JP2017206626A - 伸縮性膜及びその形成方法、配線被覆基板の製造方法、並びに伸縮性配線膜及びその製造方法 - Google Patents

伸縮性膜及びその形成方法、配線被覆基板の製造方法、並びに伸縮性配線膜及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜を提供する。
【解決手段】伸縮性膜であって、（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物の硬化物であり、前記（Ａ）成分が膜の表面側に偏在するものであることを特徴とする伸縮性膜。
【選択図】図１

Description

本発明は、伸縮性と強度と撥水性を兼ね備えた伸縮性膜及びその形成方法、伸縮性膜で基板上の導電性配線の片面が被覆された配線被覆基板の製造方法、並びに伸縮性膜で導電性配線の両面が被覆された伸縮性配線膜及びその製造方法に関する。
近年、ＩｏＴ（Ｉｎｔｅｒｎｅｔ ｏｆ Ｔｈｉｎｇｓ）の普及と共にウェアラブルデバイスの開発が進んでいる。インターネットに接続できる時計や眼鏡がその代表例である。また、医療分野やスポーツ分野においても、体の状態を常時モニタリングできるウェアラブルデバイスが必要とされており、今後の成長分野である。
ウェアラブルデバイスとしては、体に貼り付けて常時体の状態をモニタリングする形態が示される。このようなウェアラブルデバイスは、通常、体からの電気信号を検知するための生体電極、電気信号をセンサーに送るための配線、センサーとなる半導体チップと電池からなる。また、通常、肌に粘着するための粘着パッドも必要である。生体電極及びこの周りの配線や粘着パッドの構造については、特許文献１に詳細に記載されている。特許文献１に記載のウェアラブルデバイスは、生体電極の周りにシリコーン系粘着膜が配置され、生体電極とセンサーデバイスの間は伸縮性のウレタン膜で被覆された蛇腹の形の伸縮可能な銀配線で結ばれている。
ウレタン膜は伸縮性と強度が高く、伸縮配線の被覆膜として優れた機械特性を有している。しかしながら、ウレタン膜には加水分解性があるため、加水分解によって伸縮性と強度が低下するという欠点がある。一方で、シリコーン膜には加水分解性がないものの、強度が低いという欠点がある。
そこで、ウレタン結合とシロキサン結合の両方を分子内に有するシリコーンウレタンポリマーが検討されている。このポリマーの硬化物は、シリコーン単独よりは高強度で、ポリウレタン単独よりは低加水分解性である。しかしながら、このポリマーの硬化物では、ポリウレタン単独の強度、シリコーン単独の撥水性には及ばず、シリコーンとポリウレタンの中間の強度と撥水性しか得られない。
また、一方で、ポリウレタンとシリコーンとをブレンドした材料が検討されている。例えば、特許文献２や特許文献３には、反応性がないシリコーンと、架橋性のポリウレタンとをブレンドした材料が記載されている。このような材料で膜を形成すると、硬化後のポリウレタンの膜表面にシリコーンが浮いてきて（ブリードアウト）、膜表面の撥水性が向上する。しかし、このような膜では、シリコーンが架橋していないため、膜表面のシリコーンが剥がれ落ち、撥水性が低下しやすいという問題がある。
また、特許文献４には、架橋性のウレタンアクリレートと、シリコーンアクリレートとをブレンドした材料が記載されている。この材料では、シリコーンアクリレートのブレンドによって耐熱性を上げ、ウレタンアクリレートによって高強度で接着性のある硬化物を形成することができる。ただし、この材料では、溶剤を配合していない。更に、特許文献５には、架橋性のウレタンアクリレートと、シリコーンウレタンアクリレートと、エタノールやメタノール等の低沸点の溶剤とをブレンドした材料が記載されている。ただし、この材料は、ウレタンアクリレートの割合に対してシリコーンウレタンアクリレートの割合が高いものである。また、特許文献６にも、架橋性のウレタンアクリレートと、シリコーンウレタンアクリレートとをブレンドした材料が記載されている。ただし、この材料では、溶剤を配合していない。
このように、これまでにも、架橋性のウレタンアクリレートと、シリコーン（ウレタン）アクリレートとをブレンドした材料は検討されていたが、これらの材料から得られる硬化物では、ウレタンアクリレートとシリコーン（ウレタン）アクリレートが均一に分散した状態で硬化しているため、シリコーンとポリウレタンの中間の強度と撥水性しか得られない。
また、特許文献７には、架橋性のウレタンアクリレートと、シリコーンウレタンアクリレートと、架橋性の溶剤とをブレンドした材料が記載されている。しかし、これらの材料を硬化させる際には、ウレタンアクリレートと、シリコーンウレタンアクリレートが架橋するときに重合性二重結合を有する架橋性の溶剤も同時に架橋してしまうために、ウレタンアクリレートとシリコーンウレタンアクリレートが均一に分散した状態で硬化する。従って、硬化物は、シリコーンとポリウレタンの中間の強度と撥水性しか得られない。また、架橋性の溶剤として使用されている２−エチルヘキシルアクリレートは、沸点が２００℃を超えるものであり、蒸発速度が遅いという問題もある。
特開２００４−０３３４６８号公報 特開２０１１−１９４７５７号公報 特開２０１３−１３９５３４号公報 特開２００５−３２０４１８号公報 特許３８６５６２２号公報 特許５４９５７９９号公報 特開平５−２７８１６６号公報
このような背景から、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜及びその形成方法の開発が望まれている。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜及びその形成方法を提供することを目的とする。また、このような伸縮性膜を用いた配線被覆基板の製造方法、並びに伸縮性配線膜及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を達成するために、本発明では、伸縮性膜であって、（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物の硬化物であり、前記（Ａ）成分が膜の表面側に偏在するものである伸縮性膜を提供する。
このような伸縮性膜であれば、優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜となる。
また、前記（Ａ）成分の割合が、前記（Ｃ）成分を除いた組成物中の固形分の総量に対して１〜３５質量％の範囲であることが好ましい。
（Ａ）成分がこのような割合であれば、伸縮性膜の表面側に偏在する（Ａ）成分が十分な量となるため、伸縮性膜の表面の撥水性が更に良好なものとなる。また、（Ａ）成分の量が適量であり、（Ｂ）成分の割合が低くなりすぎないため、伸縮性膜の強度がより良好なものとなるだけでなく、（Ａ）成分の凝集物が発生して斑模様の層分離構造となる恐れがない。
また、前記（Ａ）成分が、下記一般式（１−１）、（１−２）、又は（１−３）で示される化合物であり、前記（Ｂ）成分が、下記一般式（２）で示される化合物であることが好ましい。
Figure 2017206626
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は水素原子又はトリメチルシリルオキシ基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１０は水素原子又はトリメチルシリル基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１５とＲ１６は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ１５とＲ１６とが合わさってエーテル基を形成する。Ｒ９とＲ１０は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ９とＲ１０は単結合を形成する。Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７は炭素数３〜３０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基であり、エーテル基を有していてもよい。Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、又は炭素数６〜２０のアリーレン基であり、エーテル基、エステル基、カーボネート基、カルバメート基、アミド基、ウレア基、ヒドロキシ基、及びチオウレタン結合から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９、Ｒ２３は水素原子又はメチル基である。Ｒ２０、Ｒ２２は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、又は炭素数２〜２０のアルケニレン基であり、エーテル基、エステル基、アリール基、及びアリーレン基から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ２１は単結合又は炭素数１〜１５の二価炭化水素基である。Ｘは単結合、又はエーテル基、エステル基、及びカーボネート基から選ばれる１種以上を有していてもよい炭素数１〜１２の二価炭化水素基である。Ｙ１、Ｙ２はどちらか一方が酸素原子でもう一方がＮＨ基である。ａ、ｄは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数で、ｂ＋ｃは１〜１００であり、ｅは１〜１００の整数、ｆは０〜２００の整数、ｇは０〜２００の整数である。）
このような（Ａ）成分及び（Ｂ）成分であれば、伸縮性膜の伸縮性、強度、及び膜表面の撥水性が更に良好なものとなる。
また、前記（Ｃ）成分が、２−オクタノン、２−ノナノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートから選ばれる１種以上であることが好ましい。
このような（Ｃ）成分は、上記のような範囲の沸点を有するものであるため、本発明の伸縮性膜に特に好適である。
また、前記伸縮性膜は、ＪＩＳ Ｃ ２１５１に規定される伸縮率が４０〜３００％のものであることが好ましい。
このような伸縮率であれば、伸縮配線の被覆膜として特に好適に用いることができる。
また、前記伸縮性膜が、伸縮性を有する導電性配線を覆う膜として用いられるものであることが好ましい。
本発明の伸縮性膜は、特にこのような用途に好適に用いることができる。
また、本発明では、伸縮性膜を形成する方法であって、（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物を基板上に塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させる伸縮性膜の形成方法を提供する。
このような方法であれば、優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜を容易に形成することができる。
また、前記（Ａ）成分の割合を、前記（Ｃ）成分を除いた組成物中の固形分の総量に対して１〜３５質量％の範囲とすることが好ましい。
（Ａ）成分をこのような割合とすれば、伸縮性膜の表面側に偏在する（Ａ）成分を十分な量とすることができるため、伸縮性膜の表面の撥水性を更に良好なものとすることができる。また、（Ａ）成分の量が適量であり、（Ｂ）成分の割合が低くなりすぎないため、伸縮性膜の強度をより良好なものとすることができるだけでなく、（Ａ）成分の凝集物が発生して斑模様の層分離構造となる恐れがない。
また、前記（Ａ）成分として、下記一般式（１−１）、（１−２）、又は（１−３）で示される化合物を用い、前記（Ｂ）成分として、下記一般式（２）で示される化合物を用いることが好ましい。
Figure 2017206626
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は水素原子又はトリメチルシリルオキシ基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１０は水素原子又はトリメチルシリル基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１５とＲ１６は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ１５とＲ１６とが合わさってエーテル基を形成する。Ｒ９とＲ１０は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ９とＲ１０は単結合を形成する。Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７は炭素数３〜３０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基であり、エーテル基を有していてもよい。Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、又は炭素数６〜２０のアリーレン基であり、エーテル基、エステル基、カーボネート基、カルバメート基、アミド基、ウレア基、ヒドロキシ基、及びチオウレタン結合から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９、Ｒ２３は水素原子又はメチル基である。Ｒ２０、Ｒ２２は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、又は炭素数２〜２０のアルケニレン基であり、エーテル基、エステル基、アリール基、及びアリーレン基から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ２１は単結合又は炭素数１〜１５の二価炭化水素基である。Ｘは単結合、又はエーテル基、エステル基、及びカーボネート基から選ばれる１種以上を有していてもよい炭素数１〜１２の二価炭化水素基である。Ｙ１、Ｙ２はどちらか一方が酸素原子でもう一方がＮＨ基である。ａ、ｄは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数で、ｂ＋ｃは１〜１００であり、ｅは１〜１００の整数、ｆは０〜２００の整数、ｇは０〜２００の整数である。）
このような（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を用いれば、伸縮性、強度、及び膜表面の撥水性が更に良好な伸縮性膜を形成することができる。
また、前記（Ｃ）成分として、２−オクタノン、２−ノナノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートから選ばれる１種以上を用いることが好ましい。
このような（Ｃ）成分は、上記のような範囲の沸点を有するものであるため、本発明の伸縮性膜の形成方法に特に好適である。
また、本発明では、伸縮性を有する導電性配線の両面が、上記の伸縮性膜で被覆されたものであり、前記伸縮性膜の（Ａ）成分が偏在した表面が外側、前記導電性配線が内側に配置されたものである伸縮性配線膜を提供する。
このような伸縮性配線膜であれば、導電性配線の両面が、上記の本発明の伸縮性膜で被覆されているため、伸縮性及び強度に優れるだけでなく、表面の撥水性にも優れたものとなる。
また、本発明では、伸縮性を有する導電性配線の両面を、上記の伸縮性膜の前記（Ａ）成分が偏在した表面が外側になるように２枚の伸縮性膜で挟み、加熱と加圧によってラミネートすることで、前記導電性配線の両面を被覆する伸縮性配線膜の製造方法を提供する。
このような製造方法であれば、導電性配線の両面を上記の本発明の伸縮性膜で被覆するため、伸縮性及び強度に優れるだけでなく、表面の撥水性にも優れた伸縮性配線膜を容易に製造することができる。
また、本発明では、伸縮性を有する導電性配線を基板上に置き、この上に（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物を塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜を形成することで、前記導電性配線の片面が被覆された配線被覆基板を製造する配線被覆基板の製造方法を提供する。
このような製造方法であれば、導電性配線の片面を、伸縮性及び強度に優れ、膜表面の撥水性にも優れた本発明の伸縮性膜で被覆した配線被覆基板を容易に製造することができる。また、このようにして製造した配線被覆基板は、伸縮性配線膜の製造に好適に用いることができる。
また、本発明では、上記の方法で製造した配線被覆基板の前記基板から前記片面が被覆された導電性配線を一旦剥がし、被覆した面を下にして前記基板上に置き、この上に前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する組成物を塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜を形成することで、前記導電性配線の両面が被覆された伸縮性配線膜を製造する伸縮性配線膜の製造方法を提供する。
このような製造方法であれば、導電性配線の両面を上記の本発明の伸縮性膜で被覆するため、伸縮性及び強度に優れるだけでなく、表面の撥水性にも優れた伸縮性配線膜を容易に製造することができる。
以上のように、本発明の伸縮性膜であれば、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜となる。また、膜表面に偏在する（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物が架橋しているため、シリコーンを表面にブリードアウトさせたものとは異なり、膜表面のシリコーンが剥がれ落ちて撥水性が低下する恐れがない。また、本発明の伸縮性膜の形成方法であれば、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜を容易に形成することができる。また、このような伸縮性膜で導電性配線の両面を被覆した本発明の伸縮性配線膜であれば、伸縮性及び強度に優れるだけでなく、表面の撥水性にも優れたものとなる。従って、本発明の伸縮性配線膜であれば、ウェアラブルデバイスにおいて、生体電極とセンサーを接続する配線部として特に好適に用いることができる。また、本発明の製造方法であれば、このような伸縮性膜を用いて、伸縮性配線膜及び配線被覆基板を容易に製造することができる。
本発明の伸縮性膜の一例を示す概略図である。なお、（ａ）は基板上に形成された伸縮性膜、（ｂ）は基板から剥がした（独立した）伸縮性膜を示す。 本発明の伸縮性膜の形成方法の一例を示すフロー図である。 本発明の伸縮性配線膜の製造方法（Ａ法）の一例を示すフロー図である。 本発明の伸縮性配線膜の製造方法の別の一例を示すフロー図である。 本発明の配線被覆基板の製造方法の一例を示すフロー図である。 本発明の伸縮性配線膜の製造方法（Ｂ法）の一例を示すフロー図である。
上述のように、ポリウレタンは十分な伸縮性と強度を有するが、撥水性が低く、加水分解によって強度と伸縮性が低下するという欠点があり、シリコーンは撥水性が高いが強度が低いという欠点があった。また、ウレタン結合とシロキサン結合の両方を有するシリコーンウレタンポリマーの硬化物では、強度や撥水性がポリウレタンとシリコーンの中間であり、ポリウレタン単独の強度、シリコーン単独の撥水性には及ばないという問題があった。このような背景から、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜及びその形成方法の開発が求められていた。
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を重ねた結果、撥水性に優れたシロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物と、伸縮性及び強度に優れたウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物の両方を含み、撥水性に優れたシロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物が膜の表面側に偏在する伸縮性膜であれば、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜となるため、ウェアラブルデバイスにおける伸縮配線の被覆膜として特に好適なものとなることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は、伸縮性膜であって、（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物の硬化物であり、前記（Ａ）成分が膜の表面側に偏在するものである伸縮性膜である。
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
＜伸縮性膜＞
本発明の伸縮性膜は、（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物の硬化物である。以下、本発明の伸縮性膜を形成するための組成物に含まれる各成分について、更に詳細に説明する。
［（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物］
本発明の伸縮性膜を形成するための組成物には、（Ａ）成分として、シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物が含まれる。ここで、シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物とは、シロキサン結合を有するメタクリレート化合物又はシロキサン結合を有するアクリレート化合物を示す。また、（Ａ）成分は、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂であることがより好ましい。
（Ａ）成分としては、下記一般式（１−１）、（１−２）、又は（１−３）で示される化合物が好ましい。このような（Ａ）成分であれば、伸縮性膜表面の撥水性が更に良好なものとなる。
Figure 2017206626
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は水素原子又はトリメチルシリルオキシ基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１０は水素原子又はトリメチルシリル基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１５とＲ１６は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ１５とＲ１６とが合わさってエーテル基を形成する。Ｒ９とＲ１０は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ９とＲ１０は単結合を形成する。Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７は炭素数３〜３０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基であり、エーテル基を有していてもよい。Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、又は炭素数６〜２０のアリーレン基であり、エーテル基、エステル基、カーボネート基、カルバメート基、アミド基、ウレア基、ヒドロキシ基、及びチオウレタン結合から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９は水素原子又はメチル基である。ａ、ｄは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数で、ｂ＋ｃは１〜１００である。）
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は水素原子又はトリメチルシリルオキシ基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、フェニル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、エチニル基等が特に好ましい。
Ｒ１０は水素原子又はトリメチルシリル基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１０としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、トリメチルシリル基等が特に好ましい。
なお、Ｒ１５とＲ１６は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ１５とＲ１６とが合わさってエーテル基を形成する。Ｒ９とＲ１０は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ９とＲ１０は単結合を形成する。
Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７は炭素数３〜３０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基であり、エーテル基を有していてもよい。Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７としては、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘプチレン基、シクロヘキシレン基等が特に好ましい。
Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、又は炭素数６〜２０のアリーレン基であり、エーテル基、エステル基、カーボネート基、カルバメート基、アミド基、ウレア基、ヒドロキシ基、及びチオウレタン結合から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８としては、以下に示される基等が特に好ましい。
Figure 2017206626
Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９は水素原子又はメチル基である。なお、Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９が水素原子であればアクリレート化合物となり、Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９がメチル基であればメタクリレート化合物となる。
ａ、ｄは１〜１００、好ましくは１〜３０の整数であり、ｂは０〜１００、好ましくは０〜３０の整数、ｃは１〜１００、好ましくは１〜１０の整数で、ｂ＋ｃは１〜１００、好ましくは２〜３０である。
上記一般式（１−１）で示されるシリコーン（メタ）アクリレート化合物は、両末端にヒドロキシ基を有するシロキサンと、無水（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸クロリドを反応させる方法；両末端にヒドロキシ基を有するシロキサンと、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法；両末端にイソシアネート基を有するシロキサンと、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法；両末端にカルボキシル基を有するシロキサンと、これと反応するエポキシ基やヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法；両末端にアミノ基を有するシロキサンと、イソシアネート基やヒドロキシ基やカルボキシル基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法等で得ることができる。
上記一般式（１−２）で示されるシリコーン（メタ）アクリレート化合物は、両末端ではなく側鎖にヒドロキシ基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基等の反応基を有するシロキサンを用いる以外は、上記の一般式（１−１）で示されるシリコーン（メタ）アクリレート化合物の合成方法と同様の方法で得ることができる。
上記一般式（１−３）で示されるシリコーン（メタ）アクリレート化合物は、両末端ではなく片末端にヒドロキシ基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基等の反応基を有するシロキサンを用いる以外は、上記の一般式（１−１）で示されるシリコーン（メタ）アクリレート化合物の合成方法と同様の方法で得ることができる。なお、一般式（１−３）で示されるシリコーン（メタ）アクリレート化合物としては、重合後に特開２００１−２７８９１８号公報の段落（００２３）中のＳｉ−２〜Ｓｉ−５に示される構造となるものを具体例として挙げることができる。
（Ａ）成分の割合は、後述の（Ｃ）成分を除いた組成物中の固形分の総量に対して１〜３５質量％の範囲であることが好ましく、１．２〜３０質量％の範囲であることがより好ましく、１．５〜２５質量％の範囲であることが更に好ましい。１質量％以上であれば、伸縮性膜の表面側に偏在する（Ａ）成分が十分な量となるため、伸縮性膜の表面の撥水性が更に良好なものとなる。また、３０質量％以下であれば、（Ａ）成分の量が適量であり、（Ｂ）成分の割合が低くなりすぎないため、伸縮性膜の強度がより良好なものとなるだけでなく、ベーク後の膜の表面に（Ａ）成分の凝集物が発生して斑模様の層分離構造となる恐れがない。
［（Ｂ）ウレタン結合を有する（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物］
本発明の伸縮性膜を形成するための組成物には、（Ｂ）成分として、ウレタン結合を有する（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物が含まれる。ここで、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物とは、ウレタン結合を有するメタクリレート化合物又はウレタン結合を有するアクリレート化合物を示す。また、（Ｂ）成分は、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂であることが好ましい。
（Ｂ）成分としては、下記一般式（２）で示される化合物が好ましい。このような（Ｂ）成分であれば、伸縮性膜の伸縮性及び強度が更に良好なものとなる。
Figure 2017206626
 （式中、Ｒ２３は水素原子又はメチル基である。Ｒ２０、Ｒ２２は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、又は炭素数２〜２０のアルケニレン基であり、エーテル基、エステル基、アリール基、及びアリーレン基から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ２１は単結合又は炭素数１〜１５の二価炭化水素基である。Ｘは単結合、又はエーテル基、エステル基、及びカーボネート基から選ばれる１種以上を有していてもよい炭素数１〜１２の二価炭化水素基である。Ｙ１、Ｙ２はどちらか一方が酸素原子でもう一方がＮＨ基である。ｅは１〜１００の整数、ｆは０〜２００の整数、ｇは０〜２００の整数である。）
Ｒ２３は水素原子又はメチル基である。なお、Ｒ２３が水素原子であればアクリレート化合物となり、Ｒ２３がメチル基であればメタクリレート化合物となる。
Ｒ２０、Ｒ２２は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、又は炭素数２〜２０のアルケニレン基であり、エーテル基、エステル基、アリール基、及びアリーレン基から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ２０、Ｒ２２としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が特に好ましい。
Ｒ２１は単結合又は炭素数１〜１５の二価炭化水素基である。Ｒ２１としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基等が特に好ましい。
Ｘは単結合、又はエーテル基、エステル基、及びカーボネート基から選ばれる１種以上を有していてもよい炭素数１〜１２の二価炭化水素基である。Ｘとしては、以下に示される基等が特に好ましい。
Figure 2017206626
Ｙ１、Ｙ２はどちらか一方が酸素原子でもう一方がＮＨ基である。なお、これは、式中のカルボニル基を挟む１対のＹ１、Ｙ２において、一方が酸素原子、もう一方がＮＨ基となることで、この部分がウレタン結合となることを意味している。
ｅは１〜１００、好ましくは１〜５０の整数、ｆは０〜２００、好ましくは０〜１００の整数、ｇは０〜２００、好ましくは０〜１００の整数である。
上記一般式（２）で示されるウレタン（メタ）アクリレート化合物は、両末端にヒドロキシ基を有するポリエーテル化合物と、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法；両末端にヒドロキシ基を有するポリエステル化合物と、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法；両末端にヒドロキシ基を有するポリカーボネート化合物と、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法等で得ることができる。また、この場合、ジイソシアネート化合物やジヒドロキシ化合物を鎖長延長として用いることもできる。
このときに用いられるイソシアネート化合物としては、下記のものを例示することができる。
Figure 2017206626
［（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤］
本発明の伸縮性膜を形成するための組成物には、（Ｃ）成分として、大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤が含まれる。
このような（Ｃ）成分として、具体的には、２−オクタノン、２−ノナノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートから選ばれる１種以上を用いることが好ましい。
後述するように、伸縮性膜の形成時には、例えば基板上に組成物を塗布した後、加熱によって（Ｃ）成分を膜表面から蒸発させる。このとき、（Ｃ）成分の膜表面側への移動に伴って（Ａ）成分が膜表面側に移動することで、膜表面側に（Ａ）成分が偏在した構造となる。従って、（Ｃ）成分の大気圧での沸点が１１５℃未満だと、（Ａ）成分が膜表面側に移動する前に（Ｃ）成分が蒸発して組成物塗布膜が固化してしまい、膜表面側に十分な量の（Ａ）成分が偏在しない。一方、（Ｃ）成分の大気圧での沸点が２００℃を超えると、十分に（Ｃ）成分が蒸発しないため、伸縮性膜中に多量の（Ｃ）成分が残存してしまう。このような伸縮性膜を生体センサー等のウェアラブルデバイス用の伸縮性膜として用いると、残存溶剤が徐々に蒸発して肌アレルギーを引き起こすリスクが高くなる。
また、（Ｃ）成分は、重合性二重結合を含まない（即ち、非架橋性の）有機溶剤であることが好ましい。このような有機溶剤であれば、膜表面に存在する重合性二重結合を有する有機溶剤が架橋して、シリコーン（メタ）アクリレートで膜表面が覆われなくなり、撥水性が低下することを防止することができる。
（Ｃ）成分の添加量としては、組成物中の固形分１００質量部に対して５〜１，０００質量部が好ましく、より好ましくは１０〜５００質量部、更に好ましくは２０〜３００質量部の範囲である。
［添加剤］
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させるために、光又は熱によってラジカルを発生させるラジカル発生剤を添加してもよい。なお、後述のように、本発明の伸縮性膜の形成方法では、加熱によって（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、（Ａ）成分を膜の表面側に移動（偏在）させるが、この（Ｃ）成分を蒸発させる際の加熱で（Ａ）成分及び（Ｂ）成分が硬化しない方が、（Ａ）成分の膜表面側への移動が起こりやすくなるため、好ましい。よって、組成物に光ラジカル発生剤を添加し、加熱後に光照射を行って（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させるのが好ましい。
光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン、４，４’−ジメトキシベンジル、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、４−ベンゾイル安息香酸、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２−ベンゾイル安息香酸メチル、２−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、１，４−ジベンゾイルベンゼン、２−エチルアントラキノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン、２−イソニトロソプロピオフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノン（ＢＡＰＯ）を挙げることができる。なお、光ラジカル発生剤の添加量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０．１〜５０質量部の範囲とすることが好ましい。
その他の添加剤としては、チオール系の架橋剤を添加することもできる。これにより、ラジカル架橋の効率を向上させることができる。
また、本発明の伸縮性膜は、撥水性に優れた（Ａ）成分と、伸縮性及び強度に優れた（Ｂ）成分の両方を含み、撥水性に優れた（Ａ）成分が膜の表面側（片面側）に偏在する伸縮性膜である。このような構造であるために、（Ｂ）成分によってポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度が達成され、かつ膜の表面側に偏在した（Ａ）成分によって膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜となる。
ここで、図１（ａ）、（ｂ）に本発明の伸縮性膜の一例を示す。図１（ａ）の伸縮性膜１は、基板２上に形成された伸縮性膜１である。この伸縮性膜１は、上述の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する組成物の硬化物であり、（Ａ）成分が膜の表面側に偏在するものである。また、図１（ｂ）の伸縮性膜１’は、図１（ａ）の基板２上に形成された伸縮性膜１から、基板２を剥がしたものである。このように、本発明の伸縮性膜は、基板等の上に形成された伸縮性膜であってもよいし、独立した伸縮性膜であってもよい。なお、図１（ａ）、（ｂ）では、（Ａ）成分の分布を濃淡で模式的に示しており、色の濃い表面側に（Ａ）成分が偏在している。
以上説明したような、本発明の伸縮性膜であれば、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜となる。また、膜表面に偏在する（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物が架橋しているため、シリコーンを表面にブリードアウトさせたものとは異なり、膜表面のシリコーンが剥がれ落ちて撥水性が低下する恐れがない。
＜伸縮性膜の形成方法＞
また、本発明では、伸縮性膜を形成する方法であって、（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物を基板上に塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させる伸縮性膜の形成方法を提供する。
なお、組成物としては、上述の伸縮性膜についての説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。
硬化後の膜を後に一旦基板から剥がす必要がある場合には、基板として剥離性が高い基板を用いることが好ましく、テフロン（登録商標）やＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）の様なフッ素系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等の表面エネルギーが低い樹脂で表面が覆われた基板が特に好ましい。
組成物を基板上に塗布する方法としては、例えば、スピンコート、バーコート、ロールコート、フローコート、ディップコート、スプレーコート、ドクターコート等が挙げられる。また、塗布膜厚が１μｍ〜２ｍｍとなるように塗布することが好ましい。
組成物を基板上に塗布した後の加熱は、例えば、ホットプレートやオーブン中あるいは遠赤外線の照射によって行うことができ、加熱条件は、３０〜１５０℃、１０秒〜３０分間が好ましく、５０〜１２０℃、３０秒〜２０分間がより好ましい。ベーク環境は大気中でも不活性ガス中でも真空中でもかまわない。
この加熱によって、（Ｃ）成分は組成物塗布膜の内部から膜の表面側に移動し、膜表面から蒸発する。このとき、これに伴って（Ａ）成分の膜表面側への移動も起こる。（Ｃ）成分の沸点が１１５℃未満だと、（Ａ）成分の膜表面側への移動が起こる前に（Ｃ）成分が蒸発しきって組成物塗布膜が固化してしまい、膜の表面側に偏在する（Ａ）成分の割合が低下し、結果として十分な撥水性を得ることができなくなる。一方、（Ｃ）成分の沸点が２００℃を超えると、（Ｃ）成分が蒸発しにくいために組成物塗布膜が固化しにくくなるだけでなく、硬化後の伸縮性膜に（Ｃ）成分が多量に残存しやすくなる。（Ｃ）成分が伸縮性膜に多量に残存すると、残存した（Ｃ）成分が徐々に揮発して肌に対する刺激となる恐れがあるため、肌に接触するウェアラブルデバイスの部品としては好ましくない。
加熱後の光照射は、波長２００〜５００ｎｍの光で行うことが好ましく、光源としては、例えば、ハロゲンランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー、ＬＥＤ等を用いることができる。また、電子ビームの照射であってもよい。照射量は、１ｍＪ／ｃｍ２〜１００Ｊ／ｃｍ２の範囲とすることが好ましい。これによって（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の架橋反応が行われ、組成物塗布膜が硬化して、伸縮性膜となる。
図２（ａ）〜（ｄ）に、本発明の伸縮性膜の形成方法の一例のフロー図を示す。図２（ａ）〜（ｄ）に示される伸縮性膜の形成方法では、まず、上述の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する組成物を基板２上に塗布して組成物塗布膜３を形成する（図２（ａ））。次に、加熱によって（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させることで、（Ａ）成分が偏在した塗布膜４とする（図２（ｂ））。その後、光照射によって（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させることで、伸縮性膜１を形成する（図２（ｃ））。なお、必要に応じて、伸縮性膜１を基板２から剥がして、独立した伸縮性膜１’としてもよい（図２（ｄ））。
以上説明したような、本発明の伸縮性膜の形成方法であれば、ポリウレタンと同程度の優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面はシリコーンと同程度の優れた撥水性を有する伸縮性膜を容易に形成することができる。
＜伸縮性配線膜＞
また、本発明では、伸縮性を有する導電性配線の両面が、上述の本発明の伸縮性膜で被覆されたものであり、前記伸縮性膜の（Ａ）成分が偏在した表面が外側、前記導電性配線が内側に配置されたものである伸縮性配線膜を提供する。
伸縮性を有する導電性配線としては、特に限定されないが、例えば、銀配線等を好適に用いることができる。
このような本発明の伸縮性配線膜であれば、伸縮性及び強度に優れるだけでなく、表面の撥水性にも優れたものとなる。従って、本発明の伸縮性配線膜であれば、ウェアラブルデバイスにおいて、生体電極とセンサーを接続する配線部として特に好適に用いることができる。
＜伸縮性配線膜の製造方法：Ａ法＞
また、本発明では、伸縮性を有する導電性配線の両面を、上述の本発明の伸縮性膜の前記（Ａ）成分が偏在した表面が外側になるように２枚の伸縮性膜で挟み、加熱と加圧によってラミネートすることで、前記導電性配線の両面を被覆する伸縮性配線膜の製造方法を提供する。以下、この方法をＡ法と称する。
なお、伸縮性を有する導電性配線としては、上述の伸縮性配線膜についての説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。
図３（ａ）〜（ｃ）に、本発明の伸縮性配線膜の製造方法（Ａ法）の一例のフロー図を示す。図３（ａ）〜（ｃ）に示されるＡ法では、まず、伸縮性を有する導電性配線５の両面を、伸縮性膜１’の（Ａ）成分が偏在した表面が外側になるように２枚の伸縮性膜１’で挟む（図３（ａ））。次に、加熱と加圧によってラミネートする（図３（ｂ））。これにより、導電性配線５の両面が伸縮性膜１’で被覆された伸縮性配線膜６を製造する（図３（ｃ））。
また、本発明の伸縮性配線膜の製造方法は、図４（ａ）〜（ｄ）に示されるような方法であってもよい。図４（ａ）〜（ｄ）に示される方法では、まず、伸縮性を有する導電性配線５を基板２上に置く（図４（ａ））。次に、導電性配線５の片面を、伸縮性膜１’の（Ａ）成分が偏在した表面が外側になるようにして、加熱と加圧によってラミネートする（図４（ｂ））。基板２を剥がした後、導電性配線５の反対側の面を、伸縮性膜１’の（Ａ）成分が偏在した表面が外側になるようにして、加熱と加圧によってラミネートする（図４（ｃ））。これにより、導電性配線５の両面が伸縮性膜１’で被覆された伸縮性配線膜６を製造する（図４（ｄ））。
このような方法でも、本発明の伸縮性膜を用いたラミネーションによって伸縮性配線膜を容易に製造することができるが、上記のＡ法であれば、図４（ｂ）と図４（ｃ）のラミネート加工を一度に行うことができ、ラミネーションステップが簡略化されるため、より好ましい。
ラミネーションは、加熱と加圧によって中心部材の形状に合わせてフィルム状の樹脂で覆う簡便な方法であり、多くの分野で利用されている。シリコーン樹脂だけで膜を形成すると、強度が低いために独立した膜（フィルム）にすることができなかったが、本発明の伸縮性膜では、膜成分の殆どを高強度で伸縮性のウレタン樹脂（（Ｂ）成分）とし、表面側のごく僅かな部分だけをシリコーン樹脂（（Ａ）成分）とすることができるため、ウレタン樹脂と同程度の優れた強度を有する膜とすることができる。このため基板から剥がして独立したフィルムにすることができ、ラミネート加工に適用することが可能である。
なお、ラミネート加工時の温度は、特に限定されないが、５０〜１５０℃程度が好ましく、ラミネート加工時の圧力は、特に限定されないが、０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ２程度が好ましい。
＜配線被覆基板の製造方法＞
本発明では、伸縮性を有する導電性配線を基板上に置き、この上に（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物を塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜を形成することで、前記導電性配線の片面が被覆された配線被覆基板を製造する配線被覆基板の製造方法を提供する。
なお、組成物としては、上述の伸縮性膜についての説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。また、基板としては、上述の伸縮性膜の形成方法についての説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。また、伸縮性を有する導電性配線としては、上述の伸縮性配線膜についての説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。
また、（Ｃ）成分を蒸発させる際の加熱条件や、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させる際の光照射条件は、上述の伸縮性膜の形成方法についての説明で挙げた条件と同様の条件を適用することができる。
図５（ａ）〜（ｅ）に、本発明の配線被覆基板の製造方法の一例のフロー図を示す。図５（ａ）〜（ｅ）に示される配線被覆基板の製造方法では、まず、伸縮性を有する導電性配線５を基板２上に置く（図５（ａ））。次に、この上に上述の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する組成物を塗布して組成物塗布膜３を形成する（図５（ｂ））。次に、加熱によって（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させることで、（Ａ）成分が偏在した塗布膜４とする（図５（ｃ））。その後、光照射によって（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜１を形成する（図５（ｄ））。これにより、基板２上の導電性配線５の片面が伸縮性膜１で被覆された配線被覆基板７を製造する（図５（ｅ））。
このような製造方法であれば、導電性配線の片面を、伸縮性及び強度に優れ、膜表面の撥水性にも優れた本発明の伸縮性膜で被覆した配線被覆基板を容易に製造することができる。また、このようにして製造した配線被覆基板は、伸縮性配線膜の製造に好適に用いることができる。
＜伸縮性配線膜の製造方法：Ｂ法＞
本発明では、上記の方法で製造した配線被覆基板の前記基板から前記片面が被覆された導電性配線を一旦剥がし、被覆した面を下にして前記基板上に置き、この上に前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する組成物を塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜を形成することで、前記導電性配線の両面が被覆された伸縮性配線膜を製造する伸縮性配線膜の製造方法を提供する。以下、この方法をＢ法と称する。
なお、組成物としては、上述の伸縮性膜についての説明で挙げたものと同様のものを使用することができる。
また、（Ｃ）成分を蒸発させる際の加熱条件や、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させる際の光照射条件は、上述の伸縮性膜の形成方法についての説明で挙げた条件と同様の条件を適用することができる。
図６（ａ）〜（ｆ）に、本発明の伸縮性配線膜の製造方法（Ｂ法）の一例のフロー図を示す。図６（ａ）〜（ｆ）に示されるＢ法では、まず、図５（ａ）〜（ｅ）に示される方法で製造した配線被覆基板７の基板２から片面が伸縮性膜１で被覆された導電性配線５を一旦剥がす（図６（ａ））。次に、これを被覆した面（即ち、伸縮性膜１側）を下にして基板２上に置く（図６（ｂ））。次に、この上に上述の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有する組成物を塗布して組成物塗布膜３を形成する（図６（ｃ））。次に、加熱によって（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させることで、（Ａ）成分が偏在した塗布膜４とする（図６（ｄ））。その後、光照射によって（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜１を形成する（図６（ｅ））。これにより、導電性配線５の両面が伸縮性膜１で被覆された伸縮性配線膜６を製造する（図６（ｆ））。
このような製造方法であれば、導電性配線の両面を上記の本発明の伸縮性膜で被覆するため、伸縮性及び強度に優れるだけでなく、表面の撥水性にも優れた伸縮性配線膜を容易に製造することができる。
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、重量平均分子量（Ｍｗ）はＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量を示す。
伸縮性膜形成用組成物に（Ａ）成分として配合したシリコーン（メタ）アクリレート１〜１５を以下に示す。
Figure 2017206626
 （式中の繰り返し数は平均値を示す。）
Figure 2017206626
 （式中の繰り返し数は平均値を示す。）
Figure 2017206626
 （式中の繰り返し数は平均値を示す。）
シリコーン（メタ）アクリレート１：
分子量（Ｍｗ）＝１，９４０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８
シリコーン（メタ）アクリレート２：
分子量（Ｍｗ）＝１，９８０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６
シリコーン（メタ）アクリレート３：
分子量（Ｍｗ）＝１，９７０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６
シリコーン（メタ）アクリレート４：
分子量（Ｍｗ）＝１，８４０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９
シリコーン（メタ）アクリレート５：
分子量（Ｍｗ）＝１，７６０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６
シリコーン（メタ）アクリレート６：
分子量（Ｍｗ）＝２，０１０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．５
シリコーン（メタ）アクリレート７：
分子量（Ｍｗ）＝１，９５０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８
シリコーン（メタ）アクリレート８：
分子量（Ｍｗ）＝１，６００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６
シリコーン（メタ）アクリレート９：
分子量（式量）＝４２２
シリコーン（メタ）アクリレート１０：
分子量（式量）＝４０８
シリコーン（メタ）アクリレート１１：
分子量（Ｍｗ）＝１，３５０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．５
シリコーン（メタ）アクリレート１２：
分子量（Ｍｗ）＝１，４００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．４
シリコーン（メタ）アクリレート１３：
分子量（式量）＝８６０
シリコーン（メタ）アクリレート１４：
分子量（Ｍｗ）＝１，８００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．５
シリコーン（メタ）アクリレート１５：
分子量（Ｍｗ）＝１，６００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．６
伸縮性膜形成用組成物に（Ｂ）成分として配合したウレタン（メタ）アクリレート１〜１４を以下に示す。
Figure 2017206626
 （式中の繰り返し数は平均値を示す。）
Figure 2017206626
 （式中の繰り返し数は平均値を示す。）
ウレタン（メタ）アクリレート１：
分子量（Ｍｗ）＝２，６００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８
ウレタン（メタ）アクリレート２：
分子量（Ｍｗ）＝３，８００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．７
ウレタン（メタ）アクリレート３：
分子量（Ｍｗ）＝５，４００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９
ウレタン（メタ）アクリレート４：
分子量（Ｍｗ）＝３，１００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．２
ウレタン（メタ）アクリレート５：
分子量（Ｍｗ）＝１，４５０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９
ウレタン（メタ）アクリレート６：
分子量（Ｍｗ）＝１，９８０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９
ウレタン（メタ）アクリレート７：
分子量（Ｍｗ）＝１，４８０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８
ウレタン（メタ）アクリレート８：
分子量（Ｍｗ）＝９，４００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．１
ウレタン（メタ）アクリレート９：
分子量（Ｍｗ）＝６，７５０、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．８
ウレタン（メタ）アクリレート１０：
分子量（Ｍｗ）＝８，１００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．５
ウレタン（メタ）アクリレート１１：
分子量（Ｍｗ）＝１１，５００、分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）＝２．６
ウレタン（メタ）アクリレート１２：
分子量（式量）＝４００
ウレタン（メタ）アクリレート１３：
分子量（式量）＝５０６
ウレタン（メタ）アクリレート１４：
分子量（式量）＝４８８
伸縮性膜形成用組成物に添加剤として配合した光ラジカル発生剤１〜３を以下に示す。
光ラジカル発生剤１：４，４’−ジメトキシベンジル
光ラジカル発生剤２：２，２−ジエトキシアセトフェノン
光ラジカル発生剤３：２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
伸縮性膜形成用組成物に（Ｃ）成分としてあるいはその代わりに配合した有機溶剤の大気圧での沸点を以下に示す。
２−ヘプタノン：１５１℃
２−オクタノン：１７３℃
シクロヘキサノン：１５６℃
酢酸アミル：１４９℃
酢酸イソアミル：１４２℃
酢酸ブチル：１２６℃
ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）：１４６℃
ＰＧＭＥ（プロピレングリコールモノメチルエーテル）：１２０℃
エタノール：７８℃
２−エチルへキシルアクリレート：２１４℃
１−ビニル−２−ピロリドン：９０℃
［実施例１〜１６、比較例１〜４］
表１に記載の組成で、シリコーン（メタ）アクリレート１〜１５、ウレタン（メタ）アクリレート１〜１４、光ラジカル発生剤１〜３、及び有機溶剤を混合し、伸縮性膜形成用組成物（Ｓｏｌ １〜１６、比較Ｓｏｌ １〜４）を調製した。テフロン（登録商標）で表面が覆われた基板上に、調製した伸縮性膜形成用組成物をバーコート法で塗布し、１１０℃で２０分間ベークした後に、窒素雰囲気下１，０００Ｗのキセノンランプで１Ｊ／ｃｍ２の光を照射して組成物塗布膜を硬化させ、基板上に厚み１００μｍの伸縮性膜（Ｆｉｌｍ １〜１６、比較Ｆｉｌｍ １〜４）を形成した。
Figure 2017206626
（接触角・伸縮率・強度の測定）
伸縮性膜表面の水の接触角を測定した後に伸縮性膜を基板から剥がし、ＪＩＳ Ｃ ２１５１に準じた方法で伸縮率と強度を測定した。結果を表２に示す。
Figure 2017206626
表２に示されるように、シリコーン（メタ）アクリレート１〜１５（（Ａ）成分）、ウレタン（メタ）アクリレート１〜１４（（Ｂ）成分）、及び大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤（（Ｃ）成分）を含有する伸縮性膜形成用組成物（Ｓｏｌ １〜１６）を用いて伸縮性膜（Ｆｉｌｍ １〜１６）を形成した実施例１〜１６では、組成物塗布膜形成後のベークによって（Ｃ）成分が蒸発するとともに、（Ａ）成分が膜の表面側に偏在し、その状態で（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を光照射によって硬化させたため、優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れた伸縮性膜が得られた。
一方、（Ｂ）成分を含まない伸縮性膜形成用組成物（比較Ｓｏｌ １）を用いて伸縮性膜（比較Ｆｉｌｍ １）を形成した比較例１では、（Ａ）成分を含むために撥水性は優れていたものの、（Ｂ）成分を含まないために伸縮性及び強度が低く、伸縮率と強度は測定できなかった。また、（Ａ）成分を含まない伸縮性膜形成用組成物（比較Ｓｏｌ ２）を用いて伸縮性膜（比較Ｆｉｌｍ ２）を形成した比較例２では、（Ｂ）成分を含むために伸縮性及び強度は優れていたものの、（Ａ）成分を含まないために撥水性が実施例１〜１６に比べて劣っていた。（Ｃ）成分の代わりに大気圧での沸点が１１５℃未満あるいは２００℃を超える有機溶剤を配合した伸縮性膜形成用組成物（比較Ｓｏｌ ３、４）を用いて伸縮性膜（比較Ｆｉｌｍ ３、４）を形成した比較例３、４では、組成物塗布膜形成後のベークによって（Ａ）成分が膜の表面側に偏在しなかったため、強度及び撥水性が実施例１〜１６に比べて劣っていた。
以上のことから、本発明の伸縮性膜であれば、優れた伸縮性と強度を有し、かつ膜表面の撥水性にも優れるため、ウェアラブルデバイス等に用いられる伸縮性の配線を覆う膜として優れた特性を有していることが明らかとなった。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
１…伸縮性膜（基板上に形成された膜）、 １’…伸縮性膜（独立した膜）、
２…基板、 ３…組成物塗布膜、 ４…（Ａ）成分が偏在した塗布膜、
５…導電性配線、 ６…伸縮性配線膜、 ７…配線被覆基板。
光ラジカル発生剤としては、アセトフェノン、４，４’−ジメトキシベンジル、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、４−ベンゾイル安息香酸、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２−ベンゾイル安息香酸メチル、２−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−４’−モルホリノブチロフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、１，４−ジベンゾイルベンゼン、２−エチルアントラキノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４’−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン、２−イソニトロソプロピオフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノン（ＢＡＰＯ）を挙げることができる。なお、光ラジカル発生剤の添加量は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００質量部に対して０．１〜５０質量部の範囲とすることが好ましい。

Claims (14)

  1. 伸縮性膜であって、
    （Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物の硬化物であり、前記（Ａ）成分が膜の表面側に偏在するものであることを特徴とする伸縮性膜。
  2. 前記（Ａ）成分の割合が、前記（Ｃ）成分を除いた組成物中の固形分の総量に対して１〜３５質量％の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の伸縮性膜。
  3. 前記（Ａ）成分が、下記一般式（１−１）、（１−２）、又は（１−３）で示される化合物であり、前記（Ｂ）成分が、下記一般式（２）で示される化合物であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の伸縮性膜。
    Figure 2017206626
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は水素原子又はトリメチルシリルオキシ基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１０は水素原子又はトリメチルシリル基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１５とＲ１６は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ１５とＲ１６とが合わさってエーテル基を形成する。Ｒ９とＲ１０は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ９とＲ１０は単結合を形成する。Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７は炭素数３〜３０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基であり、エーテル基を有していてもよい。Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、又は炭素数６〜２０のアリーレン基であり、エーテル基、エステル基、カーボネート基、カルバメート基、アミド基、ウレア基、ヒドロキシ基、及びチオウレタン結合から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９、Ｒ２３は水素原子又はメチル基である。Ｒ２０、Ｒ２２は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、又は炭素数２〜２０のアルケニレン基であり、エーテル基、エステル基、アリール基、及びアリーレン基から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ２１は単結合又は炭素数１〜１５の二価炭化水素基である。Ｘは単結合、又はエーテル基、エステル基、及びカーボネート基から選ばれる１種以上を有していてもよい炭素数１〜１２の二価炭化水素基である。Ｙ１、Ｙ２はどちらか一方が酸素原子でもう一方がＮＨ基である。ａ、ｄは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数で、ｂ＋ｃは１〜１００であり、ｅは１〜１００の整数、ｆは０〜２００の整数、ｇは０〜２００の整数である。）
  4. 前記（Ｃ）成分が、２−オクタノン、２−ノナノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートから選ばれる１種以上であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の伸縮性膜。
  5. 前記伸縮性膜は、ＪＩＳ Ｃ ２１５１に規定される伸縮率が４０〜３００％のものであることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の伸縮性膜。
  6. 前記伸縮性膜が、伸縮性を有する導電性配線を覆う膜として用いられるものであることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の伸縮性膜。
  7. 伸縮性膜を形成する方法であって、
    （Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物を基板上に塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させることを特徴とする伸縮性膜の形成方法。
  8. 前記（Ａ）成分の割合を、前記（Ｃ）成分を除いた組成物中の固形分の総量に対して１〜３５質量％の範囲とすることを特徴とする請求項７に記載の伸縮性膜の形成方法。
  9. 前記（Ａ）成分として、下記一般式（１−１）、（１−２）、又は（１−３）で示される化合物を用い、前記（Ｂ）成分として、下記一般式（２）で示される化合物を用いることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の伸縮性膜の形成方法。
    Figure 2017206626
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６は水素原子又はトリメチルシリルオキシ基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１０は水素原子又はトリメチルシリル基、あるいは炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のアルキニル基であり、これらがヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、及びハロゲン原子から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ１５とＲ１６は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ１５とＲ１６とが合わさってエーテル基を形成する。Ｒ９とＲ１０は結合して環を形成してもよく、この場合はＲ９とＲ１０は単結合を形成する。Ｒ３、Ｒ１１、Ｒ１７は炭素数３〜３０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基であり、エーテル基を有していてもよい。Ｒ４、Ｒ１２、Ｒ１８は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、又は炭素数６〜２０のアリーレン基であり、エーテル基、エステル基、カーボネート基、カルバメート基、アミド基、ウレア基、ヒドロキシ基、及びチオウレタン結合から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ５、Ｒ１３、Ｒ１９、Ｒ２３は水素原子又はメチル基である。Ｒ２０、Ｒ２２は単結合、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、又は炭素数２〜２０のアルケニレン基であり、エーテル基、エステル基、アリール基、及びアリーレン基から選ばれる１種以上を有していてもよい。Ｒ２１は単結合又は炭素数１〜１５の二価炭化水素基である。Ｘは単結合、又はエーテル基、エステル基、及びカーボネート基から選ばれる１種以上を有していてもよい炭素数１〜１２の二価炭化水素基である。Ｙ１、Ｙ２はどちらか一方が酸素原子でもう一方がＮＨ基である。ａ、ｄは１〜１００の整数であり、ｂは０〜１００の整数、ｃは１〜１００の整数で、ｂ＋ｃは１〜１００であり、ｅは１〜１００の整数、ｆは０〜２００の整数、ｇは０〜２００の整数である。）
  10. 前記（Ｃ）成分として、２−オクタノン、２−ノナノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン、アセトフェノン、メチルアセトフェノン、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、酢酸ブテニル、酢酸イソアミル、酢酸フェニル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、蟻酸イソブチル、蟻酸アミル、蟻酸イソアミル、吉草酸メチル、ペンテン酸メチル、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートから選ばれる１種以上を用いることを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか一項に記載の伸縮性膜の形成方法。
  11. 伸縮性を有する導電性配線の両面が、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の伸縮性膜で被覆されたものであり、前記伸縮性膜の（Ａ）成分が偏在した表面が外側、前記導電性配線が内側に配置されたものであることを特徴とする伸縮性配線膜。
  12. 伸縮性を有する導電性配線の両面を、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の伸縮性膜の前記（Ａ）成分が偏在した表面が外側になるように２枚の伸縮性膜で挟み、加熱と加圧によってラミネートすることで、前記導電性配線の両面を被覆することを特徴とする伸縮性配線膜の製造方法。
  13. 伸縮性を有する導電性配線を基板上に置き、この上に（Ａ）シロキサン結合を有する（メタ）アクリレート化合物、（Ｂ）ウレタン結合を有する前記（Ａ）成分以外の（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｃ）大気圧での沸点が１１５〜２００℃の範囲の有機溶剤を含有する組成物を塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜を形成することで、前記導電性配線の片面が被覆された配線被覆基板を製造することを特徴とする配線被覆基板の製造方法。
  14. 請求項１３に記載の方法で製造した配線被覆基板の前記基板から前記片面が被覆された導電性配線を一旦剥がし、被覆した面を下にして前記基板上に置き、この上に前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する組成物を塗布し、加熱によって前記（Ｃ）成分を蒸発させるとともに、前記（Ａ）成分を膜の表面側に偏在させ、その後、光照射によって前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分を硬化させて伸縮性膜を形成することで、前記導電性配線の両面が被覆された伸縮性配線膜を製造することを特徴とする伸縮性配線膜の製造方法。
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