JP2014516907A - リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミダイドを製造する方法 - Google Patents

リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミダイドを製造する方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、式(III)(SO )−N−(SO )3C(式中、Cは一価のカチオンを表す。)のビス(スルホネート)イミダイド塩を製造する方法に関し、この方法は、式(I)(OH)−SO−NHのアミド硫酸と、式(II)(OH)−SO−X(式中、Xはハロゲン原子を表す。)のハロゲン化硫酸との反応を含み、この方法は、カチオンCで形成される塩である塩基との反応を含む。本発明はまた、式(V)F−(SO)−NH−(SO)−Fのビス(フルオロスルホニル)イミド酸を製造する方法、および式(VII)F−(SO)−N−(SO)−FLiのリチウムビス(フルオロスルホニル)イミダイド塩を製造する方法に関する。

Description

本発明は、リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製方法、およびリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミドの調製において有用である中間生成物の調製方法に関し、このようにして得られるリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミドの、電解質の製造、およびリチウムイオンまたはナトリウムイオン型電池の製造における使用に関する。
リチウムイオンまたはナトリウムイオン電池は、少なくとも負極と、正極と、セパレータと、電解質とを備える。電解質は、粘度と誘電率とを互いにうまく譲歩させるために、一般に有機炭酸塩の混合物である溶媒に溶解しているリチウムまたはナトリウム塩で構成される。
最も広く使用されている塩として、六フッ化リン酸リチウム(LiPF)が挙げられ、この塩は、必要とされる数々の品質の多くを有しているが、フッ化水素酸ガスの形に分解する欠点を示す。これにより、特に、自家用車におけるリチウムイオン電池の差し迫った使用という状況において、安全性の問題が提起される。
したがって、LiTFSI(リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)やLiFSI(リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド)など、他の塩が開発されている。これらの塩は自然分解をほとんど、または全く示さず、加水分解に関してはLiPFよりも安定している。にもかかわらず、LiTFSIは、アルミニウムの集電体に対して腐食性であるという欠点を示すが、この欠点はLiFSIには当てはまらない。したがって、LiFSIが、LiPFの見込みのある代替となると考えられる。
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドの製造には、公知の合成経路がいくつか存在する。これら経路の1つは、ペルフルオロスルホン酸と尿素との反応で構成される。これに関しては文献国際公開第2010/113483号を参照されたい。この反応による生成物は、後に水に溶解し、ビス(フルオロスルホニル)イミドは、テトラブチルアンモニウムとの塩の形で沈殿する。しかしながら、この合成経路は、全収率が非常に低いため、大規模には実行不可能である。
別の経路は、ジフルオロスルホキシドをアンモニアと反応させることから構成される。これに関しては文献国際公開第2010/113835号を参照されたい。しかしながら、この方法でも数々の副生成物が形成され、費用のかかる精製段階が必要とされる。
さらに、文献国際公開第2009/1123328号には一般に、スルホニルイミド化合物の製造について記載されている。この文献には、特に、後にフッ素化段階を施すビス(クロロスルホニル)イミドを形成するために、アミド硫酸と塩化チオニルとの反応、その後のクロロスルホン酸との反応について記載されている。しかしながら、ビス(クロロスルホニル)イミドは、精製に耐えられない不安定な化合物である。このため、存在する不純物がフッ素化段階の最後まで残存し、分離をより困難にする。
したがって、より簡単に、かつ/またはより優れた収率で、LiFSIまたはNaFSIを得ることを可能とする方法を開発する真の必要性がある。
本発明はまず、下記式(III):
(III) (SO )−N−(SO )3C
(式中、Cは一価のカチオンを表す。)
のビス(スルホナト)イミド塩の調製方法であって、
下記式(I):
(I) (OH)−SO−NH
のアミド硫酸と、
下記式(II):
(II) (OH)−SO−X
(式中、Xはハロゲン原子を表す。)
のハロ硫酸との反応を含み、
カチオンCで形成される塩である塩基との反応を含む方法に関する。CがプロトンHである場合、この塩基は水である。
一実施形態によれば、Xは塩素原子を表す。
一実施形態によれば、Cは、プロトンH、カリウムイオンK、ナトリウムイオンNa、リチウムイオンLiまたはセシウムイオンCsを表し、好ましくは、プロトンH、NaイオンおよびカリウムイオンKを表す。
一実施形態によれば、この方法は、カチオンCを含む非求核塩基の存在下における、式(I)のアミド硫酸と式(II)のハロ硫酸との反応を含み、前記非求核塩基は、好ましくは炭酸カリウムKCOまたは炭酸ナトリウムNaCOである。
代替の一実施形態によれば、この方法は、下記式(IV):
(IV) (OH)−SO−NH−SO−(OH)
のビス(スルホニル)イミドを提供するために、第1の塩基の存在下における式(I)のアミド硫酸と式(II)のハロ硫酸との反応を含み、
その後、式(III)のビス(スルホナト)イミド塩を得るために、式(IV)のビス(スルホニル)イミドと、カチオンCで形成される塩である第2の塩基との反応を含む。
一実施形態によれば、前記第1の塩基がトリエチルアミンであり、前記第2の塩基が水酸化カリウム、水酸化ナトリウムおよび炭酸カリウムから選択される。
別の代替実施形態によれば、この方法は、式(IV)のビス(スルホニル)イミドを加水分解後に提供するために、塩化チオニルなどの塩素化剤の存在下における式(I)のアミド硫酸と式(II)のハロ硫酸との反応を含む。
一実施形態によれば、この方法は、式(III)のビス(スルホナト)イミド塩の精製の段階、好ましくは、水からのまたはアルコールなどの極性溶媒からの再結晶化による精製の段階を含む。
本発明の別の主題は、下記式(V):
(V) F−(SO)−NH−(SO)−F
のビス(フルオロスルホニル)イミド酸の調製方法であって、
上述の式(III)のビス(スルホナト)イミド塩の調製と、その後に続く前記ビス(スルホナト)イミド塩のフッ素化とを含む方法である。
一実施形態によれば、ビス(スルホナト)イミド塩のフッ素化は、ビス(スルホナト)イミド塩とフッ素化剤、好ましくは、フッ化水素、三フッ化ジエチルアミノ硫黄および四フッ化硫黄から選択されるフッ素化剤との反応を含む。
代替の一実施形態によれば、ビス(スルホナト)イミド塩のフッ素化は、
(a)下記式(VI):
(VI) Cl−(SO)−N(SO)−ClC
のビス(クロロスルホニル)イミド塩を得るために、塩素化剤、好ましくは、塩化チオニル、五塩化リン、オキシ塩化リンおよび塩化オキサリルから選択される塩素化剤によるビス(スルホナト)イミド塩の塩素化を含み、その後、
(b)式(V)のビス(フルオロスルホニル)イミド酸を得るために、フッ素化剤、好ましくは、フッ化水素、三フッ化ジエチルアミノ硫黄、四フッ化硫黄、およびフッ化物塩、特に、フッ化亜鉛から選択されるフッ素化剤による、式(VI)のビス(クロロスルホニル)イミド塩のフッ素化を含む。
本発明の別の主題は、下記式(VII):
(VII) F−(SO)−N−(SO)−FM
(式中、MはLiまたはNaを表す。)
のリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製方法であって、
上述の式(V)のビス(フルオロスルホニル)イミド酸の調製と、その後のこのビス(フルオロスルホニル)イミド酸のリチウム塩基またはナトリウム塩基との反応とを含む方法である。
本発明の非常に特有の主題は、式(VII)のリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製方法である。
一実施形態によれば、リチウム塩基またはナトリウム塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムから選択される。
本発明の別の主題は、上述の式(VII)のビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製と、このビス(フルオロスルホニル)イミド塩の溶媒への溶解とを含む、電解質の製造方法である。
本発明の別の主題は、上述の電解質の製造と、この電解質の、アノードとカソードとの間への挿入とを含む、電池または電池セルの製造方法である。
本発明の別の主題は、下記式(III):
(III) (SO )−N−(SO )3C
(式中、Cは一価のカチオンを表す。)
のビス(スルホナト)イミド塩である。
一実施形態によれば、CがHイオンまたはNaイオンまたはLiイオンまたはCsイオンまたはKイオン、好ましくは、HイオンまたはNaイオンまたはKイオンを表す。
本発明の追加の主題は、式(VI)のビス(クロロスルホニル)イミド化合物(塩または酸)である。この化合物は、フッ素化段階(b)の前に分離することができる。
本発明により、最先端技術の欠点を回避することが可能となる。より詳細には、より簡単に、かつ/またはより優れた収率で、LiFSIまたはNaFSIを得ることを可能とする方法が、本発明により提供される。
これは、上述のカチオンを含む塩である少なくとも1種の塩基の添加を伴う、アミド硫酸とハロ硫酸との反応を含む、ビス(スルホナト)イミドとカチオンとの三塩の調製方法の開発によって達成される。
その後このビス(スルホナト)イミド三塩を使用してビス(フルオロスルホニル)イミドを調製することができ、そうしてLiFSIまたはNAFSIを得ることが可能となるが、これは、最先端技術において提供される合成経路においてよりも優れた収率で実現される。
文献国際公開第2009/123328号と比較すると、本発明の方法は、ビス(クロロスルホニル)イミド塩(VI)の分離を含み、したがって、第1段階中に形成される残留クロロスルホン誘導体などの不純物を取り除くことが可能となる。
本発明の別の主題は、高純度のリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミドである。
以下、より詳細に、かつ下記の記載に言外の限定をすることなく、本発明について説明する。
本発明では、3部に分かれた下記一般スキームに従ったリチウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製が提供される。
1)(OH)−SO−NH+(OH)−SO−X→(SO )−N(SO )3C
2)(SO )−N−(SO )3C→F−(SO)−NH−(SO)−F
3)F−(SO)−NH−(SO)−F→F−(SO)−N−(SO)−FM
第1部−ビス(スルホナト)イミド三塩の調製
この第1部には、2つの代替形態が想定される。第1の代替形態は下記反応スキームに対応する。
(OH)−SO−NH+(OH)−SO−X+zC→(SO )−N−(SO )3C+z’By’x’+CX
前スキームにおいて、(OH)−SO−NHはアミド硫酸で、その式は(I)で示され、(OH)−SO−Xはハロ硫酸(Xはハロゲン原子を表す)で、その式は(II)で示され、Cは非求核塩基(すなわち、(OH)−SO−Xを永久的に添加することによって反応を阻害することができない有機塩基)であり、Cは、この塩基から得られる一価のカチオンを表し、x、y、z、x’、y’およびz’は、積zxおよび積z’x’が4に等しくなるような整数または分数である。
三塩(SO )−N−(SO )3Cの式は(III)で示される。
好ましくは、Xは塩素を表す。
は、たとえば、カリウムイオンKを表す。Cは、たとえば、炭酸カリウムKCOを表す。この場合、CはカリウムKを表し、BはCOを表し、xは値2を有し、yは値1を有し、zは値2を有し、x’は値2を有し、y’は値1を有し、z’は値2を有する。
あるいは、Cが、たとえば、ナトリウムイオンNa、セシウムイオンCs、リチウムイオンLiまたはH+イオンを表すこともできる。
上記反応は、たとえば、0〜150℃(好ましくは0〜50℃、より詳細には、好ましくは10〜40℃、特に15〜30℃)の温度で、また大気圧から最大15バールまでの範囲の圧力で行うことができる。スルファミン酸が限定反応物質であることが好ましく、ハロ硫酸(OH)−SO−Xは過剰に(1〜3等量)使用することができる。
第2の代替形態は、下記反応スキームに対応する。
(OH)−SO−NH+(OH)−SO−X+B’→(OH)−SO−NH−SO−(OH)+B’H
(OH)−SO−NH−SO−(OH)+zC→(SO )−N−(SO )3C+z’By’x’
このスキームにおいて、(OH)−SO−NH−SO−(OH)はビス(スルホニル)イミドで、その式は(IV)で示され、Xはやはりハロゲン原子を表し、B’は求核または非求核塩基であり、Cは求核または非求核塩基であり、Cは、この塩基から得られる一価のカチオンを表し、x、y、z、x’、y’およびz’は、積zxおよび積z’x’が3に等しくなるような整数または分数である。上記反応スキームにおいて、2つの段階は連続段階であり、式(IV)のビス(スルホニル)イミドは分離されない。
がプロトンHである場合には、第2の代替形態は第1段階のみを含む。
好ましくは、Xは塩素を表す。
は、たとえば、カリウムイオンKを表す。
は、たとえば、水酸化カリウム(KOH)、水酸化ナトリウム(NaOH)または炭酸カリウム(KCO)を表す。
B’は、たとえば、トリエチルアミン(NEt)を表す。
上記反応スキームは、たとえば、0〜150℃(好ましくは0〜50℃、より詳細には、好ましくは10〜40℃、特に15〜30℃)の温度で、また大気圧から15バールまでの範囲の圧力で行うことができる。スルファミン酸が限定反応物質であることが好ましく、ハロ硫酸(OH)−SO−Xは過剰に(1〜3等量)使用することができる。塩基B’は反応溶媒としても使用し、塩基Cは、8〜14の塩基性pHが得られるまで過剰に添加する。
この第1部の最後に、式(III)の化合物(三塩または酸)を精製することが好ましい。これは、三塩(III)または酸は比較的水に不溶性であるが、反応中に形成される不純物は、塩基性条件下で水に非常に可溶性であるからである。この精製は、アルコールなどの他の極性溶媒から行うこともできる。
第2部−ビス(フルオロスルホニル)イミド酸の調製
この第2部には、2つの代替形態が想定される。第1の代替形態は塩素化と、その後のフッ素化とを含み、一方、第2の代替形態は直接フッ素化を含む。
第1の代替形態は、下記反応スキームに対応する。
(SO )−N−(SO )3C+xA→Cl−(SO)−N−(SO)−ClC+A
Cl−(SO)−N−(SO)−ClC+3HF→F−(SO)−NH−(SO)−F+2HCl+CF
このスキームにおいて、F−(SO)−NH−(SO)−Fはビス(フルオロスルホニル)イミド酸で、その式は(V)で示され、Aは塩素化剤を表し、Aは一般に、塩素化反応からの1種または複数種の生成物を表し、Cはやはり、上述の一価のカチオンを表し、xは整数または分数であり、Cl−(SO)−N−(SO)−ClCは、ビス(クロロスルホニル)イミド塩で、その式は(VI)で示される。
は、たとえば、塩化チオニルSOCl(x=1)であってよく、その場合、Cがカリウムイオンであるならば、Aは2KCl+2SOを表す。
はまた、五塩化リン(PCl)、オキシ塩化リン(POCl)または塩化オキサリルであってもよい。
この塩素化反応は、たとえば、0〜150℃の温度で、また大気圧から最大15バールまでの範囲の圧力で行うことができる。塩素化剤は、好ましくは過剰に使用され、一般に溶媒としての機能を果たす。この反応の温度は、有利には溶媒の沸点付近である。たとえば、塩化チオニルの場合、沸点は76℃付近であるため、反応の温度は、たとえば、60〜90℃または70〜80℃となる。
フッ素化反応特性に関して、後者は、たとえば、0〜350℃(好ましくは0〜50℃、より詳細には、好ましくは10〜40℃、特に15〜30℃)の温度で、また大気圧から15バールまでの範囲の圧力で行うことができる。
HFに代えて、三フッ化ジエチルアミノ硫黄(DAST)もしくは四フッ化硫黄(SF)、またあるいは式C(xおよびyは正の整数で、Cがカチオンである。)のフッ化物塩などの他のフッ素化剤を使用することもできる。たとえば、Cは、文献国際公開第2009/123328号に記載されているようにフッ化亜鉛ZnFであってよい。
第2の代替形態は、たとえば、下記反応スキームに対応する。
(SO )−N−(SO )3C+5HF→F−(SO)−NH−(SO)−F+2HO+CF
このスキームにおいて、Cはやはり、上述の一価のカチオン、たとえばKを表す。
この反応は、たとえば、0〜350℃(好ましくは0〜50℃、より詳細には、好ましくは10〜40℃、特に15〜30℃)の温度で、また大気圧から最大15バールまでの範囲に及ぶ圧力で行うことができる。フッ化水素は、一般に過剰に使用する。この反応は溶媒なしで行う。
フッ化水素に代えて、三フッ化ジエチルアミノ硫黄(DAST)または四フッ化硫黄(SF)などの他のフッ素化剤を使用することも可能である。
このようなフッ素化剤は、フッ化水素よりも反応性が高いため、同じ圧力および温度範囲内では、フッ化水素よりも過剰を少なくして使用することができる。
続いてビス(フルオロスルホニル)イミド酸を精製する。反応の最後に、有機溶媒を用いて残留固形物からこの酸を抽出する。不純物は、有機溶媒に不溶であるか、またはわずかしか溶けないためである。この有機溶媒は、好ましくはジメチルカーボネートである。
第3部−MFSIの調製
この第3部は、下記反応スキームに対応する。
F−(SO)−NH−(SO)−F+MB→F−(SO)−N−(SO)−FM+BH
F−(SO)−N−(SO)−FMはLiFSIまたはNaFSIで、その式は(VII)で示される。MBはリチウム塩基またはナトリウム塩基、すなわち、リチウムカチオンLiまたはナトリウムカチオンNaと、アニオンBとから形成される塩の形の塩基である。この塩基は、たとえば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムでよい。
この反応は、たとえば、25℃から80℃までの温度で行うことができる。リチウム塩基またはナトリウム塩基は、好ましくは水中で、またはアルコールなどの極性溶媒中でも、1〜1.5等量の割合で使用する。
本発明によれば、リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド(MFSI)の純度は、好ましくは少なくとも99.5重量%に等しい、有利には少なくとも99.9重量%に等しい。
このビス(スルホナト)イミド塩中に存在する、LiCl、LiF、FSOLi、またはNaCl、NaF、FSONaなどの不純物は各々、好ましくは最大でも1000ppm、有利には最大でも500ppmを示す。
どのような調製法であっても、FSOLiは、好ましくは最大でも5ppmを示す。
本発明の任意の実施形態によれば、リチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド(MFSI)は、好ましくは、水分も、周期表の11〜15族および4〜6周期(Zn、Cu、Sn、Pb、Biなど)のカチオンからの塩からなる不純物も含有しない。これら不純物は、その電気化学的活性により、LiまたはNaイオン電池の容量に悪影響を及ぼす。
電解質の調製
上述のように調製したMFSIは、適当な溶媒に溶解させることによって、電解質の調製において使用することができる。
たとえば、文献J.Electrochemical Society,2011,158,A74−82に記載されているように、エチレンカーボネート(EC)、ジメチルカーボネート(DMC)およびエチルメチルカーボネート(EMC)の体積比5:2:3の混合物に、1mol/lの濃度でLiFSIを溶解させることができる。このような電解質は、非常に優れた導電性、優れたサイクル安定性を有し、アルミニウムの腐食は4.2Vを上回る。
この電解質は続いて、それ自体は公知であるやり方でカソードとアノードとの間に位置決めすることによって、電池または電池セルの製造において使用することができる。
下記実施例により、本発明を限定することなく説明する。
実施例1−カリウムビス(スルホナト)イミド三塩の合成
乾燥したガラスの丸底フラスコ中、溶媒なしで反応を行う。スルファミン酸1.61gに、撹拌しながらクロロスルホン酸1.1mlを添加する。続いて、トリエチルアミン2mlを添加する。この反応混合物を1日撹拌しながら放置する。水20mlの添加によって反応を停止させる。続いて、水酸化カリウム2.79gを添加する。最終生成物が沈殿し、ろ過によって回収され、CHCl30ml×2で洗浄される。
実施例2−カリウムビス(クロロスルホニル)イミドの合成
250mlの丸底フラスコに、三塩15.3gを添加する。続いて塩化オキサリル60mlを液滴添加し、その後ジメチルホルムアミド1mlを液滴添加する。この反応媒質を3時間還流撹拌すると、溶液は色が黄色くなる。反応の最後には、溶液をろ過し、塩素化合物および塩化カリウムを含む白色固体(w=19.0g)を得る。
実施例3−ビス(フルオロスルホニル)イミドの合成
800mlのオートクレーブに、カリウムビス(クロロスルホニル)イミドと塩化カリウムとの混合物19.0gを添加する。続いて、フッ化水素20gを周囲温度で添加する。この反応媒質を3時間撹拌する。続いて、過剰なフッ化水素および放出される塩化水素を、気流によって取り除く。その後、明るい黄色を有する固体を得る。

Claims (17)

  1. 下記式(III):
    (III) (SO )−N−(SO )3C
    (式中、Cは一価のカチオンを表す。)
    のビス(スルホナト)イミド塩の調製方法であって、
    下記式(I):
    (I) (OH)−SO−NH
    のアミド硫酸と、
    下記式(II):
    (II) (OH)−SO−X
    (式中、Xはハロゲン原子を表す。)
    のハロ硫酸との反応を含み、
    前記カチオンCで形成される塩である塩基との反応を含む方法。
  2. Xが塩素原子を表す、請求項1に記載の方法。
  3. がHイオン、カリウムイオンK、ナトリウムイオンNa、リチウムイオンLiまたはセシウムイオンCsを表し、好ましくはカリウムイオンKを表す、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記カチオンCを含む非求核塩基の存在下における、前記式(I)のアミド硫酸と前記式(II)のハロ硫酸との反応を含み、前記非求核塩基が好ましくは炭酸カリウムKCOである、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 下記式(IV):
    (IV) (OH)−SO−NH−SO−(OH)
    のビス(スルホニル)イミドを提供するために、第1の塩基の存在下における前記式(I)のアミド硫酸と前記式(II)のハロ硫酸との反応を含み、
    その後、式(III)のビス(スルホナト)イミド塩を得るために、前記式(IV)のビス(スルホニル)イミドと、カチオンCで形成される塩である第2の塩基との反応を含む、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記第1の塩基がトリエチルアミンであり、前記第2の塩基が水酸化カリウム、水酸化ナトリウムおよび炭酸カリウムから選択される、請求項5に記載の方法。
  7. 前記式(III)のビス(スルホナト)イミド塩の精製の段階、好ましくは、水からのまたはアルコールなどの極性溶媒からの再結晶化による精製の段階を含む、請求項1ないし6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 下記式(V):
    (V) F−(SO)−NH−(SO)−F
    のビス(フルオロスルホニル)イミド酸の調製方法であって、
    請求項1ないし7のいずれか一項に記載の式(III)のビス(スルホナト)イミド塩の調製と、その後に続く前記ビス(スルホナト)イミド塩のフッ素化とを含む方法。
  9. 前記ビス(スルホナト)イミド塩の前記フッ素化が、前記ビス(スルホナト)イミド塩とフッ素化剤、好ましくは、フッ化水素、三フッ化ジエチルアミノ硫黄および四フッ化硫黄から選択されるフッ素化剤との反応を含む、請求項8に記載の方法。
  10. 前記ビス(スルホナト)イミド塩の前記フッ素化は、
    (a)下記式(VI):
    (VI) Cl−(SO)−N(SO)−ClC
    のビス(クロロスルホニル)イミド塩を得るために、塩素化剤、好ましくは、塩化チオニル、五塩化リン、オキシ塩化リンおよび塩化オキサリルから選択される塩素化剤による前記ビス(スルホナト)イミド塩の塩素化を含み、その後、
    (b)式(V)のビス(フルオロスルホニル)イミド酸を得るために、フッ素化剤、好ましくは、フッ化水素、三フッ化ジエチルアミノ硫黄、四フッ化硫黄、およびフッ化物塩、特にフッ化亜鉛から選択されるフッ素化剤による、前記式(VI)のビス(クロロスルホニル)イミド塩のフッ素化を含む、請求項8に記載の方法。
  11. 下記式(VII):
    (VII) F−(SO)−N−(SO)−FM
    (MはLiまたはNaであることが可能)
    のビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製方法であって、
    請求項8ないし10のいずれか一項に記載の式(V)のビス(フルオロスルホニル)イミド酸の調製と、その後のこのビス(フルオロスルホニル)イミド酸とリチウム塩基またはナトリウム塩基との反応とを含む方法。
  12. 前記リチウム塩基またはナトリウム塩基が、水酸化リチウム、炭酸リチウムまたは炭酸ナトリウムから選択される、請求項11に記載の方法。
  13. 請求項11または12に記載の式(VII)のリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の調製と、このリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の溶媒への溶解とを含む、電解質の製造方法。
  14. 請求項13に記載の電解質の製造と、この電解質の、アノードとカソードとの間への挿入とを含む、電池または電池セルの製造方法。
  15. 純度が少なくとも99.5重量%に等しい、好ましくは少なくとも99.9重量%に等しいリチウムまたはナトリウムビス(フルオロスルホニル)イミド。
  16. 下記式(VI):
    (VI) Cl−(SO)−N−(SO)−ClC
    (式中、Cは一価のカチオンを表す。)
    のビス(クロロスルホニル)イミド塩。
  17. がNaイオンまたはLiイオンまたはCsイオンまたはKイオン、好ましくはKイオンを表す、請求項16に記載の塩。
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