JP2018056529A5 - - Google Patents
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Description
本発明の実施形態に係る基板処理装置は、空気が上方から下方に流れる処理室と、前記処理室内に設けられ、被処理面を有する基板を支持する支持部と、前記支持部の上方を避けて設けられ、加熱用の光を出射する加熱部と、前記加熱部に対し、前記支持部を挟んで反対側に、かつ前記支持部の上方を避けて設けられ、前記加熱部により出射されて前記支持部の上方を通過した前記光を、前記支持部により支持された前記基板の被処理面に導く光学部材とを備える。
Claims (12)
- 空気が上方から下方に流れる処理室と、
前記処理室内に設けられ、被処理面を有する基板を支持する支持部と、
前記支持部の上方を避けて設けられ、加熱用の光を出射する加熱部と、
前記加熱部に対し、前記支持部を挟んで反対側に、かつ前記支持部の上方を避けて設けられ、前記加熱部により出射されて前記支持部の上方を通過した前記光を、前記支持部により支持された前記基板の被処理面に導く光学部材と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 - 前記光学部材を移動させる光学部材移動機構をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
- 前記光学部材移動機構は、前記支持部により支持された前記基板の被処理面の端から端まで前記光を照射するように前記光学部材を移動させることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
- 前記光学部材を清掃する清掃部をさらに備えることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記清掃部は、前記光学部材の表面に流体を吐出することを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
- 前記加熱部は、前記処理室外に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記加熱部は、前記処理室の側面に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
- 前記処理室の上面に設けられ、前記処理室内に清浄空気を取り込むためのフィルタと、
前記加熱部により出射された前記光が前記フィルタに入射する光量を抑制する光量抑制部材と、
をさらに備えることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記光量抑制部材は、空気が通過することが可能に、前記フィルタの下面全体を覆う板であることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
- 前記処理室は、複数設けられており、
前記加熱部は、前記複数の処理室で共用されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記複数の処理室に個別に設けられ、前記加熱部により出射されて前記光学部材に進む前記光を遮る位置に移動することが可能に形成された複数の光遮断部材をさらに備えることを特徴とする請求項１０に記載の基板処理装置。
- 前記複数の光遮断部材は、前記光を遮る位置において前記加熱部に対向して、前記加熱部により出射された前記光を前記加熱部側に反射するリフレクタであることを特徴とする請求項１１に記載の基板処理装置。
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