JP2016096337A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板洗浄装置18は、基板Wを保持する基板保持機構1と、基板保持機構1に保持された基板Wを回転させる基板回転機構2と、基板Wの表面に向けて2流体ジェットを噴出させる2流体ノズル46と、基板の周囲に配置されるカバーと、カバーを回転させるカバー回転機構を備える。カバー回転機構は、基板と同一の回転方向にカバーを回転させる。
【選択図】 図4
Description
液滴の跳ね返りを抑えることができ、液滴が基板の表面に再付着するのを防ぐことができる。
face)ポッド、またはFOUP(Front Opening Unified Pod)を搭載することができる
。SMIF、FOUPは、内部に基板カセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
。そして、給気量を排気量より低く制御することにより、基板洗浄装置(基板洗浄ユニット)内の雰囲気を適切に排気される。これにより、液滴を気流に乗せて適切に排出することができ、液滴が基板上に飛散するのを抑制することができる。さらに、回転カバー3の外側には、固定カバー75が設けられている。この固定カバー75は、回転しない構成とされている。
の範囲で傾けて設けることができる。図12(a)の例では、2流体ノズル46が、基板Wの回転方向の上流側に向けて、回転方向(接線方向)とのなす角0°で設けられている。これにより、回転する基板に対する2流体ジェットの相対速度が上昇し、洗浄性能を向上させることができる。図12(b)の例では、2流体ノズル46が、基板Wの回転方向(接線方向)とのなす角90°で設けられている。この場合、回転する基板に対する2流体ジェットの相対速度が低下せず、洗浄性能を(低下させずに)維持することができる。
2 モータ(基板回転機構、カバー回転機構)
3 回転カバー
10 ハウジング
12 ロードポート
14a〜14d 研磨ユニット
16 第1洗浄ユニット
18 第2洗浄ユニット(基板洗浄装置)
20 乾燥ユニット
22 第1基板搬送ロボット
24 基板搬送ユニット
26 第2基板搬送ロボット
28 第3基板搬送ロボット
30 制御部
40 洗浄槽
42 支持軸
44 揺動アーム
46 流体ノズル(2流体ノズル)
50 キャリアガス供給ライン
52 洗浄液供給ライン
54 モータ
60 ペンシル型洗浄具
62 リンス液供給ノズル
64 薬液供給ノズル
70 チャック
71 台座
72 ステージ
73 支持軸
74 排出孔
75 固定カバー
80 ケーシング
81 通気プレート
82 基板搬送エリア
83 基板搬送エリア
84 送風ユニット
85 気体流入口
86 気体排出口
87 気体供給ライン
88 気体供給ポート
89 バルブ
90 超音波洗浄機
W 基板
Claims (12)
- 基板を保持する基板保持機構と、
前記基板保持機構に保持された前記基板を回転させる基板回転機構と、
前記基板の表面に向けて2流体ジェットを噴出させる2流体ノズルと、
前記基板の周囲に配置されるカバーと、
前記カバーを回転させるカバー回転機構と、
を備え、
前記カバー回転機構は、前記基板と同一の回転方向に前記カバーを回転させることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を保持する基板保持機構と、
前記基板保持機構に保持された前記基板を回転させる基板回転機構と、
前記基板の表面を搖動して洗浄する搖動洗浄機構と、
前記基板の周囲に配置されるカバーと、
前記カバーを回転させるカバー回転機構と、
を備え、
前記カバー回転機構は、前記基板と同一の回転方向に前記カバーを回転させることを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板を保持する基板保持機構と、
前記基板保持機構に保持された前記基板を回転させる基板回転機構と、
前記基板の表面を超音波を用いて洗浄する超音波洗浄機構と、
前記基板の周囲に配置されるカバーと、
前記カバーを回転させるカバー回転機構と、
を備え、
前記カバー回転機構は、前記基板と同一の回転方向に前記カバーを回転させることを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記カバー回転機構は、前記基板と同一の角速度で前記カバーを回転させる、請求項1〜請求項3のいずれかに記載の基板洗浄装置。
- 前記基板の外端と前記カバーの先端との径方向の距離Aは、2mm〜80mmの範囲に設定され、
前記基板と前記カバーの先端との高さ方向の距離Bは、3mm〜50mmの範囲に設定され、
前記基板の外端と前記カバーの内周面との径方向の距離Cは、2mm〜80mmの範囲に設定される、請求項1〜請求項4のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 前記基板の外端と前記カバーの先端との径方向の距離Aは、2mmに設定され、
前記基板と前記カバーの先端との高さ方向の距離Bは、15mmに設定され、
前記基板の外端と前記カバーの内周面との径方向の距離Cは、19mmに設定される、請求項5に記載の基板洗浄装置。 - 前記2流体ノズルは、前記基板の回転方向の上流側に向けて前記2流体ジェットを噴出するように、所定角度で傾けて設けられている、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記基板洗浄装置を収容するケーシングと、
前記ケーシングの壁面に設けられ、前記ケーシング内に気体を流入させる一対の気体流入口と、
前記ケーシングの下部に設けられ、前記ケーシング内の気体を排出する気体排出口と、
を備え、
前記一対の気体流入口は、前記ケーシングの対向する壁面に設けられ、前記基板より高い位置に配置されている、請求項1に記載の基板洗浄装置。 - 前記基板洗浄装置の上流側および下流側には、それぞれ基板搬送エリアが隣接して設けられており、
前記気体流入口は、前記基板搬送エリアの送風ユニットから送風される気体を前記ケーシング内に導入する、請求項8に記載の基板洗浄装置。 - 前記気体流入口には、前記ケーシング内に前記気体を供給するための気体供給ラインが接続されている、請求項8に記載の基板洗浄装置。
- 前記2流体ノズルは、導電性部材で構成される、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 導電性を有する薬液を前記基板に供給する薬液供給ノズルを備える、請求項1に記載の基板洗浄装置。
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C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
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A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
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C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
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C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
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C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
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C23 | Notice of termination of proceedings |
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C30A | Notification sent |
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