JP2020068385A5

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Publication number: JP2020068385A5
Application number: JP2019213157A
Authority: JP
Filing date: 2019-11-26
Publication date: 2020-11-12
Anticipated expiration: 2039-07-29

Claims

少なくとも表面がＩＩＩ族窒化物結晶で構成された直径２インチ以上のウエハを用意する工程と、
容器内に、電子を受け取る酸化剤としてペルオキソ二硫酸イオンを含むアルカリ性または酸性のエッチング液を用意する工程と、
前記ウエハの表面が前記エッチング液の表面と平行になるように、前記ウエハの表面が前記エッチング液中に浸漬された状態で、前記容器内に前記ウエハを収納する工程と、
光を、硫酸イオンラジカルが生成するように加熱された前記エッチング液の表面側から、前記ウエハの表面に照射する工程と、
を有し、
前記ウエハの表面には、前記エッチング液中に浸漬された状態で前記光が照射されることにより前記ＩＩＩ族窒化物結晶がエッチングされる領域であって、互いに離隔して配置された第１被エッチング領域および第２被エッチング領域が画定されており、
前記光を前記ウエハの表面に照射する工程では、前記第１被エッチング領域の表面、および、前記第２被エッチング領域の表面のそれぞれに対して、前記光を垂直に照射する、構造体の製造方法。
前記光を前記ウエハの表面に照射する工程では、前記エッチング液を撹拌することなく、前記光を前記ウエハの表面に照射する、請求項１に記載の構造体の製造方法。
前記光を前記ウエハの表面に照射する工程では、前記第１被エッチング領域と、前記第２被エッチング領域と、に前記光を同時に照射する、請求項１または２に記載の構造体の製造方法。
前記光を前記ウエハの表面に照射する工程では、前記第１被エッチング領域と、前記第２被エッチング領域と、に前記光を非同時に照射する、請求項１または２に記載の構造体の製造方法。
前記光を前記ウエハの表面に照射する工程では、前記ウエハの表面上で前記光の照射断面を走査する、請求項４に記載の構造体の製造方法。
前記ウエハ上に、前記第１被エッチング領域および前記第２被エッチング領域を画定する開口を有するマスクが形成されていない、請求項１〜５のいずれか1項に記載の構造体の製造方法。
前記ウエハ上に、前記エッチング液と接触する導電性の部材が形成されている、請求項１〜６のいずれか1項に記載の構造体の製造方法。
少なくとも表面がＩＩＩ族窒化物結晶で構成された直径２インチ以上のウエハと、電子を受け取る酸化剤としてペルオキソ二硫酸イオンを含むアルカリ性または酸性のエッチング液と、を収納する容器と、
前記エッチング液を加熱することができる温度調整器と、
光を、前記エッチング液の表面側から、前記ウエハの表面に照射する光照射装置と、
を有し、
前記容器は、前記ウエハの表面が前記エッチング液の表面と平行になるように、前記ウエハの表面が前記エッチング液中に浸漬された状態で、前記容器内に前記ウエハを収納するとともに、前記光が前記ウエハの表面に照射されるように、硫酸イオンラジカルが生成するように加熱された前記エッチング液を保持し、
前記光照射装置は、前記ウエハの表面に画定され、前記エッチング液中に浸漬された状態で前記光が照射されることにより前記ＩＩＩ族窒化物結晶がエッチングされる領域であって、互いに離隔して配置された第１被エッチング領域および第２被エッチング領域の、それぞれの表面に対して、前記光を垂直に照射する、構造体の製造装置。
前記容器は、前記エッチング液が攪拌されない状態で前記光が前記ウエハの表面に照射されるように、前記エッチング液を保持する、請求項８に記載の構造体の製造装置。
前記光照射装置は、前記第１被エッチング領域と、前記第２被エッチング領域と、に前記光を同時に照射する、請求項８または９に記載の構造体の製造装置。
前記光照射装置は、前記第１被エッチング領域と、前記第２被エッチング領域と、に前記光を非同時に照射する、請求項８または９に記載の構造体の製造装置。
前記光照射装置は、前記ウエハの表面上で前記光の照射断面を走査する、請求項１１に記載の構造体の製造装置。
前記ウエハ上に、前記第１被エッチング領域および前記第２被エッチング領域を画定する開口を有するマスクが形成されていない、請求項８〜１２のいずれか1項に記載の構造体の製造装置。
前記ウエハ上に、前記エッチング液と接触する導電性の部材が形成されている、請求項８〜１３のいずれか1項に記載の構造体の製造装置。