JP2018195814A5 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2018195814A5
JP2018195814A5 JP2018089796A JP2018089796A JP2018195814A5 JP 2018195814 A5 JP2018195814 A5 JP 2018195814A5 JP 2018089796 A JP2018089796 A JP 2018089796A JP 2018089796 A JP2018089796 A JP 2018089796A JP 2018195814 A5 JP2018195814 A5 JP 2018195814A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
semiconductor device
insulator
oxygen concentration
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2018089796A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018195814A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2018195814A publication Critical patent/JP2018195814A/ja
Publication of JP2018195814A5 publication Critical patent/JP2018195814A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Claims (1)

  1. トランジスタを有する半導体装置であって、
    前記トランジスタは、
    酸化物と、
    前記酸化物上の第1の絶縁体と、
    前記第1の絶縁体上の導電体と、
    前記第1の絶縁体の側面、及び前記導電体の側面に設けられる第2の絶縁体と、を有し、
    前記酸化物は、
    第1の領域と、第2の領域と、前記第1の領域および前記第2の領域の間に位置する第3の領域と、を有し、
    前記第1の絶縁体は、前記第1の領域上に設けられ、
    前記第3の領域は、前記第2の絶縁体と重畳する領域を有し、
    前記第2の領域は、前記第1の領域及び前記第3の領域よりも酸素濃度が小さく、
    前記第3の領域は、前記第1の領域の酸素濃度と、前記第2の領域の酸素濃度との間の酸素濃度となる部分を有する、ことを特徴とする半導体装置。
JP2018089796A 2017-05-12 2018-05-08 半導体装置、および半導体装置の作製方法 Withdrawn JP2018195814A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017096084 2017-05-12
JP2017096084 2017-05-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018195814A JP2018195814A (ja) 2018-12-06
JP2018195814A5 true JP2018195814A5 (ja) 2021-07-26

Family

ID=64104446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018089796A Withdrawn JP2018195814A (ja) 2017-05-12 2018-05-08 半導体装置、および半導体装置の作製方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20200227561A1 (ja)
JP (1) JP2018195814A (ja)
TW (1) TW201901971A (ja)
WO (1) WO2018207048A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11935964B2 (en) 2018-10-12 2024-03-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2020141100A (ja) * 2019-03-01 2020-09-03 キオクシア株式会社 半導体装置およびその製造方法
US20220189766A1 (en) * 2019-04-10 2022-06-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
CN114127932A (zh) * 2019-07-12 2022-03-01 株式会社半导体能源研究所 半导体装置及半导体装置的制造方法
KR20210084835A (ko) * 2019-12-30 2021-07-08 엘지디스플레이 주식회사 박막트랜지스터 및 이를 포함하는 표시장치
KR20220076870A (ko) 2020-12-01 2022-06-08 삼성전자주식회사 반도체 장치 및 이의 제조 방법
WO2023161754A1 (ja) * 2022-02-25 2023-08-31 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、記憶装置、及び電子機器
WO2024069339A1 (ja) * 2022-09-30 2024-04-04 株式会社半導体エネルギー研究所 記憶装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5708910B2 (ja) * 2010-03-30 2015-04-30 ソニー株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法、並びに表示装置
JP6013685B2 (ja) * 2011-07-22 2016-10-25 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
TW201322341A (zh) * 2011-11-21 2013-06-01 Ind Tech Res Inst 半導體元件以及其製造方法
JP6111458B2 (ja) * 2013-03-28 2017-04-12 株式会社Joled 半導体装置、表示装置および電子機器
JP2015135896A (ja) * 2014-01-17 2015-07-27 株式会社Joled 半導体装置、表示装置及び半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018195814A5 (ja) 半導体装置
JP2017050530A5 (ja) 半導体装置
JP2016201541A5 (ja) 半導体装置
JP2016213452A5 (ja) 半導体装置
JP2018026564A5 (ja) 半導体装置
JP2018061001A5 (ja) トランジスタ
JP2017005277A5 (ja)
JP2014042013A5 (ja)
JP2012160717A5 (ja) トランジスタ
JP2015195380A5 (ja) 半導体装置
JP2017059856A5 (ja)
JP2016139800A5 (ja) 半導体装置
JP2016027597A5 (ja)
JP2017028288A5 (ja) 半導体装置
JP2013008946A5 (ja)
JP2014225652A5 (ja)
JP2015130487A5 (ja)
JP2014195063A5 (ja)
JP2015188064A5 (ja) 半導体装置
JP2014195049A5 (ja) 半導体装置
JP2013229588A5 (ja) 半導体装置
JP2014027263A5 (ja) 半導体装置
JP2015156480A5 (ja) トランジスタ
JP2017175129A5 (ja) 半導体装置
JP2013165260A5 (ja) 半導体装置