JP2018199580A - パターン形成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2012年4月3日に出願された日本国特願2012−084819号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
また、本発明の他の態様は、基板の表面を一定の状態に維持した状態で基板を搬送しつつ、その基板の表面に電子デバイスを形成するパターン形成装置を提供することを目的とする。
また、本発明の他の態様によれば、基板を一定の状態に維持して搬送することで、基板上に高精度、高精細な電子デバイスを形成することが可能なパターン形成装置を提供することができる。
図1は、本発明の実施形態に係る基板処理装置100の構成を示す模式図である。
図1に示すように、基板処理装置100は、帯状(長尺状)に形成された基板(例えば、帯状のフィルム部材)Sを供給する基板供給部2と、基板Sの表面(被処理面)Saに対して処理を行う基板処理部3と、基板Sを回収する基板回収部4と、これらの各部を制御する制御部(制御装置)CONTと、を有している。基板処理部(パターン形成装置)3は、基板供給部2から基板Sが送り出されてから、基板回収部4によって基板Sが回収されるまでの間に、基板Sの表面に各種処理を実行する。この基板処理装置100は、基板S上に例えば有機EL素子、液晶表示素子等のアクティブ・マトリックス方式の表示パネル(電子デバイス)を形成する場合に用いることができる。
図2に示すように、搬送装置20は、長尺状の基板Sの搬送方向の上流側から順に、案内ローラー5(図1参照)、ニップローラー(搬送機構)R1並びにR2、基板洗浄部21、張力調整ローラー(搬送機構)R3、静電気除去部(除去装置)22、基板支持機構30、静電気除去部(除去装置)23、基板吸着ローラー(搬送機構)R4、ニップローラー(搬送機構)R5並びにR6、案内ローラー6(図1参照)を有している。このうち、案内ローラー5、ニップローラーR1並びにR2、張力調整ローラーR3、基板吸着ローラーR4、ニップローラーR5並びにR6、案内ローラー6は、基板Sの搬送経路に沿って設けられており、上記複数の案内ローラーに含まれる構成である。
基板支持機構30は、ベルト部(支持部材)31、ベルト搬送部32及び案内ステージ33を有している。また、基板支持機構30は、ベルト部31の表面を洗浄するベルト洗浄部37と、ベルト部31に帯電する静電気を除去する静電気除去部38とを有している。
ベルト部31は、基板Sの被支持面Sbを支持する。なお、Y軸方向のおける複数の貫通孔31hの列の数は、5列に限らず、何列であってもよい。また、一周に亘って設けられる貫通孔31hの数も任意であってよい。
図4に示すように、気体吸引部33sは、吸引系35に接続されている。吸引系35は、吸引ポンプ35a及び吸引経路35bを有する。気体吸引部33sは、吸引経路35bを介して吸引ポンプ35aに接続されている。吸引経路35bは、案内ステージ33の底面(−Z軸側の面)33b側に接続されている。このため、気体吸引部33sでは、案内面33aから気体吸引部33sを通過して底面33bへ抜ける方向に気体が吸引される。
位置基準部31cは、基板SのX軸方向又はY軸方向の位置を検出するための基準を示している。ベルト部31の+Z軸側には、位置基準部31cを検出するエンコーダECが設けられている。エンコーダECの検出結果は、制御部CONTに送信されるようになっている。
制御部CONTの制御により、エンコーダECの検出結果に応じて、例えば搬送ローラー32dの回転速度と、基板Sの搬送速度との調整が行われる。
以下、上記構成の基板処理装置100を用いて表示素子を製造する工程を説明する。
制御部CONTの制御により、この状態の基板供給部2から前記基板Sが送り出されるように、不図示のローラーが回転される。そして、基板処理部3を通過した前記基板Sが、基板回収部4に設けられた不図示のローラーで巻き取られる。この基板供給部2及び基板回収部4を制御することによって、基板Sの被処理面Saを基板処理部3に対して連続的に搬送することができる。
図5に示すように、気体供給部33tから気体が供給されると、前記気体は、案内ステージ33の案内面33aとベルト部31の裏面31bとの間に、気体層を形成する。また、気体吸引部33sによって吸引が行われると、気体層を構成する一部の気体が気体吸引部33sに吸引される。このとき、制御部CONTは、気体の供給量と吸引量とを調整することで、気体層を一定の厚さに保持することができる。このときの制御部CONTによる調整量については、予め実験やシミュレーションなどを行うことで得られたデータなどを用いることができる。
例えば、上記実施形態においては、処理装置10による処理領域10pの形状が、矩形の形状である構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。
例えば、図6に示すように、処理装置10として複数の投影光学系(PL1〜PL5)を有する露光装置EXが設けられている場合には、投影光学系PL1〜PL5による投影領域が処理領域10pとなる。
Claims (5)
- 長尺の可撓性の基板を長尺方向に搬送して、前記基板の表面に電子デバイスの為のパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板よりも剛性が高い材料で薄板状に形成されると共に、前記基板の裏面を支持する支持面と該支持面の裏面とを貫通する貫通孔が前記長尺方向に沿って所定の間隔で複数形成された列を、前記長尺方向と直交する前記基板の幅方向に所定の間隔で複数列配置して無端状に形成されたベルト部と、
前記ベルト部を支持する複数のローラー部材によって、前記基板の長尺方向に沿って平坦な部分が形成するように前記ベルト部を駆動する駆動部と、
前記ベルト部の平坦な部分の裏面と対向する平坦な案内面を有し、該案内面のうちで前記貫通孔による前記列の複数の各々を含む複数の第一領域の各々に対向して配置される複数の気体吸引部と、前記ベルト部の裏面のうち、前記幅方向に関して前記複数の第一領域の各々と交互に設けられる複数の第二領域に対向して配置される複数の気体供給部とを備え、前記ベルト部の平坦な部分の裏面を前記案内面に対して非接触状態となるように保持するとともに、前記複数の貫通孔を介して前記基板の裏面を前記ベルト部の前記支持面に吸着させる保持機構と、
前記基板上に設定される処理領域に対応して配置されて、前記処理領域に前記パターンを形成する為の投影光学系、又は処理ヘッドを有する処理装置と、
前記ベルト部の表面を洗浄するベルト洗浄部と、
前記ベルト部の静電気を除去する第1の静電気除去部と、を備え、
前記基板の表面の前記複数の処理領域の各々に対応した部分を前記ベルト部の平坦な支持面で吸着支持しつつ、前記ベルト部の裏面を前記保持機構の案内面に沿って非接触で平坦に保持した状態で、前記基板を前記長尺方向に所定の速度で移動させながら、前記処理装置によって前記パターンを形成する、
パターン形成装置。 - 請求項1に記載のパターン形成装置であって、
前記ベルト部の平坦な支持面に沿って前記基板を前記長尺方向に搬送すると共に、前記基板の搬送方向に関して前記保持機構の上流側又は下流側で、前記基板に幅方向と前記長尺方向との張力を付与する基板搬送機構を、更に備える
パターン形成装置。 - 請求項2に記載のパターン形成装置であって、
前記基板搬送機構は、前記基板の搬送方向に関して前記保持機構の上流側に配置されて、前記基板の幅方向の張力を調整する第1の張力調整機構と、前記基板の搬送方向に関して前記保持機構の下流側に配置されて、前記基板の長尺方向の張力を調整する第2の張力調整機構と、を含む、
パターン形成装置。 - 請求項3に記載のパターン形成装置であって、
前記基板搬送機構と前記駆動部とを制御し、前記基板の移動速度と前記ベルト部の移動速度とを同期させる制御装置を、更に備える、
パターン形成装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載のパターン形成装置であって、
前記基板が前記ベルト部の前記支持面に接触して吸着支持される前に、前記基板に帯電した静電気を除去する第2の静電気除去部を、更に備える、
パターン形成装置。
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