FI108522B - Device for varnishing or coating tiles or boards - Google Patents
Device for varnishing or coating tiles or boards Download PDFInfo
- Publication number
- FI108522B FI108522B FI955214A FI955214A FI108522B FI 108522 B FI108522 B FI 108522B FI 955214 A FI955214 A FI 955214A FI 955214 A FI955214 A FI 955214A FI 108522 B FI108522 B FI 108522B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- capillary
- coating
- capillary gap
- gap
- width
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 8
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 3
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 3
- 229920002160 Celluloid Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012840 feeding operation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/105—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material by capillary action, e.g. using wicks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/02—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to surfaces by single means not covered by groups B05C1/00 - B05C7/00, whether or not also using other means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/08—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation
- B05C9/12—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material and performing an auxiliary operation the auxiliary operation being performed after the application
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0034—Details related to elements immersed in bath
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0035—Means for continuously moving substrate through, into or out of the bath
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/006—Pattern or selective deposits
- C23C2/0062—Pattern or selective deposits without pre-treatment of the material to be coated, e.g. using masking elements such as casings, shields, fixtures or blocking elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
- Road Signs Or Road Markings (AREA)
Abstract
Description
5 ; ' .!.ί 8 S 2 25; '.!. ί 8 S 2 2
Laite laattojen tai levyjen lakkausta tai päällystystä varten Anordning för lackering eller beläggning av plattor eller paneler 5Apparatus for varnishing or coating of tiles or boards Anordning för lackering eller beläggning av plattor eller paneler 5
Esillä olevan keksinnön kohteena on laite alustakerroksen lakkaamiseksi tai päällystämiseksi kapillaariraon avulla, joka on täytetty nestemäisellä päällystysaineella ja jonka yläpään kautta alustakerros johdetaan pois päällystyksen yhteydessä yhdessä 10 alaspäin olevan lakattavan tai päällystettävän pintansa kanssa, jolloin kapillaari- ja tartuntavaikutuksen ansiosta ohut kerros saostuu tälle pinnalle ja jolloin kapillaariraon yläpuolelle on asetettu kuljetuslaite lakattavaa alustakerrosta varten sen siirtämiseksi kapillaariraon yläpään yli.The present invention relates to a device for lacquering or coating a substrate layer by means of a capillary gap filled with a liquid coating agent, through which the substrate layer is led away during coating together with its downwardly lacquering or coating surface, resulting in a thin capillary and adhesive effect. above the capillary gap is provided a conveying device for the substrate to be varnished to move it over the upper end of the capillary gap.
15 Tällainen laite tunnetaan julkaisun USW-A-2 046 596 perusteella. Tässä julkaisussa selostetaan laite selluloidista tehdyn jatkuvan filminauhan päällystämiseksi nestemäisellä nitroselluloosalla. Tämä laite käsittää nestemäisellä nitroselluloosalla varustetun säiliön, ja tämän säiliön sivun muodostavaan, säiliöön kiinnitettyyn yhdensuuntaiseen ,:. levyyn on tehty kapillaarirako, jonka kautta nestettä nostetaan säiliöstä. Sivuseinä si- » » · · « ,..,: 20 sältää ylhäällä ja kapillaariraon päätekohdassa olevan suoran päätereunan, jota vasten . : filminauha puristetaan päättymättömän syöttöhihnan avulla ja johdetaan kulkemaan : kapillaariraon kautta vinosti ylöspäin, jolloin se nojaa kaltevasti tätä päätereunaa i » · · vasten ja muodostaa tartunta voimien välityksellä nitroselluloosakerroksen fil-’: ’: minauhaan. Tällainen laite ei sovi kuitenkaan laattojen tai levyjen vaativiin päällys- 25 tyksiin, koska nämä laatat tai levyt voivat vahingoittua, esimerkiksi naarmuuntumisen [ j johdosta, kapillaariraon päätereunaa vasten kohdistuvan puristumisen yhteydessä.Such a device is known from USW-A-2,046,596. This publication discloses a device for coating a continuous celluloid film strip with liquid nitrocellulose. This apparatus comprises a container with liquid nitrocellulose and a parallel to the container forming the side of this container:. a capillary gap is made in the plate through which the fluid is drawn from the reservoir. The side wall has a »» · · «, ..,: 20 with a straight end edge at the top and at the end of the capillary gap, against which. : the film strip is compressed by means of an endless feed belt and guided through: through a capillary gap obliquely upwards, whereupon it leans against this end edge i »· · and engages by force the filo ':': miniclip of the nitrocellulose layer. However, such a device is not suitable for demanding coatings on tiles or plates, as these plates or plates can be damaged, for example by scratching, when pressed against the end edge of the capillary gap.
·;>·· Keksinnön tarkoituksena on saada aikaan laite, joka sopii laattojen tai levyjen •; · lakkaus- ja päällystystoimepiteitä varten.It is an object of the present invention to provide a device which is suitable for tiles or plates; · For varnishing and coating operations.
30 . Tämä tarkoitus saavutetaan keksinnön mukaisesti edellä mainitun laitteen avulla siten, että kuljetuslaite on muodostettu lineaarisena kuljetuslaitteena, joka on varustettu pidätyslaitteella lakattavaa, laattana tai levynä muodostettua alustakerrosta -..)8 522 2 varten sen johtamiseksi pois lakkauksen tai päällystyksen yhteydessä kapillaariraon reunoja koskettamatta vähäisen etäisyyden esiintyessä sen ja raon reunojen välillä.30th This object is achieved according to the invention by means of the above-mentioned device such that the conveying device is formed as a linear conveying device provided with a retaining device for a lacquer, plate or sheet substrate layer ..... 8 522 2 to deflect it during lacquering or coating without between it and the edges of the gap.
Keksintö sopii erityisen hyvin ohutlevytekniikkaa varten, erityisesti LCD-kuvaruutu-5 jen sekä puolijohteiden valmistuksen yhteydessä käytettyjen maskien, puolijohde- tai keramiikkakerrosten valmistukseen, suorakulmaisten tai pyöreiden levyjen varustamiseksi tasaisella lakasta tai muusta, lähinnä nestemäisestä aineesta valmistetulla kerroksella esimerkiksi värisuodattimien tai erikoisten suojakerrosten ollessa kysymyksessä. Laatat tai levyt ohjataan kulkemaan lakattavine pintoineen vähäisellä etäi-10 syydellä kapillaariraon ja sen reunojen yläpään yläpuolella. Kapillaarirako syöttää lakan automaattisesti ja erityisen tasaisella nopeudella. Kapillaarivaikutuksen johdosta lakka, tai muu päällystysneste, nousee automaattisesti vakionopeudella ylöspäin ja poistuu sen yläpäästä. Lakkavirtaus osuu kapillaariraon yläpuolella kapeana linjana päällystettävälle levypinnalle, jota siirretään lineaarisen kuljetuslaitteen avulla 15 pienellä tasaisella nopeudella ja pidätetään tartunnan välityksellä, jolloin levyn siirtonopeudesta riippuen sen päälle muodostuu määrätty kerrospaksuus ja levy tulee päällystetyksi. Lakan tarttuessa levyn pintaan ei lisäksi ole olemassa vaaraa sen suhteen, että lakka virtaisi pois kapillaariraosta tultuaan, jolloin kerrospaksuuden • »♦ · .; · · j tasaisuus voisi huonontua.The invention is particularly well suited for thin sheet technology, in particular for the manufacture of LCD screens and masks used in the manufacture of semiconductors, semiconductor or ceramic layers, to provide a flat layer of lacquer or other, mainly liquid material, or specialty filters. The tiles or plates are guided to travel with their lacquering surfaces at a slight distance over the top of the capillary gap and its edges. The capillary gap automatically feeds the varnish at a particularly constant rate. Due to the capillary action, the lacquer, or other coating fluid, automatically rises upwards at a constant speed and exits from its upper end. The lacquer flow hits the cap surface over a narrow line on the sheet surface to be coated, which is moved by a linear conveyor 15 at a low uniform speed and retained by adhesion, depending on the sheet transfer rate, a defined layer thickness is formed and the sheet is coated. In addition, when the varnish adheres to the surface of the sheet, there is no risk that the varnish will run out after it enters the capillary gap, resulting in a layer thickness of »» ♦ ·.; · · J could deteriorate evenly.
20 i : : Kapillaariraon ja alustakerroksen välinen etäisyys päällystyksen yhteydessä on \ : sopivimmin alle 0,2 mm.20 i:: The distance between the capillary gap and the substrate layer during coating is \: preferably less than 0.2 mm.
Kapillaarirako voidaan muodostaa edullisesti patenttivaatimuksen 3 mukaisella : : 25 tavalla, jolloin sen leveys on sopivimmin alle 0,5 mm.Preferably, the capillary gap may be formed in the manner according to claim 3, preferably having a width less than 0.5 mm.
*:": Keksinnön eräs erityisen edullinen sovellusmuoto on tunnettu siitä, että käytössä on ’ '·": säätölaite kapillaariraon leveyden portaatonta muuttamista varten, mikä mahdollistaa -;··· kapillaariraon säädön laitteen käytön aikana. Tällä tavoin voidaan muodostaa :' ’ *; 30 kapillaarirako, jolla on koko pituudellaan sopivin leveys kapillaarivaikutusta varten.*: ": A particularly advantageous embodiment of the invention is characterized in that an '' ·" adjusting device for steplessly adjusting the capillary gap width is provided, which enables -; ··· to adjust the capillary gap during operation of the device. In this way you can generate: '' *; 30 capillary gap having the most suitable width for capillary action throughout its length.
* · # Tällä tavoin voidaan kapillaarigeometria sovittaa erilaisten päällystettävien levytyyp-pien mukaiseksi.* · # In this way, the capillary geometry can be adapted to the different types of sheets to be coated.
' O 8 522 3 Tätä laitetta kehitetään edullisella tavalla edelleen siten, että se varastetaan välineellä kapillaariraon avaamiseksi jokaisen lakkaustoimenpiteen yhteydessä sopivimmin 2—3 mm leveyteen asti. Tällä tavoin estetään lakan automaattinen nouseminen ka-pillaariraossa, mikä on haitallista lakkaustoimenpiteen ulkopuolella. On osoittautunut, 5 että lakan ominaisuudet muuttuvat sen viipyessä pitempään kapillaariraossa, mikä | vaikuttaa haitallisesti lakkaustulokseen. Jos kapillaarirakoa levennetään 2—3 mil limetriin, pysyy jäljelle jäävä lakka muuttumattomana.Preferably, this device is further developed such that it is stolen by means of opening a capillary gap during each lacquering operation, preferably up to a width of 2-3 mm. This prevents the varnish from rising automatically in the capillary gap, which is harmful outside the varnishing process. It has been found 5 that the properties of the varnish change as it lingers over a longer period in the capillary gap, which | adversely affects the varnishing result. If the capillary gap is widened to 2 to 3 millimeters, the remaining varnish remains unchanged.
Keksinnön eräs edullinen lisäsovellusmuoto on tunnettu siitä, että se on varastettu 10 välineellä kapillaariraon kaventamiseksi välittömästi ennen jokaisen lakkaus- tai päällystystoimenpiteen aloittamista kapillaarileveyteen, joka mahdollistaa nestemäisen päällystysaineen pienen määrän painamisen ulos ylöspäin kapillaariraosta ja siten lakkauksen tai päällystyksen saamiseksi toimimaan. Tämän kapillaariraon mekaanisen kaventamisen johdosta siinä oleva lakka tulee ensin puristetuksi mekaanisesti ylös-15 päin, kunnes se tulee ulos raon yläpäästä ja osuu siinä olevalle päällystettävälle levypinnalle. Tällä tavoin lakkaustoimenpide käynnistetään ja sitä jatketaan kapillaa-rivaikutuksen avulla nyt kapillaarisessa raossa tapahtuvan kapillaarivaikutuksen, • · · levyn siirtämisen ja tartuntavaikutuksen avulla edellä selostetulla tavalla.A further preferred embodiment of the invention is characterized in that it is stolen by means of 10 to narrow the capillary gap immediately before each varnishing or coating operation to the capillary width, which allows a small amount of liquid coating agent to be pressed upwardly from the capillary slot. Due to the mechanical narrowing of this capillary gap, the lacquer therein is first mechanically pressed upwardly-15 until it emerges from the upper end of the slot and touches the surface of the sheet to be coated. In this way, the capillary action is initiated and continued by the capillary action now through the capillary action in the capillary gap, the displacement of the plate and the adhesive effect as described above.
. 20 Keksinnön muita yksityiskohtia ja edullisia lisäsovelluksia kuvataan seuraavassa : I j selostetussa ja piirustuksessa esitetyssä sovellusesimerkissä keksintöä millään tavoin • · i,· · rajoittamatta, sekä muissa alapatenttivaatimuksissa. Tässä piirustuksessa: ti.·. Other details and preferred additional embodiments of the invention will be described in the following example and in the drawings, in which the invention is described and illustrated in the drawing, and in other sub-claims. In this drawing: Tue ·
Kuvio 1 esittää kuvantoa keksinnön mukaisen lakkaus- ja päällystyslaitteen rakentees- » M : 25 ta, jaFig. 1 is a view showing the structure of the lacquer and coating device of the invention, and
I > II> I
Kuvio 2 esittää poikkileikkausta kuvion 1 mukaisella kapillaariraolla varastetusta ’ · “ * kourasta, joka on tarkoitettu päällystystoimenpiteen aloittamista varten.Figure 2 is a cross-sectional view of a staple '·' * stolen to initiate a coating operation by the capillary gap of Figure 1.
» * » « ♦ * !" ‘: 30 Kuvio 1 esittää keksinnön mukaisen päällystyslaitteen ensimmäistä sovellusesimerk kiä. Alustakehykseen 11 on kiinnitetty sekä koura 12 että myös pylväät 13 ja 14 lineaarista kuljetusyksikköä 15 varten. Lineaarisen kuljetinyksikön 15 liikkuva osa -18 522 4 ulottuu alaspäin. Siilien on kiinnitetty kierrettävä pidätyslaite 16 lakattavaa levyä 17 varten. Levy 17 voi käsittää esimerkiksi lasilevyn, joka on määrä päällystää lakalla maskin tai LCD-kuvaruudun päällystämiseksi sen jälkeen. Levy 17 imetään kiinni esimerkiksi tyhjön avulla levypidätyslaitteeseen 16. Tätä varten pidätyslaitteessa 16 5 on vastaavat kuviossa näkymättömät tyhjöporausreiät.Fig. 1 shows a first embodiment of a coating device according to the invention. Grab 12 is provided with a grab 12 as well as pillars 13 and 14 for a linear transport unit 15. The movable part -18 522 4 of the linear conveyor 15 extends downwards. The hinges are provided with a rotatable retention device 16 for a lacquer plate 17. The plate 17 may comprise, for example, a glass plate to be lacquered to subsequently coat the mask or LCD screen. vacuum holes not shown in the figure.
Keksinnön puitteissa voidaan kuitenkin käyttää myös muita pidätyslaitteita, jotka ovat alaan perehtyneelle henkilölle tunnettuja.However, other arresting devices known to the person skilled in the art may also be used within the scope of the invention.
10 Kouru 12 on esitetty poikkileikkauksena kuviossa 1 ja suurennettuna kuviossa 2. Kourun 12 ontto tila 18 on täytetty osittain lakalla. Tähän lakkatäytteeseen uppoutuu ylhäältä päin kaksi ohutta levyä 19 ja 20. Levy 19 on liitetty kohdassa 33 kiinteästi kourun 12 yläreunaan. Se ei liiku. Levy 20 on taas sopivan laitteen välityksellä liitetty lineaarisen siirtolaitteen 22 muodossa olevaan säätölaitteeseen. Siirtolaitteen 15 22 avulla voidaan levyä 20 siirtää edestakaisin nuolen suunnassa. Tällä tavoin voidaan levyjen 19 ja 20 välissä olevan raon 24 leveyttä portaattomasti säätää.10 The trough 12 is shown in cross-section in Fig. 1 and enlarged in Fig. 2. The hollow space 18 of the trough 12 is partially filled with lacquer. From this top, two thin sheets 19 and 20 are immersed in this varnish filling. The sheet 19 is fixedly fixed at the top of the trough 12 at position 33. It does not move. The plate 20 is again connected via a suitable device to a control device in the form of a linear transfer device 22. 15 by means of the transfer device 22 may transfer the plate 20 back and forth in the direction of the arrow. In this way, the width of the gap 24 between the plates 19 and 20 can be infinitely adjusted.
; · Parhaita mahdollisia lakkaus- tai päällystystuloksia varten on kulloisenkin päällystys- • ·: nesteen oltava sangen puhdas ja määrätyssä lämpötilassa. Se johdetaan siten varas- •.: 20 tosäiliöstä 28 oikean lämpötilan ylläpitävän yksikön (29) ja kourussa 12 olevan suo- : · dattimen 30 kautta. Syöttötoimenpide voi tapahtua esimerkiksi muodostamalla , · ylipaine (kaasutyyny) varastosäiliöön (28) tai järjestämällä varastosäiliö 28 sopivalla .' ' tavalla siten, että neste tulee syötetyksi geodeettisen korkeuseron ansiosta kouruun 12. Alaan perehtyneet henkilöt tuntevat kuitenkin myös muita mahdollisuuksia ..: : 25 nesteen siirtämisen suhteen.; · For best lacquering or coating results, the respective coating · ·: must be very clean and at a specified temperature. It is thus guided from the • storage tank: 20 through 28 correct temperature-maintaining units (29) and through a filter 30 in the trough 12. The feeding operation may be, for example, by forming, · an overpressure (gas cushion) in the storage tank (28) or by arranging the storage tank 28 in a suitable manner. ' However, those skilled in the art will also recognize other possibilities ..:: 25 for transferring the fluid.
Päällystyslaitteen täysin automaattista muunnelmaa varten asennetaan numerolla 31 ’:": merkittyyn kohtaan automaattinen kuormauslaite ja numerolla 32 merkittyyn kohtaan : · ·; automaattinen purkauslaite. Kuormauslaite 31 ottaa vastaan lakattavan levyn 17 mää- : ‘; 30 rättyyn kohtaan asetetusta varastosta ja johtaa sen levypidätyslaitteeseen 16. Purkaus- laite 32 ottaa levyn 17 vastaan pidätyslaitteesta 16 ja johtaa sen taas takaisin määrättyyn paikkaan asetettuun varastoon.For a fully automatic version of the coating machine, install the 31 ":": automatic loader and "32": unloader. The loading device 31 receives a lacquered disc 17 from the stock and delivers it to the disc holding device 16. The unloading device 32 receives the plate 17 from the retaining device 16 and returns it again to the storage place set in the designated location.
5 ' n B 5 2 25 'n B 5 2 2
Lakkaus- ja päällystyslaitteen 10 toimintatapa on seuraava. Ensin levy 17 kiinnitetään j joko automaattisesti tai käsin pidätyslaitteeseen 16. Pidätyslaitetta 16 kiertämällä tätä asentoa voidaan vielä korjata. Levypidin 16 on tällöin käytettävissä kuviossa numerolla 31 merkityn kohdan läheisyydessä. Jos levy 17 on kiinnitetty oikeaan 5 asentoon pidätyslaitteeseen 16, niin lineaarinen kuljetusyksikkö 15 liikkuu numerolla 26 merkityn nuolen suunnassa eli siis kourun 12 suuntaisesti.The operation of the varnishing and coating device 10 is as follows. First, the plate 17 is fastened either automatically or manually to the retaining device 16. By rotating the retaining device 16, this position can be further corrected. The plate holder 16 is then operable in the vicinity of the point 31 in the figure. If the disc 17 is fixed in the right position 5 the retaining device 16, and a linear transport unit 15 moves in the direction of the number 26 indicated the arrow 12, and thus the direction of the chute.
Levy 17 siirretään tällä tavoin kapillaariraon 24 yläreunaan. Kun levyn 17 etureuna 25 tulee suoraan raon 24 yläpuolelle, on levy 20 siirrettynä kouurussa 12 niin 10 pitkälle levyä 19 vasten, että näiden levyjen väliim muodostuu leveydeltään sopiva kapillaarirako. Tämän raon 24 kavennuksen ansiosta tulee pieni määrä nestettä painetuksi raon 24 yläsivulta ulospäin levyn 17 päällystettävän pinnan etummaista linjaa vasten. Tällä tavoin päällystystoimenpide käynnistyy. Levyä 17 siirretään nyt lineaarisen kuljetuslaitteen 15 välityksellä nuolen 26 suunnassa tasaisella nopeudella. 15 Tällöin tartunnan ansiosta ohut nestekerros kerääntyy levyn pinnalle. Tarvittava nestevirtaus syötetään jälkeenpäin kapillaariraossa 24 esiintyvän kapillaarivaikutuksen avulla.The plate 17 is thus moved to the top of the capillary slot 24. When the leading edge 25 of the plate 17 is directly above the slot 24, the plate 20 is moved in the groove 12 so far against the plate 19 that a gap of a suitable capillary gap is formed between these plates. This narrowing of the slot 24 causes a small amount of liquid to be pressed from the top side of the slot 24 outwardly against the forward line of the surface of the sheet 17 to be coated. In this way, the coating operation is initiated. The plate 17 is now moved the linear transport device 15 through the direction of arrow 26 at a constant speed. 15 As a result of the adhesion, a thin layer of liquid accumulates on the surface of the disc. The required fluid flow is subsequently fed by the capillary action present in the capillary slot 24.
• · Päällystystoimenpide päättyy, kun levyn 17 takareuna 27 on ohittanut kapillaariraon ·.: 20 24. Tämän jälkeen kummatkin levyt 19 ja 20 siirretään irti toisistaan seuraavan : ’: päällystystoimenpiteen aloittamiseksi edellä mainituista syistä johtuen 2...3 mm etäi- syydelle. Päällystetty levy 17 siirtyy edelleen numerolla 24 merkitylle alueelle, jossa : se irrotetaan automaattisesti tai käsin pidätyslaitteesta 16.The coating operation ends when the trailing edge 27 of the plate 17 has passed the capillary gap ·: 20 24. The two plates 19 and 20 are then moved apart: ': to initiate the coating process for a distance of 2 to 3 mm due to the above reasons. The coated plate 17 further moves to the area designated 24, where: it is automatically or manually removed from the retaining device 16.
Claims (11)
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE9300392 | 1993-05-05 | ||
| DE9300392 | 1993-05-05 | ||
| PCT/DE1993/000777 WO1994025177A1 (en) | 1993-05-05 | 1993-08-26 | Device for lacquering or coating plates or panels |
| DE9300777 | 1993-08-26 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI955214A0 FI955214A0 (en) | 1995-11-01 |
| FI955214A FI955214A (en) | 1995-11-01 |
| FI108522B true FI108522B (en) | 2002-02-15 |
Family
ID=6888099
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI955214A FI108522B (en) | 1993-05-05 | 1995-11-01 | Device for varnishing or coating tiles or boards |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0701487B1 (en) |
| JP (1) | JP2777057B2 (en) |
| KR (1) | KR0153355B1 (en) |
| CN (1) | CN1078108C (en) |
| AT (1) | ATE173657T1 (en) |
| CA (1) | CA2157033C (en) |
| DE (2) | DE59309164D1 (en) |
| FI (1) | FI108522B (en) |
| MY (1) | MY108987A (en) |
| SG (1) | SG52700A1 (en) |
| WO (1) | WO1994025177A1 (en) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK0799096T3 (en) * | 1994-12-22 | 2001-11-05 | Steag Hamatech Ag | Method and apparatus for varnishing or coating a substrate |
| DE4445985A1 (en) * | 1994-12-22 | 1996-06-27 | Steag Micro Tech Gmbh | Method and device for coating or coating a substrate |
| ES2274611T3 (en) | 1998-12-17 | 2007-05-16 | Guardian Industries Corp. | DEVICE AND PROCEDURE FOR COATING A FLAT SUBSTRATE. |
| JP4481688B2 (en) * | 2003-04-10 | 2010-06-16 | Ｈｏｙａ株式会社 | Substrate processing apparatus, coating apparatus, coating method, and photomask manufacturing method |
| JP2005051220A (en) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Hoya Corp | Method for manufacturing substrate with resist film |
| US7332034B2 (en) | 2003-11-21 | 2008-02-19 | Seiko Epson Corporation | Coating apparatus and coating method using the same |
| DE102004044576B4 (en) * | 2004-09-13 | 2007-09-27 | Schott Ag | Process and apparatus for liquid coating and their use |
| JP5086714B2 (en) * | 2007-07-13 | 2012-11-28 | Ｈｏｙａ株式会社 | Mask blank manufacturing method and photomask manufacturing method |
| CN101834069B (en) * | 2010-04-07 | 2012-06-27 | 燕山大学 | Method for sensitizing semi-conductor double membrane by dye |
| CN103567109B (en) * | 2012-07-26 | 2015-12-16 | 耐落螺丝(昆山)有限公司 | Screw sizer and coating method |
| KR20140069677A (en) * | 2012-11-29 | 2014-06-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | Device for printing to substrate and method for printing to substrate |
| DE112017000475T5 (en) * | 2016-01-22 | 2018-10-04 | Shoda Techtron Corp. | End faces coater |
| CN106935534B (en) * | 2017-04-28 | 2019-11-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | Packaging system and display panel packaging method |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2046596A (en) * | 1932-01-13 | 1936-07-07 | Patent Button Co | Apparatus for uniformly coating flat surfaces |
| US4370356A (en) * | 1981-05-20 | 1983-01-25 | Integrated Technologies, Inc. | Method of meniscus coating |
| DE3231326A1 (en) * | 1982-08-23 | 1984-02-23 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | DEVICE FOR PRODUCING LARGE-SCALE, BAND-SHAPED SILICON BODIES FOR SOLAR CELLS |
| SU1736626A1 (en) * | 1990-02-14 | 1992-05-30 | Казанский Научно-Исследовательский Технологический И Проектный Институт Химико-Фотографической Промышленности | Extrusion-type spraying arrangement |
-
1993
- 1993-08-26 KR KR1019950704862A patent/KR0153355B1/en not_active IP Right Cessation
- 1993-08-26 EP EP93918918A patent/EP0701487B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-26 SG SG1996008058A patent/SG52700A1/en unknown
- 1993-08-26 DE DE59309164T patent/DE59309164D1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-26 CA CA002157033A patent/CA2157033C/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-26 AT AT93918918T patent/ATE173657T1/en not_active IP Right Cessation
- 1993-08-26 WO PCT/DE1993/000777 patent/WO1994025177A1/en active IP Right Grant
- 1993-08-26 DE DE4397349T patent/DE4397349D2/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-11-02 MY MYPI93002286A patent/MY108987A/en unknown
-
1994
- 1994-03-02 CN CN94102023A patent/CN1078108C/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-02 JP JP6093563A patent/JP2777057B2/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-11-01 FI FI955214A patent/FI108522B/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1106716A (en) | 1995-08-16 |
| ATE173657T1 (en) | 1998-12-15 |
| FI955214A0 (en) | 1995-11-01 |
| MY108987A (en) | 1996-11-30 |
| FI955214A (en) | 1995-11-01 |
| KR0153355B1 (en) | 1998-11-16 |
| DE59309164D1 (en) | 1999-01-07 |
| KR960701706A (en) | 1996-03-28 |
| SG52700A1 (en) | 1998-09-28 |
| CA2157033C (en) | 2003-06-17 |
| CN1078108C (en) | 2002-01-23 |
| EP0701487B1 (en) | 1998-11-25 |
| JP2777057B2 (en) | 1998-07-16 |
| JPH06343908A (en) | 1994-12-20 |
| EP0701487A1 (en) | 1996-03-20 |
| CA2157033A1 (en) | 1994-11-10 |
| DE4397349D2 (en) | 1996-11-14 |
| WO1994025177A1 (en) | 1994-11-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI108522B (en) | Device for varnishing or coating tiles or boards | |
| EP1285700B1 (en) | Coating method and coating apparatus | |
| US20150231663A1 (en) | Apparatus for directly applying liquid to a substrate | |
| US5455062A (en) | Capillary device for lacquering or coating plates or disks | |
| TW201501950A (en) | Scrape coating device | |
| KR940018075A (en) | Method and apparatus for forming gelatinous coating | |
| US6497779B1 (en) | Hydraulic transfer method and device and hydraulic-transfer article | |
| CN101537402B (en) | Curtain coating apparatus and curtain coating method | |
| EP0425562B1 (en) | Curtain coating method and apparatus | |
| EP0537086A1 (en) | Curtain coating method and apparatus | |
| CN102343318B (en) | Slip apparatus for coating, use the coating process of described device and use described method to manufacture the method for blooming | |
| KR20000035904A (en) | Block Feeding of Solid Paint onto A Contineously Moving Metal Strip | |
| JP2000237666A (en) | Apparatus and method for planar coating of viscous liquid | |
| KR101879298B1 (en) | Vitamin Deposition System using Roll-To-Roll | |
| CN215760272U (en) | Automatic gluing device | |
| CA1325556C (en) | Method for coating solid closed surfaces | |
| JP2006314927A (en) | Applicator of coating liquid | |
| JP3451287B2 (en) | Curtain coater | |
| TW200519062A (en) | Apparatus and method for coating a film on a glass substrate | |
| JPH11309400A (en) | Coating device for photocatalyst film | |
| JPH11151461A (en) | Solid curtain application method and coating applicator as well as substrate photosensitive material producing apparatus having this coating applicator | |
| JPH0670234U (en) | Thin film forming equipment | |
| JPH08252514A (en) | Fluidization dip coating device | |
| JPH04161266A (en) | Painting apparatus | |
| JP2000042469A (en) | Coating equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GB | Transfer or assigment of application |
Owner name: STEAG MICROTECH GMBH |
|
| MA | Patent expired |