JP6287837B2

JP6287837B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子

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Publication number: JP6287837B2
Application number: JP2014526827A
Authority: JP
Inventors: 功太郎菊地
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2012-07-27
Filing date: 2013-06-26
Publication date: 2018-03-07
Anticipated expiration: 2033-06-26
Also published as: WO2014017242A1; JPWO2014017242A1; US20150162566A1

Description

本発明は、例えばディスプレイ、照明器具等に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。

有機エレクトロルミネッセンス（Electro Luminescence；ＥＬ）素子を用いた照明（有機ＥＬ照明）は自発光型の照明装置である。そのため、有機ＥＬ照明は、各種ディスプレイ、液晶ディスプレイ用バックライト、平面型照明等への用途として、盛んに研究開発が行われている。また、有機ＥＬ素子を用いたディスプレイ表示装置（有機ＥＬディスプレイ）は、ブラウン管ディスプレイ（Cathode Ray Tube；ＣＲＴ）や液晶ディスプレイと比較して、良好な視認性や視野角の非依存性といった優れた表示性能を有している。また、有機ＥＬディスプレイは、軽量化や薄膜化が可能であるという利点もある。

これらの中でも、有機ＥＬ照明は、指向性の高い点光源であるＬＥＤ（Light Emitting Diode）を用いたＬＥＤ照明とは異なり、均一な面光源である。そのため、有機ＥＬ照明は、薄膜、軽量化が可能であり、部品点数を少なくすることができるといった利点がある。また、有機ＥＬ照明においては、しなやかな基板を用いることにより、従来では実現が困難であった形状の照明を実現することができる可能性がある。

有機ＥＬ照明は、複数の部材により構成されている。具体的には、有機ＥＬ照明は、透明基板の片側表面に、陽極、有機発光層、陰極等がこの順で設けられて、有機ＥＬ面発光体として形成されている。陽極及び陰極間に電圧が印加されると、有機発光層が発光する。そして、有機発光層が発光して出射された光は、透明基板等の複数の部材を透過して外部へ放射されるようになっている。

有機発光層から出射された光が外部に放射される際、出射された光は、屈折率の異なる隣接層界面に入射する角度によっては全反射を起こし、表示装置内部を導波することがある。この現象が生じると、出射された光は外部に放射されないことになる。即ち、出射された光は、部材間の屈折率の差による全反射等により減衰し、効率よく外部へ放射されないことがある。

そこで、有機発光層からの光の取り出し効率を向上させる技術として、例えば特許文献１及び２に記載の技術が知られている。特許文献１に記載の面照明装置は、集光機能を光学シートを備えており、この光学シートが集光機能を有している。この光学シートは、例えば、透明な基材層と、バインダー中にビーズが分散する光学層とを有している。また、特許文献２に記載の光学フィルムは、凹凸構造部を有し、この凹凸構造部は、一方の面に形成された凹凸構造を持ち、前記凹凸構造部の凹凸構造側の面は、凹凸単位形状を前記凹凸構造側の面に沿って少なくとも１つの方向に繰り返し配列してなる形状を有している。

特開２００３−１００４４４号公報特開２０１２−００３０７４号公報

しかしながら、特許文献１及び２に記載の技術においては、太陽熱や太陽光等に対する耐候性が考慮されていない。従って、特許文献１及び２に記載の光学シートや光学フィルムを適用し、光取り出し効率を向上させた有機ＥＬ素子を作製した場合、有機ＥＬ素子の耐候性が十分ではないことが考えられる。そして、このような耐候性が十分ではない有機ＥＬ素子が使用されると、有機ＥＬ素子に経年劣化が生じることがある。特に、このような有機ＥＬ素子が例えば屋外に設置される照明等に用いられる場合、この経年劣化はより大きなものになる。

この経年劣化について、本発明者が検討したところによると、光学シートや光学フィルムが熱や光によって変色することにより生じることがわかった。そして、光学シートや光学フィルムが変色すると、有機ＥＬ素子の輝度が低下する（即ち、光の取り出し効率が低下する）ことがある。

本発明は前記事情に鑑みて為されたものであり、本発明により解決する課題は、良好な光取り出し効率と優れた耐候性とを両立させた有機ＥＬ素子を提供することである。

本発明者は前記課題を解決するべく鋭意検討した結果、発光する有機ＥＬ素子本体部に対してガラスクロスを含む光取り出し部材を設けることにより前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明の要旨は以下の通りである。

１．陽極及び陰極からなる電極と、前記陽極及び前記陰極間に配置され、前記電極間に電圧が印加されることにより発光する有機化合物層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子本体部と、
前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方の電極であって、前記有機化合物層から放出された光が透過する電極の外側に設けられ、ガラスクロス、糖類及び無機樹脂を含んでなる光取り出し部材とを備えている
ことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。

２．前記光取り出し部材は、前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方の側に対して、接着層によって接着されて設けられている
ことを特徴とする、前記１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
３．前記有機エレクトロルミネッセンス素子本体部は、ガスバリア層が形成された透明樹脂フィルムを有することを特徴とする、前記１又は前記２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。

本発明によれば、良好な光取り出し効率と優れた耐候性とを両立させた有機ＥＬ素子を提供することができる。

本実施形態の有機ＥＬ素子の断面図である。

以下、本発明を実施するための形態（本実施形態）を説明するが、本実施形態は以下の内容に何ら制限されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で任意に変更して実施可能である。

［１．有機ＥＬ素子の構造］
本実施形態の有機ＥＬ素子は、陽極及び陰極からなる電極と、前記陽極及び前記陰極間に配置され、前記電極間に電圧が印加されることにより発光する有機化合物層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子本体部と、前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方の電極であって、前記有機化合物層から放出された光が透過する電極の外側に設けられ、ガラスクロスを含んでなる光取り出し部材とを備えている。そこで、本実施形態の有機ＥＬ素子を、図１を参照しながら説明する。なお、図１は、本実施形態の有機ＥＬ素子の一例であり、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で、任意に変更して実施可能である。

本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、図１に示すように、ガラスクロスシート２（光取り出し部材）上に、有機ＥＬ素子本体部１と封止材３とをこの順で積層して備えている。ガラスクロスシート２と有機ＥＬ素子本体部１とは接着層４（接着剤が塗布されて形成される）により接着固定されている。有機ＥＬ素子本体部１と封止材３とも接着層４により接着固定されている。

以下、はじめに、本実施形態の有機ＥＬ素子１０に備えられるガラスクロスシート２について説明する。その後、本実施形態の有機ＥＬ素子１０に備えられる、ガラスクロスシート２以外の部材について説明する。

［１−１．ガラスクロスシート２］
有機ＥＬ素子１０に備えられるガラスクロスシート２（光取り出し部材、以下、単に「シート２」と言う）は、詳細は後記する有機化合物層１３から放出された光が透過する電極（図１に示す有機ＥＬ素子１０では陽極１２）の外側に設けられ、ガラスクロスを含んでなるものである。ただし、光取り出し部材の形状はシート状に何ら限定されず、例えば平板状等であってもよい。シート２は、通常は、ガラスクロスからなるガラスクロス基材２ａと、有機ＥＬ素子本体部１が設けられる面とは反体側の面に形成される光拡散シート２ｂとが接着されて形成されてなる。

〔ガラスクロス基材２ａ〕
ガラスクロス基材２ａは、ガラスクロスからなる。ガラスクロスは、ガラス繊維が織り込まれて（織成されて）形成されているものである。このようなガラスクロスの具体的な構成や種類、添加剤等は何ら限定されず、任意のガラスクロスが適用可能である。ただし、ガラスクロスは、通常は無色のものが好適である。また、ガラスクロス基材２ａに適用可能なガラスクロスは、市販されているものであってもよく、適宜調製されたものであってもよい。また、ガラスクロスは、１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意に組み合わされて用いられてもよい。

また、ガラスクロスとしては、ガラスクロスの生機、種々の加工処理が施されたガラスクロス、使用済みガラスクロス等が適用可能である。ただし、ガラスクロスとしては、加工処理が施されたガラスクロスが好ましく、中でも具体的には、ヒートクリーニングされたガラスクロスや、ヒートクリーニングされた後にシランカップリング剤処理されたガラスクロスがより好ましい。これらのガラスクロスの詳細については後記する。

ガラスクロスに用いられるガラス繊維は、どのようなものであってもよい。ガラス繊維の具体例としては、Ｅガラス、Ｄガラス、Ｔガラス、Ｃガラス、ＥＣＲガラス、Ａガラス、Ｌガラス、Ｓガラス、ＹＭ３１−Ａガラス、Ｈガラス等のガラス繊維が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意に組み合わせられて用いられてもよい。中でも、Ｅガラス繊維が好ましい。これらのガラス繊維は、任意の製造方法に従って製造されたものでもよく、市販品を用いてもよい。

また、ガラス繊維は、長繊維及び短繊維のいずれからなっていてもよい。
ガラス繊維が長繊維の場合には、例えば、ガラス繊維を適宜引き揃えて固めたものが使用可能である。ただし、この場合、ガラス繊維は、撚りがかけられていることが好ましい。撚り数は特に制限されないが、例えば、１００ｃｍあたり、２０回以上２００回以下のものを使用することができる。撚り方向としては、右撚り（Ｓ撚り）、左撚り（Ｚ撚り）のいずれであってもよい。また、撚り糸の形態としては、例えば、片撚り糸、諸撚り糸、ビッコ諸撚り糸、強ねん糸、壁撚り糸、駒撚り糸が挙げられる。
また、ガラス繊維が短繊維の場合には、例えば、ガラス繊維に対して撚りをかけて、つなぎ合わせた糸、即ち紡績糸が使用可能である。撚りの程度としては、長繊維の場合と同様の事項が適用可能である。

また、ガラス繊維の番手は、特に制限されないものの、通常は１ｔｅｘ以上、好ましくは５ｔｅｘ以上、また、通常は１０００ｔｅｘ以下、好ましくは８５０ｔｅｘ以下、より好ましくは２００ｔｅｘ以下、特に好ましくは１５０ｔｅｘ以下である。

ガラス繊維を用いてガラスクロスを形成する際、ガラスクロスの織成方法（織り方）としては、任意の方法が適用可能である。織成としては、例えば、平織、綾織、斜文織、からみ織、朱子織、三軸織、横縞織等が挙げられる。織成は、例えばジェット織機（例えばエアージェット織機、ウォータージェット織機）、スルザー織機、レピヤー織機等の織機を用いて行うことができる。織成は、これらを適宜組み合わせて行ってもよい。

形成されたガラスクロスにおけるガラス繊維の密度は、特に制限されない。ただし、この密度は、経糸を用いた場合及び緯糸を用いた場合共に、２５ｍｍ四方のガラスクロスにおいて、１０本以上のガラス繊維同士が交わって織り込まれていることが好ましく、４０本以上がより好ましく、また、８０本以下が好ましく、６０本以下がより好ましい。ガラス繊維の密度をこの範囲に設定することにより、ガラスクロスの空隙を小さくすることができるとともに、十分な引張強度を得ることができる。また、ガラスクロスの可撓性及び柔軟性を十分なものにすることができるとともに、取り扱い性を向上させることができる。

〔光拡散シート２ｂ〕
シート２を構成する光拡散シート２ｂは、ガラスクロス基材２ａの表面に設けられるものである。光拡散シート２ｂは、ガラスクロス基材２ａの片面のみに設けられていてもよく、両面に設けられていてもよい。また、光拡散シート２ｂは省略することもできる。さらに、例えばガラスクロスに対して光拡散シートを構成する成分を含浸させて、ガラスクロス基材２ａと光拡散シート２ｂとが一体的に形成されてもよい。

光拡散シート２ｂの具体的な種類は特に制限されないが、例えば、無機樹脂（シリカ等）、塩化ビニル樹脂、ビニルエステル樹脂、アクリル樹脂等が適用可能である。また、これらの他にも、又は、これらの材料に加えて、例えば糖類（単糖、オリゴ糖、多糖等）等の添加物が含まれていてもよい。特に、単糖が含まれる場合、単糖そのものがはじめから含有されていてもよく、オリゴ糖や多糖とともに添加された多糖分解酵素によって生成した単糖が含有されてもよい。糖類としては、例えばシクロデキストリン、キトサン、プルラン等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。また、多糖分解酵素としては、例えば、多糖を単糖に分解する酵素（例えばキトサナーゼ、プルラナーゼ、アミラーゼ等）の他、糖転移酵素（例えばシクロデキストリングルコシルトランスフェラーゼ等）であってもよい。

〔シート２の物性〕
シート２の物性は、特に制限されない。ただし、シート２のヘイズ値が９０％以上であることが好ましく、９３％以上がより好ましく、９５％以上であることがよりさらに好ましく、９７％以上が特に好ましい。ヘイズ値をこの範囲に設定することにより、より良好な光取り出し効率を図ることができる。

なお、ヘイズ値（曇価）は、以下の式（１）を用いて算出可能である。
ヘイズ値（％）＝｛拡散透過率（％）／全光透過率（％）｝×１００・・・（１）
また、ヘイズ値は、ＪＩＳ−Ｋ−７１３６「プラスチック−透明材料のヘイズの求め方」、又は、ＩＳＯ１４７８２「Plastics-Determination of haze for transparent materials」に記載されている手法で測定することができる。

また、シート２の全光透過率（全光線透過率）が、４０％以上であることが好ましく、４１％以上であることがより好ましく、４４％以上であることが特に好ましい。全光透過率をこの範囲に設定することにより、より良好な光取り出し効率を図ることができる。なお、全光透過率は、ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１「プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法」、又は、ＩＳＯ１３４６８−１「Plastics - Determination of the total luminous transmittance of transparent materials」に記載されている手法で測定することができる。

シート２の厚さは、例えば０．１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下とすることができる。シート２の厚さをこの範囲に設定することにより、耐候性、可撓性及び光取り出し効率がより良好な有機ＥＬ素子を作製することができる。

また、シート２の重さは、１ｍ^２あたりの質量として、例えば１００ｇ以上５００ｇ以下とすることができる。シート２の質量をこの範囲に設定することにより、耐候性、可撓性及び光取り出し効率がより良好な有機ＥＬ素子を作製することができる。

［１−２．その他の部材］
前記したように、本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、ガラスクロスを含むシート２を備えている。また、本実施形態の有機ＥＬ素子１０は、シート２以外にも、図１に示す有機ＥＬ素子本体部１、封止材３及び接着層４を備えている。ただし、封止材３及び接着層４は、適宜設けないようにしてもよい。

なお、図１に示す有機ＥＬ素子１０においては、陽極１２側から発光光が取り出されている。ただし、発光光の取り出し方向はこれに限定されず、陰極側１４から取り出されてもよく、陽極１２及び陰極１４の双方の側から取り出されてもよい。そして、光の知り出し方向に応じて、例えば陰極１４側の光取り出し面等、前記のシート２が適宜設けられるようにしてもよい。即ち、陰極１４側から光が取り出される場合には、シート２は、陰極１４の外側に設けられていてもよい。また、陽極１２及び陰極１４の両側から光が取り出される場合には、シート２は、陽極１２の外側と陰極１４の外側との両側に設けられていてもよい。

〔有機ＥＬ素子本体部１〕
有機ＥＬ素子本体部１は、陽極１２及び陰極１４からなる電極と、陽極１２及び陰極１４間に配置され、電極（陽極１２及び陰極１４）間に電圧が印加されることにより発光する有機化合物層１３とを備えるものである。有機ＥＬ素子１０から取り出される光は、通常、有機ＥＬ素子本体部１から放出された光である。

有機ＥＬ素子本体部１は、通常、発光に直接関与する発光層のほか、例えば、キャリア（正孔及び電子）の注入層、阻止層及び輸送層等の各種有機層を備えている。そして、有機ＥＬ素子本体部１は、通常は、素子基板、電極や発光層に加えて、これらの各種有機層等を積層して構成される。具体的には、図１に示すように、素子基板１１、陽極１２、有機化合物層１３（発光層等）及び陰極１４が積層され、有機ＥＬ素子本体部１が形成される。

また、有機ＥＬ素子本体部１を構成する有機ＥＬ素子本体部１において、有機化合物層１３での好ましい積層例は以下の通りである。なお、以下の（１）〜（６）において、通常は、先に記載された層が正極側に設けられ、以下、記載の順番で陰極側に積層される。
（１）発光層／電子輸送層
（２）正孔輸送層／発光層／電子輸送層
（３）正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層
（４）正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層（陰極バッファー層）
（５）正孔注入層（陽極バッファー層）／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層

以下、有機ＥＬ素子本体部１を構成する各部を説明する。ただし、有機ＥＬ素子本体部１の構成は、以下の内容に何ら限定されるものではない。

（素子基板１１）
素子基板１１（基体、基板、基材、支持体等）は、例えば、ガラス、プラスチック等の透明性材料で形成することができる。ただし、素子基板１１は、薄膜ガラス、透明樹脂フィルム等の可撓性のある基材で構成されることが好ましい。また、素子基板１１は、透明樹脂材料により構成されることが好ましい。従って、素子基板１１は、透明樹脂フィルムにより構成されることが好ましい。

透明樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロハン（登録商標）、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン（登録商標）、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン（登録商標、ＪＳＲ社製）あるいはアペル（登録商標、三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。

なお、素子基板１１として透明樹脂フィルムを用いる場合、透明樹脂フィルムの表面には、後記するガスバリア層が形成されることが好ましい。

（ガスバリア層）
素子基板１１と有機化合物層１２との間には、防湿の観点から、１層又は２層以上のガスバリア層が形成されることが好ましい。なお、図１においては、ガスバリア層は図示していない。

ガスバリア層としては、例えば、無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が挙げられる。ガスバリア層の特性としては、水蒸気透過度が０．０１ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ・１０１３ｈＰａ）以下であることが好ましい。さらには、酸素透過度が１０^−３ｍｌ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、水蒸気透過度１０^−５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。

ガスバリア層を形成する材料としては、特に制限はされないものの、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料が好ましく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素等の金属酸化物、窒化珪素等の金属窒化物等を用いることができる。さらに、ガスバリア層の強度をより向上させるために、無機層と有機層とからなる層の積層構造とすることが好ましい。無機層と有機層との積層順は特に制限されないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。

ガスバリア層の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学的気相蒸着）法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。

（陽極１２）
陽極１２は、有機化合物層１（具体的には発光層）に正孔を供給（注入）する電極膜である。陽極１２の種類や物性は特に制限されず、任意に設定できる。例えば、陽極１２は、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）、例えば、金属、合金、電気伝導性化合物、及び、これらの混合物等の電極材料で形成可能である。また、陽極１２は、酸化インジウム錫や酸化インジウム亜鉛等の光透過性を有する材料（透明電極）により構成されてもよい。

また、陽極１２の屈折率は任意であるが、１．５以上が好ましく、１．５５以上がより好ましく、また、２以下が好ましく、１．８５以下がより好ましい。また、陽極１２のシート抵抗（表面抵抗）も任意であるが、数百Ω／ｓｑ．以下の値であることが好ましい。さらに、陽極１２の膜厚も任意であり、形成する材料に依存して変化するため一概には言えないが、通常は１０ｎｍ以上、また、通常は１０００ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下である。

（有機化合物層１３）
有機化合物層１３は、通常は、発光層に加えて、キャリア（正孔及び電子）の注入層、阻止層及び輸送層等の各種有機層を備える。以下、各有機層の構成を説明するが、これらの有機層は図１においては図示していない。また、各種有機層の具体的な材料等は公知の材料等を適用可能であるため、その説明を省略する。

・発光層
発光層は、陽極１２から直接、又は、陽極１２から正孔輸送層等を介して注入される正孔と、陰極１４から直接、又は、陰極１４から電子輸送層等を介して注入される電子とが再結合することにより、発光する層である。なお、発光する部分は、発光層の内部であってもよいし、発光層とそれに隣接する層との間の界面であってもよい。

発光層は、ホスト化合物（ホスト材料）と、発光材料（発光ドーパント化合物）とを含む有機発光性材料で形成することが好ましい。発光層をこのように構成することにより、発光材料の発光波長や含有させる発光材料の種類等を適宜調整することにより、任意の発光色を得ることができる。また、発光層をこのように構成することにより、発光層中の発光材料において発光させることができる。

発光層の膜厚の総和は、例えば、所望の発光特性等に応じて適宜設定することができる。例えば、発光層の均質性、発光時における不必要な高電圧の印加の防止、及び、駆動電流に対する発光色の安定性向上等の観点から、発光層の膜厚の総和は、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることが好ましい。特に、低駆動電圧の観点からは、発光層の膜厚の総和は、３０ｎｍ以下とすることが好ましい。

発光層に含まれるホスト化合物としては、室温（２５℃）における燐光発光の燐光量子収率として、０．１以下である化合物が好ましく、０．０１以下の化合物が好ましい。また、発光層中のホスト化合物の体積比は、発光層に含まれる各種化合物うち、５０％以上とすることが好ましい。

発光層に含まれる発光材料としては、例えば、燐光発光材料（燐光性化合物、燐光発光性化合物）、蛍光発光材料等を用いることができる。なお、一つの発光層には、一種類の発光材料を含有させてもよいし、発光極大波長が互いに異なる複数種の発光材料を含有させてもよい。ただし、複数種の発光材料を用いることにより、発光波長の異なる複数の光が混合されて発光させることができ、これにより、任意の発光色の光を得ることができる。具体的には例えば、青色発光材料、緑色発光材料及び赤色発光材料（３種類の発光発光材料）を発光層に含有させることにより、白色光を得ることができる。

・注入層（正孔注入層、電子注入層）
注入層は、駆動電圧の低下や発光輝度の向上を図るための層である。注入層は、通常は、電極及び発光層の間に設けられる。注入層は、通常は２つに大別される。即ち、注入層は、正孔（キャリア）を注入する正孔注入層、及び、電子（キャリア）を注入する電子注入層に大別される。正孔注入層（陽極バッファー層）は、陽極１２と、発光層又は正孔輸送層との間に設けられる。また、電子注入層（陰極バッファー層）は、陰極１４と、発光層又は電子輸送層との間に設けられる。

・阻止層（正孔阻止層、電子阻止層）
阻止層は、キャリア（正孔、電子）の輸送が阻止されるための層である。阻止層は、通常は２つに大別される。即ち、阻止層は、正孔（キャリア）の輸送が阻止される正孔阻止層、及び、電子（キャリア）の輸送が阻止される電子阻止層に大別される。

正孔阻止層は、広い意味で、電子輸送層（後記する）の機能（電子輸送機能）を有する層である。正孔阻止層は、電子輸送機能を有しつつ、正孔の輸送能力が小さい材料で形成される。このような正孔阻止層が設けられることにより、発光層に対する正孔及び電子間の注入バランスを好適なものにすることができる。また、これにより、電子と正孔との再結合確率を向上させることができる。

なお、正孔阻止層としては、必要に応じて、後記する電子輸送層の構成が同様に適用可能である。さらに、正孔阻止層が設けられる場合、正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられることが好ましい。

一方、電子阻止層は、広い意味で、正孔輸送層（後記する）の機能（正孔輸送機能）を有する層である。電子阻止層は、正孔輸送機能を有しつつ、電子の輸送能力が小さい材料で形成される。このような電子阻止層が設けられることにより、発光層に対する正孔及び電子間の注入バランスを好適なものにすることができる。また、これにより、電子と正孔との再結合確率を向上させることができる。なお、電子阻止層としては、必要に応じて、後記する正孔輸送層の構成が同様に適用可能である。

阻止層の膜厚は特に制限されないが、好ましくは３ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、また、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。

・輸送層（正孔輸送層、電子輸送層）
輸送層は、キャリア（正孔及び電子）を輸送する層である。輸送層は、通常は２つに大別される。即ち、輸送層は、正孔（キャリア）を輸送する正孔輸送層、及び、電子（キャリア）を輸送する電子輸送層に大別される。

正孔輸送層は、陽極１２から供給された正孔を発光層に輸送（注入）する層である。正孔輸送層は、陽極１２又は正孔注入層と発光層との間に設けられる。また、正孔輸送層は、陰極１４側からの電子の流入を阻止する障壁としても作用する。それゆえ、正孔輸送層という用語は、広い意味で、正孔注入層及び／又は電子阻止層を含む意味で用いられることもある。なお、正孔輸送層は、一層だけ設けてもよいし、複数層設けてもよい。

電子輸送層は、陰極１４から供給された電子を発光層に輸送（注入）する層である。電子輸送層は、陰極１４又は電子注入層と発光層との間に設けられる。また、電子輸送層は、陽極１２側からの正孔の流入を阻止する障壁としても作用する。それゆえ、電子輸送層という用語は、広い意味で、電子注入層及び／又は正孔阻止層を含む意味で用いられることもある。なお、電子輸送層は、一層だけ設けてもよいし、複数層設けてもよい。

電子輸送層（電子輸送層を一層構造とする場合には当該電子輸送層、電子輸送層を複数設ける場合には最も発光層側に位置する電子輸送層）に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねることがある）は、特に制限されない。ただし、電子輸送層に用いられる電子材料は、通常は、陰極１４より注入された電子を発光層に伝達（輸送）する機能を有する材料を適用可能である。

（陰極１４）
陰極１４は、発光層に電子を供給（注入）する電極膜である。陰極１４を構成する材料は特に制限されないが、通常、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）、例えば、金属（電子注入性金属）、合金、電気伝導性化合物、及び、これらの混合物等の電極材料で形成される。

有機ＥＬ素子１０において、陰極１４側から光を取り出す場合、陰極１４は、陽極１２と同様に、光透過性を有する電極材料で形成可能である。この場合、例えば１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の膜厚になるように陰極形成用電極材料からなる金属膜を形成した後、この金属膜上に陽極形成用導電性透明材料からなる膜を形成することにより、透明又は半透明の陰極１４を形成することができる。

（封止材３）
封止材３は、外気から有機ＥＬ素子本体部１等を保護するものである。封止材３の具体的な構成は特に制限されない。ただし、封止材３として可撓性材料を使用する場合には、封止材３は、樹脂層とガスバリア層とが積層されてなることが好ましい。

封止材３として可撓性材料を用いる場合、封止材３の厚さは、特に制限されないものの、製造時の取り扱い性、引っ張り強さやガスバリア層の耐ストレスクラッキング性等を考慮し、１０μｍ以上３００μｍ以下が好ましい。なお、ここで言う封止材３の厚さは、マイクロメータを使用して測定可能であり、封止材３の縦方向（図１における紙面に垂直な方向）及び幅方向（図１における紙面横方向）で各１０箇所を測定した平均値とする。

封止材３に適用可能な可撓性部材は特に制限されない。具体的には、例えば、例えばエチレンテトラフルオロエチル共重合体（ＥＴＦＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、延伸ポリプロピレン（０ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、延伸ナイロン（ＯＮｙ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド、ポリエーテルスチレン（ＰＥＳ）等の各種包装用フィルムに使用されている熱可塑性樹脂フィルム材料等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。

また、これらの熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じ、異種フィルムと共押出しにより作製した多層フィルム、延伸角度を変えて貼り合せて作製した多層フィルム等も使用可能である。さらに、所望の物性を得るために、使用するフィルムの密度、分子量分布を組合せて作製することも可能である。

ガスバリア層としては、特に制限は無いが、例えば無機蒸着膜、金属箔が挙げられる。無機蒸着膜としては薄膜ハンドブック８７９頁〜９０１頁（日本学術振興会）、真空技術ハンドブック５０２頁〜５０９頁、６１２頁、８１０頁（日刊工業新聞社）、真空ハンドブック増訂版１３２頁〜１３４頁（ＵＬＶＡＣ日本真空技術Ｋ．Ｋ）に記載されている如き無機膜が挙げられる。

無機蒸着膜として具体的には例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ（ｘ＝１、ｙ＝１．５〜２．０）、Ｔａ_２Ｏ_３、ＺｒＮ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＰＳＧ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＳｉＮ、単結晶Ｓｉ、アモルファスＳｉ、Ｗ、等が挙げられる。また、金属箔として具体的には例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ等の金属材料や、ステンレス、アルミニウム合金等の合金材料等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。中でも、金属箔としては、加工性やコストの観点から、アルミニウムが好ましい。

ガスバリア層の膜厚は特に制限されない。ただし、ガスバリア層が例えば無機蒸着膜により構成される場合、無機蒸着膜の形成のし易さの観点から、膜厚は、通常５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上、また、通常１０００ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下である。さらに、ガスバリア層が例えば金属箔により構成される場合には、製造時の取り扱い性及びパネルの薄板化の観点から、膜厚は、通常１μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上、また、通常２ｍｍ以下、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。

また、ガスバリア層の水蒸気透過度は、有機化合物層１の結晶化、陰極１４の剥離等によりダークスポットの発生、及び有機ＥＬ素子１０の長寿命化等を考慮し、０．０１ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることが好ましい。なお、水蒸気透過度は、ＪＩＳＫ７１２９Ｂ法（１９９２年）に準拠した方法で、主としてＭＯＣＯＮ法により測定することができる。

さらに、ガスバリア層の酸素透過度は、有機化合物層１の結晶化、陰極１４の剥離等によりダークスポットの発生、及び有機ＥＬ素子１０の長寿命化等を考慮し、０．０１ｍｌ／（ｍ^２・ｄａｙ・１０１３ｈＰａ）以下であることが好ましい。なお、酸素透過度は、ＪＩＳＫ７１２６Ｂ法（１９８７年）に準拠した方法で、主としてＭＯＣＯＮ法により測定した値である。

なお、ガスバリア層には、保護層が設けられてもよい。さらに、ガスバリア層に好適に積層される樹脂層は、単独の樹脂層であってもよく、複数の樹脂が積層されてなる層であってもよい。また、ガスバリア層は一層のみでもよく、複数のガスバリア層が積層されてなってもよい。

（接着層４）
接着層４は、有機ＥＬ素子本体部１、シート２及び封止材３を接着固定する層である。即ち、シート２（光取り出し部材）は、陽極１２に対して、接着層４によって接着されて設けられていることになる。ただし、シート２が陰極１４の外側に設けられている場合には、シート２（光取り出し部材）は、陰極１４に対して、接着層４によって接着されて設けられていることになる。接着層４は、通常は、接着剤を塗布して固化することにより形成される。

このような接着剤は、特に制限されないが、例えば光硬化型の液体接着剤、熱硬化型の液体接着剤等が挙げられる。接着剤として具体的には例えば、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型シール剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）等の接着剤、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤等が挙げられる。

接着剤には、フィラーが添加されることが好ましい。添加量は、特に制限されないが、接着力を考慮すると、接着剤の全量に対して、５体積％以上が好ましく、７０体積％以下が好ましい。また、添加するフィラーの大きさも特に制限されないが、接着力や貼合圧着後の接着剤厚み等を考慮すると、１μｍ以上が好ましく、１００μｍ以下が好ましい。

添加するフィラーの具体例としては、ソーダガラス、無アルカリガラス或いはシリカ、二酸化チタン、酸化アンチモン、チタニア、アルミナ、ジルコニアや酸化タングステン等の金属酸化物等が挙げられる。

前記のように、接着層４は、例えば前記の接着材を塗布して固化することにより形成される。ただし、接着剤として例えば液体接着剤を用いる場合、液体接着剤の塗布は、貼合安定性、貼合部内への気泡混入防止、可撓性部材の平面性保持等の観点から、１×１０^−２Ｐａ以上１０Ｐａ以下の減圧下で行うことが好ましい。

［２．有機ＥＬ素子の製造方法］
次に、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。ただし、以下に説明する方法は、本実施形態の有機ＥＬ素子を製造可能な方法の一例であり、本実施形態の有機ＥＬ素子の製造方法は以下の内容に何ら限定されるものではない。

本実施形態の有機ＥＬ素子は、ガラスクロスを含むシート２上に、接着剤、有機化合物層１、接着剤、封止材３を積層し、接着材を固化させることにより形成可能である。具体的な方法は任意の方法が適用可能であるため、その説明を省略する。ただし、本実施形態の有機ＥＬ素子は、ガラスクロスを含むものである。ただし、このガラスクロスは、予め所定の処理が施されたものであることが好ましい。

ガラスクロスには、主に、ヒートクリーニング処理、シランカップリング剤処理、含浸処理、及び乾燥処理が施されることが好ましい。即ち、はじめに、ガラスクロスがヒートクリーニングされることが好ましい（ヒートクリーニング処理）。そして、ヒートクリーニングされたガラスクロスは、シランカップリング剤によって処理されることが好ましい（シランカップリング剤処理）。さらに、シランカップリング剤によって処理されたガラスクロスは、バインダ溶液に含浸され（含浸処理）、その後、乾燥されることが好ましい（乾燥処理）。従って、これらの処理が施されたガラスクロスが、本実施形態の有機ＥＬ素子に含まれることが好ましい。以下、これらの各処理について説明する。

（ヒートクリーニング処理）
本処理において、ガラスクロスはヒートクリーニングされる。具体的には、ガラスクロスが加熱される。この処理により、ガラスクロスの生機に付着した集束剤等を除去することができる。ヒートクリーニング処理の条件は特に制限されないが、例えば３００℃〜４００℃程度の加熱炉を用い、ヒートクリーニング処理が可能である。また、処理時間も特に制限はされないが、通常は２４時間以上、好ましくは４８時間以上、また、通常は１２０時間以下、好ましくは９６時間以下とする。

（シランカップリング剤処理）
本処理において、ヒートクリーニング処理されたガラスクロスに対して、シランカップリング剤によって処理が行われる。この処理により、ガラスクロスの表面改質が行われ、接着槽４等との接着性を向上させることができる。シランカップリング剤処理の条件は特に制限されないが、通常は、シランカップリング剤が溶解した溶液（シランカップリング剤溶液）を用いてガラスクロスの処理が行われる。これにより、ガラスクロス表面にシランカップリング剤が固着又は固定化される。

シランカップリング材を溶解する溶媒は、特に制限は無いが、例えば水、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール等の低級アルコール、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル等が挙げられる。これらは１種のみが用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。

シランカップリング剤溶液の濃度としては、特に制限はないが、通常は０．０１％質量％以上、好ましくは０．１質量％以上、また、通常は２０質量％以下、好ましくは５質量％以下である。そして、シランカップリング剤溶液に対してガラスクロスを含浸させることにより、シランカップリング剤処理が可能である。なお、シランカップリング剤溶液に対してガラスクロスを含浸させた後、後記する含浸処理する前に、ガラスクロスを乾燥させることが好ましい。

（含浸処理）
本処理においては、シランカップリング剤処理されたガラスクロスが、バインダを含むバインダ溶液に含浸される。これにより、ガラスクロスとバインダとが一体化したガラスクロスが作製される。含浸処理において使用可能なバインダは、特に制限はないが、例えば酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂、コロイダルシリカ等の無機系樹脂等が挙げられる。これらは１種が単独で用いられてもよく、２種以上が任意の比率及び組み合わせで用いられてもよい。

これらの中でも、バインダは無機系樹脂が好ましく、コロイダルシリカが好ましい。バインダとしてコロイダルシリカを用いる場合、バインダ溶液としては、コロイダルシリカに加えて、水及び糖類の酵素処理物を含有するバインダ溶液が好ましい。このような糖類としては、例えば、前記の［１．有機ＥＬ素子の構造］において説明した内容と同様のものが挙げられる。

（乾燥処理）
本処理においては、バインダ溶液が含浸されたガラスクロスが乾燥される。乾燥上限は特に制限されず、例えば２５℃２４時間程度乾燥処理を行うことができる。そして、このようにして作製されたガラスクロスは、本実施形態の有機ＥＬ素子に好適である。

以下、実施例を挙げて、本実施形態の有機ＥＬ素子をより具体的に説明する。

・有機ＥＬパネルＡ〜Ｆの作製
＜実施例１＞
はじめに、プラズマＣＶＤ法による成膜を行うＣＶＤ装置を用いて、素子基板表面にガスバリア層として窒化珪素膜を含む、ガスバリア層付き素子基板を作製した。

素子基板は、厚さ１８８μｍのＰＥＴフィルム（東レフィルム加工社製ポリエチレンテレフタレートフィルム「ルミナイス」）を用いた。素子基板を真空チャンバ内の所定位置にセットして、真空チャンバを密閉した。

次いで、真空チャンバ内を排気して、圧力が０．０１Ｐａとなった時点で、反応ガスとして、シランガス、アンモニアガス、及び、窒素ガスを導入した。なお、１０１３ｈＰａ、２５℃において、シランガスの流量は５０ｍＬ／分、アンモニアガスの流量は１００ｍＬ／分、窒素ガスの流量は１５０ｍＬ／分とした。そして、真空チャンバ内の圧力が１００Ｐａとなるように、真空チャンバ内の排気を調整した。

次いで、電極に７５０Ｗの高周波電力を供給して、素子基板表面に、ガスバリア膜（窒化珪素膜）を厚さ１００ｎｍで成膜した。これにより、酸素透過度０．０１ｍｌ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、水蒸気透過度０．０１ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下のガスバリア性を有する素子基板を作製した。

得られた素子基板上に、スパッタ装置により、陽極としてＩＴＯ（Indium Thin Oxide ；酸化インジウム錫）を厚さ１１０ｎｍで設けた。そして、フォトリソグラフィ法によりＩＴＯのパターニングを行い、その上に有機化合物層及び陰極を真空蒸着法にて形成して、有機ＥＬ素子本体部を作製した。このようにして得られた有機ＥＬ素子本体部は、発光パターンが２０ｍｍ×１６．５ｍｍ×４画素の４分割発光パターンである（４画素分合計で４１×３４ｍｍの面積となる）。

次に、光取り出しシートを作製した。
固形分濃度が３０質量部となり、２５℃における粘度が２５０ｍＰａ・ｓとなり、ｐＨが１１（２５℃）となり、比重が１．３（２５℃）となるように、水に、コロイダルシリカ、シクロデキストリン、キトサン、プルラン及び酵素（シクロデキストリングルコシルトランスフェラーゼ、キトサナーザ、プルラナーゼ及びアミラーゼからなる混合物）を添加して混合することにより、バインダ溶液を得た。そして、このバインダ溶液をガラスクロス（ユニチカグラスファイバー社製Ｈ２０１）に含浸させ、次いで含浸物を１２０℃２分間の乾燥条件で乾燥させることにより、光取り出しシートＡを作製した。

光取り出しシートＡの表面に、熱硬化型接着剤ストラクトボンドＥ−４１３（三井化学社製）を塗布した。そして、光取り出しシートＡの塗布面に対して、作製した有機ＥＬ素子本体部の素子基板が接触するように有機ＥＬ素子本体部を静置した。その後、１×１０−２Ｐａの減圧環境下で真空ラミネータを用い、押圧力０．１ＭＰａで１００℃６０秒間圧着した。その後、硬化処理として１００℃３０分間加熱を施した。

次に、膜厚５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、アルミニウム箔３０μｍのバリア膜（ガスバリア層）をラミネートしたバリアフィルム（封止材）を作製した。そして、前記の有機ＥＬ素子本体部の陰極上に、熱硬化型接着剤ストラクトボンドＥ−４１３（三井化学社製）を塗布し、封止材を静置した。このとき、陰極とアルミニウム箔とが熱硬化型接着剤を介して対向するように、封止材を載置した。その後、光取り出しシートＡと有機ＥＬ素子本体部との固定と同様にして、有機ＥＬ素子本体部と封止材とを接着固定した。これにより、光取り出しシートＡ、有機ＥＬ素子本体部、及び封止材が接着層を介して接着固定された有機ＥＬパネルＡを作製した。

＜参考例２＞
光取り出しシートＡに代えて、以下の方法により作製した光取り出しシートＢを用いたこと以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬパネルＢを作製した。

光取り出しシートＢは以下のようにして作製した。
塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体を主成分とする塩化ビニル樹脂（カネカ社製カネビラック）１００質量部に、可塑剤としてジブチルフタレートを１５質量部添加し、メチルエチルケトン７５質量部で希釈した溶液を調製した。この溶液をヒートクリーニングされたガラスクロス（ユニチカグラスファイバー社製Ｈ２０１）に含浸させ、１２０℃で乾燥させることにより、溶液中のメチルエチルケトンを揮発させた。これにより、樹脂組成物を含浸させたガラスクロスを得た。

このガラスクロスの両面に、厚さ８０μｍの透明軟質塩化ビニルシート（三菱化学ＭＫＶ社製アルトロンＧＸ４４６Ｖ６）を貼り付け、１１０℃の熱プレスで表面を加熱加圧し積層して、光取り出しシートＢを作製した。

＜参考例３＞
光取り出しシートＡに代えて、以下の方法により作製した光取り出しシートＣを用いたこと以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬパネルＣを作製した。

光取り出しシートＣは以下のようにして作製した。
ビニルエステル樹脂（昭和高分子社製ＳＳＰ５０−Ｃ０６）１００質量部と、パーカドックスＰ１６（化薬アクゾ社製）０．５質量部と、パーキュアＨＯ（日本樹脂社製）０．５質量部との混合物に対して、スターラを用いて約２０分撹拌した。そして、攪拌後の混合物を約３０分真空下に放置して脱気し、未硬化の樹脂組成物を得た。

得られた樹脂組成物をガラスクロスに含侵させ、８０℃の熱風乾燥機中に入れて、３０分間放置した。これにより含浸物を硬化させ、光取り出しシートＣを作製した。

＜比較例１＞
光取り出しシートＡに代えて、以下の方法により作製した光取り出しシートＤ（ガラスクロスを含まない）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬパネルＤを作製した。

光取り出しシートＤは以下のように作製した。
アクリルポリオール（アクリディック４９−３９４ＩＭ＜固形分６０％＞、三井武田ケミカル社）３２質量部と、シリカ樹脂粒子（平均粒径２７．２μｍ）１８０質量部と、シリコン樹脂粒子（平均粒径３０．０μｍ）４０質量部と、酢酸ブチル２１５質量部との組成で調製された光取り出しシート用溶液を、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムに塗布して乾燥させることにより、光取り出しシートＤを作製した。

＜比較例２＞
光取り出しシートＡを貼着しなかったこと以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬパネルＥを作製した。

＜比較例３＞
光取り出しシートＡを貼着せず、さらに、有機ＥＬ素子本体部を構成する素子基板としてＰＥＴフィルムに代えてガラスクロスを用いたこと以外は実施例１と同様にして、有機ＥＬパネルＦを作製した。比較例３において、有機ＥＬ素子本体部の素子基板は以下のようにして作製した。

素子基板は、ガラスクロス（ユニチカグラスファイバー社製Ｈ２０１）に樹脂ワニスを含浸させ、乾燥・硬化したものを用いた。樹脂ワニスは、以下の配合で調製した。特殊ノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製エピコート１５７）１００質量部と、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物８０質量部と、ベンジルジメチルアミン５質量部と、ジメチルホルムアミド４０質量部とを攪拌混合し、樹脂ワニスとした。

・評価試験
作製した光取り出しシートＡ〜Ｄ及び有機ＥＬパネルＡ〜Ｆについて、特性評価試験を行った。具体的には、光取り出しシートＡ〜Ｄについては、そのヘイズ値及び全光透過率についての評価を行った。また、有機パネルＡ〜Ｆについては、輝度特性、耐候性及び不燃性についての評価を行った。

＜ヘイズ値及び全光透過率評価＞
作製した光取り出しシートＡ〜Ｄについて、前記の［１．有機ＥＬ素子の構造］に記載の方法に従って、ヘイズ値及び全光透過率を測定した。

＜輝度特性評価＞
輝度特性は以下のようにして評価した。まず、作製直後の有機ＥＬパネルＡ〜Ｆに対して、陽極及び陰極間に２．５ｍＡ／ｃｍ^２の直流電流を流し、輝度（初期輝度）を測定した。輝度は、分光放射輝度計（コニカミノルタオプティクス社製ＣＳ−２０００）を用いて測定した。

そして、光取り出しシートを備えない比較例２の有機ＥＬパネルＥの輝度に対する、光取り出しシートＡ〜Ｄを備える実施例１、参考例２及び３、並びに比較例１の有機ＥＬパネルＡ〜Ｄの輝度特性を光取り出し効率として評価した。即ち、有機ＥＬパネルＡ〜Ｄの輝度を有機ＥＬパネルＥの輝度で除した値を、光取り出し効率とした。光取り出し効率が大きいほど、良好な結果を示している。

＜耐候性評価＞
有機ＥＬパネルＡ〜Ｆの各有機ＥＬパネルをサイクルサーモに入れ、６０℃で５００時間処理した後自然冷却し、その後、−２０℃で５００時間処理した。これらの加熱冷却処理後の有機ＥＬパネルＡ〜Ｆについて輝度を測定し、作製直後の輝度（初期輝度）に対する輝度の維持率（＝（処理後の輝度）／（初期輝度））として評価した。なお、輝度は、前記の＜輝度特性評価＞において記載した方法と同様にして測定した。また、加熱冷却処理後の有機ＥＬパネルＡ〜Ｆについて、黄変の有無を目視により観察した。

＜不燃性評価＞
有機ＥＬパネルＡ〜Ｆの各有機ＥＬパネルに輻射熱で３．５Ｗ／ｃｍ^２の熱を加えた状態で、さらに、有機ＥＬパネルＡ〜Ｆの各有機ＥＬパネルに対して炎を５分間当てた。その際の最大発熱量ＰｅａｋＲＨＲ（Rated Heat Release）、及び、２分間の総発熱量ＴＨＲ（Total Heat Release）を測定した。さらに、その際の発煙の有無について評価した。なお、最大発熱量及び総発熱量は、いずれも小さい方が良好な結果を示している。

・評価結果
評価結果を表１に示す。

表１に示すように、光取り出しシートを備える有機ＥＬパネルＡ〜Ｃ（実施例１並びに参考例２及び３）の光取り出し効率は何れも良好であった。一方で、光取り出しシートを備えない有機ＥＬパネルＥ及びＦ（比較例２及び３）の光取り出し効率は良くなかった。このように、光取り出しシートを備えることにより、光取り出し効率が良好になることがわかった。

なお、素子基材としてガラスクロスを用いた有機ＥＬパネルＦ（比較例３）の輝度は、有機ＥＬパネルＡ〜Ｅの輝度に比べて特に良くなかった。この結果は、ガラスクロスの表面平滑性がＰＥＴフィルムに比べて良好ではないためであると考えられる。従って、有機ＥＬ素子が単にガラスクロスを含めばよいということではなく、光取り出しシートにガラスクロスが含まれることにより本発明の効果が奏されることがわかった。

また、実施例１並びに参考例２及び３の有機ＥＬパネルＡ〜Ｃについての加熱冷却処理後の輝度維持率は、比較例１の有機ＥＬパネルＤや比較例２及び３の有機ＥＬパネルＥ及びＦの輝度維持率と比較して、良好であった。具体的には、有機ＥＬパネルＡ〜Ｃの輝度維持率は９６％〜９７％と高かった。即ち、加熱冷却処理を行っても、輝度にほとんど変化が無いことがわかった。しかしながら、有機ＥＬパネルＤにおいては、輝度維持率が比較的低かった。また、有機ＥＬパネルＥ及びＦにおいては、輝度維持率は９０％以下であり、良好ではなかった。さらに、有機ＥＬパネルＡ〜Ｃにおいては、加熱冷却処理を行っても、黄変は発生しなかった。しかしながら、有機ＥＬパネルＤ及びＥでは、黄変が発生した。このように、ガラスクロスを含む光取り出しシートを備えることにより、加熱冷却処理を行っても黄変が発生せず、しかも、高い輝度維持率が維持されることがわかった。

また、ガラスクロスを含む光取り出しシートを備えることにより、有機ＥＬパネルＡ〜ＣのＰｅａｋＲＨＲ（最大発熱量）及びＴＨＲ（２分間の総発熱量）はいずれも良好な結果示した。特に、参考例２の有機ＥＬパネルＢは若干の発煙が発生したものの、発煙量は比較例１及び２の有機ＥＬパネルよりも少なかった。このように、ガラスクロスを含む有機ＥＬパネルとすることにより、不燃性にも優れることがわかった。

このように、本発明によれば、良好な光取り出し効率と優れた耐候性とを両立させた有機ＥＬ素子を提供することができることがわかった。具体的には、良好な初期輝度及び光取り出し効率を示すとともに、輝度維持率が良好で黄変が発生しない等の耐候性にも優れる有機ＥＬ素子を提供できることがわかった。また、本発明の有機ＥＬパネルによれば、不燃性にも優れることがわかった。

従って、本発明の有機ＥＬ素子によれば、例えばディスプレイや照明装置等の様々な用途に適用した場合に、各用途において新たな機能付加を図ることができる。

１有機ＥＬ素子本体部
２光取り出しシート（シート）
３封止材
４接着層
１０有機ＥＬ素子

Claims

陽極及び陰極からなる電極と、前記陽極及び前記陰極間に配置され、前記電極間に電圧が印加されることにより発光する有機化合物層とを備える有機エレクトロルミネッセンス素子本体部と、
前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方の電極であって、前記有機化合物層から放出された光が透過する電極の外側に設けられ、ガラスクロス、糖類及び無機樹脂を含んでなる光取り出し部材とを備えている
ことを特徴とする、有機エレクトロルミネッセンス素子。
前記光取り出し部材は、前記陽極及び前記陰極のうちの少なくとも一方の側に対して、接着層によって接着されて設けられている
ことを特徴とする、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
前記有機エレクトロルミネッセンス素子本体部は、ガスバリア層が形成された透明樹脂フィルムを有することを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。