JP2014116283A5 - - Google Patents

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本発明の有機EL素子を製造するための製造装置の一実施形態を示すブロック構成図である。 本発明の実施形態に係る有機EL素子の構成を示す図である。 比較例に係る有機EL素子の構成を示す図である。 本発明の実施形態に係る有機EL素子の製造方法の内容を示すフローチャートである。 図4に示す各工程の内容を説明するための模式図である。 図4に示す各工程の内容を説明するための模式図である。 変形例に係る有機EL素子の構成及びその製造方法を示す模式図である。
また、図7(a)に示すように、第2の領域20Bに対応する部分における透明導電膜12(すなわち絶縁部12B)を、第1の領域20Aに対応する部分における透明導電膜12(すなわち導電部12A)に比して薄くしてよい。第2の領域20Bに対応する部分における透明導電膜12は、イオンなどが注入された場合に屈折率が若干高くなるため、反射率が若干高くなる場合がある。従って、当該部分を薄くすることによって、導電部12Aと絶縁部12Bとの間の光学条件をより近づけることができる。具体的には、絶縁部12Bの厚さは、導電部12Aの70%〜99%としてよい。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5672586B2 (ja) * 2014-08-07 2015-02-18 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサを作製するための積層体、および、タッチパネルセンサの製造方法
JP6504497B2 (ja) * 2015-03-04 2019-04-24 株式会社アルバック タッチパネルおよび透明導電性基板
CN106155396B (zh) * 2015-04-20 2023-05-30 苏州诺菲纳米科技有限公司 触控传感器
CN106168868B (zh) 2016-09-30 2023-08-01 合肥鑫晟光电科技有限公司 触控基板消影检测方法及制造方法、触控基板及触控装置
KR102670360B1 (ko) * 2016-12-08 2024-05-28 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 일체형 표시장치와 그의 제조방법
CN108627994A (zh) * 2017-03-24 2018-10-09 敦捷光电股份有限公司 光准直器及其制造方法
JP6733693B2 (ja) * 2018-03-19 2020-08-05 Smk株式会社 タッチパネルの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5638084A (en) * 1979-09-05 1981-04-13 Sharp Kk Patterning of transparent electroconductive film
JPS60121611A (ja) * 1983-12-02 1985-06-29 キヤノン株式会社 透明電極の製造方法
KR930011099A (ko) * 1991-11-15 1993-06-23 문정환 위상 반전 마스크 제조방법
JP3498190B2 (ja) * 1994-06-06 2004-02-16 株式会社村田製作所 薄膜積層電極の製造方法
JP3379684B2 (ja) * 1997-03-04 2003-02-24 出光興産株式会社 有機el発光装置
WO2005004550A1 (ja) * 2003-07-07 2005-01-13 Pioneer Corporation 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及びその製造方法
JP5462113B2 (ja) * 2010-09-01 2014-04-02 尾池工業株式会社 回路パターンを有する電極体およびその製造方法
JP2012103767A (ja) * 2010-11-08 2012-05-31 Young Fast Optoelectronics Co Ltd タッチセンサパターン及び信号導線の製造方法

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