JP2019050144A - 透明基板、薄膜支持基板 - Google Patents
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フォトリソグラフィー工程にて表面にパターン形成がなされる透明基板であって、表面と裏面の一方又は両方に凹凸賦形が設けられ、前記フォトリソグラフィー工程で使用される紫外線の透過率が50%以下であることを特徴とする透明基板。
4:絶縁層,5:発光機能層,6:金属電極層
Claims (5)
- フォトリソグラフィー工程にてパターン形成がなされる透明基板であって、
表面と裏面の一方又は両方に凹凸賦形が設けられ、
前記フォトリソグラフィー工程で使用される紫外線の透過率が50%以下であることを特徴とする透明基板。 - 前記紫外線の波長は、365nmであることを特徴とする請求項1記載の透明基板。
- 前記透明基板は、紫外線吸収成分が含有されたガラス基板であることを特徴とする請求項1又は2記載の透明基板。
- 前記紫外線吸収成分は、酸化セリウム又は酸化バナジウムであることを特徴とする請求項3記載の透明基板。
- 積層された薄膜を支持する透明基板であって、
前記薄膜の少なくとも一層は、フォトリソグラフィー工程によってパターン形成された層であり、
前記透明基板の表面と裏面の一方又は両方には凹凸賦形が設けられ、
前記透明基板は、前記フォトリソグラフィー工程で使用される紫外線の透過率が50%以下であることを特徴とする薄膜支持基板。
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