JP2018082014A - 圧粉磁心及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の一態様に係る圧粉磁心10は、アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子から構成された圧粉磁心であって、少なくとも圧粉磁心の表面に位置する窒化アルミニウム膜の全体が、酸化アルミニウム膜によって被覆されているものである。
【選択図】図1
Description
特許文献1に開示された圧粉磁心は、窒化アルミニウム膜をさらに低融点ガラス膜によって被覆した軟磁性粒子から構成されている。
図9は、本発明が解決しようとする課題を説明するための図であって、圧粉磁心の経時変化を示す部分断面図である。図9に示すように、圧粉磁心において軟磁性粒子の表面を被覆する窒化アルミニウム膜は、使用時に大気中の水分と反応し、表面側から徐々に水酸化アルミニウム膜に変化していく。すなわち、経時変化により水酸化アルミニウム膜が厚く、窒化アルミニウム膜が薄くなっていく。その結果、圧粉磁心の熱伝導率が低下する問題があった。
なお、特許文献1に開示された低融点ガラス膜は、そもそも窒化アルミニウム膜の水酸化アルミニウム膜への変化を抑制するためのものではない。
アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子から構成された圧粉磁心であって、
少なくとも前記圧粉磁心の表面に位置する前記窒化アルミニウム膜の全体が、酸化アルミニウム膜によって被覆されているものである。
このような構成により、窒化アルミニウム膜の水酸化アルミニウム膜への変化をより効果的に抑制することができる。
アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子を圧縮し、圧粉体を成形するステップと、
前記圧粉体を加湿処理し、少なくとも前記圧粉体の表面を水酸化アルミニウム膜によって被覆するステップと、
前記水酸化アルミニウム膜によって被覆された前記圧粉体を焼鈍処理し、前記水酸化アルミニウム膜を酸化アルミニウムに変化させるステップと、を備えたものである。
アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子を加湿処理し、前記窒化アルミニウム膜を水酸化アルミニウム膜によって被覆するステップと、
前記水酸化アルミニウム膜によって被覆された前記複数の軟磁性粒子を圧縮し、圧粉体を成形するステップと、
前記圧粉体を焼鈍処理し、前記水酸化アルミニウム膜を酸化アルミニウムに変化させるステップと、を備えたものである。
<第1の実施形態に係る圧粉磁心の構成>
まず、図1を参照して、第1の実施形態に係る圧粉磁心について説明する。図1は、第1の実施形態に係る圧粉磁心の模式的な部分断面図である。
図1に示すように、第1の実施形態に係る圧粉磁心10は、Alを含有するFe基合金からなる複数の軟磁性粒子から構成されている。
さらに、AlN膜全体が、酸化アルミニウム(Al2O3)膜によって被覆されている。Al2O3膜の膜厚は、AlN膜の膜厚の10〜50%であって、具体的には20nm〜1μmであることが好ましい。
次に、図2、図3を参照して、第1の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法について説明する。図2は、第1の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法を示すフローチャートである。図3は、第1の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法を示す模式的な部分断面図である。
以上の工程により、第1の実施形態に係る圧粉磁心10が製造される。
<第2の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法>
次に、図4、図5を参照して、第2の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法について説明する。図4は、第2の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法を示すフローチャートである。図5は、第2の実施形態に係る圧粉磁心の製造方法を示す模式的な部分断面図である。
以上の工程により、第2の実施形態に係る圧粉磁心20が製造される。
以下、第1の実施形態に係る圧粉磁心及びその製造方法を実施例、比較例を挙げて詳細に説明する。しかしながら、第1の実施形態に係る圧粉磁心及びその製造方法は、以下の実施例のみに限定されるものではない。
表1に、第1の実施形態に係る全ての実施例1〜8及び比較例1〜4の試験条件及び結果を示す。
まず、試験条件について実施例1から順に説明する。
まず、組成Fe−2%Si−3%Alの軟磁性粒子の原料粉末を窒素ガス雰囲気中において1000℃、5時間の条件で窒化処理し、表面にAlN膜を形成した。
次に、AlN膜の表面全体にAl(OH)3膜を形成するために、湿度85%、温度85℃、5時間の条件で軟磁性粒子を加湿処理した(図2ステップST11)。
次に、金型に軟磁性粒子を充填し、1000MPaで圧縮することにより、圧粉体を成形した(図2ステップST12)。
最後に、Al(OH)3膜をAl2O3膜に変化させるため、アルゴンガス雰囲気中において、750℃、0.5時間の条件で圧粉体を焼鈍処理した(図2ステップST13)。
さらに、圧粉磁心を湿度85%、温度85℃の恒温恒湿槽内に1000時間収容する加速試験を実施した。加速試験後の圧粉磁心について、ONH分析装置を用いて圧粉磁心の窒素量を分析すると共に、四端子法により比抵抗を測定した。そして、加速試験前後の窒素量からAlN減少率を算出した。
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例1と同様にした。
[実施例3]
窒化処理温度を1100℃にした以外については、実施例1と同様にした。
実施例3については、加湿処理前後の軟磁性粒子の表面をXPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy)により分析した。また、加速試験前後の圧粉磁心の表面もXPSにより分析した。
さらに、実施例3については、加速試験後の圧粉磁心の熱伝導率をレーザーフラッシュ法により測定した。
[実施例4]
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例3と同様にした。
軟磁性粒子の組成がFe−1%Si−3%Alである以外については、実施例1と同様にした。
[実施例6]
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例5と同様にした。
[実施例7]
窒化処理温度を1100℃にした以外については、実施例5と同様にした。
[実施例8]
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例7と同様にした。
まず、組成Fe−2%Si−3%Alの軟磁性粒子の原料粉末を窒素ガス雰囲気中において1000℃、5時間の条件で窒化処理し、表面にAlN膜を形成した。
次に、金型に軟磁性粒子を充填し、1000MPaで圧縮することにより、圧粉体を成形した。
最後に、アルゴンガス雰囲気中において、750℃、0.5時間の条件で圧粉体を焼鈍処理した。
すなわち、加湿処理を行わない以外については、実施例1と同様にした。
加湿処理を行わない以外については、実施例2と同様にした。
[比較例3]
加湿処理を行わない以外については、実施例3と同様にした。
比較例3については、加速試験前後の圧粉磁心の表面をXPSにより分析した。
さらに、比較例3については、加速試験後の圧粉磁心の熱伝導率をレーザーフラッシュ法により測定した。
[比較例4]
加湿処理を行わない以外については、実施例4と同様にした。
表1に示すように、全ての実施例1〜8に係る圧粉磁心の比抵抗と、比較例1〜4に係る圧粉磁心の比抵抗との間に差は見られず、いずれも良好であった。
他方、表1に示すように、比較例1〜4に係る圧粉磁心では、AlN量の減少率が、いずれも50%程度であった。これに対し、実施例1〜8に係る圧粉磁心では、AlN量の減少率が、いずれも5%以下であった。すなわち、AlNからAl(OH)3への変化が劇的に抑制されたものと考えられる。
また、比較例3に係る加速試験後の圧粉磁心の熱伝導率は、10.2W/m・kであった。これに対し、実施例3に係る加速試験後の圧粉磁心の熱伝導率は、14.3W/m・kであり、比較例3に比べ向上した。
次に、第2の実施形態に係る圧粉磁心及びその製造方法を、実施例を挙げて詳細に説明する。しかしながら、第2の実施形態に係る圧粉磁心及びその製造方法は、以下の実施例のみに限定されるものではない。
表2に、第2の実施形態に係る全ての実施例9〜16の試験条件及び結果を示す。第2の実施形態に係る比較例は、第1の実施形態に係る比較例と同じである。
まず、試験条件について実施例9から順に説明する。
まず、組成Fe−2%Si−3%Alの軟磁性粒子の原料粉末を窒素ガス雰囲気中において1000℃、5時間の条件で窒化処理し、表面にAlN膜を形成した。
次に、金型に軟磁性粒子を充填し、1000MPaで圧縮することにより、圧粉体を成形した(図4ステップST21)。
次に、圧粉体の表面に位置するAlN膜の表面全体にAl(OH)3膜を形成するために、湿度85%、温度85℃、5時間の条件で軟磁性粒子を加湿処理した(図4ステップST22)。
最後に、Al(OH)3膜をAl2O3膜に変化させるため、アルゴンガス雰囲気中において、750℃、0.5時間の条件で圧粉体を焼鈍処理した(図4ステップST23)。
さらに、圧粉磁心を湿度85%、温度85℃の恒温恒湿槽内に1000時間収容する加速試験を実施した。加速試験後の圧粉磁心について、ONH分析装置を用いて圧粉磁心の窒素量を分析すると共に、四端子法により比抵抗を測定した。そして、加速試験前後の窒素量からAlN減少率を算出した。
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例9と同様にした。また、実施例10は、第1の実施形態に係る実施例2に対応している。
[実施例11]
窒化温度を1100℃にした以外については、実施例9と同様にした。また、実施例11は、第1の実施形態に係る実施例3に対応している。
[実施例12]
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例11と同様にした。また、実施例12は、第1の実施形態に係る実施例4に対応している。
軟磁性粒子の組成がFe−1%Si−3%Alである以外については、実施例9と同様にした。また、実施例13は、第1の実施形態に係る実施例5に対応している。
[実施例14]
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例13と同様にした。また、実施例14は、第1の実施形態に係る実施例6に対応している。
[実施例15]
窒化温度を1100℃にした以外については、実施例13と同様にした。また、実施例15は、第1の実施形態に係る実施例7に対応している。
[実施例16]
焼鈍温度を1050℃にした以外については、実施例15と同様にした。また、実施例16は、第1の実施形態に係る実施例8に対応している。
表2に示す全ての実施例9〜16に係る圧粉磁心の比抵抗と、表1に示す比較例1〜4に係る圧粉磁心の比抵抗との間に差は見られず、いずれも良好であった。
他方、表1に示す比較例1〜4に係る圧粉磁心では、AlN量の減少率が、いずれも50%程度であった。これに対し、表2に示す実施例9〜16に係る圧粉磁心では、AlN量の減少率が、いずれも15%以下であった。すなわち、AlNからAl(OH)3への変化が抑制されたものと考えられる。
Claims (4)
- アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子から構成された圧粉磁心であって、
少なくとも前記圧粉磁心の表面に位置する前記窒化アルミニウム膜の全体が、酸化アルミニウム膜によって被覆されている、
圧粉磁心。 - 前記複数の軟磁性粒子のそれぞれにおいて、前記窒化アルミニウム膜の全体が前記酸化アルミニウム膜によって被覆されている、
請求項1に記載の圧粉磁心。 - アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子を圧縮し、圧粉体を成形するステップと、
前記圧粉体を加湿処理し、少なくとも前記圧粉体の表面を水酸化アルミニウム膜によって被覆するステップと、
前記水酸化アルミニウム膜によって被覆された前記圧粉体を焼鈍処理し、前記水酸化アルミニウム膜を酸化アルミニウムに変化させるステップと、を備えた、
圧粉磁心の製造方法。 - アルミニウムを含有する鉄基合金からなり、かつ、表面が窒化アルミニウム膜によって被覆された複数の軟磁性粒子を加湿処理し、前記窒化アルミニウム膜を水酸化アルミニウム膜によって被覆するステップと、
前記水酸化アルミニウム膜によって被覆された前記複数の軟磁性粒子を圧縮し、圧粉体を成形するステップと、
前記圧粉体を焼鈍処理し、前記水酸化アルミニウム膜を酸化アルミニウムに変化させるステップと、を備えた、
圧粉磁心の製造方法。
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