JP2017514779A - フルオロスルホニル基を含むイミドの調製 - Google Patents
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Abstract
Description
(III)R2−(SO2)−NX−(SO2)−F
のフルオロ化合物を調製する方法に関し、該方法は、
(a)式:
(II)R1−(SO2)−NX−(SO2)−Cl
のクロロ化合物を得る第1ステップであって、この第1ステップが式:
(I)R0−(SO2)−NH2
のスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤との反応を含むステップと、
(b)式(III)のフルオロ化合物を得る第2ステップであって、この第2ステップが、式(II)のクロロ化合物と、無水フッ化水素酸との少なくとも1種の有機溶媒中での反応を含むステップとを含み、
式中、
Xは、水素原子または一価のカチオンMであり、
R1は、正のハメットパラメータσpを有する電子吸引基であり、
R1がClの場合には、R0は、OHであり、これ以外の場合は、R0はR1と同じであり、
R1がClの場合には、R2は、Fであり、これ以外の場合は、R2はR1と同じである。
第1ステップにおけるスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤の反応で触媒が使用され、該触媒は、好ましくは、メチルアミン、トリエチルアミンもしくはジエチルメチルアミンなどの第三級アミン、またはピリジンおよび2,6−ルチジンなどのこれの誘導体から選択され、および/または
第1ステップにおけるスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤との反応は、30℃から150℃の温度で行われ、および/または
第1ステップにおけるスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤との反応は、1から7絶対バールの圧力で行われる。
第1ステップで使われる硫黄酸とスルファミドとのモル比は、1から5であり、および/または
第1ステップで使われるクロル化剤とスルファミドとのモル比は、1から10である。
第2ステップの式(II)のクロロ化合物と無水フッ化水素酸の反応は、0℃から有機溶媒の沸点、好ましくは、5℃から有機溶媒の沸点の温度で行われ、および/または
第2ステップの式(II)のクロロ化合物と無水フッ化水素酸の反応は、0から16絶対バールの圧力で行われる。
第2ステップの、式(II)のクロロ化合物と、(II)のクロロ化合物と無水フッ化水素酸との反応に使用される有機溶媒との質量比は、0.001から10、好ましくは、0.005から5であり、および/または
第2ステップの、式(II)のクロロ化合物と、式(II)のクロロ化合物と無水フッ化水素酸の反応で使われるフッ化水素酸のモル比は、0.01から0.5、好ましくは、0.05から0.5である。
(IIa)R1−(SO2)−NH−(SO2)−Cl
のクロロ化合物を与え、第1ステップはまた、式:
(IIb)R1−(SO2)−NM−(SO2)−Cl
のクロロ化合物を得るための式(IIa)のクロロ化合物と塩基との反応を含み、式中、Mは一価のカチオンである。
(c)好ましくは、アルカリ金属カーボネート、アルカリ土類金属カーボネート、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物およびこれらの混合物から選択される塩基を添加することにより式(III)の化合物を中和する第3のステップを含む。
(IIIa)R2−(SO2)−NH−(SO2)−F
の化合物であり、中和の第3ステップは、式(IIIa)の化合物の、式:
(IIIb)R2−(SO2)−NM−(SO2)−F
の化合物への変換を可能にし、式中、Mは一価のカチオンである。
(IIIb)R2−(SO2)−NM−(SO2)−F
のイミド塩を含む組成物に関し、式中、Mは一価のカチオンであり、R2は正のハメットパラメータσpを有する電子吸引基であり、該組成物は、1から500ppmの合計フッ化物質量含有量、および/または1から200ppmの合計塩化物質量含有量である。
Mは、LiまたはNaであり、および/または
R2は、F、CF3、CHF2、CH2F、C2HF4、C2H2F3、C2H3F2、C2F5、C3F7、C3H2F5、C3H4F3、C3HF6、C4F9、C4H2F7、C4H4F5、C5F11、C3F6OCF3、C2F4OCF3、C2H2F2OCF3、CF2OCF3、C6F13、C7F15、C8F17またはC9F19であり、Fが好ましい。
(a)少なくとも1つのクロロスルホニル基を含む化合物の調製。
(b)ステップ(a)由来の化合物のフッ素化。
さらに、場合により、次の第3ステップを想定することができる。
(c)ステップ(b)由来の化合物の中和。
さらに、場合により、第3ステップの後でまたは第2ステップの後で直接に、次の第4ステップを想定することができる。
(d)カチオン交換。
ステップ(a)では、式(I)R0−(SO2)−NH2のスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤とを反応させて、これにより、式(II)R1−(SO2)−NX−(SO2)−Clのクロロ化合物を得る。
ステップ(b)では、ステップ(a)の結果得られた式(IIa)または式(IIb)のクロロ化合物がフッ素化され、これにより、式(III)R1−(SO2)−NX−(SO2)−Fのフルオロ化合物が得られる。
上記の理由で、ステップ(b)の後で、例えば、好ましくは、4を超えるpHを得るために、アルカリ金属カーボネートもしくはアルカリ土類金属カーボネートM’CO3・nH2Oまたはアルカリ金属水酸化物もしくはアルカリ土類金属水酸化物M’OH・nH2Oの水溶液を使って、反応媒質が中和されるのが好ましい。上記カーボネートおよび/または水酸化物の混合物を使用することもできる。
場合により、カチオン交換のステップを方法の最後に行うことが想定できる。このステップでは、式(IIIb)R2−(SO2)−NM−(SO2)−Fのフルオロ化合物を式(IIIc)R2−(SO2)−NM”−(SO2)−F(M”はカチオンを表す。)のフルオロ化合物に変換することができる。
上述のように調製されたイミド塩は、該塩を適切な溶媒中に溶解することにより、電解質の調製に使用することができる。
スルファミン酸(1当量、0.515mol、50g)を塩化チオニル(3.75当量、1.93mol、229.8g)を含む丸底フラスコ中に入れ、95%の硫酸(1当量、0.515mol、53.1g)を室温で添加する。該混合物を塩化チオニルの還流点で撹拌しながら24時間維持する。最終的に得られたジクロロ化合物は淡黄色の外観で、残留不溶解スルファミン酸を含む。該混合物を濾過してスルファミン酸(23.6g)を除去し、その後、減圧下で塩化チオニルを蒸発させる。
1当量のスルファミン酸(0.25mol、24.25g)をガラス製の丸底フラスコまたは反応器に添加し、続けて、塩化チオニル(2.75当量、0.69mol、81.9g)を添加する。次に、クロロスルホン酸(2当量、0.5mol、58.25g)を極めてゆっくり撹拌しながら室温で加える。該混合物を徐々に塩化チオニルの還流点まで上げ(90℃の油浴)、連続的に撹拌しながら24時間還流させる。ガスの放出が観察され、このガスを反応器の出口で水中に捕集する。最終的に丸底フラスコ中に回収された生成物は、わずかにオレンジ色の、発煙性の強い液体である。
800mLのオートクレーブ中で、28gの(ClSO2)2NHを50mLのアセトニトリルに溶解する。その後、10gのHFを加える。次に圧力を0.34絶対バールにし、温度を10℃に維持する。閉じた媒体中で反応物の撹拌を18時間継続する。過剰HFは不活性ガスでフラッシングすることにより除去される。その後、反応媒質は炭酸リチウムで処理される。該溶液を濾過後、蒸発させて、残留物を19F NMRにより解析する。分析により、85%の完全フッ素化生成物(FSO2)2NLi、7.5%のFSO3Liおよび7.5%のFSO2NH2の存在が示される。これらの最後の2つの生成物は、出発材料の分解中に形成された化合物である。
800mLのオートクレーブ中で、31.7gの(ClSO2)2NHを50mLのアセトニトリルに溶解する。その後、10gのHFを加える。次に圧力を0.75絶対バールにし、温度を20℃に維持する。閉じた媒体中で反応物の撹拌を18時間継続する。過剰HFはポンピングすることにより除去される。その後、反応媒質は炭酸リチウムで処理される。該溶液を濾過後、蒸発させて、残留物を19F NMRにより解析する。分析により、100%の完全フッ素化生成物(FSO2)2NLiが示され、また、分解生成物FSO3LiおよびFSO2NH2の非存在が示される。
800mLのオートクレーブ中で、61gの(ClSO2)2NHを50mLの1,4−ジオキサンに溶解する。その後、20gのHFを加える。次に圧力を2.3絶対バールにし、温度を25℃に維持する。閉じた媒体中で反応物の撹拌を18時間継続する。過剰HFはポンピングすることにより除去される。その後、反応媒質は炭酸リチウムで処理される。該溶液を濾過後、蒸発させて、残留物を19F NMRにより解析する。分析により、100%の完全フッ素化生成物(FSO2)2NLiが示され、また、分解生成物FSO3LiおよびFSO2NH2の非存在が示される。
800mLのオートクレーブ中で、65gの(ClSO2)2NHを50mLの1,4−ジオキサンに溶解する。その後、20gのHFを加える。次に圧力を0絶対バールにし、温度を25℃に維持する。開放媒体中で反応物の撹拌を3時間継続する。過剰HFは不活性ガスでフラッシングすることにより除去される。その後、反応媒質は炭酸リチウムで処理される。該溶液を濾過後、蒸発させて、残留物を19F NMRにより解析する。分析により、100%の完全フッ素化生成物(FSO2)2NLiが示され、また、分解生成物FSO3LiおよびFSO2NH2の非存在が示される。
Claims (25)
- 式:
(III)R2−(SO2)−NX−(SO2)−F
のフルオロ化合物を調製する方法であって、
(a)式:
(II)R1−(SO2)−NX−(SO2)−Cl
のクロロ化合物を得る第1ステップであって、この第1ステップが式:
(I)R0−(SO2)−NH2
のスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤との反応を含むステップと、
(b)前記式(III)のフルオロ化合物を得る第2ステップであって、この第2ステップが、前記式(II)のクロロ化合物と、無水フッ化水素酸との少なくとも1種の有機溶媒中での反応を含むステップとを含み、
式中、
Xは、水素原子または一価のカチオンMであり、
R1は、正のハメットパラメータσpを有する電子吸引基であり、
R1がClの場合には、R0は、OHであり、これ以外の場合は、R0はR1と同じであり、
R1がClの場合には、R2は、Fであり、これ以外の場合は、R2はR1と同じである、方法。 - R1が、Cl、F、CF3、CHF2、CH2F、C2HF4、C2H2F3、C2H3F2、C2F5、C3F7、C3H2F5、C3H4F3、C3HF6、C4F9、C4H2F7、C4H4F5、C5F11、C3F6OCF3、C2F4OCF3、C2H2F2OCF3、CF2OCF3、C6F13、C7F15、C8F17およびC9F19から選択される、請求項1に記載の方法。
- Mが、アルカリ金属カチオンまたはアルカリ土類金属カチオンまたは四級アンモニウムカチオンであり、および好ましくは、Mが、リチウムカチオンまたはナトリウムカチオンであり、および特に好ましくは、リチウムカチオンである、請求項1または2に記載の方法。
- 第1ステップで使われる硫黄酸が、クロロスルホン酸、硫酸、発煙硫酸およびこれらの混合物から選択される、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 第1ステップで使われるクロル化剤が、塩化チオニル、塩化オキサリル、五塩化リン、三塩化ホスホニル、三塩化ホスホリルおよびこれらの混合物から選択される、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 第1ステップにおけるスルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤の反応で触媒が使用され、前記触媒が、好ましくは、メチルアミン、トリエチルアミンもしくはジエチルメチルアミンなどの第三級アミン、またはピリジンおよび2,6−ルチジンなどのこれらの誘導体から選択され、および/または
前記第1ステップにおける前記スルファミドと、前記硫黄酸および前記クロル化剤との反応が、30℃から150℃の温度で行われ、および/または
前記第1ステップにおける前記スルファミドと、前記硫黄酸および前記クロル化剤との反応が、1から7絶対バールの圧力で行われる、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。 - 第1ステップで使われる硫黄酸とスルファミドのモル比が、1から5であり、および/または
前記第1ステップで使われる前記クロル化剤と前記スルファミドのモル比が、1から10である、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。 - 第2ステップにおける有機溶媒が、1から70のドナー数、有利には、5から65のドナー数を有する、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
- 第2ステップにおける有機溶媒が、エステル、ニトリル、ジニトリル、エーテル、ジエーテル、アミンおよびホスフィンおよびこれらの混合物から選択される、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 第2ステップの式(II)のクロロ化合物と無水フッ化水素酸の反応が、0℃から有機溶媒の沸点、好ましくは、5℃から有機溶媒の沸点の温度で行われ、および/または
前記第2ステップの式(II)の前記クロロ化合物と前記無水フッ化水素酸の反応が、0から16絶対バールの圧力で行われる、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。 - 式(II)のクロロ化合物が、第2反応ステップの前に、有機溶媒中に溶解される、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
- 第2ステップの、式(II)のクロロ化合物と、前記(II)のクロロ化合物と無水フッ化水素酸との反応に使用される有機溶媒の質量比が、0.001から10、好ましくは、0.005から5であり、および/または
第2ステップの、前記式(II)のクロロ化合物と、前記式(II)のクロロ化合物と前記無水フッ化水素酸の反応で使われるフッ化水素酸のモル比が、0.01から0.5、好ましくは、0.05から0.5である、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。 - 第1ステップの、スルファミドと、硫黄酸およびクロル化剤との反応が、式:
(IIa)R1−(SO2)−NH−(SO2)−Cl
のクロロ化合物を与え、前記第1ステップがまた、式:
(IIb)R1−(SO2)−NM−(SO2)−Cl
のクロロ化合物を得るための前記式(IIa)のクロロ化合物と塩基との反応を含み、式中、Mは一価のカチオンである、請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。 - 前記塩基が、極性有機溶媒中のアルカリ金属カーボネート、アルカリ土類金属カーボネート、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、第三級アミンおよびこれらの混合物から選択される、請求項13に記載の方法。
- 第2ステップの後で、
(c)好ましくは、アルカリ金属カーボネート、アルカリ土類金属カーボネート、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物およびこれらの混合物から選択される塩基を添加することにより、式(III)の化合物を中和する第3のステップを含む、請求項1から14のいずれか一項に記載の方法。 - 第2ステップで得られる式(III)のフルオロ化合物が、式:
(IIIa)R2−(SO2)−NH−(SO2)−F
の化合物であり、中和の第3ステップが、前記式(IIIa)の化合物の、式:
(IIIb)R2−(SO2)−NM−(SO2)−F
の化合物への変換を可能にし、式中、Mは一価のカチオンである、請求項15に記載の方法。 - 第2ステップの後で、または適用可能な場合には、第3ステップの後で、好ましくは、アルカリ金属フッ化物もしくはアルカリ土類金属フッ化物もしくは四級アンモニウムフッ化物、塩化物、カーボネート、水酸化物、スルフェート、クロレート、パークロレート、ニトライトまたはニトレートと接触させることによる、最終ステップのカチオン交換を含む、請求項1から16のいずれか一項に記載の方法。
- LiN(SO2F)2、LiN(SO2CF3)(SO2F)、LiN(SO2C2F5)(SO2F)、LiN(SO2CF2OCF3)(SO2F)、LiN(SO2C3HF6)(SO2F)、LiN(SO2C4F9)(SO2F)、LiN(SO2C5F11)(SO2F)、LiN(SO2C6F13)(SO2F)、LiN(SO2C7F15)(SO2F)、LiN(SO2C8F17)(SO2F)またはLiN(SO2C9F19)(SO2F)および好ましくは、LiN(SO2F)2を得るための、請求項1から17のいずれか一項に記載の方法。
- 電解質を製造する方法であって、式(IIIb)R2−(SO2)−NM−(SO2)−F(式中、Mは一価のカチオン、R2は正のハメットパラメータσpを有する電子吸引基である。)のイミド塩の請求項1から18のいずれか一項に記載の方法による調製、およびこれの溶媒中への溶解を含み、前記イミド塩は、好ましくは、リチウム塩、ナトリウム塩またはカリウム塩である、方法。
- 電池または電池セルを製造する方法であって、請求項19に記載の電解質の製造およびこの電解質の負極と正極との間への挿入を含む、方法。
- 少なくとも99.9質量%の式:
(IIIb)R2−(SO2)−NM−(SO2)−F
のイミド塩を含む組成物であって、式中、Mは一価のカチオンであり、R2は正のハメットパラメータσpを有する電子吸引基であり、1から500ppmの合計フッ化物質量含有量、および/または1から200ppmの合計塩化物質量含有量である、組成物。 - 合計フッ化物質量含有量が、1から250ppmでありおよび/または合計塩化物質量含有量が1から100ppmである、請求項21に記載の組成物。
- 250ppm以下、好ましくは、150ppm以下のニトレートの質量含有量、および/または250ppm以下、好ましくは、150ppm以下のスルフェートの質量含有量である、請求項21または22に記載の組成物。
- Mが、LiまたはNaまたはKであり、および/または
R2が、F、CF3、CHF2、CH2F、C2HF4、C2H2F3、C2H3F2、C2F5、C3F7、C3H2F5、C3H4F3、C3HF6、C4F9、C4H2F7、C4H4F5、C5F11、C3F6OCF3、C2F4OCF3、C2H2F2OCF3、CF2OCF3、C6F13、C7F15、C8F17またはC9F19であり、Fが好ましい、請求項21から23のいずれか一項に記載の組成物。 - イミド塩が、LiN(SO2F)2、LiN(SO2CF3)(SO2F)、LiN(SO2C2F5)(SO2F)、LiN(SO2CF2OCF3)(SO2F)、LiN(SO2C3HF6)(SO2F)、LiN(SO2C4F9)(SO2F)、LiN(SO2C5F11)(SO2F)、LiN(SO2C6F13)(SO2F)、LiN(SO2C7F15)(SO2F)、LiN(SO2C8F17)(SO2F)またはLiN(SO2C9F19)(SO2F)であり、および好ましくは、LiN(SO2F)2である、請求項21から24のいずれか一項に記載の組成物。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018520981A (ja) * | 2015-05-21 | 2018-08-02 | 上海康鵬科技有限公司 | リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドの生成方法 |
| JP2021525207A (ja) * | 2018-05-23 | 2021-09-24 | アルケマ フランス | フルオロスルホニル基を含有するイミド塩を調製するための方法 |
| JP2021525693A (ja) * | 2018-06-01 | 2021-09-27 | アルケマ フランス | リチウム ビス(フルオロスルホニル)イミド塩を製造するための方法 |
| JP2021526499A (ja) * | 2018-06-01 | 2021-10-07 | アルケマ フランス | リチウム ビス(フルオロスルホニル)イミド塩を製造するための方法 |
| JP2021197341A (ja) * | 2020-06-18 | 2021-12-27 | 旭化成株式会社 | 非水系二次電池 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10020538B2 (en) | 2015-11-13 | 2018-07-10 | Uchicago Argonne, Llc | Salts for multivalent ion batteries |
| KR101718292B1 (ko) * | 2015-11-26 | 2017-03-21 | 임광민 | 리튬 비스(플루오르술포닐)이미드의 신규한 제조방법 |
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| US12421114B2 (en) * | 2021-01-29 | 2025-09-23 | Honeywell International Inc. | Sulfamyl fluoride compositions and processes for making sulfamyl fluoride compositions |
| KR20240012388A (ko) | 2021-05-26 | 2024-01-29 | 스페셜티 오퍼레이션스 프랑스 | 알칼리 설포닐 이미드 염의 제조 방법 |
| CN113991176B (zh) * | 2021-10-18 | 2022-08-19 | 傲普(上海)新能源有限公司 | 一种非水系电解液及使用其的锂电池 |
| KR102632922B1 (ko) * | 2023-03-22 | 2024-02-05 | 주식회사 천보 | 저감된 리튬 플루오로설포네이트 포함 리튬 비스(플루오로설포닐)이미드의 카보네이트 용액 및 이를 포함하는 전해액 |
| KR102802816B1 (ko) * | 2023-07-12 | 2025-05-07 | 이피캠텍 주식회사 | 플루오로설포닐이미드염 및 이의 제조 방법 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010010613A1 (ja) * | 2008-07-23 | 2010-01-28 | 第一工業製薬株式会社 | ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン化合物の製造方法およびイオン対化合物 |
| JP2010254543A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-11-11 | Mitsubishi Materials Corp | ビス(フルオロスルホニル)イミド塩の製造方法及びフルオロ硫酸塩の製造方法、並びにビス(フルオロスルホニル)イミド・オニウム塩の製造方法 |
| WO2011149095A1 (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | 株式会社日本触媒 | フルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩およびその製造方法 |
| US20120041233A1 (en) * | 2009-11-27 | 2012-02-16 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Fluorosulfonyl imide salt and method for producing fluorosulfonyl imide salt |
| WO2012108284A1 (ja) * | 2011-02-10 | 2012-08-16 | 日本曹達株式会社 | フルオロスルホニルイミドアンモニウム塩の製造方法 |
| US20130075746A1 (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-28 | Alpha and Omega Semiconductor Inc. | Lateral PNP Bipolar Transistor with Narrow Trench Emitter |
| JP2013087019A (ja) * | 2011-10-18 | 2013-05-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | イミド塩の製造方法 |
| WO2014024682A1 (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-13 | 日本曹達株式会社 | ビス(ハロスルホニル)アミンの製造方法 |
| JP2014516907A (ja) * | 2011-05-24 | 2014-07-17 | アルケマ フランス | リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミダイドを製造する方法 |
| WO2014148258A1 (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-25 | 日本曹達株式会社 | ジスルホニルアミンアルカリ金属塩の製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1122240A3 (en) * | 2000-01-31 | 2003-11-26 | Morita Chemical Industries Co., Ltd. | Process for producing sulfonylimide compound |
| FR2818972B1 (fr) | 2000-12-29 | 2003-03-21 | Rhodia Chimie Sa | Procede de fluoration d'un compose halogene |
| WO2007068822A2 (fr) | 2005-12-12 | 2007-06-21 | Phostech Lithium Inc. | Sels de sulfonyl-1, 2, 4-triazole |
| WO2009123328A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Sulfonylimide salt and method for producing the same |
| JP5630048B2 (ja) | 2009-03-31 | 2014-11-26 | セントラル硝子株式会社 | イミド酸化合物の製造方法 |
| CN102575129B (zh) * | 2009-10-09 | 2015-01-28 | 三菱综合材料株式会社 | 导电性涂膜形成剂、其制造方法及使用该导电性涂膜形成剂的成型品 |
| CN102816096B (zh) * | 2011-06-10 | 2014-09-24 | 华中科技大学 | 一种亚胺碱金属盐和离子液体及其作为非水电解质的应用 |
-
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Patent Citations (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010010613A1 (ja) * | 2008-07-23 | 2010-01-28 | 第一工業製薬株式会社 | ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン化合物の製造方法およびイオン対化合物 |
| JP2010254543A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-11-11 | Mitsubishi Materials Corp | ビス(フルオロスルホニル)イミド塩の製造方法及びフルオロ硫酸塩の製造方法、並びにビス(フルオロスルホニル)イミド・オニウム塩の製造方法 |
| US20120014859A1 (en) * | 2009-03-31 | 2012-01-19 | Mitsubishi Materials Corporation | Method for producing bis(fluorosulfonyl)imide salt, method for producing fluorosulfate, and method for producing bis(fluorosulfonyl)imide onium salt |
| US20120041233A1 (en) * | 2009-11-27 | 2012-02-16 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Fluorosulfonyl imide salt and method for producing fluorosulfonyl imide salt |
| JP2012136429A (ja) * | 2009-11-27 | 2012-07-19 | Nippon Shokubai Co Ltd | フルオロスルホニルイミド塩およびフルオロスルホニルイミド塩の製造方法 |
| WO2011149095A1 (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | 株式会社日本触媒 | フルオロスルホニルイミドのアルカリ金属塩およびその製造方法 |
| US20130068991A1 (en) * | 2010-05-28 | 2013-03-21 | Yuichi Sato | Alkali metal salt of fluorosulfonyl imide, and production method therefor |
| US20130323154A1 (en) * | 2011-02-10 | 2013-12-05 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for production of fluorosulfonylimide ammonium salt |
| WO2012108284A1 (ja) * | 2011-02-10 | 2012-08-16 | 日本曹達株式会社 | フルオロスルホニルイミドアンモニウム塩の製造方法 |
| JP2014516907A (ja) * | 2011-05-24 | 2014-07-17 | アルケマ フランス | リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミダイドを製造する方法 |
| US20130075746A1 (en) * | 2011-09-23 | 2013-03-28 | Alpha and Omega Semiconductor Inc. | Lateral PNP Bipolar Transistor with Narrow Trench Emitter |
| JP2013087019A (ja) * | 2011-10-18 | 2013-05-13 | Sumitomo Electric Ind Ltd | イミド塩の製造方法 |
| US20140241973A1 (en) * | 2011-10-18 | 2014-08-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing imide salt |
| WO2014024682A1 (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-13 | 日本曹達株式会社 | ビス(ハロスルホニル)アミンの製造方法 |
| US20150175422A1 (en) * | 2012-08-06 | 2015-06-25 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing bis(halosulfonyl)amine |
| WO2014148258A1 (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-25 | 日本曹達株式会社 | ジスルホニルアミンアルカリ金属塩の製造方法 |
| US20160016797A1 (en) * | 2013-03-18 | 2016-01-21 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing disulfonylamine alkali metal salt |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| BERAN M; PRIHODA J; TARABA J: "A NEW ROUTE TO THE SYNTHESES OF N-(FLUOROSULFURYL)SULFONAMIDE SALTS: CRYSTAL STRUCTURE OF PH4P+ [CF3", POLYHEDRON, vol. VOL:29, NR:3, JPN5017002958, 19 February 2010 (2010-02-19), GB, pages 991 - 994, ISSN: 0003910398 * |
| MARTIN BERAN; PRIHODA JIRI: "A NEW METHOD OF THE PREPARATION OF IMIDO-BIS(SULFURIC ACID) DIHALOGENIDE, (F, CL), AND THE POTASSIUM", ZEITSCHRIFT FUER ANORGANISCHE UND ALLGEMEINE CHEMIE, vol. VOL:631, NR:1, JPN5017002957, 1 January 2005 (2005-01-01), pages 55 - 59, ISSN: 0003910397 * |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018520981A (ja) * | 2015-05-21 | 2018-08-02 | 上海康鵬科技有限公司 | リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドの生成方法 |
| JP2021525207A (ja) * | 2018-05-23 | 2021-09-24 | アルケマ フランス | フルオロスルホニル基を含有するイミド塩を調製するための方法 |
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| JP2021526499A (ja) * | 2018-06-01 | 2021-10-07 | アルケマ フランス | リチウム ビス(フルオロスルホニル)イミド塩を製造するための方法 |
| JP2021197341A (ja) * | 2020-06-18 | 2021-12-27 | 旭化成株式会社 | 非水系二次電池 |
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