JP2018195814A5 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018195814A5 JP2018195814A5 JP2018089796A JP2018089796A JP2018195814A5 JP 2018195814 A5 JP2018195814 A5 JP 2018195814A5 JP 2018089796 A JP2018089796 A JP 2018089796A JP 2018089796 A JP2018089796 A JP 2018089796A JP 2018195814 A5 JP2018195814 A5 JP 2018195814A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- semiconductor device
- insulator
- oxygen concentration
- conductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 2
Claims (1)
- トランジスタを有する半導体装置であって、
前記トランジスタは、
酸化物と、
前記酸化物上の第1の絶縁体と、
前記第1の絶縁体上の導電体と、
前記第1の絶縁体の側面、及び前記導電体の側面に設けられる第2の絶縁体と、を有し、
前記酸化物は、
第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域および前記第2の領域の間に位置する第3の領域と、を有し、
前記第1の絶縁体は、前記第1の領域上に設けられ、
前記第3の領域は、前記第2の絶縁体と重畳する領域を有し、
前記第2の領域は、前記第1の領域及び前記第3の領域よりも酸素濃度が小さく、
前記第3の領域は、前記第1の領域の酸素濃度と、前記第2の領域の酸素濃度との間の酸素濃度となる部分を有する、ことを特徴とする半導体装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017096084 | 2017-05-12 | ||
JP2017096084 | 2017-05-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018195814A JP2018195814A (ja) | 2018-12-06 |
JP2018195814A5 true JP2018195814A5 (ja) | 2021-07-26 |
Family
ID=64104446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018089796A Withdrawn JP2018195814A (ja) | 2017-05-12 | 2018-05-08 | 半導体装置、および半導体装置の作製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200227561A1 (ja) |
JP (1) | JP2018195814A (ja) |
TW (1) | TW201901971A (ja) |
WO (1) | WO2018207048A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11935964B2 (en) | 2018-10-12 | 2024-03-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
JP2020141100A (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-03 | キオクシア株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US20220189766A1 (en) * | 2019-04-10 | 2022-06-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
CN114127932A (zh) * | 2019-07-12 | 2022-03-01 | 株式会社半导体能源研究所 | 半导体装置及半导体装置的制造方法 |
KR20210084835A (ko) * | 2019-12-30 | 2021-07-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막트랜지스터 및 이를 포함하는 표시장치 |
KR20220076870A (ko) | 2020-12-01 | 2022-06-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 이의 제조 방법 |
WO2023161754A1 (ja) * | 2022-02-25 | 2023-08-31 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、記憶装置、及び電子機器 |
WO2024069339A1 (ja) * | 2022-09-30 | 2024-04-04 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 記憶装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5708910B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2015-04-30 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置 |
JP6013685B2 (ja) * | 2011-07-22 | 2016-10-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
TW201322341A (zh) * | 2011-11-21 | 2013-06-01 | Ind Tech Res Inst | 半導體元件以及其製造方法 |
JP6111458B2 (ja) * | 2013-03-28 | 2017-04-12 | 株式会社Joled | 半導体装置、表示装置および電子機器 |
JP2015135896A (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-27 | 株式会社Joled | 半導体装置、表示装置及び半導体装置の製造方法 |
-
2018
- 2018-04-24 TW TW107113779A patent/TW201901971A/zh unknown
- 2018-05-01 US US16/606,910 patent/US20200227561A1/en not_active Abandoned
- 2018-05-01 WO PCT/IB2018/053004 patent/WO2018207048A1/en active Application Filing
- 2018-05-08 JP JP2018089796A patent/JP2018195814A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018195814A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2017050530A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2016201541A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2016213452A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2018026564A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2018061001A5 (ja) | トランジスタ | |
JP2017005277A5 (ja) | ||
JP2014042013A5 (ja) | ||
JP2012160717A5 (ja) | トランジスタ | |
JP2015195380A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2017059856A5 (ja) | ||
JP2016139800A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2016027597A5 (ja) | ||
JP2017028288A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2013008946A5 (ja) | ||
JP2014225652A5 (ja) | ||
JP2015130487A5 (ja) | ||
JP2014195063A5 (ja) | ||
JP2015188064A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2014195049A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2013229588A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2014027263A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2015156480A5 (ja) | トランジスタ | |
JP2017175129A5 (ja) | 半導体装置 | |
JP2013165260A5 (ja) | 半導体装置 |