JP4572139B2 - 改良型圧力式流量制御装置 - Google Patents
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Description
尚、図5(a)及び図5(b)において、3はオリフィス上流側配管、4は弁駆動部、5はオリフィス下流側配管、9はバルブ、15は流量変換回路、10、11、22、28は増幅器、7は温度検出器、17、18、29はA/D変換器、19は温度補正回路、20、30は演算回路、21は比較回路、Qcは演算流量信号、Qfは切換演算流量信号、Qeは流量設定信号、Qoは流量出力信号、Qyは流量制御信号、P1はオリフィス上流側気体圧力、P2オリフィス下流側気体圧力、kは流量変換率である。
また、前記図5(b)の圧力式流量制御装置FCSは、臨界状態と非臨界状態の両方の流れ状態となる気体の流量制御に主として用いられるものであり、オリフィス8を流れる気体の流量は、Qc=KP2 m(P1−P2)n(Kは比例定数、mとnは定数)として与えられる。
(kgf/cm2 abs)になるまで、コントロール弁2が開閉操作される。
即ち、Qe=5vが、P1=2(kgf/cm2 abs)に相当する流量Qc=KP1を表すようにフルスケールの流量が変換される。
尚、前記図5(b)の圧力式流量制御装置においても同様であり、オリフィス8を流通する気体の流量Qcは、Qc=KP2 m(P1−P2)n(Kは比例定数、mとnは定数)として与えられ、ガス種が変われば前記比例定数Kが変化する。
尚、当該フローファクタF.F.は、オリフィス8及び上流側圧力P1が同一の場合に、O2やH2等の実ガス流量がN2流量に対して何倍になるかを示す量であり、フローファクタF.F.=実ガスの流量/N2流量で定義される。またこのF.F.の具体的な値は表1のような値となり、ガスの比熱比等を用いて理論式から演算することができ、この演算値は実測値と高精度で一致することが実証されている(特開2000−322130号、特開2004−199109号等)。
図5(a)の圧力式流量制御装置FCSを参照して、いまこれにN2ガスを流通させてその流量測定を行っているとする。この時の流量変換率はk=1であるから、切換演算流量信号QfはQf=kQcとなり、流量指令信号Qeに等しくなる。
尚、上記説明は、何れも図5(a)に基ずいて説明をしたが、図5(b)の圧力式流量制御装置であっても、基本的には同一である。
尚、このことは、マスフローコントローラ等の熱式流量制御装置においても同様であり、一般には、圧力式流量制御装置FCSのフローファクタF.F.に対応するコンバートファクタCFのテーブルを備えておき、これを用いて実ガスの変更に対処するよう構成されている。
その結果、切換演算流量信号Qfや出力信号Qoの電圧値の取り扱いがやっかいとなり、結果として流量制御精度の低下を招く等の問題がある。
その結果、ガス種が変っても、入出力コンバータ25の変換率を変えるだけで、窒素ガスに基づいて較正をした圧力式流量制御装置をそのまま容易に当該ガス種の流量制御に適用することができると共に、設定流量信号Qer及び制御流量出力信号Qorの電圧値に端数が含まれないようにすることができ、電圧信号の取り扱いが容易になる。
図1は、本発明に係る圧力式流量制御装置の基本構成を示すブロック図であり、図において、1は圧力式流量制御装置本体、25は入出力コンバータ(I/Oコンバータ)、25aはコンバータ本体部、25bは流量設定部、25cは流量出力部、Qerは実ガス流量設定信号、Qorは実ガス流量出力信号であり、入出力コンバータ25はコンバータ本体25aと流量設定部25bと流量出力部25cとから形成されている。
また、Qerは実ガス流量設定信号、Qorは実ガス流量出力信号、Qcは演算流量信号、Qyは流量制御信号である。
同様に、図3(b)の圧力式流量制御装置FCSでは、実ガスGの流れの状態に拘らず、流量QcはQc=KP2 m(P1−P2)nなる式を適用して演算されることになる(但し、Kはオリフィス8により定まる比例定数、mとnは流体流量の実測値から求められた定数である)。
また、ガス種がO2やAr、He、H2等の場合には、前記設定流量信号Qer側のコンバート比Qe′/Qer及び制御流量出力信号Qor側のコンバート比Qo′/Qorは、夫々圧力式流量制御装置本体1の型式毎に定まる一定値となる。
尚、この時のI/Oコンバータ本体25aのコンバート比Qe′/Qer及びQo′/Qorは、オリフィス8の規格毎に異なった値となるために、予めオリフィス8の規格毎に実測により求めておく必要があることは勿論である。
また、流量出力信号Qorについてのコンバート比Qo′/Qorは、前記設定入力信号Qerについてのコンバート比Qe′/Qerと同じ値となる。
又、圧力式流量制御装置本体1への入出力コンバータ25の取付け位置や取付け姿勢等は自由に選択可能であり、前記図2に示したものに限定されないことは勿論である。
・ 設定流量信号 Qer=5v(DC)
・ 設定入力信号 Qe′=4.4391(Qer×F.F.=5×0.88781
4)
・ コンバート比 Qe′/Qer=0.8878
・ 流量出力信号 Qor=5v(DC)
・ 制御流量出力信号 Qo′=4.4391v
・ コンバート比 Qo′/Qor=0.8878
具体的には、圧力式流量制御装置本体1のフルスケール流量(FS)及び使用ガス種を確認し、工場出荷時に入出力コンバータ25をセットすると共に、入・出力側の各種電圧値をガス種毎に予め定められたコンバート比に設定する。
また、Arの制御流量100(sccm)の時の設定入力信号Qe′は、5v×100/115.4=4.3327vとなる。
即ち、入出力コンバータ25では、設定入力信号Qe′=4.3327vを5.000vの設定流量信号Qerに、また、制御流量出力信号Qo′=4.3327vを5.000vの流量出力信号Qorに夫々変換すればよい。
設定入力信号 Qe′=4.3327v
設定流量信号 Qer=5.0000v
コンバート比 Qe′/Qer=0.86654
流量出力信号 Qor=5.0000v
制御流量出力信号 Qo′=4.3327v
コンバート比 Qo′/Qor=0.86654
となる。
Claims (3)
- オリフィス上流側圧力P 1 とオリフィス下流側圧力P 2 を用いて、オリフィス(8)を流通する流体の流量をQc=KP1(Kは比例定数)又はQc=KP2 m(P1−P2)n(Kは比例定数、mとnは定数)として演算するようにした圧力式流量制御装置において、当該圧力式流量制御装置を流量演算装置(23)と、流量演算装置(23)へ設定流量信号Qerに関連する設定入力信号Qe′を入力すると共に流量演算装置(23)からの制御流量出力信号Qo′に関連する制御流量信号Qorを出力する入出力コンバータ(25)と、オリフィス(8)の上流側に設けられ、流量演算装置(23)からの流量制御信号Qyにより開閉制御されるコントロール弁(2)とから構成し、前記入出力コンバータ(25)の前記設定流量信号Qerと設定入力信号Qe′との比であるコンバート比(Qe′/Qer)及び前記流量出力信号Qorと制御流量出力Qo′との比であるコンバート比(Qo′/Qor)を、[被測定ガスである実ガスの最大流量F.SG(sccm)]/[窒素ガスを基準として目盛校正をした圧力式流量制御装置の最大流量F.SN(sccm)×前記実ガスの窒素ガスを基準としたフローファクタ(F.FG)]とし、前記実ガスの最大流量F.SG(sccm)及び又は圧力式流量制御装置の最大流量F.SN(sccm)に応じて前記コンバート比を調整可能とすると共に、前記入出力コンバータ(25)を圧力式流量制御装置本体(1)へ着脱自在に設ける構成としたことを特徴とする改良型圧力式流量制御装置。
- 入出力コンバータ(25)の前記コンバート比(Qe′/Qer)及び(Qo′/Qor)の設定値を一種の実ガスに対する複数のコンバート比とし、前記入出力コンバータ(25)の付け替えにより前記実ガスのガス種の変更に対応する構成とした請求項1に記載の改良型圧力式流量制御装置。
- 入出力コンバータ(25)を、複数の実ガスに対する複数のコンバート比とするようにした請求項1に記載の改良型圧力式流量制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005150057A JP4572139B2 (ja) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | 改良型圧力式流量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005150057A JP4572139B2 (ja) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | 改良型圧力式流量制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006330851A JP2006330851A (ja) | 2006-12-07 |
JP4572139B2 true JP4572139B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=37552510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005150057A Expired - Fee Related JP4572139B2 (ja) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | 改良型圧力式流量制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4572139B2 (ja) |
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JP2006330851A (ja) | 2006-12-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100430 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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