JP6789909B2 - プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 - Google Patents
プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6789909B2 JP6789909B2 JP2017199297A JP2017199297A JP6789909B2 JP 6789909 B2 JP6789909 B2 JP 6789909B2 JP 2017199297 A JP2017199297 A JP 2017199297A JP 2017199297 A JP2017199297 A JP 2017199297A JP 6789909 B2 JP6789909 B2 JP 6789909B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow controller
- flow
- controller
- gas
- time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 146
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 74
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 49
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 25
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 14
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 106
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 29
- 230000036541 health Effects 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 6
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 6
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000002405 diagnostic procedure Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000006903 response to temperature Effects 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0623—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the set value given to the control element
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
- G01F25/15—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters specially adapted for gas meters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/0318—Processes
- Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
Claims (5)
- プロセスチャンバに結合された流量コントローラであって、設定点とプロセスガスの流量との間の計算された関係に基づいて、設定点と較正デバイスで決定したプロセスガスの実際の流量との間の実際の関係を得て、所望の流量のプロセスガスを流すように構成された流量コントローラをモニタする方法であって、
第1の時間での流量コントローラの第1のゼロオフセット、または前記流量コントローラが動作中である第4の時間の少なくとも一方をモニタすることと、
第2の時間での前記流量コントローラの第2のゼロオフセット、または前記流量コントローラが動作中である第5の時間の少なくとも一方をモニタすることと、
前記第1のゼロオフセットと前記第2のゼロオフセットとの合計である累積ゼロドリフトが前記流量コントローラの全流量範囲の約10パーセントを超えるか、前記第4の時間と前記第5の時間の合計である累積動作期間が第1の臨界値を超える場合に、点検警告を発することと、
前記累積ゼロドリフトが前記流量コントローラの全流量範囲の約20%を超える場合に前記流量コントローラを停止することとを含む、方法。 - 前記第2の時間の後の第3の時間に前記流量コントローラの第3のゼロオフセットをモニタすることをさらに含み、前記累積ゼロドリフトが、前記第1のゼロオフセット、前記第2のゼロオフセット、および前記第3のゼロオフセットの合計である、請求項1に記載の方法。
- 前記流量コントローラが動作中である第6の時間をモニタすることをさらに含み、前記累積動作期間が前記第4の時間、前記第5の時間、および前記第6の時間の合計である、請求項1に記載の方法。
- 前記累積動作期間が第2の臨界値を超える場合に前記流量コントローラを停止することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記流量コントローラを動作させ、プロセスチャンバに1以上のガスの流れをある期間にわたって供給することをさらに含み、前記第1のゼロオフセット、または前記第4の時間をモニタすることは、前記流量コントローラの初期較正、または設置期日の後、前記流量コントローラを動作させる前に、行われる、請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019186493A JP6912540B2 (ja) | 2011-09-29 | 2019-10-10 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161540817P | 2011-09-29 | 2011-09-29 | |
US61/540,817 | 2011-09-29 | ||
US13/627,659 US9772629B2 (en) | 2011-09-29 | 2012-09-26 | Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber |
US13/627,659 | 2012-09-26 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014533371A Division JP6328556B2 (ja) | 2011-09-29 | 2012-09-28 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019186493A Division JP6912540B2 (ja) | 2011-09-29 | 2019-10-10 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018037091A JP2018037091A (ja) | 2018-03-08 |
JP2018037091A5 JP2018037091A5 (ja) | 2020-08-27 |
JP6789909B2 true JP6789909B2 (ja) | 2020-11-25 |
Family
ID=47996756
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014533371A Active JP6328556B2 (ja) | 2011-09-29 | 2012-09-28 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
JP2017199297A Active JP6789909B2 (ja) | 2011-09-29 | 2017-10-13 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
JP2019186493A Active JP6912540B2 (ja) | 2011-09-29 | 2019-10-10 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014533371A Active JP6328556B2 (ja) | 2011-09-29 | 2012-09-28 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019186493A Active JP6912540B2 (ja) | 2011-09-29 | 2019-10-10 | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9772629B2 (ja) |
JP (3) | JP6328556B2 (ja) |
KR (1) | KR102062593B1 (ja) |
CN (1) | CN103930972B (ja) |
TW (1) | TWI583927B (ja) |
WO (1) | WO2013049512A2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5346628B2 (ja) * | 2009-03-11 | 2013-11-20 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム |
US8707754B2 (en) * | 2010-04-30 | 2014-04-29 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for calibrating flow controllers in substrate processing systems |
US9091397B2 (en) * | 2012-03-27 | 2015-07-28 | Lam Research Corporation | Shared gas panels in plasma processing chambers employing multi-zone gas feeds |
US20140271243A1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Usc, L.L.C. | Pump stand with improved pump control |
DE102013106155A1 (de) | 2013-06-13 | 2014-12-18 | Endress + Hauser Flowtec Ag | Meßsystem mit einem Druckgerät sowie Verfahren zur Überwachung und/oder Überprüfung eines solchen Druckgeräts |
EP3211289B1 (en) * | 2016-02-26 | 2021-12-15 | Nel Hydrogen A/S | Communication/control system for a hydrogen refuelling system |
EP3211288B1 (en) | 2016-02-26 | 2023-10-25 | Nel Hydrogen A/S | A control system for a hydrogen refuelling station |
JP6541596B2 (ja) * | 2016-03-22 | 2019-07-10 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法 |
JP6767232B2 (ja) * | 2016-10-14 | 2020-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置の流量制御器によって出力されるガスの出力流量を求める方法 |
JP6996289B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2022-01-17 | 株式会社島津製作所 | バルブ装置 |
US10663337B2 (en) | 2016-12-30 | 2020-05-26 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for controlling flow and method of calibrating same |
CA3007375A1 (en) * | 2017-06-15 | 2018-12-15 | Kevin Kornelsen | Calibration-less micro-fabricated vacuum gauge devices and method for measuring pressure |
US10760944B2 (en) * | 2018-08-07 | 2020-09-01 | Lam Research Corporation | Hybrid flow metrology for improved chamber matching |
JP2020086936A (ja) * | 2018-11-26 | 2020-06-04 | 株式会社フジキン | 流量変化の評価装置、方法、及びコンピュータプログラム |
US11486927B2 (en) * | 2020-04-02 | 2022-11-01 | Applied Materials, Inc. | Bode fingerprinting for characterizations and failure detections in processing chamber |
US11693435B2 (en) * | 2020-06-25 | 2023-07-04 | Applied Materials, Inc. | Ethercat liquid flow controller communication for substrate processing systems |
US20220084842A1 (en) * | 2020-09-11 | 2022-03-17 | Applied Materials, Inc. | Antifragile systems for semiconductor processing equipment using multiple special sensors and algorithms |
DE102020124936A1 (de) * | 2020-09-24 | 2022-03-24 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Verfahren, sowie Steuervorrichtung und Codesegmente zum Durchführen desselbigen |
US20220285230A1 (en) * | 2021-03-05 | 2022-09-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited | System and methods for controlling an amount of primer in a primer application gas |
US20230088457A1 (en) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | Applied Materials, Inc. | Energy efficiency improvement with continuous flow modulation in cluster tool |
CN117707100B (zh) * | 2024-02-06 | 2024-04-19 | 深圳市杰美康机电有限公司 | EtherCAT总线驱动控制器及其同步控制方法 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2829532B2 (ja) * | 1989-10-12 | 1998-11-25 | 株式会社ユーシン | 多機能電子水栓 |
JP2949521B2 (ja) * | 1990-10-13 | 1999-09-13 | 株式会社エステック | 排気装置用制御装置 |
JPH0559502U (ja) | 1992-01-22 | 1993-08-06 | 日立金属株式会社 | 異常温度に対する警報機能を備えたマスフローコントローラ |
JPH06102068A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Hitachi Ltd | 流量異常チェックシステム |
JPH06194203A (ja) | 1992-12-25 | 1994-07-15 | Hitachi Metals Ltd | 異常診断機能付マスフローコントローラ及びその異常診断方法 |
JPH06275562A (ja) | 1993-03-24 | 1994-09-30 | Toshiba Emi Ltd | プラズマ処理装置 |
JPH07325625A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Nec Kansai Ltd | マスフローコントローラ |
JPH08335118A (ja) | 1995-06-06 | 1996-12-17 | Hitachi Metals Ltd | 流量制御方法 |
JPH09305202A (ja) * | 1996-05-16 | 1997-11-28 | Kokusai Electric Co Ltd | ガス流量の監視制御装置 |
US5944048A (en) | 1996-10-04 | 1999-08-31 | Emerson Electric Co. | Method and apparatus for detecting and controlling mass flow |
JPH10232714A (ja) * | 1997-02-18 | 1998-09-02 | Kokusai Electric Co Ltd | 流量制御装置の診断装置 |
JPH11296233A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置における流量制御装置の異常検出方法 |
WO2000063756A1 (fr) | 1999-04-16 | 2000-10-26 | Fujikin Incorporated | Dispositif d'alimentation en fluide du type derivation parallele, et procede et dispositif de commande du debit d'un systeme de pression du type a fluide variable utilise dans ledit dispositif |
JP4332986B2 (ja) | 2000-04-24 | 2009-09-16 | 日立金属株式会社 | 質量流量制御装置 |
US6439253B1 (en) | 2000-12-28 | 2002-08-27 | International Business Machines Corporation | System for and method of monitoring the flow of semiconductor process gases from a gas delivery system |
JP3809146B2 (ja) * | 2002-12-17 | 2006-08-16 | シーケーディ株式会社 | 流量制御方法および流量制御装置 |
JP2004319857A (ja) | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体製造装置のモニタリングシステム |
US6955072B2 (en) * | 2003-06-25 | 2005-10-18 | Mks Instruments, Inc. | System and method for in-situ flow verification and calibration |
US6973375B2 (en) * | 2004-02-12 | 2005-12-06 | Mykrolis Corporation | System and method for flow monitoring and control |
JP4572139B2 (ja) | 2005-05-23 | 2010-10-27 | 株式会社フジキン | 改良型圧力式流量制御装置 |
JP4866682B2 (ja) * | 2005-09-01 | 2012-02-01 | 株式会社フジキン | 圧力センサを保有する流量制御装置を用いた流体供給系の異常検出方法 |
CN100498626C (zh) | 2005-12-09 | 2009-06-10 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种半导体设备中气体校准的方法 |
JP2008039513A (ja) | 2006-08-03 | 2008-02-21 | Hitachi Metals Ltd | 質量流量制御装置の流量制御補正方法 |
US7743670B2 (en) | 2006-08-14 | 2010-06-29 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for gas flow measurement |
JP5054500B2 (ja) | 2007-12-11 | 2012-10-24 | 株式会社フジキン | 圧力制御式流量基準器 |
JP5082832B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2012-11-28 | 日立金属株式会社 | 流量制御装置、流量制御方法及び流量制御装置の検定方法 |
KR100969990B1 (ko) | 2008-03-21 | 2010-07-15 | 주식회사 아토 | 질량 유량 조절기의 점검 방법 및 장치 |
US8089046B2 (en) | 2008-09-19 | 2012-01-03 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for calibrating mass flow controllers |
CN101436069B (zh) | 2008-11-25 | 2010-09-15 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 质量流量控制器的在线校验方法 |
JP5337542B2 (ja) | 2009-03-12 | 2013-11-06 | 株式会社堀場エステック | マスフローメータ、マスフローコントローラ、それらを含むマスフローメータシステムおよびマスフローコントローラシステム |
JP5195553B2 (ja) | 2009-03-18 | 2013-05-08 | パナソニック株式会社 | 流量計測装置 |
WO2011078242A1 (ja) * | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラシステム |
-
2012
- 2012-09-26 US US13/627,659 patent/US9772629B2/en active Active
- 2012-09-28 KR KR1020147011427A patent/KR102062593B1/ko active IP Right Grant
- 2012-09-28 JP JP2014533371A patent/JP6328556B2/ja active Active
- 2012-09-28 WO PCT/US2012/057830 patent/WO2013049512A2/en active Application Filing
- 2012-09-28 TW TW101135955A patent/TWI583927B/zh active
- 2012-09-28 CN CN201280055872.7A patent/CN103930972B/zh active Active
-
2017
- 2017-08-28 US US15/687,573 patent/US10222810B2/en active Active
- 2017-10-13 JP JP2017199297A patent/JP6789909B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-10 JP JP2019186493A patent/JP6912540B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6328556B2 (ja) | 2018-05-23 |
WO2013049512A3 (en) | 2013-05-23 |
JP2014528606A (ja) | 2014-10-27 |
JP2018037091A (ja) | 2018-03-08 |
CN103930972A (zh) | 2014-07-16 |
KR20140069305A (ko) | 2014-06-09 |
JP6912540B2 (ja) | 2021-08-04 |
TWI583927B (zh) | 2017-05-21 |
WO2013049512A2 (en) | 2013-04-04 |
KR102062593B1 (ko) | 2020-01-06 |
JP2020038678A (ja) | 2020-03-12 |
US20180024573A1 (en) | 2018-01-25 |
US10222810B2 (en) | 2019-03-05 |
US9772629B2 (en) | 2017-09-26 |
US20130092243A1 (en) | 2013-04-18 |
TW201331558A (zh) | 2013-08-01 |
CN103930972B (zh) | 2017-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6912540B2 (ja) | プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法 | |
JP6268091B2 (ja) | 流量コントローラのインシトゥ較正の方法 | |
US8880210B2 (en) | Methods and apparatus for processing substrates using model-based control | |
US11024522B2 (en) | Virtual sensor for spatially resolved wafer temperature control | |
KR19980024481A (ko) | 적응성 온도 제어기 및 그 동작 방법 | |
JP2013519840A (ja) | ポンプ速度の調整装置及び方法 | |
TWI434325B (zh) | 資訊處理裝置、半導體製造系統、資訊處理方法、程式產品及儲存媒體 | |
JP6353802B2 (ja) | 処理システム、処理方法、及び、プログラム | |
KR20220168981A (ko) | 온도 보정 정보 산출 장치, 반도체 제조 장치, 프로그램, 온도 보정 정보 산출 방법 | |
JP7270489B2 (ja) | 性能算出方法および処理装置 | |
JP6935599B1 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171018 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171025 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190204 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190611 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191010 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20191010 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20191023 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20191029 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20191129 |
|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211 Effective date: 20191210 |
|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22 Effective date: 20200212 |
|
C13 | Notice of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13 Effective date: 20200407 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20200706 |
|
C23 | Notice of termination of proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23 Effective date: 20200908 |
|
C03 | Trial/appeal decision taken |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03 Effective date: 20201013 |
|
C30A | Notification sent |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012 Effective date: 20201013 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6789909 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |