JP2016020464A - 封止用樹脂組成物及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(A)エポキシ樹脂
(B)硬化剤
(C)無機充填材
(D)下記一般式(1)で示されるジアミノトリアジン化合物
半導体素子と、
前記半導体素子に接続されるボンディングワイヤと、
上述の封止用樹脂組成物の硬化物により構成され、かつ前記半導体素子と前記ボンディングワイヤを封止する封止樹脂と、
を備える半導体装置が提供される。
本実施形態に係る封止用樹脂組成物は、半導体素子をモールドする封止用樹脂組成物であって、以下の成分を含む。
(A)エポキシ樹脂
(B)硬化剤
(C)無機充填材
(D)下記一般式(1)で示されるジアミノトリアジン化合物
(A)エポキシ樹脂は、1分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物(モノマー、オリゴマー及びポリマー)をいい、分子量及び分子構造を特に限定するものではない。(A)エポキシ樹脂としては、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂等の結晶性エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂;トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂等の多官能エポキシ樹脂;フェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル型エポキシ樹脂等のフェノールアラルキル型エポキシ樹脂;ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレンの2量体をグリシジルエーテル化して得られるエポキシ樹脂等のナフトール型エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート等のトリアジン核含有エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール型エポキシ樹脂等の有橋環状炭化水素化合物変性フェノール型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いても2種類以上を併用してもよい。
硬化剤(B)は、エポキシ樹脂(A)を硬化可能な成分であれば特に限定されず、例えば、重付加型の硬化剤、触媒型の硬化剤、縮合型の硬化剤を挙げることができる。
2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール(EMI24)等のイミダゾール化合物;BF3錯体等のルイス酸等が挙げられる。
(C)無機充填材は、一般の封止用樹脂組成物に使用されている公知のものを用いることができる。(C)無機充填材としては、例えば、溶融球状シリカ、溶融破砕シリカ、結晶シリカ等のシリカ、タルク、アルミナ、チタンホワイト、窒化珪素等が挙げられる。これらの中でも、シリカが好ましく、球状溶融シリカがより好ましい。これらの(C)無機充填材は、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。(C)無機充填材の形状としては、球状であり、粒度分布が広いものが好ましい。このような無機充填材を用いることで、封止用樹脂組成物の溶融粘度の上昇を抑え、また、(C)無機充填材の含有量を高めることができる。なお、粒度分布の広い(C)無機充填材を含有させるには、平均粒径の異なる複数種の無機充填材を混合して使用する方法などがある。また、(C)無機充填材は、カップリング剤により表面処理されていてもよい。さらに、必要に応じて、(C)無機充填材をエポキシ樹脂等で予め処理したものを用いてもよい。
(D)ジアミノトリアジン化合物は、下記式(1)で表される化合物である。(D)ジアミノトリアジン化合物は、1種類を単独で用いても2種以上を併用してもよい。本実施形態の封止用樹脂組成物は、トリアジン環構造にアミノ基が2つを有する特定の化合物を含有するため、金属に対する十分な密着性と、得られる半導体装置の高い高温保管特性との両立を達成することができる。
この理由は定かではないが、トリアジン骨格中の6−位に備える有機基が封止用樹脂組成物中のエポキシ樹脂との相溶性を向上させ、結果として樹脂組成物が金属周辺部に対して、流動しやすくなるためと考えられる。また、トリアジン骨格中の2−位および4−位に備える2つのアミノ基と3−位の窒素原子とが、リードフレームや有機基板、チップ等との密着性を向上させると考えられる。
また、置換基Rは炭素原子(C)と水素原子(H)、窒素原子(N)、酸素原子(O)、硫黄原子(S)以外にもケイ素原子(Si)、ゲルマニウム原子(Ge)等の半金属原子や、フッ素原子(F)、塩素原子(Cl)、臭素原子(Br)、ヨウ素原子(I)のハロゲン原子を含むものも採用することができる。
また、置換基Rとしては、その置換基内にエーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、スルフィド結合、チオエステル結合等の結合基を有していてもよく、また、フェニル基、ナフチル基等の芳香族置換基、ピロール、ピリジン、チオフェン、フラン、インドール等のヘテロ原子を含む芳香族置換基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の脂環式置換基等を含んでいてもよい。
置換基Rがこのような活性水素原子を有する基を置換基内に含むことで、(D)ジアミノトリアジン化合物と封止用樹脂組成物中の他の成分との相溶性をさらに向上させることができる。
(D)ジアミノトリアジン化合物の1分子中における活性水素原子を有する基の数は適宜設定することができるが、たとえば下限値として1以上であり、上限値としてはたとえば10以下であり、好ましくは5以下である。
このような範囲に設定することで、効率的に所望の効果を発現することができる。
封止用樹脂組成物は、(E)カップリング剤をさらに含有していてもよい。(E)カップリング剤は、樹脂成分である(A)エポキシ樹脂等と(C)無機充填材とを連結させる成分である。(E)カップリング剤としては、エポキシシラン、アミノシラン、メルカプトシラン(メルカプト基を有するシランカップリング剤)(E1)等のシランカップリング剤を挙げることができる。これらの(E)カップリング剤は、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
本実施形態の封止用樹脂組成物は、(F)硬化促進剤をさらに含有していてもよい。(F)硬化促進剤は、(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤との反応を促進する機能を有する成分であり、一般に使用される硬化促進剤が用いられる。
これらのうち、硬化性、密着性等の観点からはリン原子含有化合物が好ましい。さらには、耐半田性、流動性等の観点からは、ホスホベタイン化合物、ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が特に好ましく、連続成形における金型の汚染が軽度である点等からは、テトラ置換ホスホニウム化合物、ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物等のリン原子含有化合物は特に好ましい。
有機ホスフィンとしては、例えばエチルホスフィン、フェニルホスフィン等の第1ホスフィン;ジメチルホスフィン、ジフェニルホスフィン等の第2ホスフィン;トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の第3ホスフィン等を挙げることができる。
テトラ置換ホスホニウム化合物としては、例えば下記式(6)で表される化合物等を挙げることができる。
ホスホベタイン化合物としては、例えば、下記式(7)で表される化合物等を挙げることができる。
ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物としては、例えば、下記式(8)で表される化合物等を挙げることができる。
ホスホニウム化合物とシラン化合物との付加物としては、例えば下記式(9)で表される化合物等を挙げることができる。
封止用樹脂組成物は、さらに必要に応じて他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、着色剤、イオン捕捉剤、離型剤、低応力成分、難燃剤等を挙げることができる。
着色剤としては、カーボンブラック、ベンガラ等を挙げることができる。
イオン捕捉剤としては、ハイドロタルサイト等を挙げることができる。イオン捕捉剤は中和剤として用いられる場合もある。
離型剤としては、カルナバワックス等の天然ワックス、合成ワックス、ステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸及びその金属塩、パラフィンなどを挙げることができる。
低応力成分としては、シリコーンオイル、シリコーンゴムなどを挙げることができる。
難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛、ホスファゼン等を挙げることができる。
まず、前述の各成分を、ミキサー等を用いて常温で均一に混合し、その後、必要に応じて、加熱ロール、ニーダー、押出機等の混練機を用いて溶融混練する。続いて、必要に応じて、得られた混練物を冷却、粉砕し、所望の分散度や流動性等に調整して、封止用樹脂組成物を得ることができる。本実施形態の封止用樹脂組成物は、粉末状として使用する他、有機溶媒を用いたワニスや、液状エポキシ樹脂を使用した液状組成物として使用することもできる。なお、溶媒を含む場合、各成分の含有量は固形分換算とする。
次に、本実施形態に係る封止用樹脂組成物を適用した半導体装置について説明する。
図1は本実施形態に係る半導体装置100を示す断面図である。
本実施形態の半導体装置100は、半導体素子20と、半導体素子20に接続されるボンディングワイヤ40と、封止樹脂50と、を備えるものであり、当該封止樹脂50は、前述の封止用樹脂組成物の硬化物により構成される。
より具体的には、半導体素子20は、基材30上にダイアタッチ材10を介して固定されており、半導体装置100は、半導体素子20上に設けられた電極パッド22からボンディングワイヤ40を介して接続されるアウターリード34を有する。
ボンディングワイヤ40は用いられる半導体素子20等を勘案しながら設定することができるが、たとえば銅ボンディングワイヤを用いることができる。
(A)エポキシ樹脂
・エポキシ樹脂1:ビフェニル型エポキシ樹脂(三菱化学社製商品名YX4000K)
・エポキシ樹脂2:ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製商品名NC−3000)
・エポキシ樹脂3:フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製商品名NC−2000)
・フェノール樹脂系硬化剤1:水酸基当量198g/eq、軟化点64.5℃のビフェニレン骨格を有するフェノールアラルキル樹脂(日本化薬(株)社製、商品名「GPH−65」)。下記一般式(10)において、R47が4,4'−ジメチレンビフェニルである構造を有するものである。
・フェノール樹脂系硬化剤2:水酸基当量97g/eq、軟化点110℃のトリスフェノールメタン骨格を有するフェノール樹脂(明和化成(株)社製、商品名「MEH−7500」)。下記一般式(10)において、R47がヒドロキシフェニルメチレンである構造を有するものである。
・無機充填材1:平均粒径30μm、比表面積1.7m2/gの球状溶融シリカ
・無機充填材2:平均粒径0.5μm、比表面積5.9m2/gの球状溶融シリカ
・化合物1:下記式(1a)で表されるジアミノトリアジン化合物(2,4−ジアミノ−6−(4,5−ジヒドロキシペンチル)−1,3,5−トリアジン)
冷却管及び撹拌装置付きのセパラブルフラスコに2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン13.7g(0.1mol)、酢酸パラジウム0.224g(0.001mol)、トリフェニルホスフィン0.52g(0.002mol)を仕込み、フラスコ内部をアルゴン置換した。さらにフラスコ内に3−クロロ‐1,2−プロパンジオール11g(0.1mol)、トリエチルアミン20.2g(0.2mol)、テトラヒドロフラン200mlを仕込み、60℃で24時間加熱した。反応用液を濃縮後、酢酸エチル200mlに溶解し、水洗した。反応物の酢酸エチル溶液をフラスコに移し、パラジウム炭素1gを添加した。反応系内を水素で置換し、水素を充てんした風船からフラスコ内部へ水素を供給しながら12時間撹拌した。反応用液をろ過濃縮し、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶した。析出した結晶をろ過、減圧乾燥することで、化合物1を得た。
撹拌装置付きのセパラブルフラスコに2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリアジン12.6g(0.1mol)、DL−グリセリン酸10.6g(0.1mol)、4−(4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−4−メチルモルホリニウムクロリド27.6g(0.1mol)、N−メチルモルホリン10.1g(0.1mol)、テトラヒドロフラン200mlを仕込み、12時間撹拌した。白色沈殿を濾去し、反応溶液を濃縮した。ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶した。析出した結晶をろ過、減圧乾燥することで、化合物2を得た。
冷却管及び撹拌装置付きのセパラブルフラスコに4−ブロモカテコール18.9g(0.1mol)、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン13.7g(0.1mol)、酢酸パラジウム0.224g(0.001mol)、トリフェニルホスフィン0.52g(0.002mol)を仕込み、フラスコ内部をアルゴン置換した。さらにフラスコ内にトリエチルアミン20.2g(0.2mol)、テトラヒドロフラン200mlを仕込み、60℃で24時間加熱した。反応用液を濃縮後、酢酸エチル200mlに溶解し、水洗した。反応物の酢酸エチル溶液をフラスコに移し、パラジウム炭素1gを添加した。反応系内を水素で置換し、水素を充てんした風船からフラスコ内部へ水素を供給しながら12時間撹拌した。反応用液をろ過濃縮し、ヘキサン/酢酸エチル混合溶媒で再結晶し、析出した結晶をろ過、減圧乾燥することで、化合物3を得た。
・カップリング剤1:γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
・カップリング剤2:N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
冷却管及び攪拌装置付きのセパラブルフラスコにベンゾキノン6.49g(0.060mol)、トリフェニルホスフィン17.3g(0.066mol)及びアセトン40mlを仕込み、攪拌下、室温で反応した。析出した結晶をアセトンで洗浄後、ろ過、乾燥し暗緑色結晶の硬化促進剤1を得た。
冷却管及び攪拌装置付きのセパラブルフラスコにビス(4‐ヒドロキシフェニル)スルホン15.00g(0.060mol)、テトラフェニルホスホニウムブロミド16.77g(0.040mol)及びメタノール100mlを仕込み攪拌し、均一に溶解させた。予め水酸化ナトリウム1.60g(0.04ml)を10mlのメタノールに溶解した水酸化ナトリウム溶液をフラスコ内に徐々に滴下すると結晶が析出した。析出した結晶をろ過、水洗、真空乾燥し、硬化促進剤2を得た。
冷却管及び攪拌装置付きのセパラブルフラスコに2,3−ジヒドロキシナフタレン12.81g(0.080mol)、テトラフェニルホスホニウムブロミド16.77g(0.040mol)及びメタノール100mlを仕込み攪拌し、均一に溶解させた。予め水酸化ナトリウム1.60g(0.04ml)を10mlのメタノールに溶解した水酸化ナトリウム溶液をフラスコ内に徐々に滴下すると結晶が析出した。析出した結晶をろ過、水洗、真空乾燥し、硬化促進剤3を得た。
・硬化促進剤4:以下の方法にて合成した、下記式(15)で表されるテトラ置換ホスホニウム化合物
冷却管及び攪拌装置付きのセパラブルフラスコに2,3−ジヒドロキシナフタレン12.81g(0.080mol)、トリメトキシフェニルシラン7.92g(0.04mol)、テトラフェニルホスホニウムブロミド16.77g(0.040mol)及びメタノール100mlを仕込み攪拌し、均一に溶解させた。予め水酸化ナトリウム1.60g(0.04ml)を10mlのメタノールに溶解した水酸化ナトリウム溶液をフラスコ内に徐々に滴下すると結晶が析出した。析出した結晶をろ過、水洗、真空乾燥し、硬化促進剤4を得た。
・硬化促進剤5:トリフェニルホスフィン
・着色剤:カーボンブラック
・イオン捕捉剤:ハイドロタルサイト(協和化学社製DHT−4H)
・離型剤:カルナバワックス(日興ファインプロダクツ社製ニッコウカルナバ)
エポキシ樹脂1(5.80質量部)、フェノール樹脂系硬化剤1(5.50質量部)、無機充填材1(77.50質量部)、無機充填材2(10.00質量部)、化合物1(0.05質量部)、カップリング剤2(0.20質量部)、硬化促進剤1(0.25質量部)、着色剤(0.40質量部)、イオン捕捉剤(0.10質量部)及び離型剤(0.20質量部)を常温でミキサーを用いて混合し、次に70〜100℃でロール混練した。次いで、冷却後、粉砕して実施例1の封止用樹脂組成物を得た。
各成分の使用量(配合量)を表1に示す通りにしたこと以外は実施例1と同様にして、実施例2〜19、比較例1〜3の各封止用樹脂組成物を得た。
TEG(Test Element Group)チップ(3.5mm×3.5mm)を352ピンBGA(基板は、厚さ0.56mm、ビスマレイミド・トリアジン樹脂/ガラスクロス基板、パッケージサイズは、30mm×30mm、厚さ1.17mm)上に搭載した。次いで、銅ワイヤ(銅純度99.99質量%、径25μm)を用いて電極パッドにワイヤピッチ80μmでワイヤボンディングした。
これにより得られた構造体を、低圧トランスファー成形機(TOWA製「Yシリーズ」)を用いて、金型温度175℃、注入圧力6.9MPa、硬化時間2分の条件で、得られた各実施例及び比較例の封止用樹脂組成物を用いて封止成形し、352ピンBGAパッケージを作製した。その後、得られたBGAパッケージを175℃、4時間の条件で後硬化して半導体装置(電子部品装置)を得た。
得られた各実施例及び比較例の封止用樹脂組成物及び半導体装置について、以下の方法にて評価を行った。評価結果は表1に示す。
各金属(Ag、Cu、PPF(プリ・プレーティング・フレーム)、Ni)に対する密着性を以下の方法で評価した。前記各金属からなる基板上に、得られた封止用樹脂組成物を175℃、6.9MPa、2分間の条件で一体成形し175℃4時間ポストキュアーを行った。その後各基板との剪断接着力を260℃の条件下で測定した。
なお、密着性の評価は比較例1を「1.0」とした相対値にて行っている。
得られた半導体装置について、以下の方法によるHTSL(高温保管試験)を行った。各半導体装置を、温度200℃、1000時間の条件下に保管した。保管後の半導体装置について、ワイヤと電極パッドとの間における電気抵抗値を測定した。各半導体装置の平均値が初期の抵抗値の平均値に対し110%未満の電気抵抗値を示すものを◎、110%以上120%以下の電気抵抗値を示すものを○、120%よりも大きい電気抵抗値を示すものを×とした。
具体的には、ジアミノトリアジン化合物の代わりに3−アミノ−5―メルカプト―1,2,4−トリアゾールを用いた比較例1では、高温保管性に劣る結果となった。また、比較例2−3では高温保管性は比較的優れるものの、金属に対する密着性には劣る結果となった。
10 ダイアタッチ材
20 半導体素子
22 電極パッド
30 基材
32 ダイパッド
34 アウターリード
40 ボンディングワイヤ
50 封止樹脂
Claims (6)
- 半導体素子と、前記半導体素子に接続される、銅ボンディングワイヤと、を封止するために用いられる、請求項1に記載の封止用樹脂組成物。
- 前記一般式(1)で示されるジアミノトリアジン化合物が、R置換基内にアルコール性水酸基、フェノール性水酸基及びカルボキシル基から選ばれる活性水素原子を有する基1つ以上を有する、請求項1または2に記載の封止用樹脂組成物。
- 前記硬化剤がフェノール樹脂系硬化剤である、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。
- 前記封止用樹脂組成物全体に対する前記無機充填材の含有量が、35質量%以上95質量%以下である、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の封止用樹脂組成物。
- 半導体素子と、
前記半導体素子に接続されるボンディングワイヤと、
請求項1ないし5のいずれか一項に記載の封止用樹脂組成物の硬化物により構成され、かつ前記半導体素子と前記ボンディングワイヤを封止する封止樹脂と、
を備える半導体装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107200995A (zh) * | 2016-03-16 | 2017-09-26 | 住友电木株式会社 | 环氧树脂组合物和半导体装置 |
JP2020070391A (ja) * | 2018-11-01 | 2020-05-07 | 株式会社ダイセル | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JP2021054955A (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、樹脂付き銅箔、硬化物、及び電子部品 |
WO2021220726A1 (ja) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 封止用エポキシ樹脂組成物、電子部品装置及びその製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6940508B2 (ja) * | 2016-08-30 | 2021-09-29 | リンテック株式会社 | 樹脂組成物、樹脂シート、及び半導体装置 |
JP7139598B2 (ja) * | 2017-06-23 | 2022-09-21 | 住友ベークライト株式会社 | 封止用樹脂組成物の製造方法及び電子装置の製造方法 |
JPWO2019035430A1 (ja) * | 2017-08-14 | 2020-08-06 | 日立化成株式会社 | 封止用樹脂組成物、半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6225118A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Toshiba Chem Corp | 封止用樹脂組成物 |
JPS62207320A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-11 | Hitachi Ltd | 熱硬化性樹脂組成物で封止してなる半導体装置 |
JPH06322076A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JP2001055488A (ja) * | 1999-06-10 | 2001-02-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フリップチップ型半導体装置用封止材及びフリップチップ型半導体装置 |
JP2009209317A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Dic Corp | エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物 |
JP2009209318A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Dic Corp | エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物 |
JP2010114408A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体装置 |
JP2014210732A (ja) * | 2013-04-19 | 2014-11-13 | 四国化成工業株式会社 | トリアジン化合物 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002128861A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-05-09 | Japan Epoxy Resin Kk | エポキシ樹脂組成物及びその製法 |
JP2003268200A (ja) | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Nitto Denko Corp | 光半導体封止用透明エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた光半導体装置 |
KR101250033B1 (ko) * | 2005-01-20 | 2013-04-02 | 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드 | 에폭시 수지 조성물, 그 잠복화 방법 및 반도체 장치 |
TWI475038B (zh) * | 2005-11-30 | 2015-03-01 | Dainippon Ink & Chemicals | 苯酚樹脂組成物、其硬化物、覆銅積層板用樹脂組成物、覆銅積層板及新穎苯酚樹脂 |
JP5400267B2 (ja) * | 2005-12-13 | 2014-01-29 | 日立化成株式会社 | 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 |
JP2008201873A (ja) | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Nitto Denko Corp | 半導体封止用樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 |
CN102666642A (zh) * | 2009-10-26 | 2012-09-12 | 住友电木株式会社 | 半导体封装用树脂组合物及使用其的半导体装置 |
KR101362887B1 (ko) * | 2011-05-23 | 2014-02-14 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 사용하여 밀봉된 반도체 소자 |
CN104428340B (zh) * | 2012-07-05 | 2019-01-22 | 日立化成株式会社 | 酚醛树脂组合物 |
-
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6225118A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Toshiba Chem Corp | 封止用樹脂組成物 |
JPS62207320A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-11 | Hitachi Ltd | 熱硬化性樹脂組成物で封止してなる半導体装置 |
JPH06322076A (ja) * | 1993-05-10 | 1994-11-22 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JP2001055488A (ja) * | 1999-06-10 | 2001-02-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フリップチップ型半導体装置用封止材及びフリップチップ型半導体装置 |
JP2009209317A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Dic Corp | エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物 |
JP2009209318A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Dic Corp | エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物 |
JP2010114408A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体装置 |
JP2014210732A (ja) * | 2013-04-19 | 2014-11-13 | 四国化成工業株式会社 | トリアジン化合物 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107200995A (zh) * | 2016-03-16 | 2017-09-26 | 住友电木株式会社 | 环氧树脂组合物和半导体装置 |
JP2020070391A (ja) * | 2018-11-01 | 2020-05-07 | 株式会社ダイセル | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
JP7329320B2 (ja) | 2018-11-01 | 2023-08-18 | 株式会社ダイセル | 硬化性エポキシ樹脂組成物 |
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