JP2019034548A5 - - Google Patents
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Claims (14)
- 基材層上に所定の厚さの第１の透明酸化物電極層を形成する段階と、
前記第１の透明酸化物電極層上に第２の透明酸化物電極層を形成する段階とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層を形成する段階は、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節して積層体全体の透過率及び色度（ｂ＊）を調節することを含む、透明電極積層体の製造方法。 - 前記第１の透明酸化物電極層は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成され、前記第２の透明酸化物電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含むように形成される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１５０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は５以下に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１４０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９〜４．７の範囲に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 前記第１の透明酸化物電極層は、厚さが１０〜２０ｎｍの範囲で固定される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 前記積層体全体の透過率は８７％以上に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 前記第１の透明酸化物電極層を形成する前に、前記基材層上に屈折率整合層を形成する段階をさらに含む、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 前記屈折率整合層を形成する段階は、屈折率が互いに異なる第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を順次形成することを含む、請求項７に記載の透明電極積層体の製造方法。
- 基材層と、
前記基材層上に積層されたインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層と、
前記第１の透明酸化物電極層上に積層されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１５０ｎｍであり、積層体全体の透過率は８７％以上であり、色度（ｂ＊）は５以下である、透明電極積層体。 - 前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１４０ｎｍであり、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９〜４．７である、請求項９に記載の透明電極積層体。
- 前記第１の透明酸化物電極層の厚さは１０〜２０ｎｍである、請求項９に記載の透明電極積層体。
- 前記基材層と前記第１の透明酸化物電極層との間に形成される屈折率整合層をさらに含む、請求項９に記載の透明電極積層体。
- 前記屈折率整合層は、前記基材層から順次に積層された第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を含み、前記第１の屈折率整合層は、前記第２の屈折率整合層よりも大きい屈折率を有する、請求項１２に記載の透明電極積層体。
- 請求項９〜１３のいずれか一項に記載の透明電極積層体を含む、タッチセンサー。
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