JP2013136662A - 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 - Google Patents
片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013136662A JP2013136662A JP2011287717A JP2011287717A JP2013136662A JP 2013136662 A JP2013136662 A JP 2013136662A JP 2011287717 A JP2011287717 A JP 2011287717A JP 2011287717 A JP2011287717 A JP 2011287717A JP 2013136662 A JP2013136662 A JP 2013136662A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- carbon atoms
- formula
- compound
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 0 CC(C)*(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound CC(C)*(c1ccccc1)c1ccccc1 0.000 description 1
Landscapes
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
Description
例えば、特開昭59−78236号公報(特許文献1)では、リチウムトリメチルシラノレートを重合開始剤に用いて、ヘキサメチルシクロトリシロキサンを開環重合させた後、3−(2−(メタ)アクリロキシエトキシ)プロピルジメチルクロロシランで反応末端をキャップすることにより、片末端(メタ)アクリル基を有するオルガノポリシロキサンを合成する方法が提案されている。
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜12のアラルキル基であり、R2はメチル基又はフェニル基である。)
で表されるシクロトリシロキサンをアニオンリビング重合し、重合末端を官能基含有ケイ素化合物にてキャップすることによって、目的とする片末端官能基含有オルガノポリシロキサンが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
〈1〉 下記式(1):
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜12のアラルキル基であり、R2はメチル基又はフェニル基である。)
で表されるシクロトリシロキサンをアニオンリビング重合し、重合末端を官能基含有ケイ素化合物にてキャップして得られる片末端官能基含有オルガノポリシロキサン。
〈2〉 下記式(2):
(式中、Aは分子内にヒドロシリル基、重合性不飽和基含有シリル基又はアルコキシシリル基を含む基、Xは炭素数1〜12のアルキル基、アリール基又はR3(CH3)2SiO−基(R3は炭素数1〜6のアルキル基もしくはフェニル基)であり、R1は炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜12のアラルキル基であり、R2はメチル基又はフェニル基であり、nは1〜1000の数である。)
で示される構造を有する片末端官能基含有オルガノポリシロキサン。
〈3〉 前記Aが下記式(3)−1〜(3)−3のいずれかで示される〈2〉に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサン。
−SiHR4R5: (3)−1
(式中、R4及びR5は、各々独立に炭素数1〜10の一価炭化水素基である。)
−SiR6 a(OR7)3-a: (3)−2
(式中、R6及びR7は、各々独立に炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、aは0〜2の整数である。)
−Si(CH3)2−(CH2)b−(OCO)cC(R8)=CH2: (3)−3
(式中、R8は、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、bは0〜10の整数、cは0又は1である。但し、cが1のとき、bは2〜10の整数である。)
〈4〉 下記式(1):
で表されるシクロトリシロキサンをアニオンリビング重合した後、重合末端を官能基含有ケイ素化合物にてキャップすることを特徴とする片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
〈5〉 重合末端をキャップする前記官能基含有ケイ素化合物が、下記式(5)−1〜(5)−3のいずれかで示される〈4〉に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
YSiHR4R5: (5)−1
(式中、R4及びR5は、各々独立に炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、Yはハロゲン原子である。)
YSi(CH3)2−(CH2)b−(OCO)cC(R8)=CH2: (5)−3
(式中、R8は、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、Yはハロゲン原子である。bは0〜10の整数、cは0又は1である。但し、cが1のとき、bは2〜10の整数である。)
〈6〉 前記アニオンリビング重合が、アルキルリチウム又はリチウムシラノレートを開始剤に用いて行われる〈4〉又は〈5〉に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
〈7〉 前記アルキルリチウムがn−ブチルリチウムである〈6〉に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
〈8〉 前記アニオンリビング重合が、ケイ素五配位化合物を触媒とし、R’3SiOH(R’は各々独立に炭素数1〜6のアルキル基又はフェノール基である。)で表されるシラノールを開始剤に用いて行われる〈5〉に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
〈9〉 前記ケイ素五配位化合物が、下記式(4)で示されるものである〈8〉に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
(式中、R9は置換又は非置換の炭素数1〜12の一価炭化水素基、MはLi、Na、K、NH4又はC6H5CH2N(CH3)3 である。)
本発明の第一の発明は、下記式(1):
(式中、R1は炭素数1〜12、好ましくは1〜8、特に好ましくは1〜4のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜12のアラルキル基、R2はメチル基又はフェニル基である。)
で表されるシクロトリシロキサンをアニオンリビング重合し、重合末端を官能基含有ケイ素化合物にてキャップして得られる片末端官能基含有オルガノポリシロキサンである。
前記R1で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等が挙げられ、さらに代表的なものはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基であり、特にメチル基が好ましい。
前記R1のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等が挙げられ、ベンジル基、フェニルプロピル基が好ましい。
前記R1のハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。
(式中、Aは分子内にヒドロシリル基、重合性不飽和基含有シリル基又はアルコキシシリル基を含む基、Xは炭素数1〜12、好ましくは1〜8のアルキル基、アリール基又はR3(CH3)2SiO−基(R3は炭素数1〜6のアルキル基もしくはフェニル基)であり、R1は炭素数1〜12、好ましくは1〜8、特に好ましくは1〜4のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、又は炭素数7〜12のアラルキル基であり、R2はメチル基又はフェニル基であり、nは1〜1000、好ましくは1〜300、より好ましくは2〜200、特に好ましくは3〜100の数である。)
で示される構造を有する片末端官能基含有オルガノポリシロキサンであることが好ましい。
前記Xのアリール基としては、フェニル基、トリル基、ナフチル基が挙げられ、これらの中では特にフェニル基が好ましい。
前記R3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、特に好ましくはメチル基である。
−SiHR4R5 : (3)−1
(式中、R4及びR5は、各々独立に炭素数1〜10、特に1〜8の一価炭化水素基である。)
の構造であることが好ましい。
−SiR6 a(OR7)3-a : (3)−2
(式中、R6及びR7は、各々独立に炭素数1〜10、好ましくは1〜6の一価炭化水素基であり、aは0〜2の整数である。)
の構造であることが好ましい。
−Si(CH3)2−(CH2)b−(OCO)cC(R8)=CH2 : (3)−3
(式中、R8は、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、bは0〜10の整数、cは0又は1である。但し、cが1のとき、bは2〜10の整数である。)
の構造であることが好ましい。
(式中、R1は炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12のアリール基、又は炭素数7〜12のアラルキル基であり、R2はメチル基又はフェニル基である。)
で表されるシクロトリシロキサンをアニオンリビング重合した後、重合末端を官能基含有ケイ素化合物にてキャップして片末端官能基含有オルガノポリシロキサンを得る製造方法である。
また、アルキルリチウム又はリチウムシラノレートの添加量は特に限定されず、アニオンリビング重合を行うのに十分な量であればよい。
前記アニオンリビング重合を行うもう一つの形態としては、ケイ素五配位化合物を触媒とし、R’3SiOH(R’は各々独立に炭素数1〜6のアルキル基又はフェノール基である。)で表されるシラノールを開始剤に用いる方法が好ましい。このシラノールの使用量は、式(1)で示されるシクロトリシロキサン1モルに対し、0.0001〜1モル、特に0.001〜0.5モルであることが好ましい。
(式中、R9は置換又は非置換の炭素数1〜12、好ましくは1〜8の一価炭化水素基、MはLi、Na、K、NH4又はC6H5CH2N(CH3)3である。)
の構造で示される化合物が好ましい。
R9としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、メチルベンジル基等のアラルキル基、クロロメチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。
YSiHR4R5: (5)−1
(式中、R4及びR5は、各々独立に炭素数1〜10、特に1〜8の一価炭化水素基であり、Yはハロゲン原子である。)
(式中、R8は、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、Yはハロゲン原子である。bは0〜10の整数、cは0又は1である。但し、cが1のとき、bは2〜10の整数である。)
特許第3124910号公報を参考に合成を行った。
すなわち、冷却管、温度計、滴下ロート、攪拌機を備えたガラス製反応器中に、トリエチルアミン320g(3.16モル)及びトルエン1000gを投入し、これらが均一になるように攪拌した。次に、フラスコの内容物の温度を0〜10℃に保ちながら、フラスコ内に3,5−ジヒドロキシ−1,1,1,3,5,7,7,7−オクタメチルシロキサン500g(1.58モル)をメチルエチルケトン400gに溶解した溶液、及びジメチルジクロロシラン204g(1.58モル)をトルエン700gに溶解した溶液を同時に3時間かけて滴下した。滴下終了後、フラスコの内容物を1時間攪拌し、得られた反応混合物を水洗し、64℃(沸点)/2.5Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の化合物Aを486g得た(収率:80%)。
特許第3124910号公報を参考に合成を行った。
すなわち、冷却管、温度計、滴下ロート、攪拌機を備えたガラス製反応器中にピリジン100g(1.28モル)及びトルエン500gを投入し、これらが均一になるように攪拌した。次に、フラスコの内容物の温度を0〜10℃に保ちながら、フラスコ内に3,5−ジヒドロキシ−1,1,1,3,5,7,7,7−オクタメチルシロキサンで表されるシラノール基含有オルガノシロキサン200g(0.64モル)をトルエン500gに溶解した溶液、及びジフェニルジクロロシラン161g(0.64モル)をトルエン500gに溶解した溶液を同時に30分間かけて滴下した。滴下終了後、フラスコの内容物を15分間攪拌し、得られた反応混合物を水洗し、150℃(沸点)/1Torrで減圧蒸留して無色透明の液状の化合物Bを215g得た(収率:70%)。
冷却管、温度計、滴下ロート、攪拌機を取り付けたガラス製反応器中に、ヘキサン440g、ヘキサメチルシクロトリシロキサン178g(0.8モル)を仕込んで溶解させ、窒素雰囲気下、0℃にてn−ブチルリチウム(15質量%ヘキサン溶液)342g(0.8モル)を滴下した。滴下後、徐々に温度を常温(25℃)にもどし、更に1時間攪拌することによって、下記式で示されるリチウムシラノレート(シロキシリチウムシラノレート)化合物C溶液960g(0.8モル)を得た。
冷却管、温度計、滴下ロート、攪拌機を取り付けたガラス製反応器中に、化合物A 371g(1モル)とトルエン100gを混合し、1時間共沸脱水を行った。次いで、この系を5℃まで冷却し、n−ブチルリチウム(15質量%ヘキサン溶液)42.7g(0.1モル)を滴下した後、温度を常温まで上げ、1時間攪拌した。
攪拌後、溶液を15℃まで冷却し、ジメチルホルムアミド8gを添加し、重合を行った。6時間反応後、トリエチルアミン8.1gを添加し、更に3−メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン26.5g(0.12モル)を添加した後、徐々に温度を常温にもどし、3時間の追加攪拌を行った。
その後、メタノール200gを添加混合して1時間攪拌した後、1時間の静置をへてシロキサン層を分離した。
分離したシロキサン層は、更にメタノール300gを用いて洗浄(混合攪拌:30分間、静置:3時間)した後、140℃/6torrの条件で減圧ストリップを行った。収量は319gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):4900
1H NMR:6.09ppm(1H,s),5.53ppm(1H,s),
4.09ppm(2H,t),1.93ppm(3H,s),
1.65〜1.74ppm(2H,m),
1.26〜1.34ppm(4H,m),
0.84〜0.89ppm(3H,m),
0.44〜0.59(4H,m),
−0.18〜0.32ppm(281H,m)
実施例1において、化合物Aの量を1484g(4モル)に変更し、洗浄に用いるメタノールの量を1200gにした以外は、実施例1と同様にして反応を行った。収量は1226gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):18000
1H NMR:6.09ppm(1H,s),5.53ppm(1H,s),
4.09ppm(2H,t),1.93ppm(3H,s),
1.65〜1.74ppm(2H,m),
1.26〜1.34ppm(4H,m),
0.84〜0.89ppm(3H,m),
0.44〜0.59(4H,m),
−0.18〜0.32ppm(1069H,m)
実施例1において、末端キャップをジメチルクロロシラン11.4g(0.12モル)で行った以外は、実施例1と同様にして反応を行った。収量は352gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):4800
1H NMR:4.65〜4.71ppm(1H,m),
1.26〜1.34ppm(4H,m),
0.84〜0.89ppm(3H, m),
0.50〜0.59(2H,m),
−0.18〜0.32ppm(289H,m)
冷却管、温度計、攪拌機を取り付けたガラス製反応器中に、テトラヒドロフラン80g、化合物A 74.0g(0.2モル)を仕込み、窒素雰囲気下10℃に保温した。そこに、開始剤としてリチウムトリメチルシラノレート1.92g(0.02モル)を添加し、重合を行った。6時間反応後、トリエチルアミン1.6gを添加し、更にジメチルクロロシラン2.3g(0.024モル)を添加した後、徐々に温度を常温にもどし、3時間の追加攪拌を行った。
その後、メタノール40gを添加混合して更に1時間攪拌した後、1時間の静置をへてシロキサン層を分離した。
分離したシロキサン層は、更にメタノール60gを用いて洗浄(混合攪拌:30分間、静置:3時間)した後、140℃/6torrの条件で減圧ストリップを行った。収量は62.1gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):5000
1H NMR:4.65〜4.71ppm(1H,m),
−0.18〜0.32ppm(296H,m)
実施例4において、開始剤としてリチウムシラノレート(シロキシリチウムシラノレート)化合物C溶液 24.0g(0.02モル)を用い、末端キャップをジメチルビニルクロロシラン2.88g(0.024モル)で行った以外は、実施例4と同様にして反応を行った。収量は65.0gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):5000
1H NMR:6.09〜6.19ppm(1H,m),
5.89〜5.99ppm(1H,d),
5.70〜5.79ppm(1H,d),
1.26〜1.34ppm(4H,m),
0.84〜0.89ppm(3H,m),
0.50〜0.59(2H,m),
−0.18〜0.32ppm(301H,m)
冷却管、温度計、滴下ロート、攪拌機を備えたガラス製反応器中に、トリメチルシラノール4.5g(0.05モル)、化合物A 371g(1モル)、アセトニトリル(脱水)30gを仕込み、内温を70℃まで上昇させた後、下記式
その後、反応溶液を常温まで冷却し、5時間静置後シロキサン層を分離した。
分離したシロキサン層は、更にメタノール300gを用いて洗浄(混合攪拌:30分間、静置:3時間)した後、140℃/6torrの条件でストリッピングを行った。収量は296gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):9500
1H NMR:3.56ppm(9H,s),
−0.18〜0.32ppm(555H,m)
実施例6において、下記式
で示されるケイ素五配位化合物0.11gを用いて重合を行い、重合終了後、トリエチルアミン4.0gを添加し、更にジメチルビニルクロロシラン7.2g(0.06モル)を加えて末端キャップを行った以外は、実施例6と同様にして反応を行った。収量は305gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):9500
1H NMR:6.09〜6.19ppm(1H,m),
5.89〜5.99ppm(1H,d),
5.70〜5.79ppm(1H,d),
−0.18〜0.32ppm(561H,m)
実施例7において、化合物Aの代わりに化合物B 495g(1モル)を用い、末端キャップを3−メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン13.2g(0.06モル)で行った以外は、実施例6と同様にして反応を行った。収量は373gであった。
分子量(Mw、ポリスチレン換算):13800
1H NMR:7.22〜7.69ppm(182H,m),
6.09ppm(1H,s),5.53ppm(1H,s),
4.09ppm(2H,t),1.93ppm(3H,s),
1.65〜1.74ppm(2H,m),
0.44〜0.55(2H,m),
−0.18〜0.32ppm(450H,m)
冷却管、温度計、滴下ロート、攪拌機を取り付けたガラス製反応器中に、酢酸ブチル150gを仕込み、95℃に昇温した後、モノマー成分(実施例1で得られた化合物D 30g、メタクリル酸メチル60g、メタクリル酸ブチル30g、アクリル酸2−エチルヘキシル30g)とパーブチルO(重合開始剤、日油株式会社製)4.5gの混合物を1時間掛けて滴下した。滴下終了後、2時間熟成した後、更にパーブチルO 0.5gを加えて3時間加熱した。
得られた化合物をGPCにて解析したところ、分子量(Mw、ポリスチレン換算)は36000であった。
実施例9において、化合物Dの代わりに化合物Eを用いた以外は、実施例9と同様にして反応を行った。
得られた化合物をGPCにて解析したところ、分子量(Mw、ポリスチレン換算)は40000であった。
実施例9において、化合物Dの代わりにX−22−174DX(直鎖型片末端メタクリル変性オルガノポリシロキサン化合物、信越化学工業(株)製)を用いた以外は、実施例9と同様にして反応を行った。
得られた化合物をGPCにて解析したところ、分子量(Mw、ポリスチレン換算)は38000であった。
実施例9において、化合物Dを加えない以外は、実施例9と同様にして反応を行った。
評価方法:薄膜表面を指触し、滑り性を確認した。
評価基準:○:良好,△:やや不良,×:不良
Claims (9)
- 前記Aが下記式(3)−1〜(3)−3のいずれかで示される請求項2に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサン。
−SiHR4R5: (3)−1
(式中、R4及びR5は、各々独立に炭素数1〜10の一価炭化水素基である。)
−SiR6 a(OR7)3-a: (3)−2
(式中、R6及びR7は、各々独立に炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、aは0〜2の整数である。)
−Si(CH3)2−(CH2)b−(OCO)cC(R8)=CH2: (3)−3
(式中、R8は、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、bは0〜10の整数、cは0又は1である。但し、cが1のとき、bは2〜10の整数である。) - 重合末端をキャップする前記官能基含有ケイ素化合物が、下記式(5)−1〜(5)−3のいずれかで示される請求項4に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
YSiHR4R5: (5)−1
(式中、R4及びR5は、各々独立に炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、Yはハロゲン原子である。)
YSi(CH3)2−(CH2)b−(OCO)cC(R8)=CH2: (5)−3
(式中、R8は、水素原子又は炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数6〜12のアリール基であり、Yはハロゲン原子である。bは0〜10の整数、cは0又は1である。但し、cが1のとき、bは2〜10の整数である。) - 前記アニオンリビング重合が、アルキルリチウム又はリチウムシラノレートを開始剤に用いて行われる請求項4又は5に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
- 前記アルキルリチウムがn−ブチルリチウムである請求項6に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
- 前記アニオンリビング重合が、ケイ素五配位化合物を触媒とし、R’3SiOH(R’は各々独立に炭素数1〜6のアルキル基又はフェノール基である。)で表されるシラノールを開始剤に用いて行われる請求項5に記載の片末端官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011287717A JP5990909B2 (ja) | 2011-12-28 | 2011-12-28 | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011287717A JP5990909B2 (ja) | 2011-12-28 | 2011-12-28 | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013136662A true JP2013136662A (ja) | 2013-07-11 |
JP5990909B2 JP5990909B2 (ja) | 2016-09-14 |
Family
ID=48912667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011287717A Active JP5990909B2 (ja) | 2011-12-28 | 2011-12-28 | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5990909B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013185147A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 両末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
WO2017195822A1 (ja) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | 東洋合成工業株式会社 | 塩基発生剤、試剤、有機塩、組成物、素子の製造方法、硬化膜及び素子 |
JP2017206626A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | 信越化学工業株式会社 | 伸縮性膜及びその形成方法、配線被覆基板の製造方法、並びに伸縮性配線膜及びその製造方法 |
JP2018002933A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物および表面処理剤組成物 |
CN114599710A (zh) * | 2019-10-30 | 2022-06-07 | 陶氏东丽株式会社 | 聚有机硅氧烷、其制造方法以及导热性硅酮组合物 |
CN114763413A (zh) * | 2021-01-14 | 2022-07-19 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备烷基甲氧基硅油方法 |
WO2024202626A1 (ja) * | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0517577A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-01-26 | Kao Corp | 重合反応性直鎖シリコーンオリゴマー及びその製造方法 |
JPH083450A (ja) * | 1994-06-15 | 1996-01-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
JPH08239479A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 単分散オルガノポリシロキサンの製造方法 |
JPH0925411A (ja) * | 1995-07-12 | 1997-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
JPH0925283A (ja) * | 1995-07-12 | 1997-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シクロトリシロキサン及びその製造方法 |
JPH0931199A (ja) * | 1995-07-14 | 1997-02-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 |
JP2014530205A (ja) * | 2011-09-26 | 2014-11-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | シクロシロキサンを生成するための方法 |
-
2011
- 2011-12-28 JP JP2011287717A patent/JP5990909B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0517577A (ja) * | 1991-07-16 | 1993-01-26 | Kao Corp | 重合反応性直鎖シリコーンオリゴマー及びその製造方法 |
JPH083450A (ja) * | 1994-06-15 | 1996-01-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
JPH08239479A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 単分散オルガノポリシロキサンの製造方法 |
JPH0925411A (ja) * | 1995-07-12 | 1997-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性シリコーン組成物 |
JPH0925283A (ja) * | 1995-07-12 | 1997-01-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シクロトリシロキサン及びその製造方法 |
JPH0931199A (ja) * | 1995-07-14 | 1997-02-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 |
JP2014530205A (ja) * | 2011-09-26 | 2014-11-17 | ミリケン・アンド・カンパニーMilliken & Company | シクロシロキサンを生成するための方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013185147A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 両末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
WO2017195822A1 (ja) * | 2016-05-10 | 2017-11-16 | 東洋合成工業株式会社 | 塩基発生剤、試剤、有機塩、組成物、素子の製造方法、硬化膜及び素子 |
JPWO2017195822A1 (ja) * | 2016-05-10 | 2019-04-04 | 東洋合成工業株式会社 | 塩基発生剤、試剤、有機塩、組成物、素子の製造方法、硬化膜及び素子 |
US10906921B2 (en) | 2016-05-10 | 2021-02-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Base generator, reagent, organic salt, composition, method for manufacturing device, cured film and device |
JP2017206626A (ja) * | 2016-05-19 | 2017-11-24 | 信越化学工業株式会社 | 伸縮性膜及びその形成方法、配線被覆基板の製造方法、並びに伸縮性配線膜及びその製造方法 |
US10544272B2 (en) | 2016-05-19 | 2020-01-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Stretchable film and method for forming the same, method for manufacturing coated wiring substrate, and stretchable wiring film and method for manufacturing the same |
JP2018002933A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物および表面処理剤組成物 |
WO2018008505A1 (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物および表面処理剤組成物 |
CN114599710A (zh) * | 2019-10-30 | 2022-06-07 | 陶氏东丽株式会社 | 聚有机硅氧烷、其制造方法以及导热性硅酮组合物 |
CN114599710B (zh) * | 2019-10-30 | 2023-07-07 | 陶氏东丽株式会社 | 聚有机硅氧烷、其制造方法以及导热性硅酮组合物 |
CN114763413A (zh) * | 2021-01-14 | 2022-07-19 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备烷基甲氧基硅油方法 |
WO2024202626A1 (ja) * | 2023-03-29 | 2024-10-03 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5990909B2 (ja) | 2016-09-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5990909B2 (ja) | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
JP7256169B2 (ja) | ポリオレフィン主鎖とポリオルガノシロキサンペンダント基とを有する、グラフトコポリマーを調製するための方法 | |
JP2017105753A (ja) | 両末端に異なる官能基を有する直鎖オルガノポリシロキサン、及びその製造方法 | |
CN113544195B (zh) | 具有聚(甲基)丙烯酸酯基团的聚有机硅氧烷及其制备方法和用途 | |
JPH0632906A (ja) | エポキシシリコーンの合成法 | |
JP6434388B2 (ja) | モノ官能性分岐型オルガノシロキサン化合物及びその製造方法 | |
TW201500411A (zh) | 含有有機官能基之聚醚改質烷氧基矽氧烷及其製造方法 | |
WO2020116294A1 (ja) | ω末端にポリアルキレンオキシド基を有する片末端メタクリル変性オルガノ(ポリ)シロキサン及びその製造方法。 | |
JP4370831B2 (ja) | 官能基を有するシルセスキオキサン誘導体 | |
JP6424868B2 (ja) | シラン変性共重合体、その製造方法および密着向上剤 | |
CN109153691A (zh) | 聚合性硅烷化合物 | |
JP2715652B2 (ja) | ハイドロジェンポリシロキサンの製造方法 | |
WO2017094392A1 (ja) | 両末端に異なる官能基を有する直鎖オルガノポリシロキサン、及びその製造方法 | |
JPS60123518A (ja) | シリコ−ン系グラフト共重合体の製造方法 | |
JP3063712B2 (ja) | オルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP2013185147A (ja) | 両末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
JP2023535667A (ja) | フッ素化アリールボランルイス酸によって触媒されるシリルヒドリド反応のための組成物及び方法 | |
JP6390473B2 (ja) | 両末端変性されたシラシクロブタン開環重合物及びその製造方法 | |
JP2014101458A (ja) | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
JP2003327659A (ja) | エポキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
BR112017013175B1 (pt) | Processo para produzir um álcool terminado em silil | |
JPH10324749A (ja) | エポキシ基含有オルガノポリシルセスキオキサンおよびその製造法 | |
JP5382000B2 (ja) | オキセタニル基を有するケイ素化合物の製造方法 | |
JP2015054945A (ja) | 末端変性されたシラシクロブタン開環重合物及びその製造方法 | |
TWI468444B (zh) | An organopolysiloxane compound containing a? -keto ester group |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150325 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151006 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151022 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20151207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160301 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160408 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160719 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160801 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5990909 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |