JPH0931199A - オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 - Google Patents
オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法Info
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- JPH0931199A JPH0931199A JP20150595A JP20150595A JPH0931199A JP H0931199 A JPH0931199 A JP H0931199A JP 20150595 A JP20150595 A JP 20150595A JP 20150595 A JP20150595 A JP 20150595A JP H0931199 A JPH0931199 A JP H0931199A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低温特性、耐熱性、温度−粘度特性及び各種
油剤との相溶性に優れ、特に化粧品、グリース等の原料
として有用である新規共重合体の提供。 【解決手段】 下記一般式（１）： 【化１】 ［式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ2 及びＲ3 は
独立に１価炭化水素基又は水素原子の一部もしくは全部
がハロゲン原子で置換されたアルキル基であり、Ａは水
素原子又は下記一般式： −ＳｉＲ4 （式中、Ｒ4 は独立に水素原子又は１価有機基である。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
されるオルガノシリル基であり、ａは４以上の整数であ
り、ｂは２以上の整数であり、ｃは０以上の整数であ
る］で表されるオルガノシロキサン共重合体。
油剤との相溶性に優れ、特に化粧品、グリース等の原料
として有用である新規共重合体の提供。 【解決手段】 下記一般式（１）： 【化１】 ［式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ2 及びＲ3 は
独立に１価炭化水素基又は水素原子の一部もしくは全部
がハロゲン原子で置換されたアルキル基であり、Ａは水
素原子又は下記一般式： −ＳｉＲ4 （式中、Ｒ4 は独立に水素原子又は１価有機基である。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
されるオルガノシリル基であり、ａは４以上の整数であ
り、ｂは２以上の整数であり、ｃは０以上の整数であ
る］で表されるオルガノシロキサン共重合体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はトリメチルシロキシ
基を有する新規なオルガノシロキサン共重合体及びその
製造方法に関する。
基を有する新規なオルガノシロキサン共重合体及びその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ポリシロキサンは環状ポリシロキ
サン及び直鎖状ポリシロキサンの平衡化反応又はクロロ
シランの共加水分解縮合反応により製造されている。し
かし、これらの方法は、開裂・重合反応がランダムに進
行する。そのため、これらの方法では、得られるポリシ
ロキサンの構造を制御することができず、所定量のトリ
メチルシロキシ基を含有するオルガノシロキサン共重合
を製造することはできない。従って、側鎖にトリメチル
シロキシ基を有する分岐状ポリシロキサンは未だ知られ
ていない。
サン及び直鎖状ポリシロキサンの平衡化反応又はクロロ
シランの共加水分解縮合反応により製造されている。し
かし、これらの方法は、開裂・重合反応がランダムに進
行する。そのため、これらの方法では、得られるポリシ
ロキサンの構造を制御することができず、所定量のトリ
メチルシロキシ基を含有するオルガノシロキサン共重合
を製造することはできない。従って、側鎖にトリメチル
シロキシ基を有する分岐状ポリシロキサンは未だ知られ
ていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ケイ
素原子に結合するトリメチルシロキシ基を側鎖に有する
新規なオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法を
提供することにある。
素原子に結合するトリメチルシロキシ基を側鎖に有する
新規なオルガノシロキサン共重合体及びその製造方法を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第一は、下記一
般式（１）：
般式（１）：
【０００５】
【化４】 ［式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ2 及びＲ3 は
独立に１価炭化水素基又は水素原子の一部もしくは全部
がハロゲン原子で置換されたアルキル基であり、Ａは水
素原子又は下記一般式： −ＳｉＲ4 （式中、Ｒ4 は独立に水素原子又は１価有機基である。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
されるオルガノシリル基であり、ａは４以上の整数であ
り、ｂは２以上の整数であり、ｃは０以上の整数であ
る］で表されるオルガノシロキサン共重合体である。本
発明の第二は、下記式（２）：
独立に１価炭化水素基又は水素原子の一部もしくは全部
がハロゲン原子で置換されたアルキル基であり、Ａは水
素原子又は下記一般式： −ＳｉＲ4 （式中、Ｒ4 は独立に水素原子又は１価有機基である。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
されるオルガノシリル基であり、ａは４以上の整数であ
り、ｂは２以上の整数であり、ｃは０以上の整数であ
る］で表されるオルガノシロキサン共重合体である。本
発明の第二は、下記式（２）：
【０００６】
【化５】 で表されるシクロトリシロキサンを、場合によっては下
記一般式（３）：
記一般式（３）：
【０００７】
【化６】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は独立に１価炭化水素基又はハロ
ゲン化アルキル基である）で表されるシクロトリシロキ
サンとともに、下記一般式（４）： Ｒ1 （Ｒ5 Ｒ6 ＳｉＯ）n Ｌｉ （４） （式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ5 及びＲ6 は
独立に１価炭化水素基又はハロゲン化アルキル基であ
り、ｎは０以上の整数である）で表されるリチウム化合
物の存在下に開環重合させ、次に反応混合物に酸又は下
記一般式（５）： ＸＳｉＲ4 （５） （式中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ4 は独立に水素原
子又は１価有機基である。但し、少なくとも一つのＲ4
は１価有機基である）で表されるオルガノハロシランを
添加して前記の開環重合を停止させる工程を有する前記
のオルガノシロキサン共重合体の製造方法である。以
下、本発明を詳細に説明する。
ゲン化アルキル基である）で表されるシクロトリシロキ
サンとともに、下記一般式（４）： Ｒ1 （Ｒ5 Ｒ6 ＳｉＯ）n Ｌｉ （４） （式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ5 及びＲ6 は
独立に１価炭化水素基又はハロゲン化アルキル基であ
り、ｎは０以上の整数である）で表されるリチウム化合
物の存在下に開環重合させ、次に反応混合物に酸又は下
記一般式（５）： ＸＳｉＲ4 （５） （式中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ4 は独立に水素原
子又は１価有機基である。但し、少なくとも一つのＲ4
は１価有機基である）で表されるオルガノハロシランを
添加して前記の開環重合を停止させる工程を有する前記
のオルガノシロキサン共重合体の製造方法である。以
下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】オルガノシロキサン共重合体 本発明の共重合体は、前記の一般式（１）で表され、下
記式：
記式：
【０００９】
【化７】 で示される単位（以下、Ｄ1 単位という）、下記式：
【００１０】
【化８】 で示される単位（以下、Ｄ2 単位という）及び下記式：
【００１１】
【化９】 で示される単位（以下、Ｄ3 単位という）からなる群よ
り選ばれる少なくとも１種の単位を繰り返し単位とし、
場合によってはこれらの単位に加え更に下記式：
り選ばれる少なくとも１種の単位を繰り返し単位とし、
場合によってはこれらの単位に加え更に下記式：
【００１２】
【化１０】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じである）で示される
単位（以下、Ｄ4 単位という）を繰り返し単位とする共
重合体である。
単位（以下、Ｄ4 単位という）を繰り返し単位とする共
重合体である。
【００１３】このような共重合体の代表例としては、例
えば、下記式：Ｒ1 −Ｄ1 b −Ａ、Ｒ1 −Ｄ2 b −Ａ、
Ｒ1 −Ｄ3 b −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 d Ｄ2 d −Ａ、Ｒ1 −Ｄ
1 d Ｄ3 d −Ａ、Ｒ1 −Ｄ2 d Ｄ3 d −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1
e Ｄ2 e Ｄ3 e −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 b Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −
Ｄ2 b Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ3 b Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ
1 d Ｄ2 d Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 d Ｄ3 d Ｄ4 f −
Ａ、Ｒ1 −Ｄ2 d Ｄ3 d Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 e Ｄ2
e Ｄ3 e Ｄ4 f −Ａ（式中、Ｒ1 、Ａ、Ｄ1 、Ｄ2 、Ｄ
3 、Ｄ4 及びｂは前記と同じであり、ｄ、ｅ及びｆは１
以上の整数、好ましくは２〜１５０である）で示される
共重合体等が挙げられ、これらはランダム共重合体でも
ブロック共重合体でもよい。
えば、下記式：Ｒ1 −Ｄ1 b −Ａ、Ｒ1 −Ｄ2 b −Ａ、
Ｒ1 −Ｄ3 b −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 d Ｄ2 d −Ａ、Ｒ1 −Ｄ
1 d Ｄ3 d −Ａ、Ｒ1 −Ｄ2 d Ｄ3 d −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1
e Ｄ2 e Ｄ3 e −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 b Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −
Ｄ2 b Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ3 b Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ
1 d Ｄ2 d Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 d Ｄ3 d Ｄ4 f −
Ａ、Ｒ1 −Ｄ2 d Ｄ3 d Ｄ4 f −Ａ、Ｒ1 −Ｄ1 e Ｄ2
e Ｄ3 e Ｄ4 f −Ａ（式中、Ｒ1 、Ａ、Ｄ1 、Ｄ2 、Ｄ
3 、Ｄ4 及びｂは前記と同じであり、ｄ、ｅ及びｆは１
以上の整数、好ましくは２〜１５０である）で示される
共重合体等が挙げられ、これらはランダム共重合体でも
ブロック共重合体でもよい。
【００１４】一般式（１）中、Ｒ1 の１価炭化水素基と
しては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルケニル基、（メタ）アクリ
ロイルオキシプロピル基等が挙げられる。
しては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルケニル基、（メタ）アクリ
ロイルオキシプロピル基等が挙げられる。
【００１５】前記Ｒ1 のアルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等の炭素原子数１
〜１２のアルキル基が挙げられ、さらに代表的なものは
炭素原子数１〜８のメチル基、プロピル基、ヘキシル
基、オクチル基である。
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ドデシル基等の炭素原子数１
〜１２のアルキル基が挙げられ、さらに代表的なものは
炭素原子数１〜８のメチル基、プロピル基、ヘキシル
基、オクチル基である。
【００１６】前記Ｒ1 のシクロアルキル基としては、例
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘ
プチル基等の炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基が
挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数５〜８のシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基
である。
えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘ
プチル基等の炭素原子数３〜１２のシクロアルキル基が
挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数５〜８のシ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基
である。
【００１７】前記Ｒ1 のアリール基としては、例えば、
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフ
ェニリル基等の炭素原子数６〜１８のアリール基が挙げ
られ、さらに代表的なものは炭素原子数１〜１２のフェ
ニル基、トリル基、ナフチル基である。
フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフ
ェニリル基等の炭素原子数６〜１８のアリール基が挙げ
られ、さらに代表的なものは炭素原子数１〜１２のフェ
ニル基、トリル基、ナフチル基である。
【００１８】前記Ｒ1 のアラルキル基としては、例え
ば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル
基、メチルベンジル基等の炭素原子数７〜１２のアラル
キル基が挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数７
〜９のベンジル基、フェニルプロピル基である。
ば、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル
基、メチルベンジル基等の炭素原子数７〜１２のアラル
キル基が挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数７
〜９のベンジル基、フェニルプロピル基である。
【００１９】前記Ｒ1 のアルケニル基としては、例え
ば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニ
ル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シ
クロヘキセニル基等の炭素原子数２〜１２のアルケニル
基が挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数２〜６
のビニル基、アリル基、ヘキセニル基である。
ば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニ
ル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シ
クロヘキセニル基等の炭素原子数２〜１２のアルケニル
基が挙げられ、さらに代表的なものは炭素原子数２〜６
のビニル基、アリル基、ヘキセニル基である。
【００２０】Ｒ2 又はＲ3 の１価炭化水素基としては、
前記Ｒ1 と同様のものが挙げられる。特にＲ2 又はＲ3
として好適な１価炭化水素基は、メチル基、フェニル
基、ビニル基である。Ｒ2 又はＲ3 のハロゲン置換アル
キル基としては、例えば、クロロメチル基、２−ブロモ
エチル基、３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフ
ルオロプロピル基、３，３，４，４，５，５，６，６，
６−ノナフルオロヘキシル基等の炭素原子数１〜６のハ
ロゲン置換アルキル基が挙げられる。
前記Ｒ1 と同様のものが挙げられる。特にＲ2 又はＲ3
として好適な１価炭化水素基は、メチル基、フェニル
基、ビニル基である。Ｒ2 又はＲ3 のハロゲン置換アル
キル基としては、例えば、クロロメチル基、２−ブロモ
エチル基、３−クロロプロピル基、３，３，３−トリフ
ルオロプロピル基、３，３，４，４，５，５，６，６，
６−ノナフルオロヘキシル基等の炭素原子数１〜６のハ
ロゲン置換アルキル基が挙げられる。
【００２１】Ａのオルガノシリル基は、下記一般式： −ＳｉＲ4 （式中、Ｒ4 は独立に水素原子又は１価有機基である。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
される。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
される。
【００２２】Ｒ4 の１価有機基としては、例えば、前記
Ｒ2 又はＲ3 と同様の１価炭化水素基及びハロゲン置換
アルキル基のほか、炭素原子に結合している水素原子の
一部又は全部がハロゲン原子、シアノ基などで置換され
たその他の置換の１価炭化水素基、例えば、クロロフェ
ニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基等が挙げ
られる。
Ｒ2 又はＲ3 と同様の１価炭化水素基及びハロゲン置換
アルキル基のほか、炭素原子に結合している水素原子の
一部又は全部がハロゲン原子、シアノ基などで置換され
たその他の置換の１価炭化水素基、例えば、クロロフェ
ニル基、フルオロフェニル基、シアノエチル基等が挙げ
られる。
【００２３】一般式（１）のａは、４以上の整数、好ま
しくは１０〜５４０の整数であり、ｂは２以上の整数、
好ましくは５〜２７０の整数であり、ｃは０以上の整
数、好ましくは３〜４５０の整数である。本発明の共重
合体の平均分子量は、８００〜２００，０００、好まし
くは２，０００〜１００，０００である。
しくは１０〜５４０の整数であり、ｂは２以上の整数、
好ましくは５〜２７０の整数であり、ｃは０以上の整
数、好ましくは３〜４５０の整数である。本発明の共重
合体の平均分子量は、８００〜２００，０００、好まし
くは２，０００〜１００，０００である。
【００２４】本発明の共重合体の具体例としては、特に
これらに限定されるものではないが、例えば、下記式で
表されるものが挙げられる。
これらに限定されるものではないが、例えば、下記式で
表されるものが挙げられる。
【００２５】
【化１１】 （式中、ａ及びｂは、ａ≧４、ｂ≧２及び６≦ａ＋ｂ≦
２，３００を満足する整数である）
２，３００を満足する整数である）
【００２６】
【化１２】 （式中、Ｂｕはブチル基であり、ａ及びｂは、ａ≧４、
ｂ≧２、及び６≦ａ＋ｂ≦２，３００を満足する整数で
ある）
ｂ≧２、及び６≦ａ＋ｂ≦２，３００を満足する整数で
ある）
【００２７】
【化１３】 （式中、Ｂｕはブチル基であり、Ｐｈはフェニル基であ
り、ａ、ｂ及びｃは、ａ≧４、ｂ≧２、０≦ｃ≦１，０
００及び６≦ａ＋ｂ＋ｃ≦２，３００を満足する整数で
ある）
り、ａ、ｂ及びｃは、ａ≧４、ｂ≧２、０≦ｃ≦１，０
００及び６≦ａ＋ｂ＋ｃ≦２，３００を満足する整数で
ある）
【００２８】
【化１４】 （式中、Ｂｕはブチル基であり、ａ、ｂ及びｃは、ａ≧
４、ｂ≧２、０≦ｃ≦１，０００及び６≦ａ＋ｂ＋ｃ≦
２，３００を満足する整数である）
４、ｂ≧２、０≦ｃ≦１，０００及び６≦ａ＋ｂ＋ｃ≦
２，３００を満足する整数である）
【００２９】
【化１５】 （式中、Ｂｕはブチル基であり、ａ、ｂ及びｃは、ａ≧
４、ｂ≧２、０≦ｃ≦１，０００及び６≦ａ＋ｂ＋ｃ≦
２，３００を満足する整数である）
４、ｂ≧２、０≦ｃ≦１，０００及び６≦ａ＋ｂ＋ｃ≦
２，３００を満足する整数である）
【００３０】オルガノシロキサン共重合体の製造方法 本発明の製造方法は、前記式（２）のシクロトリシロキ
サンを、場合によっては 前記一般式（３）のシクロト
リシロキサンとともに、前記一般式（４）のリチウム化
合物の存在下に開環重合させ、得られた反応生成物に酸
又は前記一般式（５）のオルガノハロシランを反応させ
る方法である。
サンを、場合によっては 前記一般式（３）のシクロト
リシロキサンとともに、前記一般式（４）のリチウム化
合物の存在下に開環重合させ、得られた反応生成物に酸
又は前記一般式（５）のオルガノハロシランを反応させ
る方法である。
【００３１】(i) 一般式（３）のシクロトリシロキサン 一般式（３）のシクロトリシロキサンは、本発明の共重
合体に下記一般式： −Ｓｉ（Ｒ2 ）（Ｒ3 ）Ｏ− （式中、Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じである）で示される
単位を導入するために、必要に応じて用いられる。一般
式（３）のＲ2 及びＲ3 は前記と同じである。
合体に下記一般式： −Ｓｉ（Ｒ2 ）（Ｒ3 ）Ｏ− （式中、Ｒ2 及びＲ3 は前記と同じである）で示される
単位を導入するために、必要に応じて用いられる。一般
式（３）のＲ2 及びＲ3 は前記と同じである。
【００３２】一般式（３）のシクロトリシロキサンの具
体例としては、例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェ
ニルシクロトリシロキサン、ヘキサビニルシクロトリシ
ロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリ
フェニルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリメチ
ル−１，３，５−トリビニルシクロトリシロキサン、
１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリス（３，
３，３−トリフルオロプロピル）シクロトリシロキサ
ン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリベンジ
ルシクロトリシロキサン等が挙げられる。
体例としては、例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキ
サン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、ヘキサフェ
ニルシクロトリシロキサン、ヘキサビニルシクロトリシ
ロキサン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリ
フェニルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリメチ
ル−１，３，５−トリビニルシクロトリシロキサン、
１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリス（３，
３，３−トリフルオロプロピル）シクロトリシロキサ
ン、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリベンジ
ルシクロトリシロキサン等が挙げられる。
【００３３】一般式（３）のシクロトリシロキサンの使
用量は、前記式（２）のシクロトリシロキサン１モル当
たり、０〜１００モル、好ましくは０．１〜５０モルで
ある。
用量は、前記式（２）のシクロトリシロキサン１モル当
たり、０〜１００モル、好ましくは０．１〜５０モルで
ある。
【００３４】(ii)リチウム化合物 本発明の製造方法に用いるリチウム化合物は一般式
（４）で表され、一般式（２）のシクロトリシロキサン
や一般式（３）のシクロトリシロキサンの開環重合反応
の触媒として作用する。一般式（４）のＲ1 は前記Ｒ1
と同様である。一般式（４）のＲ5 及びＲ6 の１価炭化
水素基及びハロゲン置換アルキル基としては、前記Ｒ2
又はＲ3 と同様のものが挙げられる。一般式（４）のｎ
は、０以上の整数、好ましくは０〜１０の整数である。
（４）で表され、一般式（２）のシクロトリシロキサン
や一般式（３）のシクロトリシロキサンの開環重合反応
の触媒として作用する。一般式（４）のＲ1 は前記Ｒ1
と同様である。一般式（４）のＲ5 及びＲ6 の１価炭化
水素基及びハロゲン置換アルキル基としては、前記Ｒ2
又はＲ3 と同様のものが挙げられる。一般式（４）のｎ
は、０以上の整数、好ましくは０〜１０の整数である。
【００３５】このようなリチウム化合物の具体例として
は、例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ
ｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等の
アルキルリチウム；ビニルリチウム、アリルリチウム、
ヘキセニルリチウム等のアルケニルリチウム；フェニル
リチウム、ナフチルリチウム等のアリールリチウム；ベ
ンジルリチウム、フェニルエチルリチウム等のアラルキ
ルリチウムなどの有機リチウム化合物や、リチウムトリ
メチルシラノレート、リチウムジメチルビニルシラノレ
ート、リチウムジフェニルメチルシラノレート等のオル
ガノシランのリチウム塩；下記一般式： Ｒ7 −（Ｍｅ2 ＳｉＯ）3 −Ｌｉ （式中、Ｒ7 はメチル基又はブチル基であり、Ｍｅはメ
チル基である）で表されるオルガノポリシロキサンのリ
チウム塩などが挙げられる。
は、例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ
ｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等の
アルキルリチウム；ビニルリチウム、アリルリチウム、
ヘキセニルリチウム等のアルケニルリチウム；フェニル
リチウム、ナフチルリチウム等のアリールリチウム；ベ
ンジルリチウム、フェニルエチルリチウム等のアラルキ
ルリチウムなどの有機リチウム化合物や、リチウムトリ
メチルシラノレート、リチウムジメチルビニルシラノレ
ート、リチウムジフェニルメチルシラノレート等のオル
ガノシランのリチウム塩；下記一般式： Ｒ7 −（Ｍｅ2 ＳｉＯ）3 −Ｌｉ （式中、Ｒ7 はメチル基又はブチル基であり、Ｍｅはメ
チル基である）で表されるオルガノポリシロキサンのリ
チウム塩などが挙げられる。
【００３６】このようなリチウム化合物は、例えば、前
記一般式（４）のｎが０のものは市販品でよく、ｎが１
以上のものは１個のシラノール基を有するオルガノシラ
ン、分子鎖の片末端にシラノール基を有するオルガノポ
リシロキサン又はオルガノシクロポリシロキサンと、前
記のｎが０のリチウム化合物とを反応させて容易に得る
ことができる。
記一般式（４）のｎが０のものは市販品でよく、ｎが１
以上のものは１個のシラノール基を有するオルガノシラ
ン、分子鎖の片末端にシラノール基を有するオルガノポ
リシロキサン又はオルガノシクロポリシロキサンと、前
記のｎが０のリチウム化合物とを反応させて容易に得る
ことができる。
【００３７】(iii)酸又はオルガノハロシラン 本発明の製造方法は、前記のシクロトリシロキサンを開
環重合させ、その反応混合物に酸又は一般式（５）のオ
ルガノハロシランを添加することにより、該重合反応を
停止する。この重合反応停止に前記の酸を用いる場合に
は、前記一般式（１）のＡが水素原子である共重合体を
得ることができ、オルガノハロシランを用いる場合に
は、Ａが前記のオルガノシリル基である共重合体を得る
ことができる。また、オルガノハロシランがオルガノハ
イドロジェンハロシランの場合には、Ａがケイ素原子に
結合した水素原子を有する基になる。従って、ケイ素原
子に結合した水素原子を含有する基Ａを有する本発明の
共重合体には、ヒドロシリル化反応により各種官能基を
該Ａを介して導入することができる。特に、このように
導入された官能基が反応性の基である共重合体はマクロ
モノマーとして有用である。
環重合させ、その反応混合物に酸又は一般式（５）のオ
ルガノハロシランを添加することにより、該重合反応を
停止する。この重合反応停止に前記の酸を用いる場合に
は、前記一般式（１）のＡが水素原子である共重合体を
得ることができ、オルガノハロシランを用いる場合に
は、Ａが前記のオルガノシリル基である共重合体を得る
ことができる。また、オルガノハロシランがオルガノハ
イドロジェンハロシランの場合には、Ａがケイ素原子に
結合した水素原子を有する基になる。従って、ケイ素原
子に結合した水素原子を含有する基Ａを有する本発明の
共重合体には、ヒドロシリル化反応により各種官能基を
該Ａを介して導入することができる。特に、このように
導入された官能基が反応性の基である共重合体はマクロ
モノマーとして有用である。
【００３８】前記の酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、
プロピオン酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸；炭酸、
塩酸、硫酸等の無機酸などが挙げられる。
プロピオン酸、クエン酸、安息香酸等の有機酸；炭酸、
塩酸、硫酸等の無機酸などが挙げられる。
【００３９】前記のオルガノハロシランとしては、例え
ば、トリメチルクロロシラン、ジメチルクロロシラン、
ビニルジメチルクロロシラン、（３−アクリロイルオキ
シプロピル）ジメチルクロロシラン、（３−メタクリロ
イルオキシプロピル）ジメチルクロロシラン、（４−ス
チリル）ジメチルクロロシラン、ジメチルハイドロジェ
ンクロロシラン、トリメチルブロモシラン、ジメチルブ
ロモシラン、ビニルジメチルブロモシラン、（３−アク
リロイルオキシプロピル）ジメチルブロモシラン、（３
−メタクリロイルオキシプロピル）ジメチルブロモシラ
ン、（４−スチリル）ジメチルブロモシラン、ジメチル
ハイドロジェンブロモシラン等が挙げられる。
ば、トリメチルクロロシラン、ジメチルクロロシラン、
ビニルジメチルクロロシラン、（３−アクリロイルオキ
シプロピル）ジメチルクロロシラン、（３−メタクリロ
イルオキシプロピル）ジメチルクロロシラン、（４−ス
チリル）ジメチルクロロシラン、ジメチルハイドロジェ
ンクロロシラン、トリメチルブロモシラン、ジメチルブ
ロモシラン、ビニルジメチルブロモシラン、（３−アク
リロイルオキシプロピル）ジメチルブロモシラン、（３
−メタクリロイルオキシプロピル）ジメチルブロモシラ
ン、（４−スチリル）ジメチルブロモシラン、ジメチル
ハイドロジェンブロモシラン等が挙げられる。
【００４０】前記の酸又はオルガノハロシランの使用量
は、使用したリチウム化合物１モル当たり、通常１〜５
モル、好ましくは１〜２モルである。
は、使用したリチウム化合物１モル当たり、通常１〜５
モル、好ましくは１〜２モルである。
【００４１】本発明の製造方法は、反応溶媒を用いなく
ても前記の開環重合等の反応は進行するが、有機溶媒中
で反応をより良好に進行させることができ収率良く本発
明の共重合体を得ることができる。
ても前記の開環重合等の反応は進行するが、有機溶媒中
で反応をより良好に進行させることができ収率良く本発
明の共重合体を得ることができる。
【００４２】前記有機溶媒としては、例えば、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系
反応溶媒；ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド等の非プロトン系溶媒；ヘキサン；デカン；ベンゼ
ン；トルエン；キシレン等の有機溶媒が挙げられ、これ
らは単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることが
できる。特に、トルエンのような極性の低い反応溶媒
は、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の極
性が高い反応溶媒と組み合わせることにより、反応をよ
り良好に進行させることができる。反応溶媒の使用量
は、前記のシクロトリシロキサンの濃度が５〜９０重量
％になる量が好ましい。
エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系
反応溶媒；ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ
ド等の非プロトン系溶媒；ヘキサン；デカン；ベンゼ
ン；トルエン；キシレン等の有機溶媒が挙げられ、これ
らは単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることが
できる。特に、トルエンのような極性の低い反応溶媒
は、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の極
性が高い反応溶媒と組み合わせることにより、反応をよ
り良好に進行させることができる。反応溶媒の使用量
は、前記のシクロトリシロキサンの濃度が５〜９０重量
％になる量が好ましい。
【００４３】前記の開環重合反応の温度は、−２０〜５
０℃程度でよく、このような温度範囲に設定することに
より良好に重合反応が進行する。また、前記溶媒を用い
るときは溶媒の沸点以下の温度が好ましい。反応時間
は、１０分間〜２４時間程度でよい。また、前記の酸又
はオルガノハロシランを添加した後、この反応混合物を
攪拌し、一定時間熟成させるのが好ましい。この熟成温
度は、０〜５０℃程度でよく、熟成時間は５分間〜５時
間程度でよい。
０℃程度でよく、このような温度範囲に設定することに
より良好に重合反応が進行する。また、前記溶媒を用い
るときは溶媒の沸点以下の温度が好ましい。反応時間
は、１０分間〜２４時間程度でよい。また、前記の酸又
はオルガノハロシランを添加した後、この反応混合物を
攪拌し、一定時間熟成させるのが好ましい。この熟成温
度は、０〜５０℃程度でよく、熟成時間は５分間〜５時
間程度でよい。
【００４４】このようにして得られる本発明の共重合体
は、シリコーンオイルとしての公知の用途のほか、化粧
品やグリースの原料として用いることができる。
は、シリコーンオイルとしての公知の用途のほか、化粧
品やグリースの原料として用いることができる。
【００４５】
【実施例】実施例１ 四つ口フラスコ内を乾燥窒素ガスで置換し、これに前記
式（２）のシクロトリシロキサン３０ｇ（８０ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン１００ｇを投入した。次
に、フラスコ内容物を０〜５℃に保ち、攪拌しながらリ
チウムトリメチルシラノレート０．７７ｇ（８．０ミリ
モル）を投入して重合反応を行い、これを２０分間攪拌
してフラスコ内容物の熟成を行った。次に、フラスコ内
容物にトリメチルクロロシラン１．０ｇを投入して３０
分間攪拌し、重合反応を停止した。得られた反応混合物
を水洗した後、テトラヒドロフランを減圧蒸留で留去
し、無色透明の液状の反応生成物を得た（収率：８０
％）。この反応生成物は、ゲル浸透クロマトグラフ（以
下、ＧＰＣという）分析の結果、数平均分子量（以下、
Ｍｎという）が３６００、分子量分布［Ｍｎ／Ｍｗ（Ｍ
ｗ：重量平均分子量、以下同じ）］が１．３３のポリマ
ーであることが判明した。また、この反応生成物の29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ分析を行った結果、７．８ｐｐｍの位置にト
リメチルシロキシ基のピークが観察された。また、併せ
て反応生成物のＩＲ吸収測定を行った。29Ｓｉ−ＮＭＲ
チャートを図１に、ＩＲチャートを図２に示す。前記の
ＧＰＣ分析、29Ｓｉ−ＮＭＲ分析及びＩＲ吸収測定の結
果から得られた反応生成物は、下記組成式で示されるオ
ルガノシロキサン共重合体であることが確認された。 Me[Me3SiO(Me)SiO]18(Me2SiO)9SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
式（２）のシクロトリシロキサン３０ｇ（８０ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン１００ｇを投入した。次
に、フラスコ内容物を０〜５℃に保ち、攪拌しながらリ
チウムトリメチルシラノレート０．７７ｇ（８．０ミリ
モル）を投入して重合反応を行い、これを２０分間攪拌
してフラスコ内容物の熟成を行った。次に、フラスコ内
容物にトリメチルクロロシラン１．０ｇを投入して３０
分間攪拌し、重合反応を停止した。得られた反応混合物
を水洗した後、テトラヒドロフランを減圧蒸留で留去
し、無色透明の液状の反応生成物を得た（収率：８０
％）。この反応生成物は、ゲル浸透クロマトグラフ（以
下、ＧＰＣという）分析の結果、数平均分子量（以下、
Ｍｎという）が３６００、分子量分布［Ｍｎ／Ｍｗ（Ｍ
ｗ：重量平均分子量、以下同じ）］が１．３３のポリマ
ーであることが判明した。また、この反応生成物の29Ｓ
ｉ−ＮＭＲ分析を行った結果、７．８ｐｐｍの位置にト
リメチルシロキシ基のピークが観察された。また、併せ
て反応生成物のＩＲ吸収測定を行った。29Ｓｉ−ＮＭＲ
チャートを図１に、ＩＲチャートを図２に示す。前記の
ＧＰＣ分析、29Ｓｉ−ＮＭＲ分析及びＩＲ吸収測定の結
果から得られた反応生成物は、下記組成式で示されるオ
ルガノシロキサン共重合体であることが確認された。 Me[Me3SiO(Me)SiO]18(Me2SiO)9SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
【００４６】実施例２ 四つ口フラスコ内を乾燥窒素ガスで置換し、これに前記
式（２）のシクロトリシロキサン３０ｇ（８０ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン１００ｇを投入した。次
に、フラスコ内容物を０〜５℃に保ち、攪拌しながらｎ
−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ｎ−ブチルリチウム
含有量：１．６モル／リットル）０．３４ミリリットル
（ｎ−ブチルリチウムとして０．５４ミリモル）を投入
して重合反応を行い、これを２０分間攪拌してフラスコ
内容物の熟成を行った。次に、フラスコ内容物にトリメ
チルクロロシラン０．１ｇを投入して５０分間攪拌し、
重合反応を停止した。得られた反応混合物にｎ−ヘキサ
ンを加え、水洗した後、テトラヒドロフラン及びヘキサ
ンを減圧蒸留で留去し、無色透明の液状の反応生成物を
得た（収率：６５％）。この反応生成物は、ＧＰＣ分析
の結果、Ｍｎが５４０００、分子量分布（Ｍｎ／Ｍｗ）
が１．３８のポリマーであることが判明した。また、こ
の反応生成物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析を行った結果、７．
８ｐｐｍの位置にトリメチルシロキシ基のピークが観察
された。また、併せて反応生成物のＩＲ吸収測定を行っ
た。ＩＲチャートを図３に示す。前記のＧＰＣ分析、29
Ｓｉ−ＮＭＲ分析及びＩＲ吸収測定の結果から、得られ
た反応生成物は下記組成式で示されるオルガノシロキサ
ン共重合体であることが確認された。 Bu[Me3SiO(Me)SiO]280(Me2SiO)140SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｂｕはブチル基であ
る）
式（２）のシクロトリシロキサン３０ｇ（８０ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン１００ｇを投入した。次
に、フラスコ内容物を０〜５℃に保ち、攪拌しながらｎ
−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ｎ−ブチルリチウム
含有量：１．６モル／リットル）０．３４ミリリットル
（ｎ−ブチルリチウムとして０．５４ミリモル）を投入
して重合反応を行い、これを２０分間攪拌してフラスコ
内容物の熟成を行った。次に、フラスコ内容物にトリメ
チルクロロシラン０．１ｇを投入して５０分間攪拌し、
重合反応を停止した。得られた反応混合物にｎ−ヘキサ
ンを加え、水洗した後、テトラヒドロフラン及びヘキサ
ンを減圧蒸留で留去し、無色透明の液状の反応生成物を
得た（収率：６５％）。この反応生成物は、ＧＰＣ分析
の結果、Ｍｎが５４０００、分子量分布（Ｍｎ／Ｍｗ）
が１．３８のポリマーであることが判明した。また、こ
の反応生成物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析を行った結果、７．
８ｐｐｍの位置にトリメチルシロキシ基のピークが観察
された。また、併せて反応生成物のＩＲ吸収測定を行っ
た。ＩＲチャートを図３に示す。前記のＧＰＣ分析、29
Ｓｉ−ＮＭＲ分析及びＩＲ吸収測定の結果から、得られ
た反応生成物は下記組成式で示されるオルガノシロキサ
ン共重合体であることが確認された。 Bu[Me3SiO(Me)SiO]280(Me2SiO)140SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｂｕはブチル基であ
る）
【００４７】実施例３ 四つ口フラスコ内を乾燥窒素ガスで置換し、これにリチ
ウムトリメチルシラノレート０．４８ｇ（５．０ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン５０ｇを投入した。次に、
フラスコ内容物を０〜５℃に保ち、攪拌しながら該内容
物に前記式（２）のシクロトリシロキサン２２．２ｇ
（６０ミリモル）及びヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン１３．３ｇ（６０ミリモル）をテトラヒドロフラン１
００ｇに溶解した溶液を３時間かけて滴下して重合反応
を行った。これを１５分間攪拌してフラスコ内容物の熟
成を行った。次に、フラスコ内容物にトリメチルクロロ
シラン１．０ｇを投入して３０分間攪拌し、重合反応を
停止した。得られた反応混合物を水洗した後、テトラヒ
ドロフランを減圧蒸留で留去し、無色透明の液状の反応
生成物を得た（収率：８５％）。この反応生成物は、Ｇ
ＰＣ分析の結果、Ｍｎが７０００、分子量分布（Ｍｎ／
Ｍｗ）が１．３１のポリマーであることが判明した。ま
た、この反応生成物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析を行った結
果、７．８ｐｐｍの位置にトリメチルシロキシ基のピー
クが観察された。また、併せて反応生成物のＩＲ吸収測
定を行った。ＩＲチャートを図４に示す。前記のＧＰＣ
分析、29Ｓｉ−ＮＭＲ分析及びＩＲ吸収測定の結果から
得られた反応生成物は、下記組成式で示されるオルガノ
シロキサン共重合体であることが確認された。 Me[Me3SiO(Me)SiO]22(Me2SiO)46SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
ウムトリメチルシラノレート０．４８ｇ（５．０ミリモ
ル）及びテトラヒドロフラン５０ｇを投入した。次に、
フラスコ内容物を０〜５℃に保ち、攪拌しながら該内容
物に前記式（２）のシクロトリシロキサン２２．２ｇ
（６０ミリモル）及びヘキサメチルシクロトリシロキサ
ン１３．３ｇ（６０ミリモル）をテトラヒドロフラン１
００ｇに溶解した溶液を３時間かけて滴下して重合反応
を行った。これを１５分間攪拌してフラスコ内容物の熟
成を行った。次に、フラスコ内容物にトリメチルクロロ
シラン１．０ｇを投入して３０分間攪拌し、重合反応を
停止した。得られた反応混合物を水洗した後、テトラヒ
ドロフランを減圧蒸留で留去し、無色透明の液状の反応
生成物を得た（収率：８５％）。この反応生成物は、Ｇ
ＰＣ分析の結果、Ｍｎが７０００、分子量分布（Ｍｎ／
Ｍｗ）が１．３１のポリマーであることが判明した。ま
た、この反応生成物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析を行った結
果、７．８ｐｐｍの位置にトリメチルシロキシ基のピー
クが観察された。また、併せて反応生成物のＩＲ吸収測
定を行った。ＩＲチャートを図４に示す。前記のＧＰＣ
分析、29Ｓｉ−ＮＭＲ分析及びＩＲ吸収測定の結果から
得られた反応生成物は、下記組成式で示されるオルガノ
シロキサン共重合体であることが確認された。 Me[Me3SiO(Me)SiO]22(Me2SiO)46SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
【００４８】実施例４ 四つ口フラスコ内を乾燥窒素ガスで置換し、これに前記
式（２）のシクロトリシロキサン３０ｇ（８０ミリモ
ル）及びトルエン８０ｇ及びジメチルスルホキシド５ｇ
を投入した。次に、フラスコ内容物を０〜１０℃に保
ち、攪拌しながらリチウムトリメチルシラノレート０．
３８ｇ（４．０ミリモル）を投入し、フラスコ内容物を
攪拌しながら３０分間熟成を行った。次に、フラスコ内
容物に０．１規定塩酸４０ミリリットルを添加して１０
分間攪拌し、反応を停止した。得られた反応混合物を水
洗した後、溶媒を減圧蒸留で留去し、無色透明の液状の
反応生成物を得た（収率：８０％）。この反応生成物
は、ＧＰＣ分析の結果、Ｍｎが３６００、分子量分布
［Ｍｎ／Ｍｗ］が１．３２のポリマーであることが判明
した。また、この反応生成物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析を行
った結果、７．８ｐｐｍの位置にトリメチルシロキシ基
のピークが観察された。また、併せて反応生成物のＩＲ
吸収測定を行った。前記のＧＰＣ分析、29Ｓｉ−ＮＭＲ
分析及びＩＲ吸収測定の結果から得られた反応生成物
は、下記組成式で示されるオルガノシロキサン共重合体
であることが確認された。 Me[Me3SiO(Me)SiO]36(Me2SiO)18H （式中、Ｍｅはメチル基である）
式（２）のシクロトリシロキサン３０ｇ（８０ミリモ
ル）及びトルエン８０ｇ及びジメチルスルホキシド５ｇ
を投入した。次に、フラスコ内容物を０〜１０℃に保
ち、攪拌しながらリチウムトリメチルシラノレート０．
３８ｇ（４．０ミリモル）を投入し、フラスコ内容物を
攪拌しながら３０分間熟成を行った。次に、フラスコ内
容物に０．１規定塩酸４０ミリリットルを添加して１０
分間攪拌し、反応を停止した。得られた反応混合物を水
洗した後、溶媒を減圧蒸留で留去し、無色透明の液状の
反応生成物を得た（収率：８０％）。この反応生成物
は、ＧＰＣ分析の結果、Ｍｎが３６００、分子量分布
［Ｍｎ／Ｍｗ］が１．３２のポリマーであることが判明
した。また、この反応生成物の29Ｓｉ−ＮＭＲ分析を行
った結果、７．８ｐｐｍの位置にトリメチルシロキシ基
のピークが観察された。また、併せて反応生成物のＩＲ
吸収測定を行った。前記のＧＰＣ分析、29Ｓｉ−ＮＭＲ
分析及びＩＲ吸収測定の結果から得られた反応生成物
は、下記組成式で示されるオルガノシロキサン共重合体
であることが確認された。 Me[Me3SiO(Me)SiO]36(Me2SiO)18H （式中、Ｍｅはメチル基である）
【００４９】実施例５ 実施例３において、リチウムトリメチルシラノレートの
使用量を０．４８ｇから１．９２ｇ（２０ミリモル）に
変更し、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの使用量を
１３．３ｇから６６．６ｇ（０．３モル）に変更した以
外は実施例３と同様にして下記組成式で示される共重合
体を得た。 Me[Me3SiO(Me)SiO]5(Me2SiO)90SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
使用量を０．４８ｇから１．９２ｇ（２０ミリモル）に
変更し、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの使用量を
１３．３ｇから６６．６ｇ（０．３モル）に変更した以
外は実施例３と同様にして下記組成式で示される共重合
体を得た。 Me[Me3SiO(Me)SiO]5(Me2SiO)90SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
【００５０】実施例６ 実施例１、実施例３及び実施例５で得られた共重合体、
並びに比較のための下記組成式で示されるオルガノポリ
シロキサンについて示差熱分析（ＤＳＣ）測定を行っ
た。その結果を表１に示し、ＤＳＣチャートを図５に示
す。 Me(Me2SiO)85SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
並びに比較のための下記組成式で示されるオルガノポリ
シロキサンについて示差熱分析（ＤＳＣ）測定を行っ
た。その結果を表１に示し、ＤＳＣチャートを図５に示
す。 Me(Me2SiO)85SiMe3 （式中、Ｍｅはメチル基である）
【００５１】
【表１】 表１の結果から明らかなように、本発明の共重合体は、
融点ピークが認められず、常温〜低温領域まで固化する
ことなく流動性を示しており、低温特性に優れている。
融点ピークが認められず、常温〜低温領域まで固化する
ことなく流動性を示しており、低温特性に優れている。
【００５２】
【発明の効果】本発明の共重合体は新規の化合物であ
り、低温特性、耐熱性、温度−粘度特性及び各種油剤と
の相溶性に優れ、特に化粧品、グリース等の原料として
有用である。
り、低温特性、耐熱性、温度−粘度特性及び各種油剤と
の相溶性に優れ、特に化粧品、グリース等の原料として
有用である。
【図１】 実施例１で得られた共重合体の29Ｓｉ−ＮＭ
Ｒチャートである。
Ｒチャートである。
【図２】 実施例１で得られた共重合体のＩＲチャート
である。
である。
【図３】 実施例２で得られた共重合体のＩＲチャート
である。
である。
【図４】 実施例３で得られた共重合体のＩＲチャート
である。
である。
【図５】 共重合体等のＤＳＣチャートである。
図５中、１は、実施例１で得られた共重合体のＤＳＣ線
図である。２は、実施例３で得られた共重合体のＤＳＣ
線図である。３は、実施例５で得られた共重合体のＤＳ
Ｃ線図である。４は、比較のためのオルガノポリシロキ
サンのＤＳＣ線図である。
図である。２は、実施例３で得られた共重合体のＤＳＣ
線図である。３は、実施例５で得られた共重合体のＤＳ
Ｃ線図である。４は、比較のためのオルガノポリシロキ
サンのＤＳＣ線図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１）： 【化１】 ［式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ2 及びＲ3 は
独立に１価炭化水素基又はハロゲン化アルキル基であ
り、Ａは水素原子又は下記一般式： −ＳｉＲ4 （式中、Ｒ4 は独立に水素原子又は１価有機基である。
但し、少なくとも一つのＲ4 は１価有機基である）で表
されるオルガノシリル基であり、ａは４以上の整数であ
り、ｂは２以上の整数であり、ｃは０以上の整数であ
る］で表されるオルガノシロキサン共重合体。 - 【請求項２】 下記式（２）： 【化２】 で表されるシクロトリシロキサンを、場合によっては下
記一般式（３）： 【化３】 （式中、Ｒ2 及びＲ3 は独立に１価炭化水素基又はハロ
ゲン化アルキル基である）で表されるシクロトリシロキ
サンとともに、下記一般式（４）： Ｒ1 （Ｒ5 Ｒ6 ＳｉＯ）n Ｌｉ （４） （式中、Ｒ1 は１価炭化水素基であり、Ｒ5 及びＲ6 は
独立に１価炭化水素基又はハロゲン化アルキル基であ
り、ｎは０以上の整数である）で表されるリチウム化合
物の存在下に開環重合させ、次に反応混合物に酸又は下
記一般式（５）： ＸＳｉＲ4 （５） （式中、Ｘはハロゲン原子であり、Ｒ4 は独立に水素原
子又は１価有機基である。但し、少なくとも一つのＲ4
は１価有機基である）で表されるオルガノハロシランを
添加して前記の開環重合を停止させる工程を有する請求
項１に記載のオルガノシロキサン共重合体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20150595A JPH0931199A (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 |
| US08/678,755 US5693735A (en) | 1995-07-12 | 1996-07-11 | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same |
| US08/923,082 US5852153A (en) | 1995-07-12 | 1997-09-04 | Trimethylsiloxy group-containing polysiloxane and a process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20150595A JPH0931199A (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0931199A true JPH0931199A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=16442170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20150595A Pending JPH0931199A (ja) | 1995-07-12 | 1995-07-14 | オルガノシロキサン共重合体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0931199A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013136662A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
| JP2013185147A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 両末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
| JP2016216685A (ja) * | 2015-05-26 | 2016-12-22 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物および半導体装置 |
-
1995
- 1995-07-14 JP JP20150595A patent/JPH0931199A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013136662A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 片末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
| JP2013185147A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 両末端官能基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法 |
| JP2016216685A (ja) * | 2015-05-26 | 2016-12-22 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型シリコーン組成物および半導体装置 |
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