JP2602182B2 - 半導体パッケージおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
びその製造方法に関するものであり、詳しくは、リード
フレームパッドとリードフレームのインナーリードを直
接ソルダリングする半導体パッケージおよびその製造方
法に関するものである。
ように、リードフレームパッド1上に半導体チップ10
を接着剤2で付着して固定させ、前記半導体チップ10
とリードフレーム20のインナーリード3を金属ワイヤ
5で電気的に接続連結するようになっている。また、こ
のように構成された従来の半導体パッケージは、半導体
チップ10とリードフレーム20のインナーリード3お
よび金属ワイヤ5を包含する一定面積、つまり長方形の
本体が、封止樹脂6で密封されてなる。そして、前記長
方形の本体を構成する封止樹脂6の左右両側には、それ
ぞれリードフレーム20のアウターリード4が所定形態
に一定長さだけ突出されている。すなわち、前記アウタ
ーリード4は、半導体パッケージの内側に折曲されてい
る。
体パッケージは、次のような工程を遂行して製造され
る。
チップ10をリードフレームパッド1上に接着剤2で付
着して固定するダイボンディング工程と、前記半導体チ
ップ10とリードフレーム20のインナーリード3を金
属ワイヤ5で電気的に連結するワイヤボンディング工程
と、ワイヤボンディングされた半導体チップ10とリー
ドフレームパッド1とインナーリード3と金属ワイヤ5
を封じて塞ぐ封止樹脂体6を形成させるモールディング
工程と、前記リードフレーム20のアウターリード4を
支持しているダムバー(図示せず)を切断して各々の独
立パッケージに分離するとともに封止樹脂体6の両側に
突出されたアウターリード4を所定形態に折曲形成する
トリミングおよびフォーミング(trimming/forming)工
程とを、順次遂行して半導体パッケージを製造すること
になる。
従来の半導体パッケージは、半導体チップとリードフレ
ームのインナーリードを金属ワイヤでワイヤボンディン
グして電気的に結線するので、パッケージの小型化およ
び薄型化が難しいという欠点があった。また、このよう
に結線されたワイヤでは、寄生インダクタンスと抵抗が
発生するので、これにより半導体パッケージの電気的特
性が低下するという問題点が発生した。
ディングを使用せずに、リードフレームパッドとリード
フレームのインナーリードを直接ソルダリングして、パ
ッケージを小型化および薄型化させた、半導体パッケー
ジおよびその製造方法を提供することにある。
導体パッケージは、リードフレームの所定部位に設置さ
れたパッドの一方側にはインナーリードが、他方側には
補助リードがそれぞれ設置され、インナーリードと補助
リードの連結部には少なくとも1つ以上のインナーリー
ドホールが設置され、インナーリードホールの上部には
インナーリードホールに連通されるようにソルダレジス
タフィルム上にソルダレジスタホールが少なくとも1つ
以上設置されることを特徴としている。
は、請求項1の発明において、インナーリードホールは
円形に形成されることを特徴としている。
は、請求項1の発明において、インナーリードホールは
四角形に形成されることを特徴としている。
は、請求項1の発明において、インナーリードホールは
半円形に形成されることを特徴としている。
は、請求項1の発明において、ソルダレジスタホールは
インナーリードホールより大きく形成されることを特徴
としている。
製造方法は、リードフレーム上にソルダレジスタフィル
ムを付着する段階と、リードフレームのインナーリード
がパッドと直接接触し得るようにリードパターンを形成
しエッチングする段階と、パッドとインナーリードをソ
ルダリングする段階と、リードフレームをエポキシモー
ルドコンパウンドでモールディングする段階と、リード
フレームのサイドレールを切断し、パッケージの固有形
態に切断するトリミングおよびフォーミング段階と、所
定の鍍金被膜を得るためのたとえば錫めっき等のめっき
段階とから構成されることを特徴としている。
製造方法は、請求項6の発明において、ソルダリング段
階で、ソルダレジスタホールおよびインナーリードホー
ルにソルダを注入した後、熱気を吹き入れることにより
不必要なソルダを除去することを特徴としている。
を詳細に説明する。
ッケージの平面図で、リードフレーム40の上部の所定
部位には、薄いソルダレジスタフィルム30が接着剤
(図示せず)により付着されている。そして、前記リー
ドフレーム40は、その所定部位に一定間隔をおいて複
数のインナーリード13が設置され、前記インナーリー
ド13は補助リード12と相互連結される。ここで、補
助リード12は、インナーリードに連結された部分で、
便宜上区分したものである。
ド12間の連結部26には、円形のインナーリードホー
ル25が形成される。ここで、ただ1つのインナーリー
ドホール25を形成したが、場合によっては複数を形成
することもできる。そして、このようにインナーリード
ホール25を形成した理由は、ソルダリング面積を拡大
するとともに、不良率を減少させるためである。
は、図2(A)に示すように円形に形成することもでき
るし、図2(B)に示すように矩形のインナーリードホ
ール25aを形成することもできるし、図2(C)に示
すように半円形のインナーリードホール25bを形成す
ることもできる。
線について切取った断面図であり、図3(B)は図2
(A)のC−C′線について切取った断面図である。図
3(A)および図3(B)に示すように、チップパッド
11の上部には、補助リード12およびインナーリード
13がそれぞれ付着される。ここで、前記補助リード1
2とインナーリード13間には、インナーリードホール
25が形成される。また、前記インナーリード13およ
び補助リード12の上部には、ソルダレジスタフィルム
30が付着されている。前記ソルダレジスタフィルム3
0の所定部位、つまり前記インナーリードホール25に
対向する部分には、前記インナーリードホール25より
少し大きいソルダレジスタホール35を形成することに
なる。
C′線について切取った断面図であり、図3(A)とは
異なりチップパッド11上の両側にインナーリード13
が設置され、前記インナーリード13とインナーリード
13間にはインナーリードホール25が形成されてい
る。また、ソルダレジスタフィルム30の所定部位、つ
まり前記インナーリードホール25に対向する部分に
は、前述したものと同様に、前記インナーリードホール
25より少し大きいソルダレジスタホール35が形成さ
れる。ここで、図3(A)に示すソルダレジスタホール
35は、図3(B)に示すソルダレジスタホール35に
比べて大きく示されているが、これはただ切断方向差に
よるもので、前記ソルダレジスタホール35の大きさ
は、これに限定されるものではなく、使用者がその大き
さを任意に選択できるものである。
ケージの製造方法は、リードフレーム40にソルダレジ
スタフィルム30を付着するか、リードフレーム40に
ソルダレジスタフィルム30が付着されたリードフレー
ム40を用意した後、前記リードフレーム40のインナ
ーリード13が、図3(B)に示すように、チップパッ
ド11と直接接触し得るように、リードパターン(図示
せず)を形成してエッチングすることになる。このよう
に、リードパターンが形成されると、フォト現像工程を
遂行し、この際、ソルダレジスタフィルム30上に、図
2(A)〜図2(C)に示すような種々のインナーリー
ドホール25,25a,25bより少し大きく(つま
り、使用者の要求に適合するように)矩形のソルダレジ
スタホール35を食刻により形成する。
成されてから、ソーイング(sawing)工程により個々に
分離された半導体チップ100(図4(A)参照)を、
図3(A)または図3(B)に示すチップパッド11に
付着する。そして、ソルダレジスタフィルム30上に形
成されたソルダレジスタホール35は、図1および図3
(A),(B)に示すように、チップパッド11と補助
リード12とインナーリード13が取囲んでいるインナ
ーリードホール25に連通され、前記インナーリードホ
ール25より少し大きく形成される。したがって、前記
ソルダレジスタホール35およびインナーリードホール
25には、ソルダクリーム(solder cream)を少量塗布
してから所定の熱を加えると、図4(A)に示すよう
に、ソルダ45が溶融される。図4(A)のようにソル
ダ45が溶融されると、図4(B)および図4(C)に
示すような工程を遂行する。
を詳細に説明する。図4(A)はソルダ45が溶融され
た後の状態を示す断面図であり、半導体チップ100が
付着されたチップパッド11上にソルダ45がソルダレ
ジスタフィルム30の高さより高く覆われているものを
示す。このような状態で、図4(B)に示すように、一
定方向(矢印方向)に熱気を供給すると、ソルダレジス
タフィルム30上の不必要なソルダが一方側に押されて
除去され、図4(C)のような状態になる。すなわち、
ソルダレジスタフィルム20のソルダレジスタホール3
5(図3(A)参照)間に、所定量だけのソルダ45の
みが残存する。
と、本発明の一実施例による半導体パッケージは、外部
の物理的衝撃または化学的変化に対する保護のために、
エポキシモールディングコンパウンド(epoxy molding
compound)で成形される。すなわち、図6に示すよう
に、半導体チップ100、補助リード12およびインナ
ーリード13で取囲まれた部分にエポキシモールディン
グコンパウンドで封止体を形成する。なお、図6は、図
5(B)のE−E′線について切取った図面である。こ
のようにモールディング作業が終了すると、半導体パッ
ケージを一定時間硬化させた後、図5(A)および図5
(B)と図6のようなトリミングおよびフォーミング工
程を遂行して、半導体パッケージを製作する。
ング工程を、図5(A)および図5(B)と図7に基づ
いて説明すると次のようである。
導体パッケージのトリミング工程を示す断面図である。
図5(A)において、D−D′線に沿って半導体パッケ
ージを切断し、各サイドレール48およびダムバ49を
除去すると、半導体パッケージは図5(B)のようにな
る。このようにトリミングされた半導体パッケージは、
図5(B)に示すように、ソルダレジスタフィルム30
の外側に複数のアウターリード14のみが突出されてい
るので、使用者が前記アウターリード14を望むパッケ
ージの固有形態に折曲して、図6に示すような完成され
たパッケージを製造する。
ッケージは、半導体チップとインナーリードをワイヤボ
ンディングする工程を遂行しないので、半導体パッケー
ジの小型化および薄型化を実現することができる。
面図である。
の多様な形態を示す平面図である。
った断面図であり、(B)は図2(A)のC−C′線に
ついて切取った断面図である。
階別に示す図である。
あって、(A)はダムバのトリミング前段階を示す平面
図であり、(B)は切断後の単位パッケージを示す平面
図である。
ミング工程後、E−E′線について切取った半導体パッ
ケージの断面図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 リードフレームの所定部位に設置された
パッドの一方側にはインナーリードが、他方側には補助
リードがそれぞれ設置され、 前記インナーリードと前記補助リードの連結部には少な
くとも1つ以上のインナーリードホールが設置され、 前記インナーリードホールの上部には前記インナーリー
ドホールに連通されるようにソルダレジスタフィルム上
にソルダレジスタホールが少なくとも1つ以上設置され
ることを特徴とする、半導体パッケージ。 - 【請求項2】 前記インナーリードホールは、円形に形
成されることを特徴とする、請求項1記載の半導体パッ
ケージ。 - 【請求項3】 前記インナーリードホールは、四角形に
形成されることを特徴とする、請求項1記載の半導体パ
ッケージ。 - 【請求項4】 前記インナーリードホールは、半円形に
形成されることを特徴とする、請求項1記載の半導体パ
ッケージ。 - 【請求項5】 前記ソルダレジスタホールは、前記イン
ナーリードホールより大きく形成されることを特徴とす
る、請求項1記載の半導体パッケージ。 - 【請求項6】 リードフレーム上にソルダレジスタフィ
ルムを付着する段階と、 前記リードフレームのインナーリードがパッドと直接接
触し得るようにリードパターンを形成しエッチングする
段階と、 前記パッドとインナーリードをソルダリングする段階
と、 前記リードフレームをエポキシモールドコンパウンドで
モールディングする段階と、 前記リードフレームのサイドレールを切断し、パッケー
ジの固有形態に切断するトリミングおよびフォーミング
段階と、 所定の鍍金被膜を得るためのめっき段階とから構成され
ることを特徴とする、半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項7】 前記ソルダリング段階で、ソルダレジス
タホールおよびインナーリードホールにソルダを注入し
た後、熱気を吹き入れることにより不必要なソルダを除
去することを特徴とする、請求項6記載の半導体パッケ
ージの製造方法。
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