CN113825641A - 阻隔膜、使用其的波长转换片以及使用其的显示装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种波长转换片用的阻隔膜，其能够有效抑制导光板与波长转换片粘贴，同时能够抑制波长转换片、导光板、漫射板等受到损伤。阻隔膜(1)是至少包含阻隔层(13)和基材层(12)、(15)的多层膜，在阻隔膜(1)的一个表面层积有包含树脂(161)和填料(162)且填料的至少一部分突出的粗糙层(16)，在粗糙层(16)的俯视图中，从粗糙层(16)突出的填料(162)中作为相对于粗糙层(16)的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料(162)的比例在从粗糙层(16)突出的填料(162)的总量中为20％以上80％以下，粗糙层(16)的俯视图中的1mm2的正方形内的填料(162)的总数为1800个以上。

Description

阻隔膜、使用其的波长转换片以及使用其的显示装置
技术领域
本发明涉及主要用于显示装置的背光源的波长转换片。
背景技术
近年来，伴随着个人计算机的发展、特别是便携式个人计算机的发展，液晶显示装置的需要正在增加。另外，最近家庭用液晶电视机的普及率也正在提高，智能手机、平板终端也正在广泛普及，因此液晶显示装置的市场处于日益扩大的状况。
这种液晶显示装置通常具有包括滤色器、对置基板、被它们夹持的液晶层的液晶单元部，进而具有被称为背光源部的光源。
另外，最近，使用量子点技术的背光源构件的开发也在推进。量子点是指半导体的纳米尺寸的微粒。另外，量子点可以通过电子或激子被封闭到纳米尺寸的小晶体内的量子限制效应(量子尺寸效应)在发光波长的整个可见区域进行调整。量子点能够在窄波段产生强荧光，因此显示装置能够利用色纯度优异的三原色的光进行照明。因此，通过使用量子点的背光源，能够形成具有优异的色彩再现性的显示装置。
该显示装置的背光源中使用的波长转换片具有将半导体的纳米尺寸的微粒分散于树脂层中的荧光体层、和为了抑制荧光体层的劣化而在荧光体层的两表面层积阻隔膜而与LED光源组合的构成。
例如，开发出一种波长转换片和使用了该波长转换片的背光单元，该波长转换片在含有荧光体的荧光体层层积有阻隔膜，阻隔膜在规定的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的单面层积有阻隔层(专利文献1)。通过为使用了阻隔性和透明性优异的阻隔膜的波长转换片，能够提供具有更接近自然的鲜艳色彩且色调优异的显示装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：WO2015/037733
发明内容
发明所要解决的课题
此处，在显示装置使用波长转换片的情况下，包括沿着背光源的导光板的端面安装波长转换片的侧管封装(On-Edge)方式、和在导光板的背面侧的表面安装波长转换片的表面安装方式等使用导光板的安装方式。另外，除了使用导光板的安装方式以外，还有下述直下型方式：代替导光板而在背面侧配置LED，经由漫射板从其光源照射的光照射到波长转换片上。
在表面安装方式中，使导光板的背面侧的表面与波长转换片接触配置，由此从LED照射的光经由导光板照射到波长转换片上。表面安装方式能够减轻由LED发出的热的影响。
另一方面，在直下型方式中，使漫射板的背面侧的表面与波长转换片接触配置，由此从LED照射的光被漫射板漫射，并照射到波长转换片上。直下型方式容易维持屏幕整体的亮度，能够显示高亮度的画质。
但是，本发明人发现，在将安装有波长转换片的表面安装方式或直下型方式的显示装置从常温常湿的环境变化成低温、高温或低湿、高湿等特定气氛的环境时，或者从特定气氛的环境变化为常温常湿的环境时等，有时会发生导光板或漫射板等与波长转换片的阻隔膜部分粘贴的现象。另外，在波长转换片在层积于导光板、漫射板等的状态下进行搬运等情况下，波长转换片和导光板等相互摩擦，有时还会产生波长转换片和/或导光板等受到损伤的现象。
本发明是鉴于上述情况而进行的，其目的在于提供一种波长转换片用的阻隔膜，其能够有效抑制导光板或漫射板等与波长转换片粘贴，同时能够抑制波长转换片、导光板、漫射板等受到损伤。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题进行了反复深入的研究，结果发现，若为在阻隔膜的一个表面层积有包含树脂和填料的粗糙层的阻隔膜，则能够解决上述课题，由此完成了本发明。
(1)一种阻隔膜，其为由至少包含阻隔层和基材层的多层膜构成的阻隔膜，其中，
在上述阻隔膜的一个表面层积有包含树脂和填料且该填料的至少一部分突出的粗糙层，
在上述粗糙层的俯视图中，从上述粗糙层突出的上述填料中作为相对于上述粗糙层的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例在从上述粗糙层突出的上述填料的总量中为20％以上80％以下，
上述粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的上述填料的总数为1800个以上。
(2)如(1)所述的阻隔膜，其中，上述粗糙层中包含的上述填料包含选自由丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、尼龙系树脂和聚乙烯系树脂组成的组中的至少1种以上的树脂。
(3)如(1)或(2)所述的阻隔膜，其中，上述粗糙层中包含的上述树脂包含丙烯酸系树脂。
(4)如(1)～(3)中任一项所述的阻隔膜，其中，在上述阻隔膜的与上述粗糙层相反一侧的表面层积有底涂层。
(5)如(1)～(4)中任一项所述的阻隔膜，其中，上述填料包含依据JIS A 9511测定的抗压强度为2.8kgf/mm2以上的树脂。
(6)如(1)～(5)中任一项所述的阻隔膜，其中，上述粗糙层的干燥后的涂布量为1.0g/m2以上3.6g/m2以下，依据JIS K7136测定的上述粗糙层的雾度值为10％以上35％以下。
(7)一种波长转换片，其按照包含荧光体的荧光体层的一个面和(1)～(6)中任一项所述的阻隔膜的与层积有上述粗糙层的一侧的面相反侧的面相向的方式进行了层积。
(8)一种显示装置，其为具备导光板的表面安装方式的显示装置，其中，
依次层积有LCD面板、偏振光选择反射片、棱镜片、(7)所述的波长转换片、上述导光板、反射片，
在上述导光板的端面配置有光源部，
上述波长转换片在上述粗糙层一侧的面上配置有上述导光板。
(9)一种显示装置，其为具备漫射板的直下型方式的显示装置，其中，
依次层积有LCD面板、偏振光选择反射片、棱镜片、(7)所述的波长转换片、上述漫射板、光源部、反射片，
上述波长转换片在上述粗糙层一侧的面上配置有上述漫射板。
发明的效果
本发明的波长转换片用的阻隔膜能够有效抑制导光板或漫射板等与波长转换片粘贴，同时能够抑制波长转换片、导光板、漫射板等受到损伤。
附图说明
图1是示意性地示出本发明的一个实施方式的波长转换片的截面图。
图2是示意性地示出在本发明的一个实施方式的波长转换片的显示装置的显示面侧配置的阻隔膜的截面图。
图3是示意性地示出本发明的一个实施方式的表面安装方式的显示装置的构成的立体图。
图4是图3所示的显示装置的截面图。
图5是示意性地示出本发明的一个实施方式的直下型方式的显示装置的构成的截面图。
图6是示意性地示出本发明的另一实施方式的波长转换片的截面图。
图7是示意性地示出在本发明的另一实施方式的波长转换片的显示装置配置的阻隔膜的截面图。
图8是示意性地示出本发明的另一实施方式的波长转换片的截面图。
图9是示意性地示出本发明的另一实施方式的阻隔膜的截面图。
具体实施方式
下面，对本发明的具体实施方式进行详细说明，但本发明不受以下实施方式的任何限定，可以在本发明目的的范围内进行适当变更来实施。
<<1.波长转换片>>
如图1所示，波长转换片10中层积有含有荧光体112和封装树脂111的荧光体层11，并在荧光体层11的两表面层积有阻隔膜1和阻隔膜2。通过在荧光体层11的两表面层积阻隔膜1、2，对荧光体层赋予阻隔性。需要说明的是，本说明书中，在将波长转换片10用作背光源的情况下，荧光体层的两表面侧是指配置有光源的一侧(光入射面侧)和与配置有背光源的一侧相反的一侧(光出射面侧)这两个表面侧。
该阻隔膜1配置于波长转换片10的与导光板的背面侧的表面相接的一侧。并且，在阻隔膜1的一个表面层积有粗糙层16。通过在粗糙层的面配置导光板，能够有效抑制导光板与波长转换片粘贴。阻隔膜2配置于波长转换片10的与导光板相接一侧的相反侧，本实施方式中，如图1所示，未设置上述粗糙层。
需要说明的是，图1的波长转换片10为仅在阻隔膜1的一个表面层积有粗糙层16的构成，但也可以为在阻隔膜2的表面(图1中，第2基材层25侧的表面)也层积有粗糙层的构成(未图示)。例如，在图1的波长转换片10中，在阻隔膜2的一侧(第2基材层25侧)配置光学膜时，只要是在粗糙层的面配置有光学膜的构成，则也同样能够有效抑制光学膜与波长转换片粘贴。
<<2.阻隔膜>>
如图2所示，本实施方式的阻隔膜1是至少包含阻隔层和基材层的多层膜。具体而言，依次层积有第1基材层12、阻隔层13(无机氧化物薄膜层13b、有机被覆层13a)、粘接剂层14和第2基材层15，在阻隔膜1的第2基材层15侧的表面层积有粗糙层16。通过在粗糙层的面配置导光板，能够有效抑制导光板与波长转换片粘贴。
阻隔膜2是省略了上述阻隔膜1的粗糙层16的阻隔膜，依次层积有第1基材层22、阻隔层23(无机氧化物薄膜层23b、有机被覆层23a)、粘接剂层24和第2基材层25。
需要说明的是，阻隔膜1不限定于上述层积顺序，例如，也可以为替换了阻隔层13和第1基材层12的层构成，即，依次层积有阻隔层13(有机被覆层13a、无机氧化物薄膜层13b)、第1基材层12、粘接剂层14、第2基材层15和粗糙层16。另外，同样地，阻隔膜2也可以依次层积有阻隔层23(有机被覆层23a、无机氧化物薄膜层23b)、第1基材层22、粘接剂层24和第2基材层25。
另外，虽然示出了对第1基材层依次层积无机氧化物薄膜层、有机被覆层的示例，但不限定于此，也可以对第1基材层依次层积有机被覆层、无机氧化物薄膜层。
以下，利用图2所示的阻隔膜1对各层进行说明。
[粗糙层]
粗糙层16是包含树脂161和填料162的层，并且，该粗糙层16的表面不是均匀的平坦形状，通过使粗糙层包含填料，填料的至少一部分突出。通过这种粗糙层可有效抑制粗糙层16与导光板6的粘贴。
需要说明的是，“填料的至少一部分突出的粗糙层”这句话是指，该粗糙层的表面不是均匀的平坦形状，而是因填料而在粗糙层的表面形成有起伏、和/或填料的至少一部分从粗糙层的表面露出的状态。
此外，通过在阻隔膜具备粗糙层，在将阻隔膜或波长转换片卷成卷状时，还能防止阻隔膜或波长转换片彼此的粘贴。因此，能够将阻隔膜或波长转换片以卷状的形式进行保存或搬运。
特别是，以在波长转换片的粗糙层的面配置有导光板的显示装置的状态进行搬运等情况下，有时粗糙层和导光板会相互摩擦，在粗糙层产生划痕。或者，粗糙层和导光板相互摩擦，由粗糙层产生碎片，该碎片有时会损伤粗糙层或导光板。这种粗糙层或导光板的划痕可导致显示装置的外观不良。
因此，本实施方式的阻隔膜的特征在于，从该粗糙层突出的填料中相对于粗糙层的厚度为2倍以上的粒径的填料的比例、即在粗糙层的俯视图中从粗糙层突出的填料中作为相对于粗糙层的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例在从粗糙层突出的填料总量中为20％以上80％以下。若该填料的比例小于20％，则粗糙层的耐划伤性变差，进而有时无法有效抑制粗糙层与导光板的粘贴。另外，若该填料的比例超过80％，则粗糙层的耐划伤性变差。此处，如图1、图2中的t所示，粗糙层16的厚度是指构成粗糙层的树脂161的层的厚度。
另外，本实施方式的阻隔膜的特征在于，粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的填料的总数为1800个以上。由此，能够有效抑制粗糙层与导光板的粘贴，能够提高粗糙层的耐划伤性。需要说明的是，粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的填料的总数的上限没有特别限定，例如优选为20000个以下、优选为15000个以下。此处，粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的填料的总数是指，从表面侧观察粗糙层，在粗糙层的表面露出的填料的总数，不包括埋没在粗糙层中而无法从表面进行视觉确认的填料的数量。
作为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例例如可以通过对俯视图中的规定面积(例如258×260μm)的粗糙层的表面进行显微镜(例如，激光显微镜或扫描型电子显微镜)或显微镜等观察来测定。需要说明的是，根据需要调整测定画面，使平面部分水平。然后，获取图像，调整亮度，以能够提取填料部分。由调整了其亮度的图像计算出颗粒和该颗粒的直径。然后，根据由涂布量等计算出的粗糙层的厚度计算出作为相对于该粗糙层的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例。
粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的填料的总数可以由该规定面积(例如258×260μm)中的填料的总数换算成1×1mm而算出。
需要说明的是，用于求出填料的比例及俯视图中的1mm2的正方形内的填料的总数的显微镜可以使用例如奥林巴斯公司制造的激光显微镜OLS4000。
通过具备使从粗糙层突出的填料的比例和规定面积的填料的总数为上述范围的粗糙层，能够有效抑制粗糙层及导光板(漫射板)受到损伤。
需要说明的是，在阻隔膜2的表面(图1中，第2基材层25侧的表面)层积有粗糙层的结构、即在粗糙层与光学膜接触的情况下也相同。即，通过具备使从粗糙层突出的填料的比例和规定面积的填料的总数为上述范围的粗糙层，能够有效抑制粗糙层及光学膜受到损伤。
特别是，在光学膜为棱镜片时，根据棱镜片的形状，棱镜会缺损，因此与其他光学膜相比可以说光学膜更容易受到损伤。
因此，在使用棱镜片作为光学膜的情况下，通过在阻隔膜2的表面层积使从粗糙层突出的填料的比例和规定面积的填料的总数为上述范围的粗糙层，能够有效抑制光学膜(棱镜片)受到损伤。
另外，该填料162包含抗压强度为2.8kgf/mm2以上的树脂。该树脂的抗压强度优选为3.0kgf/mm2以上、更优选为4.0kgf/mm2以上。2.8kgf/mm2以上的树脂可以举出例如丙烯酸系树脂。通过使填料162的抗压强度为2.8kgf/mm2以上，难以发生填料被异物压坏、削去等问题，异物难以直接在粗糙层表面产生划痕，起到耐划伤性提高的效果。丙烯酸系树脂是指包含选自由甲基丙烯酸、丙烯酸、甲基丙烯酸酯以及丙烯酸酯组成的组中的至少一种具有羧基或羧酸酯基的烯键式不饱和单体作为单体成分的聚合物。假设填料162的抗压强度小于2.8kgf/mm2，则在异物等混入时，填料被压坏、削去等，异物容易直接在粗糙层表面产生划痕，耐划伤性降低，故不优选。
只要可起到本发明的效果，则粗糙层的厚度就没有特别限制。例如，优选为1.0μm以上50.0μm以下、更优选为1.5μm以上10.0μm以下。需要说明的是，粗糙层的厚度是指粗糙层中的填料以外的树脂部分的厚度(图1、图2中的t)，不包括树脂上露出(露出)的填料的部分的厚度。粗糙层的厚度例如可以通过利用扫描型电子显微镜等观察截面来测定。
为了使粗糙层的厚度为上述范围，优选使粗糙层的干燥后的涂布量为1.0g/m2以上3.6g/m2以下。若为这种范围，则能够抑制填料埋入粗糙层，能够抑制杂质进入粗糙层与导光板之间。假设粗糙层的干燥后的涂布量小于1.0g/m2，则粗糙层相对于填料变薄，杂质进入粗糙层与导光板(漫射板)之间，有可能损伤粗糙层或导光板(漫射板)。若粗糙层的干燥后的涂布量超过3.6g/m2，则填料会埋入粗糙层，作为粗糙层的功能有可能受损。
粗糙层的雾度值优选为10％以上35％以下，另外，更优选为10％以上25％以下。通过使粗糙层的雾度值为10％以上，粗糙层中包含的填料的数量变得充分，能够提高粗糙层的耐划伤性，进而能够有效抑制粗糙层与导光板的粘贴。通过使粗糙层的雾度值为35％以下，能够提高粗糙层的耐划伤性，能够提高作为显示装置的功能。
假设粗糙层的雾度值小于10％，则粗糙层中包含的填料的数量不足，因此粗糙层的耐划伤性有时变差，进而无法有效抑制粗糙层与导光板的粘贴。若粗糙层的雾度值超过35％，则粗糙层的耐划伤性变差，进而雾度值过高，因此作为显示装置的功能降低。需要说明的是，雾度值可以依据JIS K7136使用雾度计来进行测定。
以下，对粗糙层中包含的树脂和填料进行说明。
(树脂)
粗糙层中包含的树脂161只要是能够达到本发明目的的树脂就没有特别限制，可以举出例如丙烯酸系树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、聚酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、丙烯酸氨基甲酸酯系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂等。其中，从具有硬度的方面出发，优选为丙烯酸系树脂。
在包含丙烯酸系树脂的情况下，相对于粗糙层中包含的树脂100质量份，丙烯酸系树脂的比例优选为60质量份以上、更优选为80质量份以上。
(填料)
填料形成为球状，抑制导光板与波长转换片粘贴。填料的种类没有特别限制，可以举出例如丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯系树脂等。填料优选包含依据JIS A 9511测定的抗压强度为2.8kgf/mm2以上的树脂，可以举出例如丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂等。
另外，除了上述丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂以外，填料也可以使用二氧化硅微粒、三聚氰胺、尼龙、苯胍胺系微粒等。需要说明的是，这些材料的硬度按照降序为二氧化硅微粒、三聚氰胺、尼龙、聚苯乙烯系树脂、丙烯酸系树脂、聚乙烯系树脂。
填料的平均粒径优选为1μm以上50μm以下、更优选为1.5μm以上10μm以下。通过使填料的平均粒径为1μm以上，填料的至少一部分从粗糙层的表面更多地露出，能够更有效地抑制粗糙层16与导光板6的粘贴，同时能够提高粗糙层的耐划伤性。
通过使填料的平均粒径为50μm以下，能够抑制填料从粗糙层脱离导致的粗糙层的功能下降、及因脱离的填料而使粗糙层产生划痕。
平均粒径例如在基于JIS Z8820和Z8822的粒度分布测定中作为D50的值获得。平均粒径可以通过例如动态光散射方式、激光衍射散射方式、或者SEM、TEM观察进行测定。
填料的含量相对于粗糙层总量优选为5质量％以上50质量％以下、更优选为10质量％以上40质量％以下。通过为5质量％以上，能够更有效地防止粗糙层与导光板等其他构件等的粘贴。通过为50质量％以下，能够确保用于将粗糙层成膜的足够的树脂量，粗糙层的成膜性提高。
在粗糙层中包含的填料中从粗糙层突出的填料的含量相对于粗糙层总量优选为2质量％以上25质量％以下、更优选为5质量％以上20质量％以下。
填料的折射率与粗糙层中包含的树脂的折射率的折射率差优选为0.5以下、更优选为0.3以下、进一步优选为0.1以下。
(添加剂)
关于本实施方式的粗糙层中可以进一步根据需要任意添加稳定剂、固化剂、交联剂、润滑剂、紫外线吸收剂、其他等添加剂。
[基材层]
基材层构成阻隔膜的多层膜，是主要由树脂构成的层。能够用于基材层的材质只要是不损害波长转换片的功能的材质就没有特别限制，可以举出例如聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯丁酸酯(PBT)、非晶聚芳酯、聚砜、聚醚砜、聚醚酰亚胺、氟树脂、液晶聚合物等树脂。从不损害波长转换片的功能的透明性和耐热性等方面出发，优选为聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。需要说明的是，第1基材层12、22和第2基材层15、25的材质可以为相同的材质，也可以为不同的材质。
阻隔膜1中的基材层的厚度没有特别限制，在为形成阻隔层的基材层(例如图1的第1基材层12、22)的情况下，为了无损阻隔层的性能，优选为8μm以上150μm以下、更优选为8μm以上100μm以下。
构成图1的波长转换片的阻隔膜1、2依次层积有第1基材层12、22、阻隔层13、23、粘接剂层14、24、和第2基材层15、25。阻隔膜1不限定于依次层积有第1基材层、阻隔层和第2基材层的阻隔膜，只要是至少包含阻隔层和基材层的多层膜即可。即，与构成图1的波长转换片的阻隔膜不同，阻隔层可以配置于最外层，基材层也可以为1个。但是，若为构成图1的波长转换片的阻隔膜，则阻隔层13、23未露出在阻隔膜的最表面，因此能够减轻在阻隔层产生划痕或裂纹的可能性，能够抑制因在阻隔层产生划痕或裂纹所引起的荧光体层的缺陷。需要说明的是，基材层也可以为3个以上。
在构成图1的波长转换片10的阻隔膜1、2中，配置于荧光体层附近的第1基材层12、22的厚度优选为8μm以上50μm以下、更优选为8μm以上且小于25μm、进一步优选为8μm以上20μm以下。通过使第1基材层12、22的厚度为8μm以上，能够提高第1基材层12、22的阻隔性。通过使第1基材层12、22的厚度为50μm以下，能够减轻从第1基材层12、22的侧面通过的氧及水蒸气。
在构成图1的波长转换片的阻隔膜中，第2基材层15、25的厚度优选超过25μm且为200μm以下、更优选为38μm以上175μm以下、进一步优选为50μm以上150μm以下。通过使第2基材层15、25的厚度超过25μm且为200μm以下，波长转换片的挠性提高，与显示装置的背光源贴合时的处理性提高。
为了避免来自背光源的光被遮蔽，基材层优选基于JIS K 7361测定的总光线透射率高。具体而言，第1基材层12、22和第2基材层基于JIS K 7361测定的总光线透射率优选为85％以上、更优选为90％以上。
需要说明的是，为了提高与后述阻隔层的密合粘接性等，在基材层的表面根据需要可以预先设置所期望的表面处理层(未图示)。作为表面处理层，例如，可以任意地实施电晕放电处理、臭氧处理、使用氧气或氮气等的低温等离子体处理、辉光放电处理、利用化学试剂等进行处理的氧化处理、其他等前处理，例如，可以形成和设置电晕处理层、臭氧处理层、等离子体处理层、氧化处理层、其他等。
上述表面前处理是作为用于改善各种树脂的膜或片与后述阻隔层的密合粘接性等的方法而实施的，作为上述改善密合粘接性的方法，除此以外，例如，也可以在各种树脂的膜或片的表面预先任意地形成底层涂料涂布剂(primer coat agent)层、底涂层(undercoat)剂层、锚涂层剂层、粘接剂层、或者蒸镀锚涂层剂层等，作为表面处理层。
作为涂布剂层，可以使用例如以聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚氨酯系树脂、环氧系树脂、酚醛系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、聚乙烯或聚丙烯等聚烯烃系树脂或其共聚物或改性树脂、纤维素系树脂、其他等作为载体的主要成分的树脂组合物。
(阻隔层)
阻隔层是对阻隔膜赋予阻隔性的层，通常为涂布包含聚乙烯醇等水溶性高分子等的涂布剂而形成的有机被覆层、和/或通过蒸镀无机氧化物而形成的无机氧化物薄膜层。阻隔层是有机被覆层和无机氧化物薄膜层层积而成的复数个层构成的层。需要说明的是，阻隔层不限定于有机被覆层和无机氧化物薄膜层层积而成的复数个层，有机被覆层或无机氧化物薄膜层分别可以为单层，或者也可以为有机被覆层和无机氧化物薄膜层交替层积2层以上的层。另外，通过使有机被覆层与底涂层密合层积，能够减轻在有机被覆层的内层所层积的无机氧化物薄膜层产生划痕或裂纹。
有机被覆层是防止后续工序中的各种二次性损伤、同时对阻隔膜赋予高阻隔性的层。有机被覆层是将气体阻隔性组合物作为涂布液进行涂布而形成的，该气体阻隔性组合物例如包含水溶性高分子和含有1种以上的金属醇盐和水解物、或氯化锡中的至少一者的水溶液或者水/醇混合溶液。有机被覆层优选含有选自由含羟基的高分子化合物、金属醇盐、金属醇盐水解物和金属醇盐聚合物组成的组中的至少一种作为成分。作为用于有机被覆层的水溶性高分子，可以举出聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、乙烯·乙烯醇共聚物等，特别是在使用聚乙烯醇、乙烯·乙烯醇共聚物的情况下，有机被覆层的气体阻隔性最优异。聚乙烯醇系树脂和/或乙烯·乙烯醇共聚物的含量相对于上述醇盐的总量100质量份为5质量份以上500质量份以下的范围，优选以约20质量份以上200质量份以下左右的混配比例制作气体阻隔性组合物。
气体阻隔性组合物中也可以添加硅烷偶联剂等。作为硅烷偶联剂，可以使用已知的含有机反应性基团的有机烷氧基硅烷。本发明中，具有环氧基的有机烷氧基硅烷特别合适，例如可以使用γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、或者β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。上述硅烷偶联剂可以使用1种或将2种以上混合使用。本发明中，上述硅烷偶联剂的用量能够在相对于上述烷氧基硅烷100质量份为1质量份以上20质量份以下左右的范围内使用。
有机被覆层的膜厚没有特别限定，优选为100nm以上500nm以下。通过使有机被覆层的膜厚为100nm以上，能够对阻隔膜赋予充分的阻隔性。通过使有机被覆层的膜厚为500nm以下，透明性优异，不会降低波长转换片的特性。
无机氧化物薄膜层与有机被覆层同样地是对阻隔膜赋予高阻隔性的层。无机氧化物薄膜层可示例出由氧化铝、氧化硅、氧化镁或它们的混合物构成的层。从对阻隔膜赋予充分的阻隔性的方面和阻隔膜的生产率的方面出发，优选以氧化铝或氧化硅为主要成分的薄膜层。
形成无机氧化物薄膜层的方法可以举出通过蒸镀无机氧化物而形成的方法。作为蒸镀膜的形成方法，可以举出例如真空蒸镀法、溅射法以及离子镀法等物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、或者等离子体化学气相沉积法、热化学气相沉积法以及光化学气相沉积法等化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等。
无机氧化物薄膜层的膜厚没有特别限定，优选为5nm以上500nm以下。通过使无机氧化物薄膜层的膜厚为5nm以上，无机氧化物薄膜层变得均匀，能够对阻隔膜赋予充分的阻隔性。通过使无机氧化物薄膜层的膜厚为500nm以下，能够对无机氧化物薄膜层赋予充分的挠性，能够减轻无机氧化物薄膜层产生划痕或裂纹的危险性。
为了避免来自背光源的光被遮蔽，阻隔层优选基于JIS K 7361测定的总光线透射率高。具体而言，阻隔膜基于JIS K 7361测定的总光线透射率优选为85％以上、更优选为90％以上。需要说明的是，总光线透射率是在PET膜(膜厚：12μm)上形成有阻隔层时的测定值。
(粘接剂层)
如图2所示，本实施方式的阻隔膜1可以在阻隔层13与第2基材层15之间层积有粘接剂层14。作为构成粘接剂层14的粘接剂，可以使用例如聚乙酸乙烯酯系粘接剂、丙烯酸的乙酯、丁酯、2-乙基己酯等的均聚物、或者它们与甲基丙烯酸甲酯、丙烯腈、苯乙烯等的共聚物等构成的聚丙烯酸酯系粘接剂、氰基丙烯酸酯系粘接剂、乙烯与乙酸乙烯酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸、甲基丙烯酸等单体的共聚物等构成的乙烯共聚物系粘接剂、纤维素系粘接剂、聚酯系粘接剂、聚酰胺系粘接剂、聚酰亚胺系粘接剂、脲树脂或三聚氰胺树脂等构成的氨基树脂系粘接剂、酚醛树脂系粘接剂、环氧系粘接剂、聚氨酯系粘接剂、反应型(甲基)丙烯酸系粘接剂、氯丁橡胶、丁腈橡胶、苯乙烯·丁二烯橡胶等构成的橡胶系粘接剂、硅酮系粘接剂、碱金属硅酸盐、低熔点玻璃等构成的无机系粘接剂等。
构成粘接剂层的粘接剂的组成体系可以为水性型、溶液型、乳液型、分散型等中的任一组合物方式，另外，其性状可以为膜·片状、粉末状、固体状等中的任一方式，此外，关于粘接机理，可以为化学反应型、溶剂挥发型、热熔融型、热压型等中的任一方式。
构成粘接剂层的粘接剂例如可以通过辊涂、凹版印刷、刮刀涂布、浸涂、喷涂、其他涂布法、或者印刷法等来实施，作为其涂布量，优选0.1g/m2以上10g/m2以下(干燥状态)。
需要说明的是，代替由上述粘接剂构成的粘接剂层，例如也可以层积由热固性树脂、或使热塑性树脂含有交联剂等的树脂形成的树脂层。此外，也可以为通过挤出层压进行粘接的方法，即，使EVA、离聚物、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯系树脂等热塑性树脂熔融，将熔融的热塑性树脂挤出并层积。
(荧光体层)
荧光体层11是用于调整从背光源发出的光的发光波长的层。荧光体层11中含有由量子点构成的1种或2种以上的荧光体。
形成荧光体112的量子点是具有量子限制效应(quantum confinement effect)的规定尺寸的半导体颗粒。当量子点由激发源吸收光并达到能量激发态，会释放出与量子点的能带隙相应的能量。若调节量子点的大小或物质的组成，则能够调节能带隙，能够获得各种水平的波段的能量。特别是，量子点能够在窄波段产生强的荧光。因此，显示装置能够利用色纯度优异的三原色的光进行照明，由此能够制成具有优异的色彩再现性的显示装置。
对于荧光体而言，作为发光部的核被保护层(壳)所被覆。核可以使用例如硒化镉(CdSe)、碲化镉(CdTe)、硫化镉(CdS)。保护层可以使用硫化锌(ZnS)。
荧光体层11可以通过层积含有荧光体112的封装树脂111来形成。例如，将含有荧光体112和封装树脂111的混合液涂布到基材层的表面并进行固化，由此可以形成。封装树脂111可以举出使聚酯(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯树脂等丙烯酸类树脂的光聚合树脂、酚醛树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、聚酯树脂、有机硅树脂、聚氨酯树脂等热固性树脂、或者EVA、离聚物、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯系树脂等热塑性树脂含有交联剂等的树脂。从荧光体层与基材层的密合性的方面出发，优选包含选自由丙烯酸类树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、聚酯树脂组成的组中的至少1种以上的树脂。另外，它们可以单独使用，或者也可以将1种以上混合使用。另外，可以形成用于提高密合性的密合层。
<<3.显示装置>>
利用图3～5对具备上述波长转换片的显示装置进行说明。
图3是示意性地示出本发明的一个实施方式的表面安装方式的显示装置的构成的立体图。
图4是图3所示的显示装置的截面图。图4所示的截面图是与构成显示装置的波长转换片10等层积的方向平行、且与光源部和导光板排列的方向(由光源部发出的光前进的方向)平行的截面处的截面图。
图5是示意性地示出本发明的一个实施方式的直下型方式的显示装置的构成的截面图。
图3和图4所示的显示装置70依次层积有LCD面板71、偏振光选择反射片72、棱镜片73、波长转换片10、导光板6、反射片7。另外，显示装置70中沿着导光板6的至少一个端面(侧面)配置有光源部5。
LCD面板71由透射型的液晶显示元件形成，是在其显示面形成屏幕图像信息的透射型显示部。
偏振光选择反射片72是具有使特定偏振光状态的光透射并反射除此以外的偏振光状态的光的功能的片状的构件，例如，可以使用DBEF系列(住友3M株式会社制造)。在使用这种偏振光选择反射片72的情况下，从提高亮度、提高光的利用效率的方面出发，优选按照偏振光选择反射片72的透射轴与位于LCD面板71的光入射侧的未图示的偏振片的透射轴平行的方式进行配置。
棱镜片73是具有将从导光板6的上表面射出的光的行进方向朝向正面方向(LCD面板的面板面的法线方向)偏转(会聚)的作用的光学片。
导光板6是引导光的大致平板状的构件。导光板6使光源部5发出的光从平板状的一端面入射，在导光板内一边在导光板6的上表面和下表面进行全反射一边引导，适当地从导光板6的上表面向棱镜片73侧射出。
反射片7是能够反射光的片状的构件，配置于导光板6的与棱镜片73相反一侧，具有使从导光板6的下表面射出的光再次向导光板6内反射的功能，提高了从光源部5发出的光的利用效率。从提高光的利用效率等方面等出发，反射片7优选主要具有镜面反射性(正反射性)。反射片7可以使用例如至少反射面(导光板6侧的面)由金属等具有高反射率的材料形成的片状的构件、包含由具有高反射率的材料形成的薄膜(例如金属薄膜)作为表面层的片状的构件等。需要说明的是，不限于此，反射片7例如可以制成主要具有漫反射性且反射率高的白色树脂制的片状构件等。
光源部5是发出对LCD面板71进行照明的光的光源。从使光均匀地入射到导光板6的一端面的方面出发，光源部5例如通过以规定的间隔排列多个点光源而形成。该点光源例如使用LED(发光二极管)光源、有机EL(电致发光)光源。
图3和图4的显示装置70为所谓的表面安装方式的显示装置，其中，从配置于导光板6的端面的背光源即光源部5照射的光入射到导光板6，在导光板内被引导，使从导光板6的上表面射出的光依次透射到波长转换片10、棱镜片73、偏振光选择反射片72、LCD面板71。需要说明的是，根据需要设置反射片7。
在所谓的表面安装方式的显示装置70中，波长转换片10被配置成与导光板6接触。此处，在现有的波长转换片用的阻隔膜或波长转换片的情况下，阻隔膜与导光板发生粘贴，成为使液晶显示装置的显示特性大幅劣化的主要原因。另外，在对显示装置进行搬运等情况下，波长转换片与导光板相互摩擦，波长转换片和/或导光板受到损伤，也成为使显示装置的显示特性劣化的主要原因。
但是，若为在波长转换片的粗糙层的面配置有导光板的显示装置，即便是表面安装方式的显示装置，也能有效抑制阻隔膜与导光板粘贴，同时能够抑制波长转换片和/或导光板受到损伤。
另外，导光板可以使用现有公知的导光板，为了更有效地防止阻隔膜与导光板的粘贴，还能够使导光板的与阻隔膜接触一侧的表面的形状为楔形。
利用图5对具备上述波长转换片的其他显示装置进行说明。图5的显示装置80为所谓的直下型方式的显示装置，其中，将光源部5配置于漫射板8的背面侧，将波长转换片10配置于漫射板8的与光源部5相反的一侧，隔着漫射板8将由该光源部5照射的光照射至波长转换片10。
需要说明的是，在波长转换片10的与漫射板8相反的一侧，与上述图3和图4所示的显示装置70同样地依次层积棱镜片73、偏振光选择反射片72、LCD面板71。另外，在光源部5的与漫射板8相反的一侧设置反射片7，使从光源部5发出的光中未入射到漫射板8而反射的光再次反射到漫射板8侧，能够提高光的利用效率。需要说明的是，图5所示的光源部5通过沿着漫射板8的板面以格子状等间隔地配置多个点光源(LED)而形成。
在所谓的直下型方式的显示装置80中，波长转换片10被配置成与漫射板8接触。通过在波长转换片10的粗糙层16的面配置漫射板8，出于与上述显示装置70的情况同样的理由，能够有效抑制阻隔膜与漫射板发生粘贴，同时能够抑制波长转换片和/或漫射板受到损伤。
<<4.另一实施方式的阻隔膜>>
利用图6～9对本发明的另一实施方式的阻隔膜和波长转换片进行说明。
图6的波长转换片30中层积的阻隔膜3、4在层积荧光体层31的一侧的表面层积有底涂层37、47。由此，能够提高阻隔膜与荧光体层的密合性。
此处，如图7所示，图6所示的波长转换片30中使用的阻隔膜3依次层积有底涂层37、阻隔层33(有机被覆层33a、无机氧化物薄膜层33b)、第1基材层32、粘接剂层34、第2基材层35和粗糙层36。
另外，阻隔膜4除了省略了上述阻隔膜3的粗糙层以外，具备与阻隔膜3同样的层构成。即，阻隔膜4依次层积有底涂层47、阻隔层43(有机被覆层43a、无机氧化物薄膜层43b)、第1基材层42、粘接剂层44和第2基材层45。
阻隔膜3、4按照底涂层37、47侧的面分别与荧光体层31接触的方式进行层积。
此处，如图8所示，波长转换片30也可以为下述方式：图7所示的2片阻隔膜3分别以底涂层37接触荧光体层31的表面、背面的方式进行层积，粗糙层36露出于波长转换片30的表面和背面这两个面。通过在波长转换片30的两面配置粗糙层，利用该波长转换片30构成显示装置(参照图3～5)的情况下，不仅能抑制波长转换片30与导光板6或漫射板8之间的粘贴及损伤，而且还能抑制波长转换片30与光学片(棱镜片73)之间的粘贴及损伤。
需要说明的是，底涂层可以如图6的实施方式的波长转换片那样层积于阻隔层与荧光体层之间，例如也可以层积于基材层与荧光体层之间。以下，对底涂层进行说明。
(底涂层)
底涂层例如可以举出包含聚氨酯系树脂组合物的底涂层，进而优选包含硅烷偶联剂和填充材料。
作为聚氨酯系树脂组合物，具体而言，可以使用例如通过多官能异氰酸酯与含羟基的化合物的反应得到的聚合物，具体而言，例如通过甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、聚亚甲基聚亚苯基多异氰酸酯等芳香族多异氰酸酯、或者六亚甲基二异氰酸酯、亚二甲苯基二异氰酸酯等脂肪族多异氰酸酯等多官能异氰酸酯、与聚醚多元醇、聚酯多元醇、聚丙烯酸酯多元醇等含羟基的化合物的反应得到的单液或双液型聚氨酯系树脂。本实施方式中，通过使用上述的聚氨酯系树脂，可提高底涂层的伸长度，例如可提高层压加工或制袋加工等后加工适应性，可防止后加工时阻隔层产生裂纹等。
在底涂层中，优选含有底涂层总量中的40质量％以上的上述聚氨酯系树脂组合物，更优选含有70质量％以上。通过为40质量％以上，底涂层的伸长性进一步提高。另外，能够进一步减轻底涂层发生裂纹的可能性。
作为硅烷偶联剂，可以使用具有二元反应性的有机官能性硅烷单体类，可以使用例如γ-氯丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三氯硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基-三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-脲基丙基三乙氧基硅烷、双(β-羟基乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基硅酮的水溶液等中的1种或2种以上。
在硅烷偶联剂中，位于其分子一端的官能团、通常是氯、烷氧基或乙酰氧基等发生水解，形成硅烷醇基(SiOH)，其对有机被覆层或无机氧化物薄膜层的表面上和能够形成荧光体层的油墨，利用共价键等修饰硅烷偶联剂，形成牢固的键合。
另一方面，位于硅烷偶联剂的另一端的乙烯基、甲基丙烯酰氧基、氨基、环氧、或者巯基等有机官能团形成于该硅烷偶联剂的薄膜上。
在底涂层中，优选含有底涂层总量中的1质量％以上30质量％以下的上述硅烷偶联剂，更优选含有3质量％以上20质量％以下。若为1质量％以上，则阻隔层与底涂层的密合性和底涂层与荧光体层的密合性进一步提高。通过为30质量％以下，底涂层的伸长性进一步提高。另外，能够进一步减轻底涂层发生裂纹的可能性。
作为填充材料，可以使用例如碳酸钙、硫酸钡、矾土白、二氧化硅、滑石、玻璃粉、树脂粉、其他等。其可调整底层涂料剂的粘度等，提高其涂布适应性等。
在底涂层中，优选含有底涂层总量中的0.5质量％以上30质量％以下的上述填充材料，更优选含有1质量％以上10质量％以下。通过为0.5质量％以上，对基材层的涂布适应性提高，进而能够防止粘连。通过为30质量％以下，能够抑制底涂层的雾度值增加。
在底涂层中，进而可以根据需要任意添加稳定剂、固化剂、交联剂、润滑剂、紫外线吸收剂、其他等添加剂。
为了避免来自背光源的光被遮蔽，底涂层优选基于JIS K 7361测定的总光线透射率高。具体而言，关于本实施方式的底涂层基于JIS K 7361测定的总光线透射率优选为85％以上、更优选为90％以上。需要说明的是，总光线透射率是在PET膜(膜厚：12μm)上形成有底涂层时的测定值。
作为底涂层的膜厚，例如，优选为0.05μm以上10μm以下、更优选为0.1μm以上3μm以下。
需要说明的是，阻隔膜3不限定于上述层积顺序，例如也可以为阻隔层33和第1基材层32替换的层构成，即，依次层积有底涂层37、第1基材层32、阻隔层33(无机氧化物薄膜层33b、有机被覆层33a)、粘接剂层34、第2基材层35和粗糙层36。另外，同样地，阻隔膜4也可以依次层积有底涂层47、第1基材层42、阻隔层43(无机氧化物薄膜层43b、有机被覆层43a)、粘接剂层44和第2基材层45。
另外，带粗糙层的阻隔膜可以如图9所示的阻隔膜9那样为下述层构成，即，在一片基材层55的一个面形成阻隔层53，在另一个面形成粗糙层56。
此处，阻隔层53可以为与上述阻隔层13等同样的构成，粗糙层56可以为与上述粗糙层16同样的构成。
另外，基材层55是兼具上述第1基材层和第2基材层的作用的基材。即，基材层55是形成阻隔层的基材，同时是提高阻隔膜的处理性的基材。因此，基材层55由与上述第1基材层、第2基材层同样的材质形成，其厚度优选超过25μm且为200μm以下、更优选为38μm以上175μm以下、进一步优选为50μm以上150μm以下。
通过为这样的层构成，能够进一步简化阻隔膜的层构成，减少制造工序，同时还能降低阻隔膜的制造成本。
<<5.阻隔膜的制造方法>>
对图2所示的阻隔膜1的制造方法的一例进行说明。阻隔膜1的制造方法例如可以举出包括下述工序的阻隔膜的制造方法，该工序为：在第1基材层12的一个表面层积阻隔层13的阻隔层层积工序；藉由粘接剂层14在第1基材层12的阻隔层13层积侧的表面层积第2基材层15的第2基材层层积工序；和在阻隔膜的第2基材层15侧的表面层积粗糙层16的粗糙层层积工序。
[阻隔层层积工序]
在阻隔层层积工序中，在基材膜的一个表面层积作为阻隔层的有机被覆层和/或无机氧化物薄膜层。有机被覆层可以通过涂布包含聚乙烯醇等水溶性高分子等的涂布剂并进行固化而形成。涂布剂的涂布方法可以举出辊涂、凹版印刷、刮刀涂布、浸涂、喷涂、其他涂布法的涂布方式。无机氧化物薄膜层可以通过蒸镀无机氧化物而形成。蒸镀无机氧化物的方法可以举出真空蒸镀法、溅射法以及离子镀法等物理气相沉积法(Physical VaporDeposition法、PVD法)、或者等离子体化学气相沉积法、热化学气相沉积法以及光化学气相沉积法等化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等。
需要说明的是，也可以在基材膜的一个表面预先任意地形成底层涂料涂布剂(primer coat agent)层、底涂层(under coat)剂层、锚涂层剂层、由粘接剂构成的层、或者蒸镀锚涂层剂层等，作为表面处理层。
需要说明的是，作为该阶段中的层积了基材膜和阻隔层的阶段中的阻隔性，基于JIS K-7126的氧透过率的值优选为5cc/m2·天·atm以下(23℃、90％RH)。另外，基于JISK-7129B法的水蒸气透过率的值优选为5g/m2·天·atm以下(40℃、90％RH)。氧透过率例如可以利用MOCON公司制造的氧透过率测定装置OX-TRAN进行测定(Mocon法)。另外，水蒸气阻隔性例如可以利用MOCON公司制造的水蒸气透过率测定装置PERMATRAN进行测定。
[第2基材层层积工序]
在第2基材层层积工序中，藉由粘接剂层14在阻隔层13的表面层积第2基材层。具体而言，在阻隔层13的表面涂布粘接剂，重合其他基材膜。涂布粘接剂的方法可以通过辊涂、凹版印刷、刮刀涂布、浸涂、喷涂、其他涂布法、或者印刷法等来实施。
[粗糙层层积工序]
在粗糙层层积工序中，在阻隔膜的第2基材层15侧的表面层积粗糙层16。具体而言，将包含树脂、填料和溶剂等的粗糙层层积用的涂布剂涂布到阻隔膜的第2基材层15侧的表面并进行固化，由此可以形成。涂布涂布剂的方法可以举出辊涂、凹版印刷、刮刀涂布、浸涂、喷涂、其他涂布法的涂布方式。
<<6.另一实施方式中的阻隔膜的制造方法>>
对图7所示的阻隔膜3的制造方法的一例进行说明。阻隔膜3的制造方法例如包括：在第1基材层32的一个表面层积阻隔层33的阻隔层层积工序；在阻隔层的表面层积底涂层37的底涂层层积工序；在第2基材层35的一个表面层积粗糙层36的粗糙层层积工序；和藉由粘接剂层34在第1基材层32的表面(未层积阻隔层的一侧的表面)层积第2基材层35的第2基材层层积工序。
在底涂层层积工序中，具体而言，在阻隔层33的表面涂布底层涂料剂。向上述树脂组合物等中加入溶剂、稀释剂等，将混合得到的底层涂料剂通过例如辊涂、凹版印刷、刮刀涂布、浸涂、喷涂、其他涂布法涂布到有机被覆层或无机氧化物薄膜层的表面上，使涂布膜干燥，除去溶剂、稀释剂等。由此，可以层积底涂层。
对图9所示的阻隔膜9的制造方法的一例进行说明。阻隔膜9的制造方法例如包括：在基材层55的一个表面层积阻隔层53的阻隔层层积工序；和在基材层55的另一表面层积粗糙层56的粗糙层层积工序。阻隔层层积工序和粗糙层层积工序分别可以使用与上述其他阻隔膜1、3的制造方法同样的工序。
<<7.波长转换片的制造方法>>
波长转换片例如可以使用图2所示的阻隔膜1和通过包括阻隔层层积工序和第2基材层层积工序的阻隔膜的制造方法所制造的阻隔膜2来制造。具体而言，在阻隔膜1的第1基材层12的表面涂布含有荧光体110和封装树脂111的混合液(油墨)。然后，与阻隔膜2的第1基材层22的表面接触，使混合液(油墨)固化，由此可以制造图1所示的波长转换片10。需要说明的是，也可以在阻隔膜2的第1基材层22的表面涂布含有荧光体112和封装树脂111的混合液(油墨)。
在制造图6所示的波长转换片的情况下，通过在阻隔膜3、4的底涂层37、47的表面涂布含有荧光体312和封装树脂311的混合液(油墨)，可以同样地进行制造。即，在阻隔膜3、4中的任一阻隔膜的底涂层的表面涂布混合液，与另一阻隔膜的底涂层的表面接触，使混合液固化，由此可以制造。
在制造图8所示的波长转换片的情况下，在2片阻隔膜3中的任一个的底涂层的表面涂布含有荧光体312和封装树脂311的混合液(油墨)，与另一阻隔膜的底涂层的表面接触，使混合液固化，由此可以制造。
<<8.显示装置的制造方法>>
显示装置可以通过经由在上述波长转换片的粗糙层的面配置导光板的工序来制造。
实施例
以下，通过实施例更详细地说明本发明，但本发明不受这些记载的任何限制。
<阻隔膜的制造>
在第1基材层的表面层积阻隔层。具体而言，首先，将基材膜(双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、12μm)安装至卷取式的真空蒸镀装置的送出辊，接着将其送出，在该基材膜的一个面上，将铝用作蒸镀源，一边供给氧气一边通过基于电子束(EB)加热方式的真空蒸镀法形成膜厚10nm的氧化铝的无机被覆层(阻隔层)。
接着，另一方面，向组成a.由聚乙烯醇与异丙醇和离子交换水构成的混合液中加入预先制作的组成b.由硅酸乙酯、盐酸、异丙醇、离子交换水构成的水解液并进行搅拌，得到无色透明的气体阻隔性组合物。
接着，在上述无机被覆层(阻隔层)上，使用气体阻隔性组合物，将其利用凹版辊涂法进行涂布，接着，在100℃下加热处理10秒，形成厚度300nm(干操状态)的有机被覆层(阻隔层)。
接着，在阻隔层(有机被覆层)上层积底涂层。首先，使用γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷作为硅烷偶联剂，得到由该硅烷偶联剂1.0重量％、二氧化硅粉末1.0重量％、聚氨酯系树脂13重量％～15重量％、硝酸纤维素3重量％～4重量％、甲苯31重量％～38重量％、甲基乙基酮(MEK)29重量％～30重量％、异丙醇(IPA)15％～16％构成的聚氨酯系树脂组合物。
然后，在层积有上述阻隔层的膜的阻隔层上，通过辊涂法涂布上述聚氨酯系树脂组合物，接着，在120℃下干燥20秒，层积500nm由聚氨酯系树脂组合物得到的底涂层。该层积体的层积顺序为底涂层/有机被覆层(阻隔层)/无机氧化物薄膜层(阻隔层)/基材膜(第1基材层)。
接着，在其他基材膜(双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、50μm)的一个面层积粗糙层。具体而言，将作为填料的包含聚丙烯酸系树脂的球状颗粒(EPOSTAR MA(作为丙烯酸系交联物的抗压强度为2.8kgf/mm2以上的树脂)填料的平均粒径为4μm)和作为树脂的丙烯酸系树脂混合，制作出粗糙层形成用的涂布剂(固体成分、填料含量记载于下表)。并且，通过凹版辊涂法将涂布剂涂布到基材膜的表面(干燥后的涂布量记载于下表)。
接着，通过凹版辊涂法将双液固化型的聚氨酯系层压用粘接剂涂布到层积有粗糙层的基材膜的基材膜(第2基材层)侧的表面，形成厚度4.0g/m2(干燥状态)的粘接剂层。
接着，将层积有上述阻隔层的层积体的基材膜(第1基材层)侧与粘接剂层的表面重合，进行干式层压层积，由此制造出图7的实施例1～11、比较例1～8的阻隔膜(层积顺序为“底涂层/有机被覆层(阻隔层)/无机氧化物薄膜层(阻隔层)/基材膜(第1基材层)/粘接剂层/第2基材层/粗糙层”)。
制造出不层积粗糙层的比较例9的阻隔膜(层积顺序为“底涂层/有机被覆层(阻隔层)/无机氧化物薄膜层(阻隔层)/基材膜(第1基材层)/粘接剂层/第2基材层”)。
<雾度值的测定>
对上述实施例和比较例的阻隔膜的防粘层测定雾度值。具体而言，依据JIS K7136利用雾度计(HM-150：村上色彩制造)测定防粘层的雾度(％)。其结果示于表1、表2。
<波长转换片的制造>
使用上述实施例和比较例的阻隔膜制造出波长转换片。具体而言，对于核由硒化镉(CdSe)构成、壳由硫化锌(ZnS)构成的荧光体(平均粒径3nm～5nm的量子点)，按照荧光体相对于封装树脂100质量份为1质量份的方式混合封装树脂(为氨基甲酸酯丙烯酸酯系树脂，电离射线固化性化合物)，制造出形成荧光体层的混合液(油墨)。
在实施例和比较例的阻隔膜的第1基材层侧的表面涂布形成荧光体层的混合液(油墨)。然后，按照上述阻隔膜中未层积粗糙层的阻隔膜(层积顺序为“第1基材层/无机氧化物薄膜层/有机被覆层/粘接剂层/第2基材层”)的第1基材层的表面与混合液(油墨)接触的方式进行重合，使混合液(油墨)干燥，按照荧光体层的厚度为100μm的方式制造出波长转换片。
<粘贴试验>
对波长转换片进行环境试验后的与导光板的粘贴确认试验。具体而言，层积波长转换片(50mm×50mm)的粗糙层和导光板，使各波长转换片相接，制造出带导光板的波长转换片。此外，在波长转换片上放置300g的砝码，施加载荷。然后，将带导光板的波长转换片在温度60℃湿度90％和温度80℃的环境试验中分别放置100小时，确认放置100小时后的各带导光板的波长转换片的粘贴。评价结果示于表1、表2中(表中记为“粘贴”)。
(评价基准)
〇：在阻隔膜与导光板之间完全未确认到粘贴，或者以实质上没有问题的程度略微确认到粘贴。
×：在阻隔膜与导光板之间大部分确认到粘贴。
<硬度确认试验>
通过依据JIS K 5600-5-4(1999)的试验测定实施例和比较例的阻隔膜的粗糙层的表面的铅笔硬度，并进行确认。评价结果示于表1、表2中(表1中记为“铅笔硬度”)。此处，表1、表2中的“铅笔硬度”的评价“小于B”时，是指铅笔硬度比B更柔软，为“H以上”时，是指铅笔硬度与H同等或更硬。
<振动试验>
为了确认防止实施例和比较例的阻隔膜的粗糙层因异物导致的划痕的效果，实施了振动试验。具体而言，准备实施例和比较例的2个阻隔膜(下表面200mm×200mm、上表面200×100mm)，按照粗糙层彼此(对于比较例9的阻隔膜为第2基材层彼此)相向的方式设置于振动装置(TESTER SANGYO公司制造学振型摩擦坚牢度试验机AB-301)中。需要说明的是，在2个阻隔膜之间放入10个
Figure BDA0003342938730000231
的玻璃珠。
然后，隔着树脂膜在该阻隔膜上放置砝码(200g×6个)，将振动速度设为0.5Hz，振动10分钟，目视确认划痕的产生情况。评价结果示于表1中(表中记为“振动试验”)。
(评价基准)
〇：在与玻璃珠接触的层(粗糙层等)未确认到划痕的产生。
×：在与玻璃珠接触的层(粗糙层等)确认到划痕的产生。
【表1】
Figure BDA0003342938730000241
【表2】
Figure BDA0003342938730000251
表中的“填料浓度”是指粗糙层形成用溶剂总量中的填料的质量％。
表中的“涂布量”是指粗糙层干燥后的单位面积的涂布量(为固体成分的质量，单位为g/m2)。
表中的“粗糙层的厚度”是指粗糙层干燥后的厚度(单位为μm)。需要说明的是，粗糙层的厚度例如可以通过对粗糙层的截面进行SEM观察来测定。
表中的“1mm2内的填料总数”是指通过激光显微镜(奥林巴斯公司制造的OLS4000)利用上述方法算出的值。更具体而言，对俯视图中的规定面积(258×260μm)的粗糙层的表面进行上述激光显微镜观察，由该规定面积(258×260μm)中的填料的总数换算成1×1mm来进行计算。需要说明的是，上述激光显微镜使用50倍的物镜。
表中的“2倍以上粒径填料比例”是指，在粗糙层的俯视图中，从粗糙层突出的填料中作为相对于粗糙层的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例，是通过激光显微镜(奥林巴斯公司制造的OLS4000)利用上述方法算出的值。
由上述评价结果可知，本发明的波长转换片用的阻隔膜即便在配置显示装置的环境气氛变化的情况下，显示装置内的导光板与波长转换片也不发生粘贴，是环境稳定性优异的波长转换片用的阻隔膜。
此外，对于作为相对于粗糙层的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例在从上述粗糙层突出的上述填料总量中为20％以上80％以下、粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的上述填料的总数为1800个以上的实施例1～11的阻隔膜，铅笔硬度也为“HB”以上(与HB同等或更硬的评价)，进而在振动试验中也无法确认到划痕的产生。由本试验结果可知，是能够有效抑制粗糙层的划痕产生的阻隔膜。
需要说明的是，各表中，“粗糙层的厚度”与“2倍以上粒径填料比例”具有下述倾向，即，粗糙层的厚度越薄，则2倍以上粒径填料比例越大，粗糙层的厚度越厚，则2倍以上粒径填料比例越少，但在上述实施例、比较例的一部分中，有时与上述倾向相反。
例如，在实施例5～7中，实施例6在与实施例5的关系中，粗糙层的厚度变厚，与之相伴，2倍以上粒径填料比例减少，但实施例6在与实施例7的关系中，粗糙层的厚度变薄，但2倍以上粒径填料比例减少。认为这是因为，若涂布液的填料浓度发生变化，则涂布时的填料的转印情况发生变化，因此在与不同的填料浓度的比较中，在“粗糙层的厚度”和“2倍以上粒径填料比例”中难以获得上述倾向。
符号说明
1、3、9阻隔膜(带粗糙层的阻隔膜)
2、4 阻隔膜
11、31 荧光体层
111、311 封装树脂
112、312 荧光体
12、22、32、42 基材层(第1基材层)
13、23、33、43 阻隔层
13a、23a、33a、43a 有机被覆层
13b、23b、33b、43b 无机氧化物薄膜层
14、24、34、44 粘接剂层
15、25、35、45 基材层(第2基材层)
16、36 粗糙层
161、361 树脂
162、362 填料
37、47 底涂层
55 基材层
10、30 波长转换片
5 光源部
6 导光板
7 反射片
8 漫射板
70、80 显示装置
71 LCD面板
72 偏振光选择反射片
73 棱镜片。

Claims (9)

1.一种阻隔膜，其为由至少包含阻隔层和基材层的多层膜构成的阻隔膜，其中，
在所述阻隔膜的一个表面层积有包含树脂和填料且该填料的至少一部分突出的粗糙层，
在所述粗糙层的俯视图中，从所述粗糙层突出的所述填料中作为相对于所述粗糙层的厚度为2倍以上的粒径被视觉确认到的填料的比例在从所述粗糙层突出的所述填料的总量中为20％以上80％以下，
所述粗糙层的俯视图中的1mm2的正方形内的所述填料的总数为1800个以上。
2.如权利要求1所述的阻隔膜，其中，所述粗糙层中包含的所述填料包含选自由丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、尼龙系树脂和聚乙烯系树脂组成的组中的至少1种以上的树脂。
3.如权利要求1或2所述的阻隔膜，其中，所述粗糙层中包含的所述树脂包含丙烯酸系树脂。
4.如权利要求1～3中任一项所述的阻隔膜，其中，在所述阻隔膜的与所述粗糙层相反一侧的表面层积有底涂层。
5.如权利要求1～4中任一项所述的阻隔膜，其中，所述填料包含依据JIS A 9511测定的抗压强度为2.8kgf/mm2以上的树脂。
6.如权利要求1～5中任一项所述的阻隔膜，其中，所述粗糙层的干燥后的涂布量为1.0g/m2以上3.6g/m2以下，依据JIS K7136测定的所述粗糙层的雾度值为10％以上35％以下。
7.一种波长转换片，其按照包含荧光体的荧光体层的一个面和权利要求1～6中任一项所述的阻隔膜的与层积有所述粗糙层的一侧的面相反侧的面相向的方式进行了层积。
8.一种显示装置，其为具备导光板的表面安装方式的显示装置，其中，
依次层积有LCD面板、偏振光选择反射片、棱镜片、权利要求7所述的波长转换片、所述导光板、反射片，
在所述导光板的端面配置有光源部，
所述波长转换片在所述粗糙层一侧的面上配置有所述导光板。
9.一种显示装置，其为具备漫射板的直下型方式的显示装置，其中，
依次层积有LCD面板、偏振光选择反射片、棱镜片、权利要求7所述的波长转换片、所述漫射板、光源部、反射片，
所述波长转换片在所述粗糙层一侧的面上配置有所述漫射板。
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