WO2014042056A1 - 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート Download PDF

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WO2014042056A1
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organic
light extraction
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glass
light
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PCT/JP2013/073815
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正数 遠西
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コニカミノルタ株式会社
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    • H—ELECTRICITY
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    • H10K2101/00—Properties of the organic materials covered by group H10K85/00
    • H10K2101/27—Combination of fluorescent and phosphorescent emission

Definitions

  • the present invention relates to an organic electroluminescence element applicable to a display, a lighting fixture, and the like, and a light extraction sheet for the organic electroluminescence element.
  • organic EL illumination Illumination using an organic electroluminescence (hereinafter referred to as “organic EL”) element (hereinafter referred to as “organic EL illumination”) is a self-luminous illumination device for various displays and liquid crystal displays. Research and development is actively conducted for applications such as backlights and flat lighting.
  • a display device (organic EL display) using an organic EL element has excellent display performance such as higher visibility and less viewing angle dependency than a cathode ray tube display or a liquid crystal display.
  • the organic EL display has an advantage that it can be made thinner and lighter.
  • organic EL lighting is a uniform surface light source, unlike LED lighting that uses LED, which is a highly directional point light source, and can be made thinner and lighter, and reduce the number of components. There is an advantage that can be.
  • organic EL lighting by using a flexible substrate, it may be possible to realize lighting having a shape that has been difficult to realize in the past.
  • Organic EL lighting is composed of a plurality of members. Specifically, the organic EL lighting is formed as an organic EL surface light emitter by providing an anode, an organic compound layer including a light emitting layer, a cathode, and the like in this order on one surface of a transparent substrate. When a voltage is applied between the anode and the cathode, the organic compound layer emits light. The light emitted from the organic compound layer is emitted through a plurality of members such as a transparent substrate.
  • the emitted light When the light emitted from the organic compound layer is radiated to the outside, the emitted light may undergo total reflection depending on the angle of incidence on the adjacent layer interface having a different refractive index, and may be guided inside the device. When this phenomenon occurs, the emitted light is not emitted to the outside. That is, the emitted light is attenuated by total reflection or the like due to the difference in refractive index between members, and is not efficiently emitted to the outside.
  • the surface illumination device described in Patent Document 1 includes an optical sheet having a light collecting function.
  • This optical sheet has, for example, a transparent synthetic resin base layer and an optical layer in which beads are dispersed in a synthetic resin binder.
  • the optical film described in Patent Document 2 has a concavo-convex structure portion made of a curable resin, and has a shape formed by repeatedly arranging various concavo-convex unit shapes, thereby improving light extraction efficiency.
  • the optical sheets and optical films disclosed in Patent Documents 1 and 2 have insufficient weather resistance against heat and light.
  • discoloration may occur and the luminance may decrease.
  • the present applicant has found that by using a glass cloth as the base material of the light extraction sheet, the light extraction sheet can be provided with high flame resistance and weather resistance in outdoor use.
  • This invention is made
  • the present inventor has adopted a glass having a specific composition as a material of glass fibers used for glass cloth. The present inventors have found that these problems can be solved, and have reached the present invention.
  • the present invention has the following configuration.
  • An organic EL device having an element substrate, a first electrode formed on the element substrate, an organic compound layer formed on the first electrode and including a light emitting layer, and a second electrode formed on the organic compound layer
  • a light extraction sheet is provided on the light extraction surface side of the organic EL element main body, and the light extraction sheet includes all cerium converted to CeO 2 with respect to 100 parts by mass of a mother component made of soda-lime glass.
  • An organic EL device comprising a glass cloth using glass fibers containing a total of 2.5 parts by mass or more of all titanium converted to TiO 2 .
  • the glass constituting the glass fiber has an ultraviolet transmittance defined by ISO 9050 of 13% or less in terms of a thickness of 3.5 mm, and a visible light transmittance measured by the standard light source A of 3.5 mm.
  • It has a glass cloth using a glass fiber containing a total of 2.5 parts by mass or more of all cerium converted to CeO 2 and all titanium converted to TiO 2 with respect to 100 parts by mass of a mother component made of soda-lime glass.
  • a light extraction sheet for an organic EL element is a glass cloth using a glass fiber containing a total of 2.5 parts by mass or more of all cerium converted to CeO 2 and all titanium converted to TiO 2 with respect to 100 parts by mass of a mother component made of soda-lime glass.
  • an organic EL element having excellent performance in light extraction efficiency and weather resistance and a light extraction sheet for organic EL elements can be provided.
  • the organic EL device of the present embodiment includes an element substrate, a first electrode (anode) formed on the element substrate, an organic compound layer formed on the first electrode (anode) and including a light emitting layer, and the organic An organic EL element body having a second electrode (cathode) formed on the compound layer, and a light extraction sheet on the light extraction surface side of the organic EL element body.
  • the organic EL device of this embodiment includes an electrode composed of an anode and a cathode, and an organic compound layer that is disposed between the anode and the cathode and emits light when a voltage is applied between the electrodes.
  • An organic EL element main body comprising: an electrode and at least one of the anode and the cathode, which is provided outside an electrode through which light emitted from the organic compound layer is transmitted; And a light extraction sheet.
  • FIG. 1 is an example of the organic EL element of the present embodiment, and is not limited to this embodiment.
  • the organic EL element 10 of the present embodiment includes an organic EL element body 1 and a sealing material 3 stacked in this order on a light extraction sheet 2.
  • the light extraction sheet 2 and the organic EL element body 1 are bonded and fixed by an adhesive layer 4.
  • the organic EL element body 1 and the sealing material 3 are bonded and fixed by an adhesive layer 4.
  • the light extraction sheet 2 provided in the organic EL element 10 of the present embodiment will be described. Then, members other than the light extraction sheet
  • the light extraction sheet 2 included in the organic EL element 10 is provided outside the electrode (the anode 12 in the organic EL element 10 shown in FIG. 1) through which light emitted from the organic compound layer 13 described later is transmitted.
  • the substrate 2a is included.
  • the shape of the light extraction sheet 2 is not limited to a sheet shape, and may be, for example, a flat plate shape. Since the light extraction sheet 2 is mainly composed of a glass cloth substrate 2a made of glass cloth, the light extraction sheet 2 itself is excellent in weather resistance and can impart flame retardancy to the organic EL element 10. It is.
  • the glass cloth substrate 2a is made of glass cloth.
  • the glass cloth is formed by weaving glass fibers. There are no particular limitations on the specific configuration, type, additives, and the like of such a glass cloth, and any glass cloth can be applied. However, the glass cloth is usually preferably colorless.
  • the glass cloth applicable to the glass cloth base material 2a may be a commercially available one, or may be appropriately prepared. Moreover, 1 type of glass cloth may be used independently and 2 or more types may be used in arbitrary combinations.
  • the glass cloth As the glass cloth, a glass cloth raw machine, a glass cloth subjected to various processing treatments, a used glass cloth, etc. can be applied. However, as the glass cloth, a glass cloth that has been subjected to a processing treatment is preferable, and among them, a glass cloth that has been heat-cleaned and a glass cloth that has been heat-cleaned and then treated with a silane coupling agent are more preferable. Details of these glass cloths will be described later.
  • glass constituting the glass fiber used for the glass cloth As glass constituting the glass fiber used for the glass cloth, a total of 2.5 parts by mass of all cerium converted to CeO 2 and all titanium converted to TiO 2 with respect to 100 parts by mass of the mother component made of soda-lime glass. It is necessary to use the glass contained above. Since glass having such a composition generally has a high ability to absorb ultraviolet rays, it is possible to reduce the amount of transmitted ultraviolet rays and to suppress deterioration of the organic EL element body by ultraviolet rays. . Moreover, since the visible light transmittance is high, visible light emitted from the organic EL element main body can be emitted to the outside. A glass having such a composition is disclosed in, for example, JP-A-11-228176.
  • the total content of all cerium converted to CeO 2 and all titanium converted to TiO 2 is 2.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the mother component made of soda-lime glass, sufficient UV transmittance reduction An effect can be obtained.
  • the total content of all cerium converted to CeO 2 and all titanium converted to TiO 2 is 4.0 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the mother component made of soda-lime glass. That is realistic.
  • the total cerium content in terms of CeO 2 is preferably in the range of 1.0 to 2.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the mother component.
  • the total titanium content converted to TiO 2 is preferably in the range of 0.6 to 2.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base component.
  • the composition of the soda-lime glass which is a mother component consists of the following components. SiO 2 ; 65 to 75% by mass, Al 2 O 3 ; 0.1 to 5% by mass, Na 2 O; 10 to 18% by mass, K 2 O; 0 to 5% by mass, CaO; 5 to 15% by mass, MgO: 0 to 6% by mass.
  • Na 2 O and K 2 O are components that promote the dissolution of the raw material. The effect is exhibited when the content of Na 2 O is 10% by mass or more, and the weather resistance is good when the content is 18% by mass or less. K 2 O is not an essential component but may be contained. If the content is 5% by mass or less, the cost does not increase.
  • CaO and MgO are components that promote dissolution of raw materials and improve weather resistance.
  • the content of CaO is 5% by mass or more, the above-described effect is exhibited.
  • MgO is not an essential component, but may be contained. If the content is 6% by mass or less, devitrification is rare.
  • TUV is 12% or less, and TVA is 85% or more.
  • the glass cloth is composed of glass containing 2.5 parts by mass or more in total of all cerium converted to CeO 2 and all titanium converted to TiO 2 with respect to 100 parts by mass of the mother component made of soda-lime glass. It may be manufactured using only glass fibers. Moreover, as long as the glass cloth sufficiently satisfies the light extraction efficiency and weather resistance as an organic EL element, the glass cloth may be manufactured in combination with glass fibers made of glass having another composition. .
  • the glass having other compositions include E glass, D glass, T glass, C glass, ECR glass, A glass, L glass, S glass, YM31-A glass, H glass, and the like.
  • the fiber comprised from the glass of said various composition may be manufactured according to arbitrary manufacturing methods, and may use a commercial item.
  • the glass fiber either a long fiber or a short fiber may be used.
  • a glass fiber that is appropriately drawn and hardened can be used.
  • the glass fiber is preferably twisted.
  • the number of twists is not particularly limited, but for example, a twist of 20 to 200 times per 100 cm can be used.
  • the twist direction may be either right twist (S twist) or left twist (Z twist).
  • a form of a twisted yarn for example, a single twisted yarn, various twisted yarns, a bitco various twisted yarn, a decorative twisted yarn, a wall twisted yarn, a piece twisted yarn, etc. are mentioned.
  • the glass fiber is a short fiber, for example, a yarn obtained by twisting and joining the glass fiber, that is, a spun yarn can be used.
  • a yarn obtained by twisting and joining the glass fiber that is, a spun yarn
  • the degree of twisting the same matters as in the case of long fibers can be applied.
  • the fineness (count) of the glass fiber is not particularly limited, but is usually 1 tex or more, preferably 5 tex or more.
  • the fineness of the glass fiber is usually 1000 tex or less, preferably 850 tex or less, more preferably 200 tex or less, and particularly preferably 150 tex or less.
  • any method can be applied as a method of weaving the glass cloth.
  • the woven structure include plain weave, twill weave, oblique weave, leno weave, satin weave, triaxial weave, and horizontal stripe weave.
  • a loom such as a jet loom (for example, an air jet loom, a water jet loom), a sulzer loom, or a lepier loom can be used. Weaving may be performed by appropriately combining these.
  • the weave density of the glass cloth is preferably 10/25 mm or more, more preferably 40/25 mm or more, more preferably 80/25 mm or less, and more preferably 60/25 mm or less for both warp and weft.
  • the glass cloth Since the glass cloth does not have sufficient handleability and mechanical strength as it is, it can be impregnated with a resin to fix the form as needed.
  • a resin to be impregnated Various resins can be used as the resin to be impregnated, but a flame retardant resin is preferable from the viewpoint of flammability.
  • a flame retardant resin a fluorine-based resin such as vinyl chloride resin or polytetrafluoroethylene-based resin, a silica-based inorganic resin, or the like is preferably used, but a flame retardant may be added as long as the light transmittance is not impaired. good.
  • a resin such as vinyl acetate resin, acrylic resin, vinyl ester resin, and silicone resin to which a flame retardant is added can be used as long as light transmittance is not impaired.
  • a resin such as vinyl acetate resin, acrylic resin, vinyl ester resin, and silicone resin to which a flame retardant is added can be used as long as light transmittance is not impaired.
  • impregnating resins may be used alone, or two or more kinds of resins may be mixed and used in an arbitrary ratio and combination, or impregnated with the same kind or different kinds of resins in multiple times. May be.
  • a protective layer may be further provided on the surface of the glass cloth as described later.
  • the method of impregnating the glass cloth with the impregnating resin can be a known method and is not particularly limited.
  • the glass cloth is immersed in a solution in which the impregnated resin is dissolved and the solution is attached, and then the solvent is dried and removed, or the glass cloth is immersed in a melt in which the impregnated resin is melted and the impregnated resin is attached.
  • a method in which the impregnated resin powder is adhered to the glass cloth and then the powder is melted and fixed to the glass cloth.
  • the amount of the impregnated resin attached to the glass cloth is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and more preferably 8% by mass or more with respect to the mass per unit area of the glass cloth (weight, g / m 2 ) Further preferred. Moreover, 50 mass% or less is preferable, 40 mass% or less is more preferable, and 30 mass% or less is further more preferable. When in this range, the handling property and mechanical strength of the glass cloth are improved, the weather resistance of the light extraction sheet itself is good, and the flame retardancy imparted by the flame retardant resin is also excellent.
  • the glass cloth in order to improve the adhesion between the glass cloth and the impregnating resin, can be subjected to a heat cleaning treatment or a silane coupling agent treatment before the glass cloth is impregnated with the resin.
  • the glass cloth In the heat cleaning process, the glass cloth is heated at a high temperature for a long time in order to remove the glass fiber bundling material and the lubricant used when the glass cloth is woven.
  • the silane coupling agent treatment the affinity between the glass cloth and the impregnating resin is increased by treating the surface of the glass cloth with the silane coupling agent in advance. Specific processing conditions for the heat cleaning process and the silane coupling agent process will be described later.
  • the protective layer may be formed in the surface on the opposite side to the surface in which the organic EL element main-body part 1 of the glass cloth base material 2a is provided.
  • the protective layer is a constituent member of the light extraction sheet 2 and is provided on the surface of the glass cloth substrate 2a.
  • the protective layer may be provided only on one side of the glass cloth substrate 2a, or may be provided on both sides. Further, the protective layer can be omitted.
  • the material of the protective layer is not particularly limited, and for example, inorganic resins (silica and the like), vinyl chloride resins, vinyl ester resins, fluorine resins, acrylic resins, and the like are applicable.
  • additives such as saccharides (monosaccharides, oligosaccharides, polysaccharides, etc.) may be included.
  • the monosaccharide itself may be contained from the beginning, or a monosaccharide produced by a polysaccharide degrading enzyme added together with an oligosaccharide or a polysaccharide may be contained.
  • saccharide examples include cyclodextrin, chitosan, pullulan and the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.
  • the polysaccharide-degrading enzyme may be, for example, a glycosyltransferase (for example, cyclodextrin glucosyltransferase) in addition to an enzyme that decomposes a polysaccharide into a monosaccharide (for example, chitosanase, pullulanase, amylase, etc.).
  • the physical properties of the light extraction sheet 2 are not particularly limited.
  • the haze value of the light extraction sheet 2 is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and further preferably 90% or more. By setting the haze value within this range, better light extraction efficiency can be achieved. Higher haze value is achieved by controlling the type, fineness, woven density, etc. of the glass cloth, or the impregnating resin type (refractive index, etc.) and processing conditions to make the structure finer. Can be.
  • the haze value (cloudiness value) can be calculated using the following formula (1).
  • Haze value (%) ⁇ diffuse transmittance (%) / total light transmittance (%) ⁇ ⁇ 100 (1)
  • the haze value can be measured by the method described in JIS K-7136 “Plastics—How to determine haze of transparent material”.
  • the total light transmittance (total light transmittance) of the light extraction sheet 2 is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, and further preferably 60% or more. By setting the total light transmittance within this range, better light extraction efficiency can be achieved.
  • the total light transmittance can be measured by the method described in JIS K-7361-1 “Testing method of total light transmittance of plastic-transparent material”.
  • the thickness of the light extraction sheet 2 can be, for example, 0.1 mm or more and 0.5 mm or less. By setting the thickness of the light extraction sheet 2 within this range, an organic EL element with better weather resistance, flexibility, and light extraction efficiency can be produced.
  • seat 2 can be 100 g or more and 500 g or less as mass per 1 m ⁇ 2 >, for example.
  • an organic EL element with better weather resistance, flexibility, and light extraction efficiency can be produced.
  • the organic EL element 10 of the present embodiment includes the light extraction sheet 2 including a glass cloth.
  • the organic EL element 10 of the present embodiment includes the organic EL element body 1, the sealing material 3, and the adhesive layer 4 shown in FIG. 1.
  • emitted light is extracted from the anode (first electrode) 12 side.
  • the extraction direction of the emitted light is not limited to this, and the emission light may be extracted from the cathode (second electrode) 14 side, or may be extracted from both the anode 12 and the cathode 14 side.
  • the light extraction sheet 2 may be provided outside the cathode 14. Further, when light is extracted from both sides of the anode 12 and the cathode 14, the light extraction sheet 2 may be provided on both sides of the outside of the anode 12 and the outside of the cathode 14.
  • Organic EL element body 1 is an organic compound that is disposed between an electrode composed of an anode 12 and a cathode 14 and between the anode 12 and the cathode 14 and emits light when a voltage is applied between both electrodes (the anode 12 and the cathode 14).
  • the layer 13 is provided.
  • the light extracted from the organic EL element 10 is usually light emitted from the organic EL element body 1.
  • the organic EL element body 1 usually includes various organic layers such as a carrier (hole and electron) injection layer, a blocking layer, and a transport layer, in addition to a light emitting layer that directly participates in light emission. And the organic EL element main-body part 1 is normally comprised by laminating
  • the organic compound layer 13 is as follows.
  • the layers described above are usually provided on the anode side, and are laminated on the cathode side in the following order.
  • (1) Light emitting layer / electron transport layer (2) Hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer (3) Hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer (4) Hole transport layer / Light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer (cathode buffer layer) (5) Hole injection layer (anode buffer layer) / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer (6) Hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron Transport layer / electron injection layer
  • each part which comprises the organic EL element main-body part 1 is demonstrated.
  • the configuration of the organic EL element body 1 is not limited to the following contents.
  • the element substrate 11 can be formed of a transparent material such as glass or plastic. And it is preferable that the element board
  • substrate 11 is comprised with flexible base materials, such as thin film glass and a transparent resin film.
  • the element substrate 11 is preferably made of a transparent resin material. Therefore, the element substrate 11 is preferably composed of a transparent resin film.
  • polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane (registered trademark), cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), and cellulose.
  • Cellulose esters such as acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin , Polymethylpentene, polyetherketone, polyimide, polyethersulfone (PES), polyphenyle Sulfide, polysulfone, polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, polymethyl methacrylate, polyacrylic ester, polyarylate, Arton (registered trademark, manufactured by JSR) or Appel (registered trademark, manufactured by Mitsui Chemicals) And the like. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.
  • CAP cellulose acetate propionate
  • cellulose acetate phthalate cellulose nitrate or derivative
  • the gas barrier layer described below is formed on the surface of the transparent resin film.
  • Gas barrier layer It is preferable that one or two or more gas barrier layers are formed between the element substrate 11 and the organic compound layer 12 from the viewpoint of moisture resistance. In FIG. 1, the gas barrier layer is not shown.
  • the water vapor permeability is preferably 0.01 g / (m 2 ⁇ day) or less. Furthermore, it is preferably a high barrier layer having an oxygen permeability of 10 ⁇ 3 ml / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less and a water vapor permeability of 10 ⁇ 5 g / (m 2 ⁇ day) or less.
  • the water vapor permeability can be measured by the MOCON method according to JIS K7129B (1992), and the oxygen permeability can be measured by the MOCON method according to JIS K7126B (1987).
  • the material for forming the gas barrier layer is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic film, an organic film, or a hybrid film of both.
  • a material having a function of suppressing entry of an element that causes deterioration of the element such as moisture or oxygen is preferable.
  • a metal oxide such as silicon oxide or silicon dioxide, a metal nitride such as silicon nitride, or the like can be used.
  • the order in which the inorganic layer and the organic layer are stacked is not particularly limited, but it is preferable to stack the layers alternately a plurality of times.
  • the method for forming the gas barrier layer is not particularly limited.
  • a plasma CVD (chemical vapor deposition) method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.
  • the anode 12 is an electrode film that supplies (injects) holes to the organic compound layer 1 (specifically, the light emitting layer).
  • the material type and physical properties of the anode 12 are not particularly limited and can be arbitrarily set.
  • the anode 12 can be formed of a material having a high work function (4 eV or more), for example, an electrode material such as a metal, an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof.
  • the anode 12 may be made of a light-transmitting material (transparent electrode) such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide.
  • the refractive index of the anode 12 is arbitrary, but is preferably 1.5 or more, more preferably 1.55 or more, and is preferably 2 or less, more preferably 1.85 or less.
  • the surface resistance of the anode 12 is arbitrary, but is several hundred ⁇ / sq. The following values are preferred.
  • the film thickness of the anode 12 is also arbitrary and cannot be generally described because it varies depending on the material to be formed. However, it is usually 10 nm or more and 1000 nm or less, and preferably 200 nm or less.
  • Organic compound layer 13 normally includes various organic layers such as a carrier (hole and electron) injection layer, a blocking layer, and a transport layer in addition to the light emitting layer.
  • a carrier hole and electron
  • transport layer in addition to the light emitting layer.
  • the light emitting layer includes holes injected directly from the anode 12 or from the anode 12 via a hole transport layer or the like, and electrons injected directly from the cathode 14 or from the cathode 14 via an electron transport layer or the like.
  • a layer that emits light by recombination may be inside the light emitting layer, or may be an interface between the light emitting layer and a layer adjacent thereto.
  • the light emitting layer is preferably formed of an organic light emitting material including a host compound (host material) and a light emitting material (light emitting dopant compound).
  • a host compound host material
  • a light emitting material light emitting dopant compound
  • Arbitrary emission colors can be obtained by appropriately adjusting the emission wavelength of the light emitting material, the type of the light emitting material to be contained, and the like with the light emitting layer having such a structure.
  • by configuring the light emitting layer in this way light can be emitted from the light emitting material in the light emitting layer.
  • the total thickness of the light emitting layer can be set as appropriate according to, for example, desired light emission characteristics.
  • the total thickness of the light emitting layer is 1 nm or more and 200 nm or less from the viewpoints of uniformity of the light emitting layer, prevention of unnecessary application of a high voltage during light emission, and improvement of stability of light emission color with respect to driving current. It is preferable to do.
  • the total thickness of the light emitting layers is preferably 30 nm or less.
  • the host compound contained in the light emitting layer is preferably a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission at room temperature (25 ° C.) of 0.1 or less, more preferably 0.01 or less.
  • the volume ratio of the host compound in the light emitting layer is preferably 50% or more of various compounds contained in the light emitting layer.
  • the light emitting material contained in the light emitting layer for example, a phosphorescent light emitting material (phosphorescent compound, phosphorescent light emitting compound), a fluorescent light emitting material, or the like can be used.
  • one light emitting layer may contain one kind of light emitting material, or may contain a plurality of kinds of light emitting materials having different light emission maximum wavelengths.
  • a plurality of types of light emitting materials a plurality of lights having different emission wavelengths can be mixed to emit light, whereby light of any emission color can be obtained.
  • white light can be obtained by including a blue light emitting material, a green light emitting material, and a red light emitting material (three kinds of light emitting materials) in the light emitting layer.
  • the injection layer is a layer for reducing the drive voltage and improving the light emission luminance.
  • the injection layer is usually provided between the electrode and the light emitting layer.
  • the injection layer is generally roughly divided into two. That is, the injection layer is roughly classified into a hole injection layer that injects holes (carriers) and an electron injection layer that injects electrons (carriers).
  • the hole injection layer anode buffer layer
  • the electron injection layer cathode buffer layer
  • the cathode buffer layer is provided between the cathode 14 and the light emitting layer or the electron transport layer.
  • the blocking layer is a layer for blocking the transport of carriers (holes, electrons).
  • the blocking layer is generally roughly divided into two. That is, the blocking layer is broadly classified into a hole blocking layer that blocks hole (carrier) transport and an electron blocking layer that blocks electron (carrier) transport.
  • the hole blocking layer is a layer having the function of an electron transport layer (electron transport function) described later in a broad sense.
  • the hole blocking layer is formed of a material having an electron transport function and a small hole transport capability.
  • the structure of the electron carrying layer mentioned later is applicable similarly as needed.
  • the hole blocking layer is preferably provided adjacent to the light emitting layer.
  • the electron blocking layer is a layer having a function of a hole transport layer (hole transport function) described later in a broad sense.
  • the electron blocking layer is formed of a material having a hole transport function and a small electron transport capability.
  • the thickness of the blocking layer is not particularly limited, but is preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and preferably 100 nm or less, more preferably 30 nm or less.
  • the transport layer is a layer that transports carriers (holes and electrons).
  • the transport layer is generally roughly divided into two. That is, the transport layer is roughly classified into a hole transport layer that transports holes (carriers) and an electron transport layer that transports electrons (carriers).
  • the hole transport layer is a layer that transports (injects) holes supplied from the anode 12 to the light emitting layer.
  • the hole transport layer is provided between the anode 12 or the hole injection layer and the light emitting layer.
  • the hole transport layer also acts as a barrier that prevents the inflow of electrons from the cathode 14 side. Therefore, the term hole transport layer may be used in a broad sense to include a hole injection layer and / or an electron blocking layer. Note that only one hole transport layer may be provided or a plurality of layers may be provided.
  • the electron transport layer is a layer that transports (injects) electrons supplied from the cathode 14 to the light emitting layer.
  • the electron transport layer is provided between the cathode 14 or the electron injection layer and the light emitting layer.
  • the electron transport layer also acts as a barrier that prevents holes from flowing in from the anode 12 side. Therefore, the term electron transport layer may be used in a broad sense to include an electron injection layer and / or a hole blocking layer. Note that only one electron transport layer or a plurality of electron transport layers may be provided.
  • Electron transport material (hole blocking) used in the electron transport layer (when the electron transport layer has a single layer structure, the electron transport layer, and when multiple electron transport layers are provided, the electron transport layer located closest to the light emitting layer)
  • the material may also serve as a material.
  • the electronic material used for the electron transport layer a material having a function of transmitting (transporting) electrons injected from the cathode 14 to the light emitting layer is usually applicable.
  • the cathode 14 is an electrode film that supplies (injects) electrons to the light emitting layer.
  • the material which comprises the cathode 14 is not restrict
  • the cathode 14 when light is extracted from the cathode 14 side, can be formed of a light-transmitting electrode material like the anode 12.
  • a metal film made of an electrode material for forming a cathode so as to have a film thickness of 1 nm or more and 20 nm or less
  • a film made of a conductive transparent material described in the anode 12 is formed on this metal film.
  • a transparent or translucent cathode 14 can be formed.
  • the sealing material 3 protects the organic EL element body 1 and the like from the outside air.
  • the specific configuration of the sealing material 3 is not particularly limited. However, when a flexible material is used as the sealing material 3, the sealing material 3 is preferably formed by laminating a resin layer and a gas barrier layer.
  • the thickness of the sealing material 3 is not particularly limited. However, in consideration of handleability during manufacturing, tensile strength, stress cracking resistance of the gas barrier layer, and the like, 10 ⁇ m or more 300 ⁇ m or less is preferable. In addition, the thickness of the sealing material 3 here can be measured using a micrometer, and the vertical direction (direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1) and the width direction (the paper surface in FIG. 1) of the sealing material 3. It is set as the average value which measured 10 places each in the horizontal direction.
  • the flexible member applicable to the sealing material 3 is not particularly limited. Specifically, for example, ethylene tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), high density polyethylene (HDPE), stretched polypropylene (OPP), polystyrene (PS), polymethyl methacrylate (PMMA), stretched nylon (ONy), Examples thereof include thermoplastic resin film materials used for various packaging films such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyimide, and polyethersulfone (PES). One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination.
  • thermoplastic resin films a multilayer film produced by coextrusion with a different film, a multilayer film produced by bonding with different stretching angles, etc. can be used as necessary. Furthermore, in order to obtain desired physical properties, it is also possible to produce by combining the density and molecular weight distribution of the film used.
  • the gas barrier layer is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic vapor deposition film and a metal foil.
  • the inorganic deposited film the thin film handbook pages 879 to 901 (Japan Society for the Promotion of Science), vacuum technology handbook pages 502 to 509, pages 612 and 810 (Nikkan Kogyo Shimbun), vacuum handbook revised edition pages 132 to 134 Inorganic vapor-deposited films as described on page (ULVAC, Japan Vacuum Technology KK) can be mentioned.
  • Examples of the material for the inorganic vapor deposition film include metals such as In, Sn, Pb, Au, Cu, Ag, Al, Ti, and Ni, MgO, SiO, SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO, NiO, CaO, and BaO.
  • metal foil As a material of metal foil, metal materials, such as Al, Cu, Ni, alloy materials, such as stainless steel and an aluminum alloy, etc. are mentioned, for example. One of these may be used alone, or two or more thereof may be used in any ratio and combination. Among these, as the metal foil, aluminum is preferable from the viewpoint of workability and cost.
  • the film thickness of the gas barrier layer is not particularly limited.
  • the film thickness is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 300 nm. It is as follows.
  • the film thickness is usually 1 ⁇ m or more, preferably 10 ⁇ m or more, more preferably 20 ⁇ m or more, from the viewpoint of handling at the time of manufacturing and panel thinning. Usually, it is 2 mm or less, preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or less.
  • the water vapor permeability of the gas barrier layer is 0.01 g / (m 2) in consideration of crystallization of the organic compound layer 1, generation of dark spots due to peeling of the cathode 14, long life of the organic EL element 10, and the like. -Day) It is preferable that it is below.
  • the water vapor permeability can be measured mainly by the MOCON method by a method based on the JIS K7129B method (1992).
  • the oxygen permeability of the gas barrier layer is 0.01 ml / (m 2) in consideration of crystallization of the organic compound layer 1, generation of dark spots due to peeling of the cathode 14, extension of the lifetime of the organic EL element 10, and the like. ⁇ Day ⁇ atm) or less.
  • the oxygen permeability is a value mainly measured by the MOCON method by a method based on the JIS K7126B method (1987).
  • a protective layer may be provided on the gas barrier layer.
  • the resin layer suitably laminated on the gas barrier layer may be a single resin layer or a layer in which a plurality of resins are laminated.
  • the gas barrier layer may be a single layer, or a plurality of gas barrier layers may be laminated.
  • the adhesive layer 4 is a layer for bonding and fixing the organic EL element body 1 and the light extraction sheet 2 or the organic EL element body 1 and the sealing material 3 (see FIG. 1).
  • the light extraction sheet 2 is installed outside the cathode 14, outside the anode 12, or both sides of the cathode 14 and the anode 12 according to the difference in the configuration from which light is extracted. Therefore, the adhesive layer 4 is also provided between the organic EL element body 1 and the light extraction sheet 2 according to the difference in each configuration.
  • the adhesive layer 4 is usually formed by applying an adhesive and solidifying it. Moreover, you may use the adhesive agent and adhesive which were previously shape
  • Such an adhesive is not particularly limited, and examples thereof include a photocurable liquid adhesive and a thermosetting liquid adhesive.
  • adhesives include, for example, photo-curing and thermosetting sealing agents having reactive vinyl groups of acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, moisture-curing adhesives such as 2-cyanoacrylic acid esters, Examples thereof include epoxy-based heat and chemical curing type (two-component mixed) adhesives, cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesives, and the like.
  • the objects to be bonded may be variously different, such as the organic EL element body 1, the light extraction sheet 2, the sealing material 3, and the like.
  • the type of adhesive, the bonding method, the bonding conditions, and the like of the bonding layer 4 can be changed.
  • a filler is added to the adhesive in order to lower the water vapor permeability of the adhesive.
  • the addition amount is not particularly limited, but considering the adhesive strength, it is preferably 5% by volume or more, and preferably 70% by volume or less based on the total amount of the adhesive.
  • the size of the filler to be added is not particularly limited, but is preferably 1 ⁇ m or more and preferably 100 ⁇ m or less in consideration of the adhesive strength, the adhesive thickness after bonding and the like.
  • the filler to be added include soda glass, alkali-free glass or silica, metal oxides such as titanium dioxide, antimony oxide, titania, alumina, zirconia, and tungsten oxide.
  • the adhesive layer 4 is formed, for example, by applying and solidifying the adhesive.
  • the application of the liquid adhesive is 1 ⁇ 10 from the viewpoints of bonding stability, prevention of air bubbles from being mixed into the bonding portion, and maintaining the flatness of the flexible member. It is preferably performed under a reduced pressure of ⁇ 2 Pa or more and 10 Pa or less.
  • the organic EL element of this embodiment is formed by laminating an adhesive, an organic compound layer 1, an adhesive, and a sealing material 3 on a light extraction sheet 2 including a glass cloth substrate 2a and solidifying the adhesive.
  • a specific method for manufacturing each of these layers any known method can be applied, and the description thereof is omitted.
  • the light extraction sheet of the organic EL element of the present embodiment includes the glass cloth base material 2a, and the glass cloth constituting the glass cloth base material 2a is subjected to predetermined treatment in advance as described below. It is preferable that it has been applied.
  • the glass cloth is mainly subjected to heat cleaning treatment, silane coupling agent treatment, and impregnation treatment. That is, first, the glass cloth is preferably heat cleaned (heat cleaning treatment). The heat-cleaned glass cloth is preferably treated with a silane coupling agent (silane coupling agent treatment). Furthermore, the glass cloth treated with the silane coupling agent is subjected to a treatment for impregnating the impregnating resin (impregnation treatment). Therefore, it is preferable that the glass cloth subjected to these treatments is included in the light extraction sheet for organic EL elements of the present embodiment. Hereinafter, each of these processes will be described.
  • Heat cleaning process In the heat cleaning process, the glass cloth is heat cleaned. Specifically, the glass cloth is heated at a predetermined temperature for a predetermined time. By this treatment, it is possible to remove sizing agents, lubricants and the like adhering to the glass cloth.
  • the conditions for the heat cleaning treatment are not particularly limited, but for example, it is heated to about 300 ° C. to 400 ° C. using a heating furnace.
  • the treatment time is not particularly limited, but is usually 24 hours or longer, preferably 48 hours or longer, and is usually 120 hours or shorter, preferably 96 hours or shorter.
  • silane coupling agent treatment In the silane coupling agent treatment, the glass cloth is treated with a silane coupling agent. By this treatment, the surface of the glass cloth is modified, and the adhesiveness with the impregnating resin or adhesive can be improved.
  • the kind of silane coupling agent is not particularly limited and can be selected and used as appropriate.
  • the conditions for the silane coupling agent treatment are not particularly limited, but it is usually carried out by a method of adhering to a glass cloth and drying using a solution in which the silane coupling agent is dissolved (silane coupling agent solution). Thereby, a silane coupling agent adheres or is fixed to the glass cloth surface.
  • the solvent for dissolving the silane coupling agent is not particularly limited.
  • water lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, and isobutyl alcohol, ethers such as isopropyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane. Etc. can be used. Only 1 type may be used for these and 2 or more types may be used by arbitrary ratios and combinations.
  • the concentration of the silane coupling agent solution is not particularly limited, but is usually 0.01% by mass or more, preferably 0.1% by mass or more, and usually 20% by mass or less, preferably 5% by mass. It is as follows. By impregnating the glass cloth with the silane coupling agent solution, the silane coupling agent can be attached to the glass cloth, and then the glass cloth is dried to be treated with the silane coupling agent.
  • the impregnation resin is attached to the glass cloth to fix the form.
  • the glass cloth is treated with the impregnating resin by immersing the glass cloth in a solution containing the impregnating resin and then drying the glass cloth.
  • the drying conditions are not particularly limited, but for example, the drying treatment can be performed at 25 ° C. for about 24 hours. In this way, a glass cloth having an impregnated resin attached thereto is produced. And the glass cloth produced in this way is used suitably for the organic EL element of this embodiment.
  • a plain weave glass cloth was woven so that the weft density of the warp was 44/25 mm and the weave density of the weft was 35/25 mm. Thereafter, the glass cloth is heated at 400 ° C. for 72 hours to perform a heat cleaning treatment, and further, a silane coupling agent treatment is performed using methacryloxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent. Glass cloth P was prepared. The thickness of the obtained glass cloth P was 180 ⁇ m. Note that both the ultraviolet transmittance and the visible light transmittance were measured in accordance with ISO9050.
  • a vinyl chloride resin manufactured by Kaneka Co., Ltd., trade name: Kanebilak
  • a vinyl chloride resin mainly composed of a copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate
  • a vinyl chloride resin solution diluted in a portion was prepared.
  • the glass cloth impregnated with the resin composition by impregnating the vinyl chloride resin solution into the glass cloth P subjected to the heat cleaning treatment and the silane coupling agent treatment, drying at 120 ° C., and volatilizing methyl ethyl ketone. was made.
  • the adhesion amount of the resin composition after drying was 30 g / m 2 .
  • a transparent soft vinyl chloride sheet (Mitsubishi Chemical MKV, trade name: Artron GX446V6) with a thickness of 80 ⁇ m was pasted on both sides of the glass cloth impregnated with this resin composition as a protective layer, and heated at 110 ° C. The surface was laminated by heating and pressing to produce a light extraction sheet a.
  • a glass cloth P used in the light extraction sheet a is impregnated with a solution of impregnating resin (solid content concentration of 30% by mass), and then the impregnated material is dried under a drying condition of 120 ° C. ⁇ 2 minutes. Produced.
  • the amount of impregnated resin deposited after drying was 30 g / m 2 .
  • a PFA film having a thickness of 25 ⁇ m (manufactured by Daikin Industries, Ltd., product name: NEOFLON PFA film) as a protective layer is laminated on one side of the obtained PTFE resin-impregnated glass cloth by a thermal lamination method to obtain a light extraction sheet d.
  • a PFA film having a thickness of 25 ⁇ m manufactured by Daikin Industries, Ltd., product name: NEOFLON PFA film
  • Acrylic polyol resin (Acridic 49-394IM, solid content 60%, manufactured by DIC Corporation): 32 parts by mass, silica resin particles (average particle size 27.2 ⁇ m): 180 parts by mass, silicone resin particles (average particle size 30. 0 ⁇ m): 40 parts by mass, butyl acetate: 215 parts by mass was applied to a PET film having a thickness of 100 ⁇ m to prepare a light extraction sheet f.
  • E glass component—SiO 2 ; 55 mass%, Al 2 O 3 ; 14 mass%, CaO; 23 mass%, MgO; 1 mass%, R 2 O; 0.6 mass%, B 2 O 3 ; 6 mass
  • R is an alkali metal
  • two glass fiber bundles having a monofilament diameter of 6 ⁇ m, the number of monofilaments of 800, and 67.5 tex were twisted together to produce glass fibers.
  • a plain weave glass cloth was woven so that the weft density of the warp was 44/25 mm and the weave density of the weft was 35/25 mm.
  • a heat cleaning treatment was performed on the glass cloth, and further a silane coupling agent treatment was performed using methacryloxypropyltrimethoxysilane as a silane coupling agent to produce a glass cloth R for a light extraction sheet.
  • the thickness of the obtained glass cloth R was 180 ⁇ m.
  • a transparent soft vinyl chloride sheet was laminated on both sides as a protective layer to prepare a light extraction sheet g.
  • Example 1 (Production of element substrate) First, an element substrate with a gas barrier layer including a silicon nitride film as a gas barrier layer on the surface of the element substrate was manufactured using a CVD apparatus that performs film formation by plasma CVD under the following conditions.
  • a PET film having a thickness of 188 ⁇ m (polyethylene terephthalate film “Luminais” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.) was used.
  • the element substrate was set at a predetermined position in the vacuum chamber, and the vacuum chamber was sealed.
  • the vacuum chamber was evacuated, and when the pressure reached 0.01 Pa, silane gas, ammonia gas, and nitrogen gas were introduced as reaction gases. Note that at 1013 hPa and 25 ° C., the flow rate of silane gas was 50 mL / min, the flow rate of ammonia gas was 100 mL / min, and the flow rate of nitrogen gas was 150 mL / min. And the exhaust_gas
  • a silicon nitride layer was formed as a gas barrier layer with a thickness of 100 nm on the surface of the element substrate.
  • an element substrate having a gas barrier property with an oxygen permeability of 0.01 ml / (m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less and a water vapor permeability of 0.01 g / (m 2 ⁇ day) or less was produced.
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • ITO is patterned by a photolithography method, on which an organic compound layer and a cathode are formed by a vacuum evaporation method in accordance with the method described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-269962.
  • An organic EL element body was produced.
  • the organic EL element main body thus obtained is a four-part light emission pattern having a light emission pattern of 20 mm ⁇ 16.5 mm ⁇ 4 pixels (a total area of 41 ⁇ 34 mm for four pixels).
  • a sealing material was prepared by laminating a 30 ⁇ m thick aluminum foil as a gas barrier layer on a 50 ⁇ m thick polyethylene terephthalate film.
  • thermosetting adhesive struct bond E-413 manufactured by Mitsui Chemicals
  • thermosetting adhesive struct bond E-413 manufactured by Mitsui Chemicals
  • the organic EL element body was laminated so that the adhesive-coated surface of the light extraction sheet a and the element substrate of the produced organic EL element body were in contact.
  • pressure bonding was performed at 100 ° C. for 60 seconds with a pressing force of 0.1 MPa.
  • the organic EL element A was produced by heating at 100 ° C. for 30 minutes as a curing treatment.
  • Example 2 In Example 1, the light extraction sheet a was changed to the light extraction sheet b, and an organic EL element B was produced under the same conditions as the others.
  • Example 3 In Example 1, the light extraction sheet a was changed to the light extraction sheet c, and an organic EL element C was produced under the same conditions as the others.
  • Example 4 In Example 1, the light extraction sheet a was changed to the light extraction sheet d, and the organic EL element D was produced under the same conditions as the others.
  • Example 1 the organic EL element E was produced under the same conditions except that the light extraction sheet a was not used and only the sealing material was adhered.
  • Example 2 In Example 1, the light extraction sheet a was changed to the light extraction sheet f, and the organic EL element F was fabricated under the same conditions as the others.
  • Example 3 In Example 1, the light extraction sheet a was changed to the light extraction sheet g, and the organic EL element G was manufactured under the same conditions as the others.
  • a characteristic evaluation test was performed on the produced light extraction sheets a to d and f to g and the organic EL elements A to G. Specifically, the light extraction sheet was evaluated for its haze value and total light transmittance, and the organic EL elements A to G were evaluated for luminance characteristics, weather resistance, and flame retardancy.
  • the luminance characteristics were evaluated as follows. First, a direct current of 2.5 mA / cm 2 was passed between the anode and the cathode of the organic EL element immediately after fabrication, and the luminance (initial luminance) was measured. The luminance (cd / m 2 ) was measured using a spectral radiance meter (CS-2000 manufactured by Konica Minolta Optics).
  • the relative ratio of the luminance of the organic EL elements A to D and F to G having the light extraction sheets a to d and f to g to the luminance of the organic EL element E of Comparative Example 1 having no light extraction sheet is the light extraction efficiency ( %). It shows that the larger the light extraction efficiency, the better the performance as an organic EL element.
  • ⁇ Weather resistance evaluation 1> The organic EL elements A to G were treated in a constant temperature and humidity chamber at 85 ° C. and 85% RH for 800 hours, and then the presence or absence of yellowing was visually observed. The evaluation was made with x indicating clearly yellowing, ⁇ indicating slightly occurring, and ⁇ indicating that yellowing did not occur.
  • ⁇ Weather resistance evaluation 2> Necessary when a direct current of 2.5 mA / cm 2 is applied after subjecting the organic EL elements A to G to a forced deterioration treatment for 500 hours without a UV cut filter using a sunshine weather meter. The voltage was measured and the difference (V) from the value before forced deterioration was calculated. The smaller the value, the better the weather resistance.
  • each of the organic EL elements A to D of Examples 1 to 4 has a light extraction efficiency exceeding 150%, and each is excellent by using a predetermined light extraction sheet.
  • the light extraction efficiency can be realized.
  • none of the organic EL elements A to D cause yellowing after the high temperature and high humidity treatment, and the voltage increase after the treatment by the sunshine weather meter is small, and has excellent weather resistance. I found out.
  • Comparative Example 3 is an organic EL element G using a light extraction sheet g having a glass cloth R made of E glass, but the light extraction efficiency and flame retardancy are comparable to those of the organic EL elements A to D, but the sunshine The increase in voltage after treatment with a weather meter was large, and the weather resistance as an organic EL element was poor.
  • an organic EL device having both good light extraction efficiency and excellent weather resistance and excellent flame retardancy can be provided.

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Abstract

光取り出し効率と耐候性において優れた性能を有した有機エレクトロルミネッセンス素子（１０）と有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート（２）を提供する。素子基板（１１）、該素子基板上に形成された第１電極（１２）、該第１電極上に形成されかつ発光層を含む有機化合物層（１３）、及び該有機化合物層上に形成された第２電極（１４）を有する有機エレクトロルミネッセンス素子本体部（１）と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子本体部の光取り出し面側に光取り出しシート（２）とを備え、前記光取り出しシート（２）は、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対してＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計２．５質量部以上含有するガラス繊維を用いたガラスクロス（２ａ）を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子（１０）。

Description

有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート
　本発明は、ディスプレイ、照明器具等に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシートに関する。
　有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」と記載する。）素子を用いた照明（以下、「有機ＥＬ照明」と記載する。）は、自発光型の照明装置であり、各種ディスプレイ、液晶ディスプレイ用バックライト、平面型照明等の用途向けに、盛んに研究開発が行われている。また、有機ＥＬ素子を用いたディスプレイ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、ブラウン管ディスプレイや液晶ディスプレイと比較して、視認性が高く、視野角依存性が少ないといった優れた表示性能を有している。また、有機ＥＬディスプレイは、薄膜化や軽量化が可能であるという利点も有する。
　これらの中でも、有機ＥＬ照明は、指向性の高い点光源であるＬＥＤを用いたＬＥＤ照明とは異なり、均一な面光源であり、薄膜化や軽量化が可能であり、部品点数を少なくすることができるといった利点がある。また、有機ＥＬ照明においては、可撓性の基板を用いることにより、従来は実現が困難であった形状の照明を実現することができる可能性がある。
　有機ＥＬ照明は、複数の部材により構成されている。具体的には、有機ＥＬ照明は、透明基板の片側表面に、陽極、発光層を含む有機化合物層、陰極等がこの順で設けられて、有機ＥＬ面発光体として形成されている。陽極及び陰極間に電圧が印加されると、有機化合物層が発光する。そして、有機化合物層が発光して出射された光は、透明基板等の複数の部材を透過して外部へ放射されるようになっている。
　有機化合物層から出射された光が外部に放射される際、出射された光は、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度によっては全反射を起こし、装置内部を導波することがある。この現象が生じると、出射された光は外部に放射されないことになる。即ち、出射された光は、部材間の屈折率の差による全反射等により減衰し、効率よく外部へ放射されないこととなる。
　そこで、有機化合物層からの光の取り出し効率を向上させる技術として、例えば特許文献１及び２に記載の技術が知られている。特許文献１に記載の面照明装置は、集光機能を有した光学シートを備えている。この光学シートは、例えば、透明な合成樹脂の基材層と合成樹脂バインダー中にビーズが分散した光学層とを有している。また、特許文献２に記載の光学フィルムは、硬化性樹脂からなる凹凸構造部を有し、種々の凹凸単位形状が繰り返し配列してなる形状を有することにより、光取り出し効率を向上させている。
特開２００３－１００４４４号公報 特開２０１２－００３０７４号公報
　しかしながら、上記の特許文献１及び２に開示された光学シートや光学フィルムは、熱や光に対する耐候性が不十分である。例えば、これらの光学シートや光学フィルムを屋外の照明装置用として使用した場合には、変色が生じ、輝度が低下する場合がある。
　一方、有機ＥＬ照明が実用化に近づくにつれて、発光効率の更なる向上や、建材として屋内使用する際の高い難燃性が望まれるようになってきた。
　このように、有機ＥＬ照明においては、可撓性を維持したまま、光取り出しシートに高い難燃性と屋外用途における耐候性を付与することが求められてきている。これらの課題に対し本出願人は、光取り出しシートの基材としてガラスクロスを用いることによって、光取り出しシートに高い難燃性と屋外用途における耐候性を付与することができることを見出した。
　ところが、実際に、有機ＥＬ照明を作製して屋外で使用してみると、光取り出しシート自体の耐候性には問題は無かったが、有機ＥＬ照明の性能が低下し、負荷電圧が上昇する現象が生じることが判明した。
　本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、光取り出し効率と耐候性において優れた性能を有した有機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子用光取り出しシートを提供することを課題とする。
　本発明者は、上記課題、特に有機ＥＬ照明の耐候性に係る原因と対策について鋭意検討を進めた結果、ガラスクロスに用いられるガラス繊維の材質として特定の組成を有したガラスを採用することによって、これらの課題を解決できることを見出し、本発明に到達したものである。
　即ち、本発明は、下記の構成を有するものである。
１．素子基板、該素子基板上に形成された第１電極、該第１電極上に形成されかつ発光層を含む有機化合物層、及び該有機化合物層上に形成された第２電極を有する有機ＥＬ素子本体部と、前記有機ＥＬ素子本体部の光取り出し面側に光取り出しシートとを備え、前記光取り出しシートは、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対してＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計２．５質量部以上含有するガラス繊維を用いたガラスクロスを有することを特徴とする有機ＥＬ素子。
２．前記ガラス繊維を構成するガラスは、ＩＳＯ９０５０に規定された紫外線透過率が厚さ３．５ｍｍに換算して１３％以下であり、かつ標準光源Ａにより測定した可視光透過率が厚さ３．５ｍｍに換算して８０％以上であることを特徴とする前記１に記載の有機ＥＬ素子。
３．前記ガラスクロスは、難燃性の樹脂を含浸させたものであることを特徴とする前記１または２に記載の有機ＥＬ素子。
４．前記光取り出しシートは、ヘイズ値が７０％以上であり、かつ全光透過率が４０％以上であることを特徴とする前記１～３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
５．ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対してＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計２．５質量部以上含有するガラス繊維を用いたガラスクロスを有することを特徴とする有機ＥＬ素子用光取り出しシート。
６．ヘイズ値が７０％以上であり、かつ全光透過率が４０％以上であることを特徴とする前記５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート。
　本発明によれば、光取り出し効率と耐候性において優れた性能を有した有機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子用光取り出しシートを提供することができる。
本実施形態の有機ＥＬ素子の断面図である。
　以下、本発明を実施するための形態を説明するが、本実施形態は以下の内容に何ら制限されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で任意に変更して実施することが可能である。
［有機ＥＬ素子の構造］
　本実施形態の有機ＥＬ素子は、素子基板、該素子基板上に形成された第１電極（陽極）、該第１電極（陽極）上に形成されかつ発光層を含む有機化合物層、及び該有機化合物層上に形成された第２電極（陰極）を有する有機ＥＬ素子本体部と、前記有機ＥＬ素子本体部の光取り出し面側に光取り出しシートとを備えている。
　より具体的に説明すると、本実施形態の有機ＥＬ素子は、陽極及び陰極からなる電極と、前記陽極及び前記陰極間に配置され、前記電極間に電圧が印加されることにより発光する有機化合物層とを備える有機ＥＬ素子本体部と、前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方の電極であって、前記有機化合物層から放出された光が透過する電極の外側に設けられ、ガラスクロス基材を含んでなる光取り出しシートとを備えている。
　そこで、本実施形態の有機ＥＬ素子を、図１を参照しながら説明する。なお、図１は、本実施形態の有機ＥＬ素子の一例であり、この実施形態に限定されるものではない。
　本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、図１に示すように、光取り出しシート２上に、有機ＥＬ素子本体部１と封止材３とをこの順で積層して備えている。光取り出しシート２と有機ＥＬ素子本体部１とは接着層４により接着固定されている。有機ＥＬ素子本体部１と封止材３とは接着層４により接着固定されている。
　以下、はじめに、本実施形態の有機ＥＬ素子１０が備える光取り出しシート２について説明する。その後、本実施形態の有機ＥＬ素子１０が備える、光取り出しシート２以外の部材について説明する。
［光取り出しシート２］
　有機ＥＬ素子１０が備える光取り出しシート２は、詳細は後記する有機化合物層１３から放出された光が透過する電極（図１に示す有機ＥＬ素子１０では陽極１２）の外側に設けられ、ガラスクロス基材２ａを含んでなるものである。ただし、光取り出しシート２の形状はシート状に何ら限定されず、例えば平板状等であってもよい。光取り出しシート２は、主として、ガラスクロスからなるガラスクロス基材２ａから構成されるものであるため、それ自体耐候性に優れており、有機ＥＬ素子１０に難燃性を付与することができるものである。
〔ガラスクロス基材２ａ〕
　ガラスクロス基材２ａは、ガラスクロスからなる。ガラスクロスは、ガラス繊維が織成されて形成されているものである。このようなガラスクロスの具体的な構成や種類、添加剤等は何ら限定されず、任意のガラスクロスが適用可能である。ただし、ガラスクロスは、通常は無色のものが好適である。また、ガラスクロス基材２ａに適用可能なガラスクロスは、市販されているものであってもよく、適宜調製されたものであってもよい。また、ガラスクロスは、１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意に組み合わされて用いられてもよい。
　ガラスクロスとしては、ガラスクロスの生機、種々の加工処理が施されたガラスクロス、使用済みガラスクロス等が適用可能である。ただし、ガラスクロスとしては、加工処理が施されたガラスクロスが好ましく、中でも、ヒートクリーニング処理されたガラスクロスや、ヒートクリーニング処理された後にシランカップリング剤処理されたガラスクロスがより好ましい。これらのガラスクロスの詳細については後記する。
　ガラスクロスに用いられるガラス繊維を構成するガラスとしては、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対して、ＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計２．５質量部以上含有するガラスを用いることが必要である。このような組成を有するガラスであれば、一般に紫外線を吸収する能力が高いため、紫外線の透過量を低減させて、有機ＥＬ素子本体部が紫外線によって劣化されることを抑制することが可能となる。また、可視光線の透過率は高いため、有機ＥＬ素子本体部から出射される可視光線を外部へ放射させることが可能である。このような組成のガラスは、例えば、特開平１１－２２８１７６号公報に開示されている。
　ＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンの合計の含有量が、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対して２．５質量部以上のとき、充分な紫外線透過率低減効果を得ることが可能である。また、コストを考慮すると、ＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンの合計の含有量が、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対して４．０質量部以下であることが現実的である。
　さらに、ＣｅＯ２に換算した全セリウムの含有量は、母成分１００質量部に対して１．０～２．５質量部の範囲が好ましい。また、ＴｉＯ２に換算した全チタンの含有量は、母成分１００質量部に対して０．６～２．０質量部の範囲が好ましい。両成分がこれらの範囲内にあるときに、両成分の相乗効果が発揮され、低い紫外線透過率と高い可視光透過率との両立を図ることが可能となる。
　また、母成分であるソーダ石灰ガラスの組成は、以下の成分からなることが好ましい。ＳｉＯ２；６５～７５質量％、Ａｌ２Ｏ３；０．１～５質量％、Ｎａ２Ｏ；１０～１８質量％、Ｋ２Ｏ；０～５質量％、ＣａＯ；５～１５質量％、ＭｇＯ；０～６質量％。
　ＳｉＯ２の含有量が６５質量％以上であれば耐候性が良好であり、７５質量％以下であれば失透することが少ない。Ａｌ２Ｏ３の含有量が０．１質量％以上であれば耐水性が良好であり、５質量％以下であれば溶解性が低下することがない。Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏは原料の溶解を促進する成分であり、Ｎａ２Ｏの含有量が１０質量％以上でその効果が発揮され、１８質量％以下であれば耐候性が良好である。また、Ｋ２Ｏは必須成分ではないが含まれていてもよく、その含有量が５質量％以下であればコストが高くなることはない。
　ＣａＯ、ＭｇＯは原料の溶解を促進し耐候性を改善する成分である。ＣａＯの含有量が５質量％以上では上述の効果が発揮され、１５質量％以下であれば失透することが少ない。ＭｇＯは必須成分ではないが含まれていてもよく、その含有量が６質量％以下であれば失透することが少ない。
　さらに、ガラスクロスに用いられるガラス繊維を構成するガラスとしては、厚さ３．５ｍｍに換算して標準光源Ａにより測定した可視光透過率をＴＶＡ、厚さ３．５ｍｍに換算してＩＳＯ９０５０に規定された紫外線透過率をＴＵＶとした場合に、ＴＵＶが１３％以下であり、ＴＶＡが８０％以上であることが望ましい。好ましくはＴＵＶが１２％以下であり、またＴＶＡが８５％以上である。このような可視光透過率及び紫外線透過率の性能を有するガラスを用いることにより、光取り出し効率を向上させ、耐候性を向上させることが可能となる。ガラス繊維に一般的に使用されているＥガラスでは、上記の可視光透過率及び紫外線透過率の性能を満足することは困難である。
　但し、ガラスクロスは、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対し、ＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計で２．５質量部以上含有するガラスから構成されるガラス繊維のみを用いて製造されていてもよい。またガラスクロスは、有機ＥＬ素子としての光取り出し効率と耐候性とを十分満足している限りにおいては、他の組成を有するガラスから構成されるガラス繊維とを併用して製造されていてもよい。
　他の組成を有するガラスの具体例としては、Ｅガラス、Ｄガラス、Ｔガラス、Ｃガラス、ＥＣＲガラス、Ａガラス、Ｌガラス、Ｓガラス、ＹＭ３１－Ａガラス、Ｈガラス等が挙げられる。上記の各種組成のガラスから構成される繊維は、任意の製造方法に従って製造されたものでもよく、市販品を用いてもよい。
　また、ガラス繊維は、長繊維及び短繊維のいずれを用いてもよい。
　ガラス繊維が長繊維の場合には、例えば、ガラス繊維を適宜引き揃えて固めたものが使用可能である。ただし、この場合、ガラス繊維は、撚りがかけられていることが好ましい。撚り数は特に制限されないが、例えば、１００ｃｍあたり、２０回以上２００回以下のものを使用することができる。撚り方向としては、右撚り（Ｓ撚り）、左撚り（Ｚ撚り）のいずれであってもよい。また、撚り糸の形態としては、例えば、片撚り糸、諸撚り糸、ビッコ諸撚り糸、飾撚り糸、壁撚り糸、駒撚り糸等が挙げられる。
　また、ガラス繊維が短繊維の場合には、例えば、ガラス繊維に対して撚りをかけて、つなぎ合わせた糸、即ち紡績糸が使用可能である。撚りの程度としては、長繊維の場合と同様の事項が適用可能である。
　また、ガラス繊維の繊度（番手）は、特に制限されないものの、通常は１ｔｅｘ以上、好ましくは５ｔｅｘ以上である。また、ガラス繊維の繊度は、通常は１０００ｔｅｘ以下、好ましくは８５０ｔｅｘ以下、より好ましくは２００ｔｅｘ以下、特に好ましくは１５０ｔｅｘ以下である。
　ガラス繊維を用いてガラスクロスを製造する際、ガラスクロスの織成方法としては、任意の方法が適用可能である。織組織としては、例えば、平織、綾織、斜文織、からみ織、朱子織、三軸織、横縞織等が挙げられる。織機としては、例えばジェット織機（例えばエアージェット織機、ウォータージェット織機）、スルザー織機、レピヤー織機等の織機を用いることができる。織成は、これらを適宜組み合わせて行ってもよい。
　ガラスクロスの織密度は、経糸、緯糸共に、１０本／２５ｍｍ以上が好ましく、４０本／２５ｍｍ以上がより好ましく、また、８０本／２５ｍｍ以下が好ましく、６０本／２５ｍｍ以下がより好ましい。ガラスクロスの織密度をこの範囲に設定することにより、ガラスクロスの空隙部を小さくすることができるとともに、十分な引張強度を得ることができる。また、ガラスクロスの可撓性及び柔軟性を十分なものにすることができるとともに、取り扱い性を向上させることができる。
〔含浸樹脂〕
　ガラスクロスはそのままでは取扱性、機械的強度が十分ではないため、必要に応じて、樹脂を含浸させて形態を固定化させることができる。含浸させる樹脂としては、種々の樹脂が使用し得るが、燃焼性の観点からは難燃性樹脂が好ましい。難燃性樹脂としては、塩化ビニル系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン系樹脂等のフッ素系樹脂、シリカ系無機樹脂等が好ましく用いられるが、光透過性を損なわない範囲で難燃剤を添加しても良い。また光透過性を損なわない範囲で難燃剤を添加した酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂、シリコーン系樹脂等の樹脂も用いることができる。難燃性樹脂を用いてガラスクロスを含浸処理することにより、有機ＥＬ素子や有機ＥＬ素子用光取り出しシートとしての難燃性のさらなる向上を図ることができる。
　これらの含浸樹脂は、１種類の樹脂を単独で用いてもよく、２種類以上の樹脂を任意の比率及び組み合わせで、混合して用いたり、同種や異種の樹脂を複数回に分けて含浸させてもよい。ガラスクロスに樹脂を含浸させた後、後記するように、ガラスクロス表面に更に保護層を設置しても良い。また、必要に応じて、含浸樹脂に紫外線吸収剤や酸化防止剤等を添加してもよい。
　ガラスクロスに含浸樹脂を含浸させる方法は、公知の方法を用いることができ、特に制限されるわけではない。例えば、含浸樹脂を溶解させた溶液にガラスクロスを浸漬させて溶液を付着させた後に溶剤を乾燥・除去する方法や、含浸樹脂を溶融させた融液にガラスクロスを浸漬させて含浸樹脂を付着させる方法や、含浸樹脂のパウダーをガラスクロスに付着させた後にパウダーを溶融させてガラスクロスに固着させる方法、等が挙げられる。
　含浸樹脂のガラスクロスに対する付着量は、ガラスクロスの単位面積当たりの質量（目付、ｇ／ｍ２）に対して、３質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、８質量％以上がさらに好ましい。また、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。この範囲にあるとき、ガラスクロスの取扱性、機械的強度が向上し、光取り出しシート自体の耐候性も良好であり、難燃性樹脂による難燃性付与の点においても優れたものとなる。
　また、ガラスクロスと含浸樹脂との接着性を向上させるため、ガラスクロスに樹脂を含浸させる前に、ガラスクロスのヒートクリーニング処理やシランカップリング剤処理を行うことができる。
　ヒートクリーニング処理は、ガラスクロスの織成時に使用されたガラス繊維の集束材や滑剤等を除去するために、ガラスクロスを高温で長時間加熱処理するものである。また、シランカップリング剤処理は、ガラスクロスの表面を予めシランカップリング剤によって処理することにより、ガラスクロスと含浸樹脂等との親和性を高めるものである。ヒートクリーニング処理とシランカップリング剤処理の具体的な処理条件については後記する。
〔保護層〕
　ガラスクロス基材２ａの有機ＥＬ素子本体部１が設けられる面とは反体側の面に、保護層が形成されていてもよい。
　保護層は、光取り出しシート２の一構成部材であり、ガラスクロス基材２ａの表面に設けられるものである。保護層は、ガラスクロス基材２ａの片面のみに設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。また、保護層は省略することもできる。
　保護層の材料は特に制限されないが、例えば、無機樹脂（シリカ等）、塩化ビニル樹脂、ビニルエステル樹脂、フッ素系樹脂、アクリル樹脂等が適用可能である。また、これらの他にも、又は、これらの材料に加えて、例えば糖類（単糖、オリゴ糖、多糖等）等の添加物が含まれていてもよい。特に、単糖が含まれる場合、単糖そのものがはじめから含有されていてもよく、オリゴ糖や多糖とともに添加された多糖分解酵素によって生成した単糖が含有されてもよい。糖類としては、例えばシクロデキストリン、キトサン、プルラン等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。また、多糖分解酵素としては、例えば、多糖を単糖に分解する酵素（例えばキトサナーゼ、プルラナーゼ、アミラーゼ等）の他、糖転移酵素（例えばシクロデキストリングルコシルトランスフェラーゼ等）であってもよい。
〔光取り出しシート２の物性〕
　光取り出しシート２の物性は、特に制限されない。ただし、光取り出しシート２のヘイズ値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。ヘイズ値をこの範囲に設定することにより、より良好な光取り出し効率を図ることができる。ガラスクロスを構成するガラス繊維の種類、繊度、織密度等、あるいは含浸樹脂の種類（屈折率等）や処理条件等を制御して、より微細な構造とすることにより、ヘイズ値の数値を高いものとすることができる。
　なお、ヘイズ値（曇価）は、以下の式（１）を用いて算出することができる。
　ヘイズ値(％)＝｛拡散透過率(％)／全光透過率(％)｝×１００　(１)
　また、ヘイズ値は、ＪＩＳ　Ｋ－７１３６「プラスチック－透明材料のヘイズの求め方」に記載されている方法で測定することができる。
　また、光取り出しシート２の全光透過率（全光線透過率）が、４０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、６０％以上であることがさらに好ましい。全光透過率をこの範囲に設定することにより、より良好な光取り出し効率を図ることができる。なお、全光透過率は、ＪＩＳ　Ｋ－７３６１－１「プラスチック－透明材料の全光線透過率の試験方法」に記載されている方法で測定することができる。
　ガラスクロスは微細な外径を有するガラス繊維を大量に用いて製造されているため、光がガラスクロスに照射されると、光はこれら無数のガラス繊維の表面でランダムに反射・屈折を繰り返すこととなる。そして、入射光はほぼ全方向へ散乱されて、ガラスクロスの反対側の面から放出されることとなるため、ヘイズ値は高いものとなる。この結果、ヘイズ値及び全光透過率がいずれも高い数値を有する光取り出しシート２を用いると、有機ＥＬ素子本体部１で発射された光は、広範囲方向へ散乱されて出射されるため、光の取り出し効率が向上するものと推定される。尚、このような原理に基づくため、広範囲方向へ均一な光を照射することが可能であり、視野角依存性が少ない照明を提供することが可能となっている。
　光取り出しシート２の厚さは、例えば０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下とすることができる。光取り出しシート２の厚さをこの範囲に設定することにより、耐候性、可撓性及び光取り出し効率がより良好な有機ＥＬ素子を作製することができる。
　また、光取り出しシート２の重さは、１ｍ２あたりの質量として、例えば１００ｇ以上５００ｇ以下とすることができる。光取り出しシート２の質量をこの範囲に設定することにより、耐候性、可撓性及び光取り出し効率がより良好な有機ＥＬ素子を作製することができる。
［その他の部材］
　前記したように、本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、ガラスクロスを含む光取り出しシート２を備えている。また、本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、光取り出しシート２以外にも、図１に示す有機ＥＬ素子本体部１、封止材３及び接着層４を備えている。
　なお、図１に示す有機ＥＬ素子１０においては、陽極（第１電極）１２側から発光光が取り出されている。しかし、発光光の取り出し方向はこれに限定されず、陰極（第２電極）１４側から取り出されてもよく、陽極１２及び陰極１４の双方の側から取り出されてもよい。そして、光の取り出し方向に応じて、例えば、陰極１４側から光が取り出される場合には、光取り出しシート２は、陰極１４の外側に設けられていてもよい。また、陽極１２及び陰極１４の両側から光が取り出される場合には、光取り出しシート２は、陽極１２の外側と陰極１４の外側との両側に設けられていてもよい。
〔有機ＥＬ素子本体部１〕
　有機ＥＬ素子本体部１は、陽極１２及び陰極１４からなる電極と、陽極１２及び陰極１４間に配置され、両電極（陽極１２及び陰極１４）間に電圧が印加されることにより発光する有機化合物層１３とを備えるものである。有機ＥＬ素子１０から取り出される光は、通常、有機ＥＬ素子本体部１から放出された光である。
　有機ＥＬ素子本体部１は、通常、発光に直接関与する発光層のほか、例えば、キャリア（正孔及び電子）の注入層、阻止層及び輸送層等の各種有機層を備えている。そして、有機ＥＬ素子本体部１は、通常は、素子基板、電極や発光層に加えて、これらの各種有機層等を積層して構成される。図１では、これらの各種有機層等は特に図示されておらず、まとめて有機化合物層１３として示されている。図１では、素子基板１１、陽極１２、有機化合物層１３（発光層等）及び陰極１４が積層されて、有機ＥＬ素子本体部１が形成されている。
　有機ＥＬ素子本体部１において、有機化合物層１３の好ましい積層例は以下の通りである。なお、以下の（１）～（６）において、通常は、先に記載された層が陽極側に設けられ、以下、記載の順番で陰極側に積層される。
（１）発光層／電子輸送層
（２）正孔輸送層／発光層／電子輸送層
（３）正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層
（４）正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層（陰極バッファー層）
（５）正孔注入層（陽極バッファー層）／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層
　以下、有機ＥＬ素子本体部１を構成する各部を説明する。ただし、有機ＥＬ素子本体部１の構成は、以下の内容に何ら限定されるものではない。
（素子基板１１）
　素子基板１１は、例えば、ガラス、プラスチック等の透明性材料で形成することができる。そして、素子基板１１は、薄膜ガラス、透明樹脂フィルム等の可撓性のある基材で構成されることが好ましい。また、素子基板１１は、透明樹脂材料により構成されることが好ましい。従って、素子基板１１は、透明樹脂フィルムにより構成されることが好ましい。
　素子基板１１を構成する透明樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン（登録商標）、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸エステル、ポリアリレート、アートン（登録商標、ＪＳＲ社製）あるいはアペル（登録商標、三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。
　なお、素子基板１１として透明樹脂フィルムを用いる場合、透明樹脂フィルムの表面には、次に記載するガスバリア層が形成されることが好ましい。
（ガスバリア層）
　素子基板１１と有機化合物層１２との間には、防湿の観点から、１層又は２層以上のガスバリア層が形成されることが好ましい。なお、図１において、ガスバリア層は図示していない。
　ガスバリア層の特性としては、水蒸気透過度が０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましい。さらには、酸素透過度が１０－３ｍｌ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、水蒸気透過度１０－５ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下の高バリア性の層であることが好ましい。なお、水蒸気透過度はＪＩＳ　Ｋ７１２９Ｂ（１９９２年）に準拠してＭＯＣＯＮ法によって、酸素透過度はＪＩＳ　Ｋ７１２６Ｂ（１９８７年）に準拠してＭＯＣＯＮ法によって測定することができる。
　ガスバリア層を形成する材料としては、特に制限はされないものの、例えば、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が挙げられる。水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料が好ましく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素等の金属酸化物、窒化珪素等の金属窒化物等を用いることができる。さらに、ガスバリア層の強度をより向上させるために、無機層と有機層とからなる層の積層構造とすることが好ましい。無機層と有機層との積層順は特に制限されないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
　ガスバリア層の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ（化学的気相蒸着）法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。
（陽極１２）
　陽極１２は、有機化合物層１（具体的には発光層）に正孔を供給（注入）する電極膜である。陽極１２の材料の種類や物性は特に制限されず、任意に設定できる。例えば、陽極１２は、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）材料、例えば、金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物等の電極材料で形成可能である。また、陽極１２は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛等の光透過性を有する材料（透明電極）により構成されていてもよい。
　また、陽極１２の屈折率は任意であるが、１．５以上が好ましく、１．５５以上がより好ましく、また、２以下が好ましく、１．８５以下がより好ましい。また、陽極１２の表面抵抗も任意であるが、数百Ω／ｓｑ．以下の値であることが好ましい。さらに、陽極１２の膜厚も任意であり、形成する材料に依存して変化するため一概には言えないが、通常は１０ｎｍ以上で、１０００ｎｍ以下であり、好ましくは２００ｎｍ以下である。
（有機化合物層１３）
　有機化合物層１３は、通常は、発光層に加えて、キャリア（正孔及び電子）の注入層、阻止層及び輸送層等の各種有機層を備えている。以下、各有機層の構成を説明するが、これらの有機層は図１においては図示していない。また、各種有機層の具体的な材料等は公知の材料等を適用することが可能であるため、その説明を省略する。
《発光層》
　発光層は、陽極１２から直接、又は陽極１２から正孔輸送層等を介して注入される正孔と、陰極１４から直接、又は陰極１４から電子輸送層等を介して注入される電子とが再結合することにより、発光する層である。なお、発光する部分は、発光層の内部であってもよいし、発光層とそれに隣接する層との間の界面であってもよい。
　発光層は、ホスト化合物（ホスト材料）と、発光材料（発光ドーパント化合物）とを含む有機発光性材料で形成することが好ましい。発光層をこのような構成として、発光材料の発光波長や含有させる発光材料の種類等を適宜調整することにより、任意の発光色を得ることができる。また、発光層をこのように構成することにより、発光層中の発光材料において発光させることができる。
　発光層の膜厚の総和は、例えば、所望の発光特性等に応じて適宜設定することができる。例えば、発光層の均質性、発光時における不必要な高電圧の印加の防止、及び駆動電流に対する発光色の安定性向上等の観点から、発光層の膜厚の総和は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることが好ましい。特に、低駆動電圧の観点からは、発光層の膜厚の総和は、３０ｎｍ以下とすることが好ましい。
　発光層に含まれるホスト化合物としては、室温（２５℃）における燐光発光の燐光量子収率として、０．１以下である化合物が好ましく、０．０１以下の化合物がより好ましい。また、発光層中のホスト化合物の体積比は、発光層に含まれる各種化合物うち、５０％以上とすることが好ましい。
　発光層に含まれる発光材料としては、例えば、燐光発光材料（燐光性化合物、燐光発光性化合物）、蛍光発光材料等を用いることができる。なお、一つの発光層には、一種類の発光材料を含有させてもよいし、発光極大波長が互いに異なる複数種の発光材料を含有させてもよい。複数種の発光材料を用いることにより、発光波長の異なる複数の光を混合させて発光させることができ、これにより、任意の発光色の光を得ることができる。具体的には例えば、青色発光材料、緑色発光材料及び赤色発光材料（３種類の発光材料）を発光層に含有させることにより、白色光を得ることができる。
《注入層（正孔注入層、電子注入層）》
　注入層は、駆動電圧の低下や発光輝度の向上を図るための層である。注入層は、通常は、電極及び発光層の間に設けられる。注入層は、通常は２つに大別される。即ち、注入層は、正孔（キャリア）を注入する正孔注入層、及び電子（キャリア）を注入する電子注入層に大別される。正孔注入層（陽極バッファー層）は、陽極１２と、発光層又は正孔輸送層との間に設けられる。また、電子注入層（陰極バッファー層）は、陰極１４と、発光層又は電子輸送層との間に設けられる。
《阻止層（正孔阻止層、電子阻止層）》
　阻止層は、キャリア（正孔、電子）の輸送を阻止するための層である。阻止層は、通常は２つに大別される。即ち、阻止層は、正孔（キャリア）の輸送を阻止する正孔阻止層と、電子（キャリア）の輸送を阻止する電子阻止層とに大別される。
　正孔阻止層は、広い意味で、後記する電子輸送層の機能（電子輸送機能）を有する層である。正孔阻止層は、電子輸送機能を有しつつ、正孔の輸送能力が小さい材料で形成される。このような正孔阻止層が設けられることにより、発光層に対する正孔及び電子間の注入バランスを好適なものにすることができる。また、これにより、電子と正孔との再結合確率を向上させることができる。
　なお、正孔阻止層としては、必要に応じて、後記する電子輸送層の構成が同様に適用可能である。さらに、正孔阻止層が設けられる場合、正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられることが好ましい。
　一方、電子阻止層は、広い意味で、後記する正孔輸送層の機能（正孔輸送機能）を有する層である。電子阻止層は、正孔輸送機能を有しつつ、電子の輸送能力が小さい材料で形成される。このような電子阻止層が設けられることにより、発光層に対する正孔及び電子間の注入バランスを好適なものにすることができる。また、これにより、電子と正孔との再結合確率を向上させることができる。なお、電子阻止層としては、必要に応じて、後記する正孔輸送層の構成が同様に適用可能である。
　阻止層の膜厚は特に制限されないが、好ましくは３ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上であり、また好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。
《輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）》
　輸送層は、キャリア（正孔及び電子）を輸送する層である。輸送層は、通常は２つに大別される。即ち、輸送層は、正孔（キャリア）を輸送する正孔輸送層と、電子（キャリア）を輸送する電子輸送層とに大別される。
　正孔輸送層は、陽極１２から供給された正孔を発光層に輸送（注入）する層である。正孔輸送層は、陽極１２又は正孔注入層と発光層との間に設けられる。また、正孔輸送層は、陰極１４側からの電子の流入を阻止する障壁としても作用する。それゆえ、正孔輸送層という用語は、広い意味で、正孔注入層及び／又は電子阻止層を含む意味で用いられることもある。なお、正孔輸送層は、一層だけ設けてもよいし、複数層設けてもよい。
　電子輸送層は、陰極１４から供給された電子を発光層に輸送（注入）する層である。電子輸送層は、陰極１４又は電子注入層と発光層との間に設けられる。また、電子輸送層は、陽極１２側からの正孔の流入を阻止する障壁としても作用する。それゆえ、電子輸送層という用語は、広い意味で、電子注入層及び／又は正孔阻止層を含む意味で用いられることもある。なお、電子輸送層は、一層だけ設けてもよいし、複数層設けてもよい。
　電子輸送層（電子輸送層を一層構造とする場合には当該電子輸送層、電子輸送層を複数設ける場合には最も発光層側に位置する電子輸送層）に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねることがある）は、特に制限されない。ただし、電子輸送層に用いられる電子材料は、通常は、陰極１４より注入された電子を発光層に伝達（輸送）する機能を有する材料を適用可能である。
（陰極１４）
　陰極１４は、発光層に電子を供給（注入）する電極膜である。陰極１４を構成する材料は特に制限されないが、通常は、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）材料、例えば、金属（電子注入性金属）、合金、電気伝導性化合物、及びこれらの混合物等の電極材料で形成される。
　有機ＥＬ素子１０において、陰極１４側から光を取り出す場合、陰極１４は、陽極１２と同様に、光透過性を有する電極材料で形成可能である。この場合、例えば１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の膜厚になるように陰極形成用電極材料からなる金属膜を形成した後、この金属膜上に、陽極１２で説明した導電性透明材料からなる膜を形成することにより、透明又は半透明の陰極１４を形成することができる。
（封止材３）
　封止材３は、外気から有機ＥＬ素子本体部１等を保護するものである。封止材３の具体的な構成は特に制限されない。ただし、封止材３として可撓性材料を使用する場合には、封止材３は、樹脂層とガスバリア層とが積層されてなることが好ましい。
　封止材３として可撓性材料を用いる場合、封止材３の厚さは、特に制限されないものの、製造時の取り扱い性、引張強さやガスバリア層の耐ストレスクラッキング性等を考慮すると、１０μｍ以上３００μｍ以下が好ましい。なお、ここでいう封止材３の厚さは、マイクロメータを使用して測定可能であり、封止材３の縦方向（図１における紙面に垂直な方向）及び幅方向（図１における紙面横方向）で各１０箇所を測定した平均値とする。
　封止材３に適用可能な可撓性部材は特に制限されない。具体的には、例えば、例えばエチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、延伸ナイロン（ＯＮｙ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）等の各種包装用フィルムに使用されている熱可塑性樹脂フィルム材料等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。
　また、これらの熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じ、異種フィルムと共押出しにより作製した多層フィルム、延伸角度を変えて貼り合せて作製した多層フィルム等も使用可能である。さらに、所望の物性を得るために、使用するフィルムの密度、分子量分布を組合せて作製することも可能である。
　ガスバリア層としては、特に制限は無いが、例えば、無機蒸着膜、金属箔が挙げられる。無機蒸着膜としては、薄膜ハンドブック８７９頁～９０１頁（日本学術振興会）、真空技術ハンドブック５０２頁～５０９頁、６１２頁、８１０頁（日刊工業新聞社）、真空ハンドブック増訂版１３２頁～１３４頁（ＵＬＶＡＣ　日本真空技術Ｋ．Ｋ）に記載されているような無機蒸着膜が挙げられる。
　無機蒸着膜の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、ＳｉｘＯｙ（ｘ＝１、ｙ＝１．５～２．０）、Ｔａ２Ｏ３、ＺｒＮ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＰＳＧ、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＮ、単結晶Ｓｉ、アモルファスＳｉ、Ｗ、等が挙げられる。また、金属箔の材料としては、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ等の金属材料や、ステンレス、アルミニウム合金等の合金材料等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。中でも、金属箔としては、加工性やコストの観点から、アルミニウムが好ましい。
　ガスバリア層の膜厚は特に制限されない。ただし、ガスバリア層が例えば無機蒸着膜により構成される場合、無機蒸着膜の形成のし易さの観点から、膜厚は、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、また、通常１０００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下である。さらに、ガスバリア層が例えば金属箔により構成される場合には、製造時の取り扱い性及びパネルの薄板化の観点から、膜厚は、通常１μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、また、通常２ｍｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。
　また、ガスバリア層の水蒸気透過度は、有機化合物層１の結晶化、陰極１４の剥離等によりダークスポットの発生、及び有機ＥＬ素子１０の長寿命化等を考慮し、０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下であることが好ましい。なお、水蒸気透過度は、ＪＩＳ　Ｋ７１２９Ｂ法（１９９２年）に準拠した方法で、主としてＭＯＣＯＮ法により測定することができる。
　さらに、ガスバリア層の酸素透過度は、有機化合物層１の結晶化、陰極１４の剥離等によりダークスポットの発生、及び有機ＥＬ素子１０の長寿命化等を考慮し、０．０１ｍｌ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。なお、酸素透過度は、ＪＩＳ　Ｋ７１２６Ｂ法（１９８７年）に準拠した方法で、主としてＭＯＣＯＮ法により測定した値である。
　なお、ガスバリア層には、保護層が設けられてもよい。さらに、ガスバリア層に好適に積層される樹脂層は、単独の樹脂層であってもよく、複数の樹脂が積層されてなる層であってもよい。また、ガスバリア層は一層のみでもよく、複数のガスバリア層が積層されてなってもよい。
（接着層４）
　接着層４は、有機ＥＬ素子本体部１と光取り出しシート２あるいは有機ＥＬ素子本体部１と封止材３とをそれぞれ接着し固定する層である（図１参照）。ここで、前記したように、光取り出しシート２は、光が取り出される構成の違いに応じて、陰極１４の外側、陽極１２の外側あるいは陰極１４及び陽極１２の両外側に設置される。そのため、接着層４も、それぞれの構成の違いに応じて、有機ＥＬ素子本体部１と光取り出しシート２との間に設けられることとなる。接着層４は、通常は、接着剤を塗布して固化することにより形成される。また、あらかじめシート状に成形した接着剤や粘着剤を用いても良い。
　このような接着剤は、特に制限されないが、例えば光硬化型の液体接着剤、熱硬化型の液体接着剤等が挙げられる。接着剤として具体的には例えば、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型シール剤、２－シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）等の接着剤、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤等が挙げられる。
　また、上記したように、接着する対象物は、有機ＥＬ素子本体部１、光取り出しシート２、封止材３等のように種々異なる場合があるので、接着する対象物に応じて適宜、各接着層４の接着剤の種類、接着方法、接着条件等を変えることができる。
　接着剤には、接着剤の水蒸気透過度を下げるために、フィラーが添加されることが好ましい。添加量は、特に制限されないが、接着力を考慮すると、接着剤の全量に対して、５体積％以上が好ましく、７０体積％以下が好ましい。また、添加するフィラーの大きさも特に制限されないが、接着力や貼合圧着後の接着剤厚さ等を考慮すると、１μｍ以上が好ましく、１００μｍ以下が好ましい。
　添加するフィラーの具体例としては、ソーダガラス、無アルカリガラス或いはシリカ、二酸化チタン、酸化アンチモン、チタニア、アルミナ、ジルコニアや酸化タングステン等の金属酸化物等が挙げられる。
　前記のように、接着層４は、例えば前記の接着剤を塗布して固化することにより形成される。ただし、接着剤として例えば液体接着剤を用いる場合、液体接着剤の塗布は、貼合安定性、貼合部内への気泡混入防止、可撓性部材の平面性保持等の観点から、１×１０－２Ｐａ以上、１０Ｐａ以下の減圧下で行うことが好ましい。
［有機ＥＬ素子の製造方法］
　次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。ただし、以下に説明する方法は、本実施形態の有機ＥＬ素子を製造可能な方法の一例であり、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法は以下の内容に何ら限定されるものではない。
　本実施形態の有機ＥＬ素子は、ガラスクロス基材２ａを含む光取り出しシート２上に、接着剤、有機化合物層１、接着剤、封止材３を積層し、接着剤を固化させることにより形成可能である。これらの各層を製造するための具体的な方法は公知の任意の方法を適用することが可能であるため、その説明を省略する。ただし、本実施形態の有機ＥＬ素子の光取り出しシートは、ガラスクロス基材２ａを含むものであり、このガラスクロス基材２ａを構成するガラスクロスは、以下に述べるように、予め所定の処理が施されたものであることが好ましい。
　ガラスクロスには、主に、ヒートクリーニング処理、シランカップリング剤処理、含浸処理が施されることが好ましい。即ち、はじめに、ガラスクロスがヒートクリーニングされることが好ましい（ヒートクリーニング処理）。そして、ヒートクリーニングされたガラスクロスは、シランカップリング剤によって処理されることが好ましい（シランカップリング剤処理）。さらに、シランカップリング剤によって処理されたガラスクロスは、含浸樹脂を含浸させる処理が行われる（含浸処理）。従って、これらの処理が施されたガラスクロスが、本実施形態の有機ＥＬ素子用光取り出しシートに含まれることが好ましい。以下、これらの各処理について説明する。
（ヒートクリーニング処理）
　ヒートクリーニング処理において、ガラスクロスはヒートクリーニングされる。具体的には、ガラスクロスが所定時間、所定温度で加熱される。この処理により、ガラスクロスの生機に付着した集束剤、滑剤等を除去することができる。ヒートクリーニング処理の条件は特に制限されないが、例えば、加熱炉を用いて、３００℃～４００℃程度に加熱される。処理時間も特に制限はされないが、通常は２４時間以上、好ましくは４８時間以上であり、また通常は１２０時間以下、好ましくは９６時間以下である。
（シランカップリング剤処理）
　シランカップリング剤処理において、ガラスクロスに対して、シランカップリング剤による処理が行われる。この処理によってガラスクロスの表面改質が行われ、含浸樹脂や接着剤等との接着性を向上させることができる。シランカップリング剤の種類は、特に制限されず、選択して適宜使用することができる。シランカップリング剤処理の条件は特に制限されないが、通常は、シランカップリング剤が溶解した溶液（シランカップリング剤溶液）を用いてガラスクロスに付着・乾燥させる方法で行われる。これにより、ガラスクロス表面にシランカップリング剤が固着又は固定化される。
　シランカップリング剤を溶解させる溶媒は、特に制限は無いが、例えば水、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール等の低級アルコール、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等を用いることができる。これらは１種のみが用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。
　シランカップリング剤溶液の濃度としては、特に制限はないが、通常は０．０１％質量％以上、好ましくは０．１質量％以上であり、また通常は２０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。シランカップリング剤溶液に対してガラスクロスを含浸させることにより、シランカップリング剤をガラスクロスに付着させ、その後、ガラスクロスを乾燥させることによりシランカップリング剤処理することができる。
（含浸処理）
　含浸処理においては、ガラスクロスに対して、含浸樹脂を付着させて形態を固定化させる。具体的には、ガラスクロスを含浸樹脂を含む溶液に浸漬させ、その後乾燥させることにより、ガラスクロスは含浸樹脂によって処理される。乾燥条件は、特に制限されないが、例えば２５℃、２４時間程度で乾燥処理を行うことができる。
　このようにして、含浸樹脂が付着したガラスクロスが作製される。そして、このようにして作製されたガラスクロスは、本実施形態の有機ＥＬ素子に好適に使用される。
　以下、実施例を挙げて、本実施形態の有機ＥＬ素子をより具体的に説明する。
（光取り出しシートａの作製）
　厚さ３．５ｍｍに換算してＩＳＯ９０５０に規定された紫外線透過率が１１．４％、厚さ３．５ｍｍに換算して標準光源Ａにより測定した可視光透過率が８６．３％であるガラスＳ（成分－ＳｉＯ２；７０．２質量％、Ａｌ２Ｏ３；１．９質量％、ＣａＯ；７．９質量％、ＭｇＯ；４．３質量％、Ｎａ２Ｏ；１２．５質量％、Ｋ２Ｏ；０．８質量％、ＴｉＯ２；１．１質量％、ＣｅＯ２；１．５質量％）を用いて、モノフィラメント径６μｍ、モノフィラメント本数８００本、６７．５ｔｅｘのガラス繊維束を２本合撚して、ガラス繊維を製造した。このガラス繊維を縦糸及び横糸に用いて、縦糸の織密度が４４本／２５ｍｍ、横糸の織密度が３５本／２５ｍｍとなるように平織のガラスクロスを製織した。その後、このガラスクロスに対して、４００℃で７２時間加熱してヒートクリーニング処理を行い、さらにシランカップリング剤としてメタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いてシランカップリング剤処理を行って、光取り出しシート用のガラスクロスＰを作製した。得られたガラスクロスＰの厚さは１８０μｍであった。尚、紫外線透過率と可視光透過率はいずれもＩＳＯ９０５０に準拠して測定した。
　次に、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体を主成分とする塩化ビニル樹脂（カネカ社製、商品名：カネビラック）１００質量部に、可塑剤としてジブチルフタレートを１５質量部添加し、メチルエチルケトン７５質量部で希釈した塩化ビニル樹脂溶液を調製した。この塩化ビニル樹脂溶液を上記のヒートクリーニング処理とシランカップリング剤処理がなされたガラスクロスＰに含浸させ、１２０℃で乾燥して、メチルエチルケトンを揮発させることによって、樹脂組成物を含浸させたガラスクロスを作製した。乾燥後の樹脂組成物の付着量は３０ｇ／ｍ２であった。この樹脂組成物を含浸させたガラスクロスの両面に、保護層として、厚さ８０μｍの透明軟質塩化ビニルシート（三菱化学ＭＫＶ社製、商品名：アルトロンＧＸ４４６Ｖ６）を貼り付け、１１０℃の熱プレスで表面を加熱加圧して積層し、光取り出しシートａを作製した。
（光取り出しシートｂの作製）
　昭和高分子株式会社から販売されているビニルエステル樹脂ＳＳＰ５０－Ｃ０６：１００質量部と、化薬アクゾ株式会社から販売されているパーカドックスＰ１６：０．５質量部と、日本樹脂株式会社から販売されているパーキュアＨＯ：０．５質量部との混合物を、スターラーを用いて約２０分間撹拌した。そして、得られた混合物を約３０分間真空下に放置して、脱気し、未硬化の樹脂組成物を作製した。
　得られた樹脂組成物を光取り出しシートａで用いたガラスクロスＰに含浸させ、８０℃の熱風乾燥機中に入れて３０分間加熱し、含浸樹脂を硬化させることによって、光取り出しシートｂを作製した。乾燥後の含浸樹脂の付着量は３５ｇ／ｍ２であった。
（光取り出しシートｃの作製）
　水に、コロイダルシリカ、シクロデキストリン、キトサン、プルラン及び酵素（シクロデキストリングルコシルトランスフェラーゼ、キトサナーザ、プルナラーザ、アミラーゼ）を添加して混合することによって、固形分濃度が３０質量％であり、２５℃における粘度が２５０ｍＰａ・ｓであり、ｐＨが１１（２５℃）であり、比重が１．３（２５℃）である含浸樹脂の溶液を作製した。光取り出しシートａで用いたガラスクロスＰに含浸樹脂の溶液(固形分濃度３０質量％)を含浸させ、ついで含浸物を１２０℃×２分間の乾燥条件で乾燥させることによって、光取り出しシートｃを作製した。乾燥後の含浸樹脂の付着量は３０ｇ／ｍ２であった。
（光取り出しシートｄの作製）
　光取り出しシートａで用いたガラスクロスＰを、ＰＴＦＥ水性分散液（ダイキン工業社製、製品名：Ｄ２ＣＥ）中に浸漬し、一定速度で引き上げるディッピング法によりＰＴＦＥ樹脂を付着させ、その後、１００℃にて乾燥し、更に３８０℃にて焼成を行った。乾燥後の含浸樹脂の付着量は３５ｇ／ｍ２であった。次いで得られたＰＴＦＥ樹脂含浸ガラスクロスの片面に、保護層として、厚さ２５μｍのＰＦＡフィルム（ダイキン工業社製、製品名：ネオフロンＰＦＡフィルム）を熱ラミネーション法により積層させることによって、光取り出しシートｄを作製した。
（光取り出しシートｆの作製）
　アクリルポリオール樹脂（アクリディック４９－３９４ＩＭ、固形分６０％、ＤＩＣ株式会社製）：３２質量部、シリカ樹脂粒子（平均粒径２７．２μｍ）：１８０質量部、シリコーン樹脂粒子（平均粒径３０．０μｍ）：４０質量部、酢酸ブチル：２１５質量部の組成で調製された光取り出しシート用溶液を、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムに塗布することによって、光取り出しシートｆを作製した。
（光取り出しシートｇの作製）
　Ｅガラス（成分－ＳｉＯ２；５５質量％、Ａｌ２Ｏ３；１４質量％、ＣａＯ；２３質量％、ＭｇＯ；１質量％、Ｒ２Ｏ；０．６質量％、Ｂ２Ｏ３；６質量％；Ｒはアルカリ金属）を用いて、モノフィラメント径６μｍ、モノフィラメント本数８００本、６７．５ｔｅｘのガラス繊維束を２本合撚して、ガラス繊維を製造した。このガラス繊維を縦糸及び横糸に用いて、縦糸の織密度が４４本／２５ｍｍ、横糸の織密度が３５本／２５ｍｍとなるように平織のガラスクロスを製織した。その後、このガラスクロスに対してヒートクリーニング処理を行い、さらにシランカップリング剤としてメタクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いてシランカップリング剤処理を行って、光取り出しシート用のガラスクロスＲを作製した。得られたガラスクロスＲの厚さは１８０μｍであった。次に、光取り出しシートａと同様に、塩化ビニル樹脂を含浸させた後、保護層として、両面に透明軟質塩化ビニルシートを積層して、光取り出しシートｇを作製した。
［実施例１］
（素子基板の作製）
　はじめに、プラズマＣＶＤ法による成膜を行うＣＶＤ装置を用いて、以下の条件で、素子基板表面にガスバリア層として窒化珪素膜を含む、ガスバリア層付き素子基板を作製した。
　素子基板は、厚さ１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レフィルム加工社製　ポリエチレンテレフタレートフィルム「ルミナイス」）を用いた。素子基板を真空チャンバ内の所定位置にセットして、真空チャンバを密閉した。
　次いで、真空チャンバ内を排気して、圧力が０．０１Ｐａとなった時点で、反応ガスとして、シランガス、アンモニアガス及び窒素ガスを導入した。なお、１０１３ｈＰａ、２５℃において、シランガスの流量は５０ｍＬ／分、アンモニアガスの流量は１００ｍＬ／分、窒素ガスの流量は１５０ｍＬ／分とした。そして、真空チャンバ内の圧力が１００Ｐａとなるように、真空チャンバ内の排気を調整した。
　次いで、電極に７５０Ｗの高周波電力を供給して、素子基板表面に、ガスバリア層として窒化珪素層を厚さ１００ｎｍで成膜した。これにより、酸素透過度０．０１ｍｌ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、水蒸気透過度０．０１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以下のガスバリア性を有する素子基板を作製した。
（有機ＥＬ素子本体部の作製）
　得られた素子基板上に、スパッタ装置により、陽極としてＩＴＯ（酸化インジウム錫）を厚さ１１０ｎｍで設けた。そして、フォトリソグラフィ法によりＩＴＯのパターニングを行い、その上に、特開２００８－２６９９６２号公報の実施例１に記載の方法に則って、有機化合物層及び陰極を真空蒸着法にて形成して、有機ＥＬ素子本体部を作製した。このようにして得られた有機ＥＬ素子本体部は、発光パターンが２０ｍｍ×１６．５ｍｍ×４画素の４分割発光パターンである（４画素分合計で４１×３４ｍｍの面積となる）。
（有機ＥＬ素子Ａの作製）
　膜厚５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ガスバリア層として、３０μｍ厚のアルミニウム箔をラミネートして封止材を作製した。
　封止材のアルミニウム箔面上に、熱硬化型接着剤ストラクトボンドＥ－４１３（三井化学社製）を塗布し、封止材を静置した。その後、有機ＥＬ素子本体部の陰極と封止材のアルミニウム箔とが熱硬化型接着剤を介して対向するように積層した。１×１０－２Ｐａの減圧環境下で真空ラミネータを用いて、押圧力０．１ＭＰａで１００℃６０秒間圧着し、さらに硬化処理として１００℃３０分間加熱を施して、有機ＥＬ素子本体部の封止を行った。
　次に、光取り出しシートａの表面に、熱硬化型接着剤ストラクトボンドＥ－４１３（三井化学社製）を塗布した。その後、光取り出しシートａの接着剤塗布面と、作製した有機ＥＬ素子本体部の素子基板とが接触するように有機ＥＬ素子本体部を積層した。１×１０－２Ｐａの減圧環境下で真空ラミネータを用いて、押圧力０．１ＭＰａで１００℃６０秒間圧着した。その後、硬化処理として１００℃３０分間加熱を施して、有機ＥＬ素子Ａを作製した。
［実施例２］
　実施例１において、光取り出しシートａを光取り出しシートｂに変更して、他は同様の条件で有機ＥＬ素子Ｂを作製した。
［実施例３］
　実施例１において、光取り出しシートａを光取り出しシートｃに変更して、他は同様の条件で有機ＥＬ素子Ｃを作製した。
［実施例４］
　実施例１において、光取り出しシートａを光取り出しシートｄに変更して、他は同様の条件で有機ＥＬ素子Ｄを作製した。
［比較例１］
　実施例１において、光取り出しシートａを使用せず、封止材のみを接着することとして、他は同様の条件で有機ＥＬ素子Ｅを作製した。
［比較例２］
　実施例１において、光取り出しシートａを光取り出しシートｆに変更して、他は同様の条件で有機ＥＬ素子Ｆを作製した。
［比較例３］
　実施例１において、光取り出しシートａを光取り出しシートｇに変更して、他は同様の条件で有機ＥＬ素子Ｇを作製した。
（評価試験条件）
　作製した光取り出しシートａ～ｄ、ｆ～ｇ及び有機ＥＬ素子Ａ～Ｇについて、特性評価試験を行った。具体的には、光取り出しシートについては、そのヘイズ値及び全光透過率についての評価を行い、有機ＥＬ素子Ａ～Ｇについては、輝度特性、耐候性及び難燃性についての評価を行った。
＜ヘイズ値及び全光透過率評価＞
　作製した光取り出しシートについて、ヘイズ値（％）はＪＩＳ　Ｋ－７１３６に準拠し、全光透過率（％）はＪＩＳ　Ｋ－７３６１－１に準拠して測定した。
＜輝度特性評価＞
　輝度特性は以下のようにして評価した。まず、作製直後の有機ＥＬ素子に対して、陽極及び陰極間に２．５ｍＡ／ｃｍ２の直流電流を流し、輝度（初期輝度）を測定した。輝度（ｃｄ／ｍ２）は、分光放射輝度計（コニカミノルタオプティクス社製　ＣＳ－２０００）を用いて測定した。
　光取り出しシートを備えない比較例１の有機ＥＬ素子Ｅの輝度に対する、光取り出しシートａ～ｄ、ｆ～ｇを備える有機ＥＬ素子Ａ～Ｄ、Ｆ～Ｇの輝度の相対比率を光取り出し効率（％）として算出した。光取り出し効率が大きいほど、有機ＥＬ素子として良好な性能を有することを示している。
＜耐候性評価１＞
　有機ＥＬ素子Ａ～Ｇを、８５℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽で８００時間処理し、その後、黄変の有無を目視により観察した。黄変が明らかに生じているものを×、わずかに生じているものを△、黄変が生じていないものを○として、評価を行った。
＜耐候性評価２＞
　有機ＥＬ素子Ａ～Ｇを、サンシャインウェザーメータを用いて、５００時間、ＵＶカットフィルター無しの条件で強制劣化処理を施した後、２．５ｍＡ／ｃｍ２の直流電流を流したときに必要となる電圧を測定し、強制劣化前の値との差（Ｖ）を算出した。数値が小さい方が耐候性に優れていることを示している。
＜難燃性評価＞
　有機ＥＬ素子Ａ～Ｇに輻射熱で３．５Ｗ／ｃｍ２の熱を加えた状態で、さらに、各有機ＥＬ素子に対して炎を５分間当てた。その際の最大発熱量Ｐｅａｋ　ＲＨＲ（Rated Heat Release）（ｋＷ／ｍ２）、及び、２分間の総発熱量ＴＨＲ（Total Heat Release）（ｋＷ×ｍｉｎ／ｍ２）を測定した。なお、最大発熱量及び総発熱量はいずれも、小さい方が難燃性に優れていることを示している。
（評価結果）
　評価結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示す評価結果から明らかなように、実施例１～４の有機ＥＬ素子Ａ～Ｄは、いずれも光取り出し効率が１５０％を超えており、それぞれ所定の光取り出しシートの使用により、優れた光取り出し効率を実現することができている。
　また、有機ＥＬ素子Ａ～Ｄはいずれも、高温高湿処理後に黄変が生じることはなく、サンシャインウェザーメータによる処理後の電圧上昇も小さな数値に留まっており、優れた耐候性を有していることが分かった。
　さらに、ガラスクロスを有する光取り出しシートの使用により、ガラスクロスを使用していない比較例２の有機ＥＬ素子に比較して、最大発熱量Ｐｅａｋ　ＲＨＲ、及び、２分間の総発熱量ＴＨＲのいずれにおいても、大幅に数値が低下しており、難燃性においても優れた性能を備えていることが分かった。
　比較例３は、ＥガラスによるガラスクロスＲを有する光取り出しシートｇを使用した有機ＥＬ素子Ｇであるが、光取り出し効率や難燃性は有機ＥＬ素子Ａ～Ｄと比べて遜色ないものの、サンシャインウェザーメータによる処理後の電圧上昇が大きく、有機ＥＬ素子としての耐候性に劣るものであった。
　このように、本発明によれば、良好な光取り出し効率と優れた耐候性とを両立させ、さらには難燃性にも優れた有機ＥＬ素子を提供することができることが分かった。
　１　　有機ＥＬ素子本体部
　２　　光取り出しシート
　２ａ　ガラスクロス基材
　３　　封止材
　４　　接着層
　１０　有機ＥＬ素子
　１１　素子基板
　１２　陽極（第１電極）
　１３　有機化合物層
　１４　陰極（第２電極）

Claims (6)

  1. 　素子基板、該素子基板上に形成された第１電極、該第１電極上に形成されかつ発光層を含む有機化合物層、及び該有機化合物層上に形成された第２電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子本体部と、
    　前記有機エレクトロルミネッセンス素子本体部の光取り出し面側に光取り出しシートとを備え、
    　前記光取り出しシートは、ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対してＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計２．５質量部以上含有するガラス繊維を用いたガラスクロスを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
  2. 　前記ガラス繊維を構成するガラスは、ＩＳＯ９０５０に規定された紫外線透過率が厚さ３．５ｍｍに換算して１３％以下であり、かつ標準光源Ａにより測定した可視光透過率が厚さ３．５ｍｍに換算して８０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  3. 　前記ガラスクロスは、難燃性の樹脂を含浸させたものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  4. 　前記光取り出しシートは、ヘイズ値が７０％以上であり、かつ全光透過率が４０％以上であることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
  5. 　ソーダ石灰ガラスからなる母成分１００質量部に対してＣｅＯ２に換算した全セリウムとＴｉＯ２に換算した全チタンを合計２．５質量部以上含有するガラス繊維を用いたガラスクロスを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート。
  6. 　ヘイズ値が７０％以上であり、かつ全光透過率が４０％以上であることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用光取り出しシート。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019050144A (ja) * 2017-09-11 2019-03-28 東洋製罐グループホールディングス株式会社 透明基板、薄膜支持基板

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261633A (ja) * 1990-03-13 1991-11-21 Nippon Electric Glass Co Ltd 紫外線遮蔽ガラス繊維組成物
JPH11228176A (ja) * 1997-12-05 1999-08-24 Asahi Glass Co Ltd 高可視光透過紫外線吸収ガラスおよび紫外線吸収着色ガラス板
JP2008226629A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光学積層シート
JP2010137582A (ja) * 2010-03-24 2010-06-24 Nitto Boseki Co Ltd ガラス繊維シート
WO2011148823A1 (ja) * 2010-05-26 2011-12-01 コニカミノルタホールディングス株式会社 光取り出しシート、有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
WO2013073301A1 (ja) * 2011-11-14 2013-05-23 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、面状発光体

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261633A (ja) * 1990-03-13 1991-11-21 Nippon Electric Glass Co Ltd 紫外線遮蔽ガラス繊維組成物
JPH11228176A (ja) * 1997-12-05 1999-08-24 Asahi Glass Co Ltd 高可視光透過紫外線吸収ガラスおよび紫外線吸収着色ガラス板
JP2008226629A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光学積層シート
JP2010137582A (ja) * 2010-03-24 2010-06-24 Nitto Boseki Co Ltd ガラス繊維シート
WO2011148823A1 (ja) * 2010-05-26 2011-12-01 コニカミノルタホールディングス株式会社 光取り出しシート、有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
WO2013073301A1 (ja) * 2011-11-14 2013-05-23 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、面状発光体

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019050144A (ja) * 2017-09-11 2019-03-28 東洋製罐グループホールディングス株式会社 透明基板、薄膜支持基板

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