JP2017520503A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 抗菌ガラス物品において、
   基板厚さ、主面およびソーダ石灰ガラス組成を有するガラス基板、
   前記主面から、前記基板厚さの０．１５倍以上である第１の深さまで延在する圧縮応力層、および
   前記主面から第２の深さまで延在する、抗菌剤を有する抗菌剤含有層、
   を備え、
   前記物品の抗菌剤の濃度が、前記主面で約１質量パーセント以上であり、
   前記物品の吸光度が、４５０〜５５０ｎｍの波長で約０．１０以下である、物品。
2. 前記第１の深さが約２５マイクロメートルと約１０００マイクロメートルの間であり、前記圧縮応力層内の平均圧縮応力が少なくとも約１００ＭＰａである、請求項１記載の物品。
3. 前記主面から前記基板内の第３の深さまで延在する第２の圧縮応力層をさらに備えた、請求項１または２記載の物品。
4. 前記物品が約２００ＭＰａ以上の平均圧縮応力を有し、前記第３の深さが前記第２の深さ以下である、請求項３記載の物品。
5. 前記主面から約２マイクロメートルの前記基板の厚さ内に、ある量のカリウム、ナトリウムおよび抗菌剤をさらに含み、カリウムが、カリウム、ナトリウムおよび抗菌剤の前記量の約７５％未満を占め、前記抗菌剤が、約２マイクロメートルの前記厚さ内の、カリウム、ナトリウムおよび抗菌剤の前記量の約０．５％以上を占め、前記抗菌剤の深さが約５マイクロメートル以下であり、前記抗菌剤が銀イオンを含み、前記物品が、前記主面で２質量パーセントと４０質量パーセントの間の銀イオンの抗菌剤濃度を有する、請求項１から４いずれか１項記載の物品。
6. 前記主面が、ＪＩＳ Ｚ ２８０１（２０００）試験条件下、改定ＪＩＳ Ｚ ２８０１（２０００）試験条件下、または乾式試験の試験条件下で、Ｓ．ａｕｒｅｕｓ、Ｅ．ａｅｒｏｇｅｎｅｓ、Ｅ．Ｃｏｌｉ、およびＰ．ａｅｒｕｇｉｎｏｓａのいずれか１つ以上の濃度において対数値で３以上の殺傷値を示し、該対数値の殺傷値が、
   前記物品が、約１時間に亘り約９８℃以上の温度の水中で煮沸されること、
   前記物品が、約２４時間に亘り約６０℃の温度および８５％の相対湿度を有する環境に暴露されること、および
   前記物品が、約１℃以上の温度に冷却されること、
   のいずれか１つの後に維持される、請求項１から５いずれか１項記載の物品。
7. 約２未満のＣＩＥ １９７６の色座標ｂ^*を示す、請求項１から６いずれか１項記載の物品。
8. 前記主面がスズを実質的に含まない、請求項１から７いずれか１項記載の物品。
9. 前記主面がスズを含む、請求項１から７いずれか１項記載の物品。
10. 抗菌ガラス物品を製造する方法において、
    基板厚さ、主面、ソーダ石灰ガラス組成、および前記主面から、前記基板厚さの０．１５倍以上である第１の深さまで延在する圧縮応力層を有するガラス基板を提供する工程、
    前記主面から前記基板内の第２の深さまで延在する、抗菌剤を有する抗菌剤含有層を形成する工程であって、前記抗菌剤が、前記主面で約１質量パーセント以上の銀イオン濃度を有するものである工程、および
    前記主面から前記基板内の第３の深さまで延在する第２の圧縮応力層を形成する工程、
    を有してなり、
    前記抗菌ガラス物品が、４５０〜５５０ｎｍの波長で約０．１０以下の吸光度を示す、方法。
11. 前記主面の一部を除去して、加工主面を形成する工程であって、該除去工程が、前記抗菌剤含有層を形成する工程の前に行われ、該除去工程において除去される前記主面の一部が、前記基板の２マイクロメートルと２０マイクロメートルの間からなる、除去工程をさらに含む、請求項１０記載の方法。