JP6612176B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Description
本発明の第1の実施の形態の基板洗浄装置の構成を、図面を参照して説明する。図1は、本実施の形態の基板洗浄装置(基板洗浄ユニット)を備えた基板処理装置の全体構成を示す平面図である。図1に示すように、基板処理装置は、略矩形状のハウジング10と、多数の半導体ウェハ等の基板をストックする基板カセットが載置されるロードポート12を備えている。ロードポート12は、ハウジング10に隣接して配置されている。ロードポート12には、オープンカセット、SMIF(Standard Manufacturing Inter
face)ポッド、またはFOUP(Front Opening Unified Pod)を搭載することができる
。SMIF、FOUPは、内部に基板カセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
次に、本発明の第2の実施の形態の基板洗浄装置について説明する。ここでは、第2の実施の形態の基板洗浄装置が、第1の実施の形態と相違する点を中心に説明する。ここで特に言及しない限り、本実施の形態の構成および動作は、第1の実施の形態と同様である。
12 ロードポート
14a〜14d 研磨ユニット
16 第1洗浄ユニット
18 第2洗浄ユニット(基板洗浄装置)
22 第1基板搬送ロボット
24 基板搬送ユニット
26 第2基板搬送ロボット
28 第3基板搬送ロボット
30 制御部
40 洗浄槽
42 支持軸
44 搖動アーム
46 流体ノズル
46a ノズル先端部
46b ノズル根端部
50 キャリアガス供給ライン
52 洗浄液供給ライン
54 モータ
60 ペンシル型洗浄具
70 基板保持機構
72 モータ(回転機構)
W 基板
Claims (5)
- 基板を保持する基板保持機構と、
前記基板保持機構に保持された前記基板を回転させる基板回転機構と、
回転している前記基板の表面に向けて液滴を含む2流体ジェットを噴出させる2流体ノズルと、
を備え、
前記2流体ノズルは、ノズル先端部が導電性材料で構成されており、ノズル根端部は非導電性材料で構成され、前記2流体ノズルからの前記液滴をプラスに帯電させてキャリアガスとともに噴出するように構成されており、
前記導電性材料は、導電性カーボンPEEKまたは導電性カーボンPTFEである、基板洗浄装置。 - 前記2流体ジェットの噴出速度は、少なくとも200m/秒以上である、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 先端に前記2流体ノズルが設けられ、該2流体ノズルを基板上で円弧状に移動させるための搖動アームと、
前記搖動アームの前記2流体ノズルと他端側に設けられ、該搖動アームと回転自在に連結された支持軸と、
をさらに備えた、請求項1記載の基板洗浄装置。 - 前記2流体ノズルから2流体ジェットを前記基板の表面に噴出させる制御装置を、さらに備えた、請求項1記載の基板洗浄装置。
- 基板を基板保持機構に保持し、
前記基板保持機構に保持された基板を回転させ、
ノズル先端部が導電性材料で構成されるとともにノズル根端部が非導電性材料で構成された2流体ノズルを用いて、前記基板の表面に向けて、プラスに帯電させた液滴とキャリアガスを含む2流体ジェットを噴出して、該基板を洗浄することを特徴とする、基板洗浄方法。
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