetty osittain lakalla. Tähän lakkatäytteeseen uppoutuu ylhäältä päin kaksi ohutta levyä 19 ja 20. Levy 19 on liitetty kohdassa 33 kiinteästi kourun 12 yläreunaan. Se ei liiku. Levy 20 on taas sopivan laitteen välityksellä liitetty lineaarisen siirtolaitteen 22 muodossa olevaan säätölaitteeseen. Siirtolaitteen 15 22 avulla voidaan levyä 20 siirtää edestakaisin nuolen suunnassa. Tällä tavoin voidaan levyjen 19 ja 20 välissä olevan raon 24 leveyttä portaattomasti säätää.
; · Parhaita mahdollisia lakkaus- tai päällystystuloksia varten on kulloisenkin päällystys- • ·: nesteen oltava sangen puhdas ja määrätyssä lämpötilassa. Se johdetaan siten varas- •.: 20 tosäiliöstä 28 oikean lämpötilan ylläpitävän yksikön (29) ja kourussa 12 olevan suo- : · dattimen 30 kautta. Syöttötoimenpide voi tapahtua esimerkiksi muodostamalla , · ylipaine (kaasutyyny) varastosäiliöön (28) tai järjestämällä varastosäiliö 28 sopivalla .' ' tavalla siten, että neste tulee syötetyksi geodeettisen korkeuseron ansiosta kouruun 12. Alaan perehtyneet henkilöt tuntevat kuitenkin myös muita mahdollisuuksia ..: : 25 nesteen siirtämisen suhteen.
Päällystyslaitteen täysin automaattista muunnelmaa varten asennetaan numerolla 31 ’:": merkittyyn kohtaan automaattinen kuormauslaite ja numerolla 32 merkittyyn kohtaan : · ·; automaattinen purkauslaite. Kuormauslaite 31 ottaa vastaan lakattavan levyn 17 mää- : ‘; 30 rättyyn kohtaan asetetusta varastosta ja johtaa sen levypidätyslaitteeseen 16. Purkaus- laite 32 ottaa levyn 17 vastaan pidätyslaitteesta 16 ja johtaa sen taas takaisin määrättyyn paikkaan asetettuun varastoon.
5 ' n B 5 2 2
Lakkaus- ja päällystyslaitteen 10 toimintatapa on seuraava. Ensin levy 17 kiinnitetään j joko automaattisesti tai käsin pidätyslaitteeseen 16. Pidätyslaitetta 16 kiertämällä tätä asentoa voidaan vielä korjata. Levypidin 16 on tällöin käytettävissä kuviossa numerolla 31 merkityn kohdan läheisyydessä. Jos levy 17 on kiinnitetty oikeaan 5 asentoon pidätyslaitteeseen 16, niin lineaarinen kuljetusyksikkö 15 liikkuu numerolla 26 merkityn nuolen suunnassa eli siis kourun 12 suuntaisesti.
Levy 17 siirretään tällä tavoin kapillaariraon 24 yläreunaan. Kun levyn 17 etureuna 25 tulee suoraan raon 24 yläpuolelle, on levy 20 siirrettynä kouurussa 12 niin 10 pitkälle levyä 19 vasten, että näiden levyjen väliim muodostuu leveydeltään sopiva kapillaarirako. Tämän raon 24 kavennuksen ansiosta tulee pieni määrä nestettä painetuksi raon 24 yläsivulta ulospäin levyn 17 päällystettävän pinnan etummaista linjaa vasten. Tällä tavoin päällystystoimenpide käynnistyy. Levyä 17 siirretään nyt lineaarisen kuljetuslaitteen 15 välityksellä nuolen 26 suunnassa tasaisella nopeudella. 15 Tällöin tartunnan ansiosta ohut nestekerros kerääntyy levyn pinnalle. Tarvittava nestevirtaus syötetään jälkeenpäin kapillaariraossa 24 esiintyvän kapillaarivaikutuksen avulla.
• · Päällystystoimenpide päättyy, kun levyn 17 takareuna 27 on ohittanut kapillaariraon ·.: 20 24. Tämän jälkeen kummatkin levyt 19 ja 20 siirretään irti toisistaan seuraavan : ’: päällystystoimenpiteen aloittamiseksi edellä mainituista syistä johtuen 2...3 mm etäi- syydelle. Päällystetty levy 17 siirtyy edelleen numerolla 24 merkitylle alueelle, jossa : se irrotetaan automaattisesti tai käsin pidätyslaitteesta 16.

Claims (11)

1. Laite alustakerroksen (17) lakkaamiseksi tai päällystämiseksi kapillaariraon (24) avulla, joka on täytetty nestemäisellä päällystysaineella ja jonka yläpään kautta 5 alustakerros (17) johdetaan pois päällystyksen yhteydessä yhdessä alaspäin olevan lakattavan tai päällystettävän pintansa kanssa, jolloin kapillaari- ja tartuntavaikutuksen ansiosta ohut kerros saostuu tälle pinnalle ja jolloin kapillaariraon (24) yläpuolelle on asetettu kuljetuslaite (15) lakattavaa alustakerrosta varten sen siirtämiseksi kapillaariraon (24) yläpään yli, tunnettu siitä, että kuljetuslaite on muodostettu lineaa-10 risena kuljetuslaitteena (15), joka on varustettu pidätyslaitteella (16) lakattavaa, laattana tai levynä muodostettua alustakerrosta (17) varten sen johtamiseksi pois lakkauksen tai päällystyksen yhteydessä kapillaariraon (24) reunoja koskettamatta vähäisen etäisyyden esiintyessä sen ja raon reunojen välillä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen laite, tunnettu siitä, että kapillaariraon (24) ja alustakerroksen (17) välinen etäisyys päällysteen yhteydessä on pienempi kuin 0,2 mm.
·: 3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen laite, tunnettu siitä, että kapillaarira- . .! 20 ko (24) käsittää kaksi rinnakkaista levyä (19,20), jotka kummatkin upotetaan j ; nestemäistä päällystysainetta sisältävään kouruun (12).
: : 4. Patenttivaatimuksen 2 tai 3 mukainen laite, tunnettu siitä, että kapillaarira on (24) leveys on alle 0,5 mm. : 25
‘ 5. Minkä tahansa tai useamman edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen laite, tunnettu siitä, että käytössä on säätölaite (22) kapillaariraon (24) portaatonta muuttamista varten, jolloin kapillaariraon leveyttä voidaan säätää laitteen käytön >; ; aikana. 30
6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen laite, tunnettu siitä, että käytössä on väline kapillaariraon (24) avaamiseksi jokaisen lakkaustoimenpiteen jälkeen. ; π Β 5 2 2
7. Patenttivaatimuksen 6 mukainen laite, tunnettu siitä, että säätölaite (22) on tarkoitettu avaamaan kapillaarirako (24) 2...3 mm leveyteen asti.
8. Patenttivaatimuksen 6 tai 7 mukainen laite, tunnettu siitä, että käytössä on 5 väline kapillaariraon kaventamiseksi välittömästi ennen jokaisen lakkaus- tai päällys- tystoimenpiteen aloittamista kapillaarileveyteen, jolloin pieni määrä nestemäistä päällystysainetta painetaan ulos ylhäältä päin kapillaariraosta (24) laatan tai levyn (17) lakkauksen tai päällystyksen aloittamiseksi tällä tavoin.
9. Minkä tahansa tai useamman edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen laite, tunnettu siitä, että se on varustettu automaattisella kuormausasemalla (31) ja automaattisella purkausasemalla (32).
10. Minkä tahansa edellä olevan tai useamman patenttivaatimuksen mukainen laite, 15 tunnettu siitä, että sitä voidaan käyttää yhdessä kiinteän pidätyslaitteen (16) ja liikkuvan päällystyskourun (12) kanssa.
11. Yhden tai useamman edellä olevan patenttivaatimuksen mukaisen laitteen käyttö ·; I LCD-kuvaruutujen, puolijohdevalmistukseen tarkoitettujen maskien, tai puolijohde- />.: 20 tai keramiikka-alustakerroksien valmistusta varten. ♦ * · • · i : : i ’: 8 '08522
FI955214A 1993-05-05 1995-11-01 Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten FI108522B (fi)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE9300392 1993-05-05
DE9300392 1993-05-05
PCT/DE1993/000777 WO1994025177A1 (de) 1993-05-05 1993-08-26 Vorrichtung zur belackung oder beschichtung von platten oder scheiben
DE9300777 1993-08-26

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI955214A0 FI955214A0 (fi) 1995-11-01
FI955214A FI955214A (fi) 1995-11-01
FI108522B true FI108522B (fi) 2002-02-15

Family

ID=6888099

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI955214A FI108522B (fi) 1993-05-05 1995-11-01 Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten

Country Status (11)

Country Link
EP (1) EP0701487B1 (fi)
JP (1) JP2777057B2 (fi)
KR (1) KR0153355B1 (fi)
CN (1) CN1078108C (fi)
AT (1) ATE173657T1 (fi)
CA (1) CA2157033C (fi)
DE (2) DE59309164D1 (fi)
FI (1) FI108522B (fi)
MY (1) MY108987A (fi)
SG (1) SG52700A1 (fi)
WO (1) WO1994025177A1 (fi)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK0799096T3 (da) * 1994-12-22 2001-11-05 Steag Hamatech Ag Fremgangsmåde og indretning til lakering eller belægning af et substrat
DE4445985A1 (de) * 1994-12-22 1996-06-27 Steag Micro Tech Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Belackung oder Beschichtung eines Substrats
ES2274611T3 (es) 1998-12-17 2007-05-16 Guardian Industries Corp. Dispositivo y procedimiento para el revestimiento de un substrato plano.
JP4481688B2 (ja) * 2003-04-10 2010-06-16 Hoya株式会社 基板処理装置,塗布装置、塗布方法、及び、フォトマスクの製造方法
JP2005051220A (ja) * 2003-07-17 2005-02-24 Hoya Corp レジスト膜付基板の製造方法
US7332034B2 (en) 2003-11-21 2008-02-19 Seiko Epson Corporation Coating apparatus and coating method using the same
DE102004044576B4 (de) * 2004-09-13 2007-09-27 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Flüssigbeschichtung und deren Verwendung
JP5086714B2 (ja) * 2007-07-13 2012-11-28 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
CN101834069B (zh) * 2010-04-07 2012-06-27 燕山大学 染料敏化半导体双膜片方法
CN103567109B (zh) * 2012-07-26 2015-12-16 耐落螺丝(昆山)有限公司 螺丝上胶装置及上胶方法
KR20140069677A (ko) * 2012-11-29 2014-06-10 삼성디스플레이 주식회사 기판 프린팅 장치 및 기판 프린팅 방법
DE112017000475T5 (de) * 2016-01-22 2018-10-04 Shoda Techtron Corp. Endflächen-Beschichtungsvorrichtung
CN106935534B (zh) * 2017-04-28 2019-11-05 京东方科技集团股份有限公司 封装装置及显示面板封装方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2046596A (en) * 1932-01-13 1936-07-07 Patent Button Co Apparatus for uniformly coating flat surfaces
US4370356A (en) * 1981-05-20 1983-01-25 Integrated Technologies, Inc. Method of meniscus coating
DE3231326A1 (de) * 1982-08-23 1984-02-23 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Vorrichtung zum herstellen von grossflaechigen, bandfoermigen siliziumkoerpern fuer solarzellen
SU1736626A1 (ru) * 1990-02-14 1992-05-30 Казанский Научно-Исследовательский Технологический И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности Экструзионное поливное устройство

Also Published As

Publication number Publication date
CN1106716A (zh) 1995-08-16
ATE173657T1 (de) 1998-12-15
FI955214A0 (fi) 1995-11-01
MY108987A (en) 1996-11-30
FI955214A (fi) 1995-11-01
KR0153355B1 (ko) 1998-11-16
DE59309164D1 (de) 1999-01-07
KR960701706A (ko) 1996-03-28
SG52700A1 (en) 1998-09-28
CA2157033C (en) 2003-06-17
CN1078108C (zh) 2002-01-23
EP0701487B1 (de) 1998-11-25
JP2777057B2 (ja) 1998-07-16
JPH06343908A (ja) 1994-12-20
EP0701487A1 (de) 1996-03-20
CA2157033A1 (en) 1994-11-10
DE4397349D2 (de) 1996-11-14
WO1994025177A1 (de) 1994-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI108522B (fi) Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten
EP1285700B1 (en) Coating method and coating apparatus
US20150231663A1 (en) Apparatus for directly applying liquid to a substrate
US5455062A (en) Capillary device for lacquering or coating plates or disks
TW201501950A (zh) 刮塗設備
KR940018075A (ko) 젤라틴 피막을 형성하는 방법 및 장치
US6497779B1 (en) Hydraulic transfer method and device and hydraulic-transfer article
CN101537402B (zh) 帘式涂布设备和帘式涂布方法
EP0425562B1 (en) Curtain coating method and apparatus
EP0537086A1 (en) Curtain coating method and apparatus
CN102343318B (zh) 滑动涂布装置、使用所述装置的涂布方法和使用所述方法制造光学膜的方法
KR20000035904A (ko) 연속이동 금속 스트립상에 고체 페인트를 공급하는 블럭
JP2000237666A (ja) 粘性液体の面状塗布装置及び面状塗布方法
KR101879298B1 (ko) 롤투롤을 활용한 비타민 증착 시스템
CN215760272U (zh) 自动涂胶装置
CA1325556C (en) Method for coating solid closed surfaces
JP2006314927A (ja) 塗布液の塗布装置
JP3451287B2 (ja) カーテンコーター
TW200519062A (en) Apparatus and method for coating a film on a glass substrate
JPH11309400A (ja) 光触媒膜コーティング装置
JPH11151461A (ja) 固体カーテン塗布方法及び塗布装置並びに該塗布装置を有する基板感材製造装置
JPH0670234U (ja) 薄膜形成装置
JPH08252514A (ja) 流動浸漬装置
JPH04161266A (ja) 塗装装置
JP2000042469A (ja) 塗布装置

Legal Events

Date Code Title Description
GB Transfer or assigment of application

Owner name: STEAG MICROTECH GMBH

MA Patent expired