KR102000430B1

KR102000430B1 - 패턴 형성 장치

Info

Publication number: KR102000430B1
Application number: KR1020197002116A
Authority: KR
Inventors: 도모나리 스즈키
Original assignee: 가부시키가이샤 니콘
Priority date: 2012-04-03
Filing date: 2012-11-01
Publication date: 2019-07-15
Also published as: HK1224264A1; TW201351555A; JP2018199580A; KR20190010732A; CN104203779B; CN105752686A; TW201836046A; CN104203779A; HK1203183A1; TW201929139A; KR101962083B1; KR101879162B1; TWI660449B; KR20180038071A; KR20180072871A; KR101854959B1; JP6137171B2; KR20170095395A; TWI674645B; JPWO2013150677A1

Abstract

기판을 반송하는 반송 장치로서, 기판의 일방면을 지지하는 지지면을 가지며, 지지면과 상기 지지면의 이면을 관통하는 복수의 관통공이 형성된 지지 부재와, 지지 부재의 이면 중, 복수의 구멍을 포함하는 제1 영역에 대향하여 배치되는 기체 흡인부와, 지지 부재의 이면 중, 제1 영역과는 다른 제2 영역에 대향하여 배치되는 기체 공급부를 구비하며, 지지 부재의 이면에 대해서 기체의 공급 및 흡인을 행하는 것에 의해서, 지지 부재의 이면을 비접촉 상태로 유지함과 아울러, 복수의 관통공을 매개로 하여 기판을 지지면에 흡착시키는 유지 기구를 구비한다.

Description

패턴 형성 장치{PATTERN FORMING DEVICE}

본 발명은, 기판 처리 장치 및 패턴 형성 장치에 관한 것이다.

본원은, 2012년 4월 3일에 출원된 일본특허출원 2012－084819호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.

디스플레이 장치 등의 표시 장치를 구성하는 표시 소자로서, 예를 들면 액정 표시 소자, 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 소자, 전자 페이퍼에 이용되는 전기 영동(泳動) 소자 등이 알려져 있다. 이들 소자가 조립되는 디스플레이 패널 등의 전자 디바이스를 제작하는 수법의 하나로서, 예를 들면 롤·투·롤 방식(이하, 간단히 「롤 방식」이라고 표기함)으로 불리는 수법이 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).

롤 방식은, 기판 공급측의 롤러에 감겨진 1매의 시트 모양의 기판을 송출함과 아울러, 송출된 기판을 기판 회수측의 롤러에서 권취하면서 기판을 반송하고, 기판이 송출되고 나서 권취될 때까지의 사이에, 전자 디바이스(표시 화소 회로, 드라이버 회로, 배선 등)를 위한 패턴을 기판 상에 순차적으로 형성하는 수법이다. 최근에는, 고정밀도의 패턴을 형성하는 처리 장치가 제안되어 있다.

특허 문헌 1 : 국제공개 제2006/100868호

그렇지만, 한층 더 패턴의 고정밀화나 표시 패널의 고정세화(高精細化)에 대응하는 경우, 기판의 반송 정밀도를 높이는 것이 요구되어진다. 예를 들면, 처리 장치에 의해서 처리가 행해지고 있는 동안, 기판의 표면을 일정한 상태로 유지한 상태에서 반송하는 것이 요구되고 있다.

본 발명의 형태는, 기판의 표면을 일정한 상태로 유지한 상태에서 반송하는 것이 가능한 패턴 형성 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

또, 본 발명의 다른 형태는, 기판의 표면을 일정한 상태로 유지한 상태에서 기판을 반송하면서, 그 기판의 표면에 전자 디바이스를 형성하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 형태에 따르면, 장척(長尺)의 가요성의 기판을 장척 방향으로 반송하여, 상기 기판의 표면에 전자 디바이스를 위한 패턴을 형성하는 패턴 형성 장치로서, 상기 기판보다도 강성이 높은 재료로 박판 모양으로 형성됨과 아울러, 상기 기판의 이면(裏面)을 지지하는 지지면과 상기 지지면의 이면을 관통하는 관통공이 상기 장척 방향을 따라서 소정의 간격으로 복수 형성된 열(列)을, 상기 장척 방향과 직교하는 상기 기판의 폭 방향으로 소정의 간격으로 복수 배치하여 무단(無端) 모양으로 형성된 벨트부와, 상기 벨트부를 지지하는 복수의 롤러 부재에 의해서, 상기 기판의 장척 방향을 따라서 평탄한 부분이 형성되도록 상기 벨트부를 구동하는 구동부와, 상기 벨트부의 평탄한 부분의 이면과 대향하는 평탄한 안내면을 가지며, 상기 안내면 중에서 상기 관통공에 의한 상기 열(列)의 복수의 각각을 포함하는 복수의 제1 영역의 각각에 대향하여 배치되는 복수의 기체 흡인부와, 상기 벨트부의 이면 중, 상기 폭 방향에 관해서 상기 복수의 제1 영역의 각각과 교호로 마련되는 복수의 제2 영역에 대향하여 배치되는 복수의 기체 공급부를 구비하며, 상기 벨트부의 평탄한 부분의 이면을 상기 안내면에 대해서 비접촉 상태가 되도록 유지함과 아울러, 상기 복수의 관통공을 통해서 상기 기판의 이면을 상기 벨트부의 상기 지지면에 흡착시키는 유지 기구와, 상기 기판 상에 설정되는 처리 영역에 대응하여 배치되고, 상기 처리 영역에 상기 패턴을 형성하기 위한 투영 광학계, 또는 처리 헤드를 가지는 처리 장치와, 상기 벨트부의 표면을 세정하는 벨트 세정부와, 상기 벨트부의 정전기를 제거하는 제1 정전기 제거부를 구비하며, 상기 기판의 표면의 상기 복수의 처리 영역의 각각에 대응한 부분을 상기 벨트부의 평탄한 지지면으로 흡착 지지하면서, 상기 벨트부의 이면을 상기 유지 기구의 안내면을 따라서 비접촉으로 평탄하게 유지한 상태에서, 상기 기판을 상기 장척 방향으로 소정의 속도록 이동시키면서, 상기 처리 장치에 의해서 상기 패턴을 형성하는 패턴 형성 장치가 제공된다.

본 발명의 형태에 따르면, 기판을 일정한 상태로 유지하여 반송하는 것이 가능한 패턴 형성 장치를 제공할 수 있다.

또, 본 발명의 다른 형태에 따르면, 기판을 일정한 상태로 유지하여 반송함으로써, 기판 상에 고정밀도, 고정세(高精細)한 전자 디바이스를 형성하는 것이 가능한 패턴 형성 장치를 제공할 수 있다.

도 1은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 2는 본 실시 형태에 관한 반송 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3은 본 실시 형태에 관한 반송 장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 4는 본 실시 형태에 관한 반송 장치의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 실시 형태에 관한 반송 장치의 동작을 나타내는 동작도이다.
도 6은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.

이하, 도면을 참조하여, 본 실시 형태의 설명을 한다. 　

도 1은, 본 발명의 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(100)의 구성을 나타내는 모식도이다. 　

도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치(100)는, 띠 모양(장척(長尺) 모양)으로 형성된 기판(예를 들면, 띠 모양의 필름 부재)(S)을 공급하는 기판 공급부(2)와, 기판(S)의 표면(피처리면)(Sa)에 대해서 처리를 행하는 기판 처리부(3)와, 기판(S)을 회수하는 기판 회수부(4)와, 이들 각 부를 제어하는 제어부(제어 장치)(CONT)를 가지고 있다. 기판 처리부(패턴 형성 장치)(3)는, 기판 공급부(2)로부터 기판(S)이 송출되고 나서, 기판 회수부(4)에 의해서 기판(S)이 회수될 때까지의 사이에, 기판(S)의 표면에 각종 처리를 실행한다. 이 기판 처리 장치(100)는, 기판(S) 상에 예를 들면 유기 EL소자, 액정 표시 소자 등의 액티브·매트릭스(active·matrix) 방식의 표시 패널(전자 디바이스)을 형성하는 경우에 이용할 수 있다.

또, 본 실시 형태에서는, 도 1에 나타내는 바와 같이 XYZ 좌표계를 설정하고, 이하에서는 적절히 이 XYZ 좌표계를 이용하여 설명을 행한다. XYZ 좌표계는, 예를 들면, 수평면을 따라서 X축 및 Y축이 설정되고, 연직 방향을 따라서 상향으로 Z축이 설정된다. 또, 기판 처리 장치(100)는, 전체로서 X축을 따라서, 그 마이너스측(－X축측)으로부터 플러스측(＋X축측)으로 기판(S)을 반송한다. 그 때, 띠 모양의 기판(S)의 폭 방향(단척(短尺) 방향)은, Y축 방향으로 설정된다.

기판 처리 장치(100)에서 처리 대상이 되는 기판(S)으로서는, 예를 들면 수지 필름이나 스테인리스강 등의 박(箔)(포일)을 이용할 수 있다. 예를 들면, 수지 필름은, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리에스테르 수지, 에틸렌 비닐 공중합체 수지, 폴리염화비닐 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리스틸렌 수지, 초산비닐수지 등의 재료를 이용할 수 있다.

기판(S)은, 예를 들면 200℃ 정도의 열을 받아도 치수가 변하지 않도록 열팽창 계수가 작은 것이 바람직하다. 예를 들면, 무기 필러(filler)를 수지 필름에 혼합하여 열팽창 계수를 작게 할 수 있다. 무기 필러의 예로서는, 산화 티탄, 산화 아연, 알루미나, 산화 규소 등을 들 수 있다. 또, 기판(S)은 플로트법(float法) 등으로 제조된 두께 100㎛ 정도의 매우 얇은 유리의 단체(單體), 혹은 그 매우 얇은 유리에 상기 수지 필름이나 알루미늄박을 접합시킨 적층체라도 좋다.

기판(S)의 폭 방향(단척 방향)의 치수는 예를 들면 1m ~ 2m 정도로 형성되어 있고, 길이 방향(장척 방향)의 치수는 예를 들면 10m 이상으로 형성되어 있다. 물론, 이 치수는 일례에 지나지 않고, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 기판(S)의 Y축 방향의 치수가 1m 이하 또는 50cm 이하라도 상관없고, 2m 이상이라도 상관없다. 또, 기판(S)의 X축 방향의 치수가 10m 이하라도 상관없다.

기판(S)은, 가요성을 가지도록 형성되어 있다. 여기서 가요성이란, 기판에 자중 정도의 힘을 가해도 단선하거나 파단하거나 하지는 않고, 상기 기판을 휘게 하는 것이 가능한 성질을 말한다. 또, 자중 정도의 힘에 의해서 굴곡하는 성질도 가요성에 포함된다. 또, 상기 가요성은, 상기 기판의 재질, 크기, 두께, 또는 온도 등의 환경 등에 따라 변한다. 또, 기판(S)으로서는, 1매의 띠 모양의 기판을 이용해도 상관없지만, 복수의 단위 기판을 접속하여 띠 모양으로 형성되는 구성으로 해도 상관없다.

기판 공급부(2)는, 예를 들면 롤 모양으로 감겨진 기판(S)을 기판 처리부(3)로 송출하여 공급한다. 이 경우, 기판 공급부(2)에는, 기판(S)을 감는 축부(軸部)나 상기 축부를 회전시키는 회전 구동 장치 등이 마련된다. 이 외, 예를 들면 롤 모양으로 감겨진 상태의 기판(S)을 덮는 커버부 등이 마련된 구성이라도 상관없다. 또, 기판 공급부(2)는, 롤 모양으로 감겨진 기판(S)을 송출하는 기구에 한정되지 않고, 띠 모양의 기판(S)을 그 길이 방향으로 순차적으로 송출하는 기구(예를 들면 닙식(nip式)의 구동 롤러 등)를 포함하는 것이면 괜찮다.

기판 회수부(4)는, 기판 처리 장치(100)를 통과한 기판(S)을, 예를 들면 롤 모양으로 권취하여 회수한다. 기판 회수부(4)에는, 기판 공급부(2)와 마찬가지로, 기판(S)을 감기 위한 축부나 상기 축부를 회전시키는 회전 구동원, 회수한 기판(S)을 덮는 커버부 등이 마련되어 있다. 또, 기판 처리부(3)에서 기판(S)이 패널 모양으로 절단되는 경우 등에는, 예를 들면 기판(S)을 겹친 상태로 회수하는 등, 롤 모양으로 감은 상태와는 다른 상태로 기판(S)을 회수하는 구성이라도 상관없다.

기판 처리부(3)는, 기판 공급부(2)로부터 공급되는 기판(S)을 기판 회수부(4)로 반송함과 아울러, 반송의 과정에서 기판(S)의 피처리면(Sa)에 대해서 처리를 행한다. 기판 처리부(3)는, 처리 장치(10) 및 반송 장치(20)를 가지고 있다.

처리 장치(10)는, 기판(S)의 피처리면(Sa)에 대해서, 예를 들면 유기 EL소자를 형성하기 위한 각종 장치를 가지고 있다. 이러한 장치로서는, 예를 들면 피처리면(Sa) 상에 격벽을 형성하기 위한 격벽 형성 장치, 전극을 형성하기 위한 전극 형성 장치, 발광층을 형성하기 위한 발광층 형성 장치 등을 들 수 있다.

보다 구체적으로는, 액적(液滴) 도포 장치(예를 들면 잉크젯형 도포 장치 등), 성막(成膜) 장치(예를 들면 도금 장치, 증착 장치, 스퍼터링(sputtering) 장치 등), 노광 장치, 현상(現像) 장치, 표면 개질 장치, 세정 장치 등을 들 수 있다. 이들 각 장치는, 기판(S)의 반송 경로를 따라서 적절히 마련된다.

반송 장치(20)는, 기판 처리부(3) 내에서 기판(S)을 안내하는 복수의 안내 롤러(반송 기구, 도 1에서는, 2개의 롤러(5, 6)만을 예시)와, 기판(S)을 지지하는 기판 지지 기구(유지 기구)(30)를 가지고 있다. 안내 롤러(5)(반송 기구)는, 기판(S)의 반송 경로에 관해, 처리 장치(10)의 상류측에 배치되며, 안내 롤러(반송 기구)(6)는, 기판(S)의 반송 경로에 관해서, 처리 장치(10)의 하류측에 배치되어 있다. 복수의 안내 롤러(반송 기구) 중 적어도 일부의 안내 롤러에는, 회전 구동 기구(미도시)가 장착되어 있다. 본 실시 형태에서, 반송 장치(20)에서의 기판(S)의 반송 경로의 길이는, 예를 들면 전체 길이가 수백 미터 정도로 되어 있다.

도 2는, 반송 장치(20)의 일부의 구성을 나타내는 도면이다. 　

도 2에 나타내는 바와 같이, 반송 장치(20)는, 장척 모양의 기판(S)의 반송 방향의 상류측으로부터 순서대로, 안내 롤러(5)(도 1 참조), 닙 롤러(반송 기구)(R1 및 R2), 기판 세정부(21), 장력 조정 롤러(반송 기구)(R3), 정전기 제거부(제거 장치)(22), 기판 지지 기구(30), 정전기 제거부(제거 장치)(23), 기판 흡착 롤러(반송 기구)(R4), 닙 롤러(반송 기구)(R5 및 R6), 안내 롤러(6)(도 1 참조)를 가지고 있다. 이 중, 안내 롤러(5), 닙 롤러(R1 및 R2), 장력 조정 롤러(R3), 기판 흡착 롤러(R4), 닙 롤러(R5 및 R6), 안내 롤러(6)는, 기판(S)의 반송 경로를 따라서 마련되어 있으며, 상기 복수의 안내 롤러에 포함되는 구성이다.

먼저, 기판(S)을 반송하는 닙 롤러(R1 및 R2), 장력 조정 롤러(R3), 기판 흡착 롤러(R4), 닙 롤러(R5 및 R6)에 대해 설명한다. 각 롤러(R1 ~ R6)의 중심축(회전 가능한 롤러의 경우에는, 회전축)은, 서로 Y축 방향으로 평행하게 배치되어 있다.

닙 롤러(R1 및 R2)는, 도 1에서의 안내 롤러(5)를 통해 반송되어 온 기판(S)을 사이에 끼운 상태로 회전하여, 상기 기판(S)을 반송 방향의 하류측(＋Z축측)으로 보낸다. 닙 롤러(R1 및 R2)가 기판(S)을 사이에 끼우는 것에 의해, 상기 닙 롤러(R1 및 R2)의 상류측으로부터 기판(S)을 통해서 전해지는 진동을 억제할 수 있다.

장력 조정 롤러(R3)는, 기판(S)의 짧은 방향(폭 방향)의 장력을 조정하면서 회전하여, 기판(S)을 반송 방향의 하류측으로 보낸다. 장력 조정 롤러(R3)는, 예를 들면 중심축 방향의 양단부로부터 중앙부를 향해서 서서히 지름이 작아지도록 형성되어 있다. 장력 조정 롤러(R3)에 의해서, 기판(S)의 짧은 방향의 길이가 조정된다. 또, 장력 조정 롤러(R3)는, ＋Z축 방향으로 반송되어 오는 기판(S)의 반송 방향을 ＋X축 방향으로 변환한다.

기판 흡착 롤러(R4)는, 기체가 통과 가능한 다공질 재료에 의해서 형성되어 있다. 기판 흡착 롤러(R4)의 외주면은, 기판(S)의 이면을 안내하는 안내면(R4a)으로서 기능을 한다. 기판 흡착 롤러(R4)는, 안내면(R4a)으로부터 롤러 내부측으로 기체를 흡인하는 흡인부(25)를 가지고 있다. 흡인부(25)는, 기판 흡착 롤러(R4)의 내부에 접속된 흡인 경로(25b)를 가지고 있다. 흡인 경로(25b)에는, 흡인 펌프(25a)가 마련되어 있다. 흡인 펌프(25a)의 흡인 동작에 의해, 기판 흡착 롤러(R4)의 내부의 압력이 저하하고, 이것에 의해 기판 흡착 롤러(R4)의 주위의 기체가 안내면(R4a)으로부터 내부로 흡인되도록 되어 있다. 기판 흡착 롤러(R4)는, 이 흡인력에 의해, 예를 들면 기판(S)을 안내면(R4a)에 흡착할 수 있도록 되어 있다.

기판 흡착 롤러(R4)는, 구동부(26)를 가지고 있다. 구동부(26)는, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 기판 흡착 롤러(R4)를 회전 구동시킨다. 제어부(CONT)는, 구동부(26)에 의한 구동 타이밍이나, 구동력 등을 제어할 수 있다. 기판 흡착 롤러(R4)는, 기판(S)을 안내면(R4a)에 흡착시킨 상태로, 도면 중 시계 방향으로 회전하는 것에 의해, 기판(S)을 ＋X축측으로 반송할 수 있도록 되어 있다. 이와 같이, 기판 흡착 롤러(R4)는, 흡인부(25) 및 구동부(26)를 작동시키는 것에 의해, 기판(S)에 소정의 장력을 부여하는 장력 부여 기구로서 기능을 한다. 또, 제어부(CONT)가 구동부(26)의 구동력을 조정하는 것에 의해, 기판(S)에 부여하는 장력을 조정할 수 있도록 되어 있다. 이 때문에, 기판 흡착 롤러(제1 롤러)(R4), 흡인부(25), 구동부(26) 및 제어부(CONT)는, 기판(S)에 부여하는 장력을 조정하는 조정부로서 기능을 한다.

닙 롤러(R5 및 R6)는, 기판 흡착 롤러(R4)를 통해 반송되어 온 기판(S)을 사이에 끼운 상태로 회전하여, 상기 기판(S)을 반송 방향의 하류측으로 보낸다. 닙 롤러(R5 및 R6)가 기판(S)을 사이에 끼우는 것에 의해, 상기 닙 롤러(R5 및 R6)의 하류측으로부터 기판(S)을 통해 전해지는 진동을 억제할 수 있다. 또, 기판 흡착 롤러(R4), 닙 롤러(R5 및 R6)는, 기판(S) 중 상기 기판 흡착 롤러(R4)와 닙 롤러(R5 및 R6)와의 사이의 부분이 늘어진 상태가 되도록 기판(S)을 반송한다. 이 때문에, 닙 롤러(제2 롤러)(R5 및 R6)는, 기판(S)에 부여하는 장력을 조정하는 조정부의 일부로서 기능을 한다.

또, 기판 세정부(21)는, 닙 롤러(R1 및 R2)와 장력 조정 롤러(R3)와의 사이의 위치에 마련되어 있다. 기판 세정부(21)는, 예를 들면 미도시한 초음파 발생 장치 및 흡인 장치 등을 가지고 있다. 기판 세정부(21)는, 닙 롤러(R1 및 R2)로부터 장력 조정 롤러(R3)로 반송되는 기판(S)의 피처리면(Sa)을, 초음파를 이용한 드라이 클리너 등으로 상기 기판(S) 상의 이물을 제거하는 것이 가능하다. 또, 기판 세정부(21)로서는, 액체 토출 및 건조 기능을 구비한 세정 장치를 이용할 수도 있다.

정전기 제거부(22)는, 장력 조정 롤러(R3)의 기판(S)의 반송 방향의 하류측, 예를 들면, 장력 조정 롤러(R3)와 기판 지지 기구(30)와의 사이로서, 기판(S)을 사이에 끼운 상부에 마련되어 있다. 정전기 제거부(22)는, 기판 지지 기구(30)에 의해 반송되는 기판(S)에 대전(帶電)하는 정전기(전하)를 제거한다. 또, 정전기 제거부(23)는, 기판 흡착 롤러(R4)의 상류측, 예를 들면, 기판 지지 기구(30)와 기판 흡착 롤러(R4)와의 사이로서, 기판(S)을 사이에 끼운 상부에 마련되어 있다. 정전기 제거부(23)는, 기판 지지 기구(30)로부터 하류측으로 반송되는 기판(S)에 대전하는 정전기(전하)를 제거한다.

기판 지지 기구(30)는, 장력 조정 롤러(R3)와 기판 흡착 롤러(R4)와의 사이에 배치되어 있다. 또, 기판(S) 중 상기 장력 조정 롤러(R3)와 기판 흡착 롤러(R4)와의 사이의 부분에는, 처리 장치(10)에 의한 처리 영역(10p)이 설정된다. 기판 지지 기구(30)는, 기판(S) 중 처리 영역(10p)을 통과하는 부분을 지지하면서, 장력 조정 롤러(R3)와 기판 흡착 롤러(R4)와의 사이에서의 기판(S)의 반송 속도와 동기(同期) 한 속도로, 상기 기판(S)의 이면을 지지한다.

기판 지지 기구(30)는, 벨트부(지지 부재)(31), 벨트 반송부(32) 및 안내 스테이지(33)를 가지고 있다. 또, 기판 지지 기구(30)는, 벨트부(31)의 표면을 세정하는 벨트 세정부(37)와, 벨트부(31)에 대전하는 정전기를 제거하는 정전기 제거부(38)를 가지고 있다.

벨트부(31)는, 기판(S) 보다도 강성이 높은 재료, 예를 들면 스테인리스 등의 금속재료를 박판 모양으로 가공한 부재를 이용하여 무단 모양으로 형성되어 있다. 벨트부(31)는, 외주면에 마련된 지지면(31a)에 의해서 기판(S)의 피지지면(처리면에 대해서 이면)(Sb)을 지지한다. 벨트부(31)에는, 둘레 방향으로 늘어서 배치되는 복수의 관통공(31h)이 일주(一周)를 따라서 마련되어 있다. 각 관통공(31h)은, 벨트부(31)의 지지면(31a)과, 상기 지지면(31a)의 뒤측에 마련되는 이면(31b)과의 사이를 관통하여 형성되어 있다. 본 실시 형태에서, 이 복수의 관통공(31h)은, Y축 방향으로 5열 형성되어 있다. 벨트부(31)의 일부는, 기판(S)의 피지지면(Sb)에 대향하여 배치되어 있다.

벨트부(31)는, 기판(S)의 피지지면(Sb)을 지지한다. 또, Y축 방향에서의 복수의 관통공(31h)의 열의 수는, 5열에 한정하지 않고, 어떤 열이라도 괜찮다. 또, 일주(一周)를 따라서 마련되는 관통공(31h)의 수도 임의라도 괜찮다.

벨트 반송부(32)는, 4개의 반송 롤러(구동부)(32a ~ 32d)를 가지고 있다. 반송 롤러(32a ~ 32d)에는, 벨트부(31)가 걸어 둘러져 있다. 즉, 4개의 반송 롤러(32a ~ 32d)는, 벨트부(31)의 내주면에 접촉하고 있다. 4개의 롤러 중 2개의 반송 롤러(32a) 및 반송 롤러(32b)는, 안내 스테이지(33)보다도 기판(S)의 반송 방향의 상류측(－X축측)에 배치되어 있다. 다른 2개의 반송 롤러(32c) 및 반송 롤러(32d)는, 안내 스테이지(33)보다도 기판(S)의 반송 방향의 하류측(＋X축측)에 배치되어 있다. 이 때문에, 처리 장치(10)에 의한 처리 영역(10p)에 대해서, 벨트부(31)가 X축 방향으로 횡단하도록 이동하는 구성으로 되어 있다.

반송 롤러(32a) 및 반송 롤러(32b)는, 그 축 방향이 Y축 방향으로 평행하게 배치된다. 또, 반송 롤러(32a) 및 반송 롤러(32b)는, Z축 방향으로 늘어서도록 서로 간격을 두고 배치되어 있다. 마찬가지로, 반송 롤러(32c) 및 반송 롤러(32d)는, 그 축 방향이 Y축 방향으로 평행하게 배치된다. 또, 반송 롤러(32c) 및 반송 롤러(32d)는, Z축 방향으로 늘어서도록 서로 간격을 두고 배치되어 있다.

반송 롤러(32a ~ 32d)는, 벨트부(31)가 장력을 가지는 상태로 회전 이동하도록 위치가 조정되어 있다. 또, 반송 롤러(32b)와 반송 롤러(32c)와의 사이, 및, 반송 롤러(32d)와 반송 롤러(32a)와의 사이에 대해서는, 벨트부(31)가 X축 방향으로 평행하게 이동하도록, X축 방향의 위치를 맞춘 상태로 배치되어 있다.

반송 롤러(롤러 부재)(32a) 내지 반송 롤러(롤러 부재)(32d) 중 적어도 하나는, 벨트부(31)를 구동하는 구동 롤러가 된다. 반송 롤러(32d)에는, 구동부(32e)가 마련되어 있다. 본 실시 형태에서는, 예를 들면 반송 롤러(구동부)(32d)가 구동 롤러이며, 나머지의 반송 롤러(32a ~ 32c)는 종동 롤러이다. 또, 구동 롤러인 반송 롤러(32d)를, 예를 들면 다공질 재료에 의해서 형성하고, 그리고, 미도시한 흡인 장치에 접속하며, 외주면에 벨트부(31)를 흡착시켜, 벨트부(31)에 동력을 전달해도 괜찮다.

안내 스테이지(33)는, 예를 들면 기체가 통과 가능한 다공질재를 복수 조합시키는 것에 의해서 형성되어 있다. 안내 스테이지(33)의 형상은, 직사각형의 판 모양이다. 안내 스테이지(33)의 ＋Z축측의 면(안내면)(33a)은, XY평면에 평행하게 형성되어 있다. 안내 스테이지(33)는, 기판(S)의 길이 방향 및 벨트부(31)가 이동하는 방향(X축 방향)으로 이동하도록 기판(S)을 안내한다.

안내 스테이지(33)는, X축 방향에 대해 반송 롤러(32b)와 반송 롤러(32c)와의 사이에 배치되어 있다. 또, 안내 스테이지(33)는, Y축 방향에 대해 벨트부(31)와 겹치도록 배치되어 있다. 안내 스테이지(33)는, 벨트부(31)의 내측에 배치되어 있다. 안내 스테이지(33)의 안내면(33a)은, 벨트부(31)의 이면(내주면)(31b)에 대향하여 마련되어 있다. 안내 스테이지(33)는, 미도시한 고정 기구에 의해서 위치가 고정되어 있다.

도 3은, 기판 지지 기구(30)를 ＋Z축측으로부터 보았을 때의 구성을 나타내는 도면이다. 도 3에서는, 벨트부(31)의 하부에 안내 스테이지(33)가 배치되어 있다.

기체 흡인부(33s)는, X축 방향으로 연장하는 다공질재에 의해서 형성되며, 벨트부(31)의 이면 중 관통공(31h)의 열이 형성된 제1 영역(AR1)에 대향하여 배치되어 있다. 이 때문에, 벨트부(31)가 회전 이동하면, 각 열의 관통공(31h)은, 기체 흡인부(33s) 상을 이동하도록 되어 있다.

기체 공급부(33t)는, 기체 흡인부(33s)와 마찬가지로, X축 방향으로 연장하는 다공질재에 의해서 형성되며, 기체 흡인부(33s)와 기체 공급부(33t)는, Y축 방향(폭 방향)으로 교호(交互)로 마련되어 있다. 기체 흡인부(33s)와 기체 공급부(33t)와의 사이는, 칸막이 부재(34)에 의해서 구획되어 있다. 칸막이 부재(34)는, 안내 스테이지(33)의 -X축측의 단부로부터 ＋X축측의 단부까지, 안내 스테이지(33)를 X축 방향으로 횡단하도록 마련되어 있다.

기체 공급부(33t)는, 벨트부(31)의 이면 중 제1 영역(AR1)과는 다른 제2 영역(AR2)에 대향하여 배치되어 있다. 즉, 기체 공급부(33t)는, 벨트부(31)의 이면 중 관통공(31h)의 열(列)의 사이에 대향하여 배치되어 있다. 또, 제2 영역(AR2)은, 벨트부(31)의 Y축 방향에 대해서 5개소에 형성된 각 제1 영역(AR1)의 사이에 형성된다. 따라서, 벨트부(31)에는, Y축 방향에 대해 제2 영역(AR2)과 제1 영역(AR1)이 교호로 배치되어 있으며, 벨트부(31)의 Y축 방향의 양단에는 제2 영역(AR2)이 배치되어 있다.

도 4는, 도 3에서의 A－A 단면을 따른 구성을 나타내는 도면이다. 　

도 4에 나타내는 바와 같이, 기체 흡인부(33s)는, 흡인계(35)에 접속되어 있다. 흡인계(35)는, 흡인 펌프(35a) 및 흡인 경로(35b)를 가진다. 기체 흡인부(33s)는, 흡인 경로(35b)를 매개로 하여 흡인 펌프(35a)에 접속되어 있다. 흡인 경로(35b)는, 안내 스테이지(33)의 저면(－Z축측의 면)(33b)측에 접속되어 있다. 이 때문에, 기체 흡인부(33s)에서는, 안내면(33a)으로부터 기체 흡인부(33s)를 통과하여 저면(33b)으로 빠지는 방향으로 기체가 흡인된다.

또, 기체 공급부(33t)는, 공급계(36)에 접속되어 있다. 공급계(36)는, 기체 공급원(36a) 및 공급 경로(36b)를 가진다. 기체 공급부(33t)는, 공급 경로(36b)를 매개로 하여 기체 공급원(36a)에 접속되어 있다. 공급 경로(36b)는, 안내 스테이지(33)의 저면(33b)측에 접속되어 있다. 이 때문에, 기체 공급부(33t)에서는, 저면(33b)으로부터 기체 공급부(33t)를 통과하여 안내면(33a)으로 빠지는 방향으로 기체가 공급된다.

또, 도 3에 나타내는 바와 같이, 상기의 벨트부(31)에는 위치 기준부(31c)가 형성되어 있다. 위치 기준부(31c)는, 예를 들면 벨트부(31)의 -Y축측의 단부에 둘레 방향으로 형성되어 있다.

위치 기준부(31c)는, 기판(S)의 X축 방향 또는 Y축 방향의 위치를 검출하기 위한 기준을 나타내고 있다. 벨트부(31)의 ＋Z축측에는, 위치 기준부(31c)를 검출하는 엔코더(EC)가 마련되어 있다. 엔코더(EC)의 검출 결과는, 제어부(CONT)에 송신되도록 되어 있다.

제어부(CONT)의 제어에 의해, 엔코더(EC)의 검출 결과에 따라서, 예를 들면 반송 롤러(32d)의 회전 속도와, 기판(S)의 반송 속도와의 조정이 행해진다.

상기와 같이 구성된 기판 처리 장치(100)는, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 롤 방식에 의해서 유기 EL소자, 액정 표시 소자 등의 표시 소자(전자 디바이스)를 제조한다.

이하, 상기 구성의 기판 처리 장치(100)를 이용하여 표시 소자를 제조하는 공정을 설명한다.

먼저, 미도시한 롤러에 감겨진 띠 모양의 기판(S)을 기판 공급부(2)에 장착한다.

제어부(CONT)의 제어에 의해, 이 상태의 기판 공급부(2)로부터 상기 기판(S)이 송출되도록, 미도시한 롤러가 회전된다. 그리고, 기판 처리부(3)를 통과한 상기 기판(S)이, 기판 회수부(4)에 마련된 미도시한 롤러에서 권취된다. 이 기판 공급부(2) 및 기판 회수부(4)를 제어하는 것에 의해서, 기판(S)의 피처리면(Sa)을 기판 처리부(3)에 대해서 연속적으로 반송할 수 있다.

제어부(CONT)의 제어에 의해, 기판(S)이 기판 공급부(2)로부터 송출되고 나서 기판 회수부(4)에서 권취될 때까지의 사이에, 기판 처리부(3)의 반송 장치(20)에 의해서 상기 기판(S)이 상기 기판 처리부(3) 내에서 반송되면서, 처리 장치(10)에 의해서 표시 소자의 구성 요소가 기판(S) 상에 순차적으로 형성된다.

처리 장치(10)에 의한 처리를 행할 때에, 반송 장치(20)의 기판 지지 기구(30)를 이용하여 기판(S)을 반송하는 경우에는, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 먼저, 기판(S)이 닙 롤러(R1 및 R2)에 의해서 사이에 끼워진 상태가 되도록 한다. 이 동작에 의해, 상기 닙 롤러(R1 및 R2)의 상류측으로부터의 진동이 기판(S)에 전달 되기 어려워진다.

제어부(CONT)의 제어에 의해, 닙 롤러(R1 및 R2)에 의해서 기판(S)은 장력 조정 롤러(R3)를 향하여 반송된다. 제어부(CONT)의 제어에 의해, 기판(S)이 장력 조정 롤러(R3)에 도달하는 도중에, 기판 세정부(21)를 이용한 기판(S)의 세정이 행해진다. 기판(S)이 장력 조정 롤러(R3)에 도달하고, 상기 장력 조정 롤러(R3)에 걸리는 것에 의해, 기판(S)에 Y축 방향의 장력이 부여된다.

제어부(CONT)의 제어에 의해, 장력 조정 롤러(R3)에 의해서 기판(S)이 기판 흡착 롤러(R4)를 향하여 반송된다. 또, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 벨트부(31)가 회전한다. 이 때, 제어부(제어 장치)(CONT)의 제어에 의해, 기판(S)의 이동 속도와 벨트부(31)의 이동 속도가 동일하게 되도록, 기판 흡착 롤러(R4)의 회전과 반송 롤러(32d)의 회전이 동기된다. 기판(S)이 기판 지지 기구(30)에 이르기 전에, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 정전기 제거부(22)를 이용하여 기판(S)에 대전하는 정전기가 제거된다. 제어부(CONT)의 제어에 의해, 기판(S)이 기판 지지 기구(30)의 상류측에 배치되어 있는 동안에 정전기의 제거가 행해진다.

그 후, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 기판(S)이 ＋X축측으로 반송되며, 기판 지지 기구(30)가 ＋X축 방향으로 통과한다. 이 때, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 정전기 제거부(23)를 이용하여 기판(S)의 정전기는 제거되어 있다. 제어부(CONT)의 제어에 의해, 기판 흡착 롤러(R4)를 이용하여 기판(S)에 X축 방향의 장력이 부여된다.

기판(S)에 X축 방향의 장력을 부여한 후, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 기체 공급부(33t)로부터 기체가 공급됨과 아울러, 기체 흡인부(33s)가 기체를 흡인함으로써, 기판(S)이 벨트부(31)의 지지면(31a)에 흡착한다. 또, 제어부(CONT)는, 기판(S)을 벨트부(31)의 지지면(31a)에 흡착시키는 순간에는, 벨트부(31)의 회전 속도 보다도 기판(S)의 반송 속도 쪽이 높게 되도록 제어한다.

도 5는, 도 3에서의 A－A 단면을 따른 구성을 나타내는 도면이다. 도 5는, 기체 공급부(33t)에 의한 기체의 공급 및 기체 흡인부(33s)에 의한 기체의 흡인이 행해진 경우의 형태를 나타내는 도면이다. 　

도 5에 나타내는 바와 같이, 기체 공급부(33t)로부터 기체가 공급되면, 상기 기체는, 안내 스테이지(33)의 안내면(33a)과 벨트부(31)의 이면(31b)과의 사이에, 기체층을 형성한다. 또, 기체 흡인부(33s)에 의해서 흡인이 행해지면, 기체층을 구성하는 일부의 기체가 기체 흡인부(33s)에 흡인된다. 이 때, 제어부(CONT)는, 기체의 공급량과 흡인량을 조정함으로써, 기체층을 일정한 두께로 유지할 수 있다. 이 때의 제어부(CONT)에 의한 조정량에 대해서는, 미리 실험이나 시뮬레이션 등을 행함으로써 얻어진 데이터 등을 이용할 수 있다.

또, 기체 흡인부(33s)의 흡인에 의해, 상기 기체 흡인부(33s)에 대향하는 벨트부(31)의 각 관통공(31h)을 매개로 하여, 지지면(31a)에 기판(S)의 피지지면(Sb)이 흡착된다.

이와 같이, 기판 지지 기구(30)에서는, 안내 스테이지(33)가 벨트부(31)의 이면(31b)을 비접촉 상태로 지지함과 아울러, 벨트부(31)가 기판(S)을 지지면(31a)에 흡착시켜 지지한다. 이 때, 기판 흡착 롤러(R4)에 의해서 기판(S)에는 X축 방향의 장력이 부여되어 있고, 또, 장력 조정 롤러(R3)에 의해서 기판(S)에는 Y축 방향의 장력이 부여되어 있기 때문에, 기판(S)에 주름 등이 형성되지 않아, 평탄한 상태로 유지되게 된다. 제어부(CONT)의 제어에 의해, 이 상태에서, 처리 장치(10)를 이용한 기판(S)의 피처리면(Sa)에 대한 처리가 행해진다.

또, 제어부(제어 장치)(CONT)의 제어에 의해, 이 상태에서, 기판 흡착 롤러(R4)가 회전함과 아울러 반송 롤러(32d)가 회전하는 것에 의해, 기판(S)의 반송 속도와 벨트부(31)의 이동 속도를 등속으로 동기시킬 수 있다. 그 때문에, 기판(S)의 평탄한 상태가 유지되면서, 기판(S)과 벨트부(31)가 ＋X축 방향으로 이동된다. 또, 제어부(위치 조정부)(CONT)의 제어에 의해, 엔코더(EC)를 이용하여 벨트부(31)의 지지면(31a)에 형성된 위치 기준부(31c)가 검출되고, 그 검출 결과에 기초하여 기판(S)과 벨트부(31)와의 사이의 위치 관계가 조정된다. 또, 제어부(CONT)의 제어에 의해, 벨트 세정부(37)를 이용하여 적절히 벨트부(31)의 세정이 행해짐과 아울러, 정전기 제거부(38)를 이용하여 벨트부(31)의 정전기의 제거가 행해진다.

이상과 같이, 본 실시 형태에 관한 반송 장치(20)는, 기판(S)의 피지지면(Sb)을 지지하는 지지면(31a)을 가지며, 지지면(31a)과 상기 지지면(31a)의 이면(31b)을 관통하는 복수의 관통공(31h)이 형성된 벨트부(31)와, 벨트부(31)의 이면(31b) 중, 복수의 관통공(31h)을 포함하는 제1 영역(AR1)에 대향하여 배치되는 기체 흡인부(33s)와, 벨트부(31)의 이면(31b) 중, 제1 영역(AR1)과는 다른 제2 영역(AR2)에 대향하여 배치되는 기체 공급부(33t)를 구비하며, 벨트부(31)의 이면(31b)에 대해서 기체의 공급 및 흡인을 행하는 것에 의해서, 벨트부(31)의 이면(31b)을 비접촉 상태로 유지함과 아울러, 복수의 관통공(31h)을 매개로 하여 기판(S)을 지지면(31a)에 흡착시키는 기판 지지 기구(30)를 구비하므로, 기판(S)을 평탄한 상태로 유지할 수 있음과 아울러, 상기 기판(S)을 평탄한 상태로 반송할 수 있다.

본 발명의 기술 범위는 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경을 가할 수 있다. 　

예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 처리 장치(10)에 의한 처리 영역(10p)의 형상이, 직사각형의 형상인 구성을 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 　

예를 들면, 도 6에 나타내는 바와 같이, 처리 장치(10)로서 복수의 투영 광학계(PL1 ~ PL5)를 가지는 노광 장치(EX)가 마련되어 있는 경우에는, 투영 광학계(PL1 ~ PL5)에 의한 투영 영역이 처리 영역(10p)이 된다.

도 6에는, 투영 광학계(PL1, PL3 및 PL5)가 기판(S)의 반송 방향의 상류측에 Y축 방향을 따라서 1열로 배치되어 있고, 투영 광학계(PL2 및 PL4)가 기판(S)의 반송 방향의 하류측에 Y축 방향을 따라서 1열로 배치되어 있다. 이와 같이, 노광 장치(EX)는, 투영 광학계(PL1, PL3 및 PL5)와, 투영 광학계(PL2 및 PL4)가, X축 방향으로 어긋나게 배치된 구성으로 되어 있다. 또, 투영 광학계(PL1 ~ PL5)에 의한 각 투영 영역(10p)은, X축 방향에서 보아, 서로 인접하는 투영 영역(10p)과의 사이에서 Y축 방향의 일부가 겹치도록 배치되어 있다. 또한, 투영 영역(10p) 각각은 폭방향으로 교호로 늘어서는 제1 영역(AR1)과 제2 영역(AR2) 중 적어도 하나의 제1 영역(AR1)과 적어도 하나의 제2 영역(AR2)에 걸쳐 겹치도록 설정된다.

또, 투영 광학계의 수 및 배치에 대해서는, 도 6에 나타내는 예에 한정되지는 않는다. 예를 들면, 투영 광학계가 4개 이하, 혹은 6개 이상 배치된 구성이라도 상관없다. 또, 복수의 투영 광학계가 1열로 배치된 구성, 또는, 복수의 투영 광학계가 3열 이상으로 배치된 구성이라도 상관없다.

또, 도 7에 나타내는 바와 같이, 복수의 처리 헤드(H)가 늘어서 배치된 구성이라도 상관없다. 이 경우, 기판(S)의 반송 방향의 상류측에 1개의 처리 헤드(H)가 마련되어 있고, 기판(S)의 반송 방향의 하류측에는 2개의 처리 헤드(H)가 마련되어 있다. 이 때문에, 처리 영역(10p)이 기판(S) 상의 3개소에 형성된다. 이 경우에도, 처리 헤드(H)가 2개 혹은 4개 이상 배치된 구성이라도 상관없고, 도 7의 배치와는 다른 배치로 마련되어 있어도 상관없다. 또한, 이 경우에도 처리 영역(10p) 각각은 폭방향으로 교호로 늘어서는 제1 영역(AR1)과 제2 영역(AR2) 중 적어도 하나의 제1 영역(AR1)과 적어도 하나의 제2 영역(AR2)에 걸쳐 겹치도록 설정된다.

또, 상기 실시 형태에서는, 안내 스테이지(33)에서, 기체 흡인부(33s)와 기체 공급부(33t)와의 사이에, 기체를 차단하는 칸막이 부재(34)가 마련된 구성을 예로 들어 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면 칸만이 부재(34)가 마련되어 있지 않은 구성이라도 상관없다.

또, 본 실시 형태에서, 정전기 제거부(22, 23), 및 기판 세정부(21)를 마련하는 구성에 대해 설명했지만, 정전기 제거부(22, 23), 및 기판 세정부(21)의 양쪽 모두 또는 어느 일방을 생략해도 괜찮다.

S - 기판　 CONT - 제어부　
EL - 유기　 Sa - 피처리면
Sb - 피지지면 R - 안내 롤러
R1, R2 - 닙 롤러　 R3 - 장력 조정 롤러　
R4 - 기판 흡착 롤러　 R5, R6 - 닙 롤러　
R4a - 외주면　 EC - 엔코더　
AR1 - 제1 영역　 AR2 - 제2 영역　
10 - 처리 장치　 20 - 반송 장치
21 - 기판 세정부 22, 23 - 정전기 제거부　
25 - 흡인부　 26 - 구동부　
30 - 기판 지지 기구 31 - 벨트부　
31a - 지지면　 31b - 이면　
31c - 위치 기준부　 31h - 관통공　
32 - 벨트 반송부　 32a ~ 32d - 반송 롤러
33 - 안내 스테이지　 33a - 안내면
33b - 저면　 33s - 기체 흡인부
33t - 기체 공급부　 35 - 흡인계　
36 - 공급계

Claims

장척(長尺)의 가요성의 기판을 장척 방향으로 반송하여, 상기 기판의 표면에 전자 디바이스를 위한 패턴을 형성하는 패턴 형성 장치로서,
상기 기판보다도 강성이 높은 재료로 박판 모양으로 형성됨과 아울러, 상기 기판의 이면(裏面)을 지지하는 지지면과 상기 지지면의 이면을 관통하는 관통공이 상기 장척 방향을 따라서 소정의 간격으로 복수 형성된 열(列)을, 상기 장척 방향과 직교하는 상기 기판의 폭 방향으로 소정의 간격으로 복수 배치하여 무단(無端) 모양으로 형성된 벨트부와,
상기 벨트부를 지지하는 복수의 롤러 부재에 의해서, 상기 기판의 장척 방향을 따라서 평탄한 부분이 형성되도록 상기 벨트부를 구동하는 구동부와,
상기 벨트부의 평탄한 부분의 이면과 대향하는 평탄한 안내면을 가지며, 상기 안내면 중에서 상기 관통공에 의한 상기 열(列)의 복수의 각각을 포함하는 복수의 제1 영역의 각각에 대향하여 배치되는 복수의 기체 흡인부와, 상기 벨트부의 이면 중, 상기 폭 방향에 관해서 상기 복수의 제1 영역의 각각과 교호로 마련되는 복수의 제2 영역에 대향하여 배치되는 복수의 기체 공급부를 구비하며, 상기 벨트부의 평탄한 부분의 이면을 상기 안내면에 대해서 비접촉 상태가 되도록 유지함과 아울러, 상기 복수의 관통공을 통해서 상기 기판의 이면을 상기 벨트부의 상기 지지면에 흡착시키는 유지 기구와,
상기 기판 상에 설정되는 처리 영역에 대응하여 배치되고, 상기 처리 영역에 상기 패턴을 형성하기 위한 투영 광학계, 또는 처리 헤드를 가지는 처리 장치와,
상기 벨트부의 표면을 세정하는 벨트 세정부와,
상기 벨트부의 정전기를 제거하는 제1 정전기 제거부를 구비하며,
상기 기판의 표면의 상기 복수의 처리 영역의 각각에 대응한 부분을 상기 벨트부의 평탄한 지지면으로 흡착 지지하면서, 상기 벨트부의 이면을 상기 유지 기구의 안내면을 따라서 비접촉으로 평탄하게 유지한 상태에서, 상기 기판을 상기 장척 방향으로 소정의 속도록 이동시키면서, 상기 처리 장치에 의해서 상기 패턴을 형성하는 패턴 형성 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 벨트부의 평탄한 지지면을 따라서 상기 기판을 상기 장척 방향으로 반송함과 아울러, 상기 기판의 반송 방향에 관해서 상기 유지 기구의 상류측 또는 하류측에서, 상기 기판에 폭 방향과 상기 장척 방향의 장력을 부여하는 기판 반송 기구를 더 구비하는 패턴 형성 장치.
청구항 2에 있어서,
상기 기판 반송 기구는, 상기 기판의 반송 방향에 관해서 상기 유지 기구의 상류측에 배치되어, 상기 기판의 폭 방향의 장력을 조정하는 제1 장력 조정 기구와, 상기 기판의 반송 방향에 관해서 상기 유지 기구의 하류측에 배치되어, 상기 기판의 장척 방향의 장력을 조정하는 제2 장력 조정 기구를 포함하는 패턴 형성 장치.
청구항 3에 있어서,
상기 기판 반송 기구와 상기 구동부를 제어하고, 상기 기판의 이동 속도와 상기 벨트부의 이동 속도를 동기(同期)시키는 제어 장치를 더 구비하는 패턴 형성 장치.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판이 상기 벨트부의 상기 지지면에 접촉하여 흡착 지지되기 전에, 상기 기판에 대전된 정전기를 제거하는 제2 정전기 제거부를 더 구비하는 패턴 형성 장치.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 벨트부에는, 상기 벨트부의 상기 지지면에 흡착된 상기 기판의 상기 장척 방향 또는 상기 폭 방향의 위치를 엔코더로 검출하기 위한 기준이 되는 위치 기준부가 둘레 방향으로 형성되고,
상기 구동부는, 상기 엔코더의 검출 결과에 따라서 제어되는 패턴 형성 장치.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 투영 광학계 또는 상기 처리 헤드는, 상기 폭 방향으로 소정의 간격으로 상기 기판 상에 설정되는 복수의 처리 영역 각각에 상기 패턴을 형성하도록 상기 폭 방향으로 복수 배치되며,
상기 기판 상의 상기 복수의 처리 영역 각각은, 상기 폭 방향으로 교호로 늘어서는 상기 벨트부의 상기 제1 영역과 상기 제2 영역 모두와 겹쳐지도록 설정되는 패턴 형성 장치.