JP2013093395A - 反射型露光用マスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に多層反射膜、保護膜、吸収膜、裏面導電膜が形成された反射型マスクブランクスを準備する。次に、回路パターンとその領域外の吸収膜を選択的に除去して回路パターンと遮光枠領域を形成する。次に、前記遮光枠領域において保護膜と多層反射膜を除去する。加えて、前記遮光枠領域の基板とは対向位置の裏面導電膜に酸化インジウムスズを形成する。
【選択図】図2
Description
11 基板
12 多層反射膜
13 保護膜
14a 吸収膜
14b 吸収膜
15a 裏面導電膜
15b 裏面導電膜
21 レジスト(パターン)
100 反射型マスク
Claims (2)
- 波長5nmから15nmの光を露光光とするリソグラフィで用いられる反射型マスクブランクであって、
基板と、
前記基板上に形成された露光光を反射する多層反射膜と、
前記多層反射膜上に形成された多層反射膜を保護する保護膜と、
前記保護膜上に形成された露光光を吸収する吸収膜と、
前記基板の、前記多層反射膜が形成された面とは反対面上に形成された導電膜とを備え、
前記基板は、石英(SiO2)を主成分とし酸化チタン(TiO2)を含む材料で形成され、
前記多層反射膜は、前記基板上にモリブデン(Mo)を材料とする層と珪素(Si)を材料とする層とが重ねられた層が、複数重ねられることで構成された多層構造で形成され、
前記保護膜は、前記多層反射膜上に形成され、ルテニウム(Ru)またはシリコン(Si)のいずれかを含む材料で形成された単層構造、または、当該単層構造に最上層としてルテニウム(Ru)の酸化物、窒化物、酸窒化物、および、珪素(Si)の酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれかを含む材料がさらに積層された積層構造を有し、
前記吸収膜は、前記保護膜上に形成され、タンタル(Ta)及びその酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれかを含む材料で形成された単層構造、または、当該単層構造に最上層としてタンタル(Ta)の酸化物、窒化物、酸窒化物、および、珪素(Si)の酸化物、窒化物、酸窒化物のいずれかを含む材料がさらに積層された積層構造を有し、
前記導電膜は、酸化インジウムスズ(ITO)または酸化亜鉛(ZnO)のいずれかを含む材料の層を有する積層構造を有する反射型マスクブランク。 - 請求項1に記載の反射型マスクブランクにおいて、前記吸収膜を選択的に除去することで回路パターンが形成され、前記回路パターンを除く前記回路パターンの周囲の部分に、前記吸収膜と前記保護層と前記多層反射膜とを選択的に除去した枠状の領域が形成されて成る、反射型マスク。
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