JP2016174029A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態の半導体装置は、第1の面と、第1の面に対向する第2の面を有する半導体基板の第1の面に設けられた第1導電型のアノード領域と、第2の面に設けられた第2導電型のカソード領域と、アノード領域とカソード領域との間に設けられ、カソード領域よりも第2導電型の不純物濃度の低い第2導電型のドリフト領域と、を有するダイオード部と、第1の面に設けられ、ダイオード部に向かって第1の面における面密度が低下する第2導電型の複数のエミッタ領域と、第2の面に設けられた第1導電型のコレクタ領域と、エミッタ領域とコレクタ領域との間に設けられた第1導電型のベース領域と、ベース領域とコレクタ領域との間に設けられたドリフト領域と、を有するIGBT部と、を備える。
【選択図】図1
Description
本実施形態の半導体装置は、第1の面と、第1の面に対向する第2の面を有する半導体基板の第1の面に設けられた第1導電型のアノード領域と、第2の面に設けられた第2導電型のカソード領域と、アノード領域とカソード領域との間に設けられ、カソード領域よりも第2導電型の不純物濃度の低い第2導電型のドリフト領域と、を有するダイオード部と、第1の面に設けられ、ダイオード部に向かって第1の面における面密度が低下する第2導電型の複数のエミッタ領域と、第2の面に設けられた第1導電型のコレクタ領域と、エミッタ領域と前記コレクタ領域との間に設けられた第1導電型のベース領域と、ベース領域とコレクタ領域との間に設けられたドリフト領域と、を有するIGBT部と、を備える。
本実施形態の半導体装置は、IGBT部に、エミッタ領域の面密度が第1の値である第1の領域と、第1の領域とダイオード部との間に設けられ、面密度が第1の値より小さい第2の値である第2の領域を有する点で、第1の実施形態と異なっている。第1の実施形態と重複する内容については、一部記述を省略する。
本実施形態の半導体装置は、IGBT部とダイオード部の構造が異なる点で、第2の実施形態と異なっている。第2の実施形態と重複する内容については、一部記述を省略する。
12 p型の第1のアノード領域(アノード領域)
14 p+型の第2のアノード領域(アノード領域)
16 n+型のカソード領域
18 n−型のドリフト領域
20 第1の共通電極
22 第2の共通電極
26 ゲート絶縁膜
30 n+型のエミッタ領域
32 p+型のコレクタ領域
34 p型のベース領域
36 p++型のベースコンタクト領域
40 ゲート電極
100 RC−IGBT(半導体装置)
200 RC−IGBT(半導体装置)
300 RC−IGBT(半導体装置)
Claims (5)
- 第1の面と、前記第1の面に対向する第2の面を有する半導体基板の前記第1の面に設けられた第1導電型のアノード領域と、
前記第2の面に設けられた第2導電型のカソード領域と、
前記アノード領域と前記カソード領域との間に設けられ、前記カソード領域よりも第2導電型の不純物濃度の低い第2導電型のドリフト領域と、を有するダイオード部と、
前記第1の面に設けられ、前記ダイオード部に向かって前記第1の面における面密度が低下する第2導電型の複数のエミッタ領域と、
前記第2の面に設けられた第1導電型のコレクタ領域と、
前記エミッタ領域と前記コレクタ領域との間に設けられた第1導電型のベース領域と、
前記ベース領域と前記コレクタ領域との間に設けられた前記ドリフト領域と、を有するIGBT部と、
を備える半導体装置。 - 前記IGBT部の前記第1の面に設けられ、前記アノード領域よりも第1導電型の不純物濃度の高い第1導電型のベースコンタクト領域を、更に有する請求項1記載の半導体装置。
- 前記面密度が連続的に低下する半導体装置。
- 前記IGBT部に前記面密度が第1の値である第1の領域と、前記第1の領域と前記ダイオード部との間に設けられ、前記面密度が前記第1の値より小さい第2の値である第2の領域を有する半導体装置。
- 前記ベース領域内に設けられたゲート絶縁膜と、前記ベース領域との間に前記ゲート絶縁膜を挟むゲート電極とを、更に備える半導体装置。
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107195678A (zh) * | 2017-06-05 | 2017-09-22 | 四川大学 | 一种载流子存储增强的超结igbt |
WO2018074427A1 (ja) * | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP2018125486A (ja) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
WO2019078131A1 (ja) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2019230851A1 (ja) * | 2018-05-30 | 2019-12-05 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
WO2020031551A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2020-02-13 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US10763252B2 (en) | 2017-03-15 | 2020-09-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
WO2021182352A1 (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP2021150528A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその制御方法 |
US11239234B2 (en) | 2017-12-14 | 2022-02-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019075536A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-16 | 株式会社村田製作所 | パワーアンプモジュール |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008300528A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Denso Corp | 半導体装置 |
JP2013021304A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-31 | Denso Corp | 半導体装置 |
-
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008300528A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Denso Corp | 半導体装置 |
JP2013021304A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-31 | Denso Corp | 半導体装置 |
Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10741547B2 (en) | 2016-10-17 | 2020-08-11 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
WO2018074427A1 (ja) * | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JPWO2018074427A1 (ja) * | 2016-10-17 | 2019-03-07 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP2018125486A (ja) * | 2017-02-03 | 2018-08-09 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US10763252B2 (en) | 2017-03-15 | 2020-09-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN107195678B (zh) * | 2017-06-05 | 2019-08-13 | 四川大学 | 一种载流子存储增强的超结igbt |
CN107195678A (zh) * | 2017-06-05 | 2017-09-22 | 四川大学 | 一种载流子存储增强的超结igbt |
CN110462838A (zh) * | 2017-10-18 | 2019-11-15 | 富士电机株式会社 | 半导体装置 |
US11195941B2 (en) | 2017-10-18 | 2021-12-07 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
JPWO2019078131A1 (ja) * | 2017-10-18 | 2020-05-28 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
CN110462838B (zh) * | 2017-10-18 | 2023-07-14 | 富士电机株式会社 | 半导体装置 |
WO2019078131A1 (ja) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US11810914B2 (en) | 2017-12-14 | 2023-11-07 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
US11239234B2 (en) | 2017-12-14 | 2022-02-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
CN112204750B (zh) * | 2018-05-30 | 2024-01-30 | 罗姆股份有限公司 | 半导体装置 |
JPWO2019230851A1 (ja) * | 2018-05-30 | 2021-06-24 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
CN112204750A (zh) * | 2018-05-30 | 2021-01-08 | 罗姆股份有限公司 | 半导体装置 |
US11728333B2 (en) | 2018-05-30 | 2023-08-15 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP7286635B2 (ja) | 2018-05-30 | 2023-06-05 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
WO2019230851A1 (ja) * | 2018-05-30 | 2019-12-05 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
WO2020031551A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2020-02-13 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
US11264491B2 (en) | 2018-08-10 | 2022-03-01 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device for improving transistor characteristics during turn-on |
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JPWO2020031551A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2021-02-15 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP7247930B2 (ja) | 2020-03-10 | 2023-03-29 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
JP2021144998A (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
WO2021182352A1 (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-16 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
CN113497033A (zh) * | 2020-03-19 | 2021-10-12 | 株式会社东芝 | 半导体装置及其控制方法 |
JP2021150528A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその制御方法 |
JP7339908B2 (ja) | 2020-03-19 | 2023-09-06 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその制御方法 |
JP7471192B2 (ja) | 2020-10-01 | 2024-04-19 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
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