JP2018037091A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018037091A5
JP2018037091A5 JP2017199297A JP2017199297A JP2018037091A5 JP 2018037091 A5 JP2018037091 A5 JP 2018037091A5 JP 2017199297 A JP2017199297 A JP 2017199297A JP 2017199297 A JP2017199297 A JP 2017199297A JP 2018037091 A5 JP2018037091 A5 JP 2018037091A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
time
flow controller
flow
zero offset
monitoring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017199297A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2018037091A (ja
JP6789909B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US13/627,659 external-priority patent/US9772629B2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2018037091A publication Critical patent/JP2018037091A/ja
Priority to JP2019186493A priority Critical patent/JP6912540B2/ja
Publication of JP2018037091A5 publication Critical patent/JP2018037091A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6789909B2 publication Critical patent/JP6789909B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2017199297A 2011-09-29 2017-10-13 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 Active JP6789909B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019186493A JP6912540B2 (ja) 2011-09-29 2019-10-10 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161540817P 2011-09-29 2011-09-29
US61/540,817 2011-09-29
US13/627,659 US9772629B2 (en) 2011-09-29 2012-09-26 Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber
US13/627,659 2012-09-26

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533371A Division JP6328556B2 (ja) 2011-09-29 2012-09-28 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019186493A Division JP6912540B2 (ja) 2011-09-29 2019-10-10 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018037091A JP2018037091A (ja) 2018-03-08
JP2018037091A5 true JP2018037091A5 (enExample) 2020-08-27
JP6789909B2 JP6789909B2 (ja) 2020-11-25

Family

ID=47996756

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533371A Active JP6328556B2 (ja) 2011-09-29 2012-09-28 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法
JP2017199297A Active JP6789909B2 (ja) 2011-09-29 2017-10-13 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法
JP2019186493A Active JP6912540B2 (ja) 2011-09-29 2019-10-10 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533371A Active JP6328556B2 (ja) 2011-09-29 2012-09-28 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019186493A Active JP6912540B2 (ja) 2011-09-29 2019-10-10 プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9772629B2 (enExample)
JP (3) JP6328556B2 (enExample)
KR (1) KR102062593B1 (enExample)
CN (1) CN103930972B (enExample)
TW (1) TWI583927B (enExample)
WO (1) WO2013049512A2 (enExample)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5346628B2 (ja) * 2009-03-11 2013-11-20 株式会社堀場エステック マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム
US8707754B2 (en) * 2010-04-30 2014-04-29 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for calibrating flow controllers in substrate processing systems
US9091397B2 (en) * 2012-03-27 2015-07-28 Lam Research Corporation Shared gas panels in plasma processing chambers employing multi-zone gas feeds
US20140271243A1 (en) * 2013-03-14 2014-09-18 Usc, L.L.C. Pump stand with improved pump control
DE102013106155A1 (de) * 2013-06-13 2014-12-18 Endress + Hauser Flowtec Ag Meßsystem mit einem Druckgerät sowie Verfahren zur Überwachung und/oder Überprüfung eines solchen Druckgeräts
EP3211288B1 (en) 2016-02-26 2023-10-25 Nel Hydrogen A/S A control system for a hydrogen refuelling station
EP3211289B1 (en) * 2016-02-26 2021-12-15 Nel Hydrogen A/S Communication/control system for a hydrogen refuelling system
JP6541596B2 (ja) * 2016-03-22 2019-07-10 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理方法
JP6767232B2 (ja) * 2016-10-14 2020-10-14 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置の流量制御器によって出力されるガスの出力流量を求める方法
JP6996289B2 (ja) * 2016-12-26 2022-01-17 株式会社島津製作所 バルブ装置
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
CA3007375A1 (en) * 2017-06-15 2018-12-15 Kevin Kornelsen Calibration-less micro-fabricated vacuum gauge devices and method for measuring pressure
US11327510B2 (en) * 2018-05-23 2022-05-10 Hitachi Metals, Ltd. Multi-chamber rate-of-change system for gas flow verification
US10760944B2 (en) * 2018-08-07 2020-09-01 Lam Research Corporation Hybrid flow metrology for improved chamber matching
JP2020086936A (ja) * 2018-11-26 2020-06-04 株式会社フジキン 流量変化の評価装置、方法、及びコンピュータプログラム
US11817297B2 (en) * 2020-03-06 2023-11-14 Applied Materials, Inc. System and method for managing substrate outgassing
US11486927B2 (en) * 2020-04-02 2022-11-01 Applied Materials, Inc. Bode fingerprinting for characterizations and failure detections in processing chamber
US11693435B2 (en) * 2020-06-25 2023-07-04 Applied Materials, Inc. Ethercat liquid flow controller communication for substrate processing systems
CN111968901B (zh) * 2020-08-25 2022-08-16 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体反应腔室及半导体加工设备
US20220084842A1 (en) * 2020-09-11 2022-03-17 Applied Materials, Inc. Antifragile systems for semiconductor processing equipment using multiple special sensors and algorithms
DE102020124936B4 (de) * 2020-09-24 2024-11-28 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Verfahren, sowie Steuervorrichtung und nichtflüchtiger Datenspeicher, aufweisend Codesegmente, zum Durchführen desselbigen
US12191214B2 (en) * 2021-03-05 2025-01-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited System and methods for controlling an amount of primer in a primer application gas
US20230088457A1 (en) * 2021-09-17 2023-03-23 Applied Materials, Inc. Energy efficiency improvement with continuous flow modulation in cluster tool
US12518989B2 (en) 2021-09-23 2026-01-06 Applied Materials Inc. In-situ calibration/optimization of emissivity settings in vacuum for temperature measurement
CN117707100B (zh) * 2024-02-06 2024-04-19 深圳市杰美康机电有限公司 EtherCAT总线驱动控制器及其同步控制方法
US20250347579A1 (en) * 2024-05-13 2025-11-13 Applied Materials, Inc. Method of in situ leak monitoring in fluid circuits

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2829532B2 (ja) * 1989-10-12 1998-11-25 株式会社ユーシン 多機能電子水栓
JP2949521B2 (ja) * 1990-10-13 1999-09-13 株式会社エステック 排気装置用制御装置
JPH0559502U (ja) 1992-01-22 1993-08-06 日立金属株式会社 異常温度に対する警報機能を備えたマスフローコントローラ
JPH06102068A (ja) * 1992-09-18 1994-04-12 Hitachi Ltd 流量異常チェックシステム
JPH06194203A (ja) 1992-12-25 1994-07-15 Hitachi Metals Ltd 異常診断機能付マスフローコントローラ及びその異常診断方法
JPH06275562A (ja) 1993-03-24 1994-09-30 Toshiba Emi Ltd プラズマ処理装置
JPH07325625A (ja) * 1994-05-31 1995-12-12 Nec Kansai Ltd マスフローコントローラ
JPH08335118A (ja) 1995-06-06 1996-12-17 Hitachi Metals Ltd 流量制御方法
JPH09305202A (ja) * 1996-05-16 1997-11-28 Kokusai Electric Co Ltd ガス流量の監視制御装置
US5944048A (en) 1996-10-04 1999-08-31 Emerson Electric Co. Method and apparatus for detecting and controlling mass flow
JPH10232714A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Kokusai Electric Co Ltd 流量制御装置の診断装置
JPH11296233A (ja) * 1998-04-09 1999-10-29 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置における流量制御装置の異常検出方法
KR100427563B1 (ko) 1999-04-16 2004-04-27 가부시키가이샤 후지킨 병렬분류형 유체공급장치와, 이것에 사용하는 유체가변형압력식 유량제어방법 및 유체가변형 압력식 유량제어장치
JP4332986B2 (ja) 2000-04-24 2009-09-16 日立金属株式会社 質量流量制御装置
US6439253B1 (en) 2000-12-28 2002-08-27 International Business Machines Corporation System for and method of monitoring the flow of semiconductor process gases from a gas delivery system
JP3809146B2 (ja) * 2002-12-17 2006-08-16 シーケーディ株式会社 流量制御方法および流量制御装置
JP2004319857A (ja) 2003-04-18 2004-11-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体製造装置のモニタリングシステム
US6955072B2 (en) * 2003-06-25 2005-10-18 Mks Instruments, Inc. System and method for in-situ flow verification and calibration
US6973375B2 (en) * 2004-02-12 2005-12-06 Mykrolis Corporation System and method for flow monitoring and control
JP4572139B2 (ja) 2005-05-23 2010-10-27 株式会社フジキン 改良型圧力式流量制御装置
JP4866682B2 (ja) * 2005-09-01 2012-02-01 株式会社フジキン 圧力センサを保有する流量制御装置を用いた流体供給系の異常検出方法
CN100498626C (zh) 2005-12-09 2009-06-10 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种半导体设备中气体校准的方法
JP2008039513A (ja) 2006-08-03 2008-02-21 Hitachi Metals Ltd 質量流量制御装置の流量制御補正方法
US7743670B2 (en) 2006-08-14 2010-06-29 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for gas flow measurement
KR20080085967A (ko) * 2007-03-21 2008-09-25 삼성전자주식회사 유량제어 모니터링장치 및 그 방법
JP5054500B2 (ja) 2007-12-11 2012-10-24 株式会社フジキン 圧力制御式流量基準器
JP5082832B2 (ja) * 2007-12-26 2012-11-28 日立金属株式会社 流量制御装置、流量制御方法及び流量制御装置の検定方法
KR100969990B1 (ko) 2008-03-21 2010-07-15 주식회사 아토 질량 유량 조절기의 점검 방법 및 장치
US8089046B2 (en) 2008-09-19 2012-01-03 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for calibrating mass flow controllers
CN101436069B (zh) 2008-11-25 2010-09-15 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 质量流量控制器的在线校验方法
JP5337542B2 (ja) 2009-03-12 2013-11-06 株式会社堀場エステック マスフローメータ、マスフローコントローラ、それらを含むマスフローメータシステムおよびマスフローコントローラシステム
JP5195553B2 (ja) 2009-03-18 2013-05-08 パナソニック株式会社 流量計測装置
JP5442413B2 (ja) * 2009-12-03 2014-03-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体製造装置および流量制御装置
JP5650548B2 (ja) * 2009-12-25 2015-01-07 株式会社堀場エステック マスフローコントローラシステム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018037091A5 (enExample)
CN106322639B (zh) 空调器的排气温度限频保护控制方法
US10670496B2 (en) Methods and apparatus for estimating useful life of a seal
EP4400384A3 (en) Brake monitoring systems for railcars
JP2014111937A5 (enExample)
JP6581833B2 (ja) アクチュエータ不具合検知装置、制御装置および方法
US9740182B2 (en) Integrated controller solution for monitoring and controlling manufacturing equipment
EP2806714A3 (en) Remote plasma system having self management function and self management method of the same
CN104695325B (zh) 一种悬索桥吊索防腐的方法和结构
Gao et al. A novel approach to monitoring and maintenance of industrial PID controllers
EP4306932A3 (en) System and method for monitoring differential pressure across a dry pipe valve in a fire suppression system
CN106403195A (zh) 一种空调电辅热装置的控制方法及装置
GB2573919A (en) Turbomachinery filter change forecaster
CN103291691B (zh) 一种液压冷却系统温度控制方法、设备以及工程机械
JP6071534B2 (ja) 安全計装システムおよびｐｓｔ起動方法
Gandhi et al. A safe-parking framework for plant-wide fault-tolerant control
CN107883056B (zh) 安全阀实时在线监测系统及安全阀泄漏监测方法
CN105445175A (zh) 一种设备腐蚀监测方法及监测系统
JP2007094794A (ja) 制御ループ診断装置
US11358079B2 (en) Fluid system with filter differential pressure control
CN103901873B (zh) 安全仪表系统以及pst启动方法
CN105955334A (zh) 温度控制器
CN105909910A (zh) 一种衬胶完整性在线监测系统
JP2021035074A5 (enExample)
JP6473721B2 (ja) コンクリートひび割れ制御方法