JP2021054955A - 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、樹脂付き銅箔、硬化物、及び電子部品 - Google Patents
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Abstract
Description
(A)エポキシ樹脂と、
(B)活性エステル基を有する化合物と、
(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤と、
(D)無機フィラーと、
を含有する硬化性樹脂組成物であって、
(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤が、JIS K6220に従って測定される融点を有するものである硬化性樹脂組成物により達成されることが見出された。
銅箔またはキャリア付き銅箔上に、上記の硬化性樹脂組成物を樹脂層として有することを特徴とする樹脂付き銅箔、
本発明の硬化性樹脂組成物、ドライフィルムの樹脂層、又は樹脂付き銅箔の樹脂層を硬化して得られる硬化物、および
この硬化物を有することを特徴とする電子部品
によっても達成することができる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、
(A)エポキシ樹脂と、
(B)活性エステル基を有する化合物と、
(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤と、
(D)無機フィラーと、
を有し、(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤が、JIS K6220に従って測定される融点を有するものである。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂を含む。(A)エポキシ樹脂は、エポキシ基を有する樹脂であり、従来公知のものをいずれも使用でき、好ましくは、分子中にエポキシ基を2個有する2官能性エポキシ樹脂、分子中にエポキシ基を3個有する多官能エポキシ樹脂等が挙げられる。なお、水素添加されたエポキシ樹脂であってもよい。また、(A)エポキシ樹脂は、固形エポキシ樹脂、半固形エポキシ樹脂、液状エポキシ樹脂の何れか1種または2種以上であってもよい。本明細書において、固形エポキシ樹脂とは40℃で固体状であるエポキシ樹脂をいい、半固形エポキシ樹脂とは20℃で固体状であり、40℃で液状であるエポキシ樹脂をいい、液状エポキシ樹脂とは20℃で液状のエポキシ樹脂をいう。液状の判定は、危険物の試験及び性状に関する省令(平成元年自治省令第1号)の別紙第2の「液状の確認方法」に準じて行う。例えば、特開2016−079384の段落23〜25に記載の方法にて行なう。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(B)活性エステル基を有する化合物を含む。(B)活性エステル基を有する化合物は、A)エポキシ樹脂の硬化剤として本発明の硬化性樹脂組成物に配合されるものであり、一分子中に2個以上の活性エステル基を有する化合物であることが好ましい。活性エステル基を有する化合物は、一般に、カルボン酸化合物とヒドロキシ化合物との縮合反応によって得ることができる。中でも、ヒドロキシ化合物としてフェノール化合物またはナフトール化合物を用いて得られる活性エステル基を有する化合物が好ましい。フェノール化合物またはナフトール化合物としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラック等が挙げられる。また、(B)活性エステル基を有する化合物としては、ナフタレンジオールアルキル/安息香酸型でもよい。(B)活性エステル基を有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。(B)活性エステル基を有する化合物としては、ベンゼン、α−ナフトール、β−ナフトールおよびジシクロペンタジエン骨格のいずれかを有するものが好ましい。
一般に、活性エステル基を有する化合物は、フェノール系硬化剤よりも導体に対する密着性が低いことが知られているため、上記比率のようにエポキシ基よりも活性エステル基の方が多い硬化性樹脂組成物においては、導体に対する密着性が悪くなることが予想されていた。しかしながら、本発明においては、活性エステル基の方が多い上記比率の硬化性樹脂組成物においても、導体に対する高い密着性、高い耐熱性、及び低誘電正接を全て兼ね備えた硬化物を得ることができる。
(B1)の活性エステル基を有する化合物は、(b1)脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール類が結節された分子構造を有するフェノール樹脂、(b2)芳香族ジカルボン酸またはそのハライド、および、(b3)芳香族モノヒドロキシ化合物を反応させて得られる構造を有するものである。前記(b2)芳香族ジカルボン酸またはそのハライド中のカルボキシル基または酸ハライド基1モルに対して、前記(b1)フェノール樹脂中のフェノール性水酸基が0.05〜0.75モル、前記(b3)芳香族モノヒドロキシ化合物が0.25〜0.95モルとなる割合で反応させて得られる構造を有するものが好ましい。
で表される構造のものがとりわけ硬化物の誘電正接が低く、かつ、有機溶剤に溶解させた際の溶液粘度が低くなる点から好ましい。前記ベンゼン環またはナフタレン環を有する基は、特に限定されず、フェニル基、ナフチル基等でもよく、また、他の原子を介してベンゼン環またはナフタレン環が分子末端に結合していてもよく、置換基を有していてもよい。また、(B1)活性エステル基を有する化合物は、その分子末端にナフタレン環を有するものであることが好ましい。
下記の条件にて行ったGPC測定によりn=1、n=2、n=3、n=4のそれぞれに対応するスチレン換算分子量(α1、α2、α3、α4)と、n=1、n=2、n=3、n=4のそれぞれの理論分子量(β1、β2、β3、β4)との比率(β1/α1、β2/α2、β3/α3、β4/α4)を求め、これら(β1/α1〜β4/α4)の平均値を求める。GPCで求めた数平均分子量(Mn)にこの平均値を掛け合わせた数値を平均分子量とする。次いで、前記一般式(1)の分子量を前記平均分子量としてnの値を算出する。
測定装置:東ソー社製「HLC−8220 GPC」、
カラム:東ソー社製ガードカラム「HXL−L」
+東ソー社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー社製「TSK−GEL G2000HXL」
+東ソー社製「TSK−GEL G3000HXL」
+東ソー社製「TSK−GEL G4000HXL」
検出器:RI(示差屈折径)
データ処理:東ソー社製「GPC−8020モデルIIバージョン4.10」
測定条件:カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン
流速 1.0ml/分
標準:前記「GPC−8020モデルIIバージョン4.10」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
東ソー社製「A−500」
東ソー社製「A−1000」
東ソー社製「A−2500」
東ソー社製「A−5000」
東ソー社製「F−1」
東ソー社製「F−2」
東ソー社製「F−4」
東ソー社製「F−10」
東ソー社製「F−20」
東ソー社製「F−40」
東ソー社製「F−80」
東ソー社製「F−128」
試料:樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(50μl)。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤を含む。(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤は、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化物の高い耐熱性と低誘電正接を維持しつつ、めっき導体に対する密着性を高めるために添加される。
200mLのサンプル瓶に100gの前記有機溶剤と所定量の(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤と攪拌子を入れて20℃で10分間攪拌した後、20℃で10分間放置し、目視で溶解したかを観察し判断する。
200mLのサンプル瓶に100gの前記エポキシ樹脂と5gのアミノトリアジン骨格含有添加剤と攪拌子を入れて110℃で10分間攪拌した後、110℃で10分間放置し、目視で溶け残りがないかどうかを観察し判断する。
本発明の硬化性樹脂組成物は、(D)無機フィラーを含有する。無機フィラーを配合することによって、得られる硬化物の硬化収縮を抑制し、より低CTE(熱膨張係数)となり、密着性、硬度、絶縁層の周囲にある銅等の導体層と熱強度を合わせることによるクラック耐性等の熱特性を向上させることができる。無機フィラーとしては従来公知の無機フィラーが使用でき、特定のものに限定されないが、例えば、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、無定形シリカ、結晶性シリカ、溶融シリカ、球状シリカなどのシリカ、タルク、クレー、ノイブルグ珪土粒子、ベーマイト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、ジルコン酸カルシウム等の体質顔料や、銅、錫、亜鉛、ニッケル、銀、パラジウム、アルミニウム、鉄、コバルト、金、白金等の金属粉体が挙げられる。無機フィラーは球状粒子であることが好ましい。中でもシリカが好ましく、硬化性樹脂組成物の硬化物の硬化収縮を抑制し、より低CTEとなり、また、密着性、硬度などの特性を向上させることができる。無機フィラーの平均粒子径(メディアン径、D50)は、0.01〜10μmであることが好ましく、無機フィラーとしては、0.01〜3μmのシリカであることが好ましい。なお、本明細書において、無機フィラーの平均粒子径は、一次粒子の粒径だけでなく、二次粒子(凝集体)の粒径も含めた平均粒子径である。平均粒子径は、レーザー回折式粒子径分布測定装置により求めることができる。レーザー回折法による測定装置としては、マイクロトラック・ベル社製マイクロトラックMT3000IIなどが挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物には、得られる硬化膜の機械的強度を向上させるために、さらに熱可塑性樹脂を含有することができる。熱可塑性樹脂は、溶剤に可溶であることが好ましい。溶剤に可溶である場合、ドライフィルム化した場合に柔軟性が向上し、クラックの発生や粉落ちを抑制できる。熱可塑性樹脂としては、熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹脂や、エピクロルヒドリンと各種2官能フェノール化合物の縮合物であるフェノキシ樹脂或いはその骨格に存在するヒドロキシエーテル部の水酸基を各種酸無水物や酸クロリドを使用してエステル化したフェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ブロック共重合体等が挙げられる。熱可塑性樹脂は1種を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。これら熱可塑性樹脂の中でも、誘電正接を低く維持したまま、ガラス転移温度を向上させることができるので、フェノキシ樹脂が好ましい。デスミア後の硬化物表面の粗度を小さくする観点から、ポリビニルアセタール樹脂が好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化促進剤を含有することができる。硬化促進剤は、熱硬化反応を促進させるものであり、密着性、耐薬品性、耐熱性等の特性をより一層向上させるために使用される。このような硬化促進剤の具体例としては、イミダゾールおよびその誘導体;アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類;ジアミノジフェニルメタン、m−フェニレンジアミン、m−キシレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォン、ジシアンジアミド、尿素、尿素誘導体、メラミン、多塩基ヒドラジド等のポリアミン類;これらの有機酸塩および/またはエポキシアダクト;三フッ化ホウ素のアミン錯体;トリメチルアミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルオクチルアミン、N−ベンジルジメチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、N−メチルモルホリン、ヘキサ(N−メチル)メラミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノフェノール)、テトラメチルグアニジン、m−アミノフェノール等のアミン類;ポリビニルフェノール、ポリビニルフェノール臭素化物、フェノールノボラック、アルキルフェノールノボラック等のポリフェノール類;トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス−2−シアノエチルホスフィン等の有機ホスフィン類;トリ−n−ブチル(2,5−ジヒドロキシフェニル)ホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライド等のホスホニウム塩類;ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩類;前記多塩基酸無水物;ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボロエート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、2,4,6−トリフェニルチオピリリウムヘキサフルオロホスフェート等の光カチオン重合触媒;スチレン−無水マレイン酸樹脂;フェニルイソシアネートとジメチルアミンの等モル反応物や、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートとジメチルアミンの等モル反応物、金属触媒等の従来公知の硬化促進剤が挙げられる。硬化促進剤の中でも、イミダゾールおよびその誘導体、ジメチルアミノピリジンが好ましく、より高Tgかつ低誘電正接の硬化物が得られることから、ジメチルアミノピリジンがより好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じてゴム状粒子を含有することができる。このようなゴム状粒子としては、ポリブタジエンゴム、ポリイソプロピレンゴム、ウレタン変性ポリブタジエンゴム、エポキシ変性ポリブタジエンゴム、アクリロニトリル変性ポリブタジエンゴム、カルボキシル基変性ポリブタジエンゴム、カルボキシル基または水酸基で変性したアクリロニトリルブタジエンゴム、およびそれらの架橋ゴム粒子、コアシェル型ゴム粒子等が挙げられ、1種を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらのゴム状粒子は、得られる硬化膜の柔軟性を向上させたり、クラック耐性が向上したり、酸化剤による表面粗化処理を可能とし、銅箔等との密着強度を向上させるために添加される。
本発明の硬化性樹脂組成物は、難燃剤を含有することができる。難燃剤としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の水和金属系、赤燐、燐酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、モリブデン化合物系、臭素化合物系、塩素化合物系、燐酸エステル、含燐ポリオール、含燐アミン、メラミンシアヌレート、メラミン化合物、トリアジン化合物、グアニジン化合物、シリコンポリマー等が使用できる。難燃剤は、1種を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、その調製、回路基板や支持体に塗布するための粘度調整、ドライフィルムの樹脂層の形成等のために有機溶剤を含有することができる。有機溶剤としては、特に制限はないが、例えば、ケトン類、芳香族炭化水素類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、エステル類、アルコール類、脂肪族炭化水素、石油系溶剤などが挙げることができる。より具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのエステル類;エタノール、プロパノール、2−メトキシプロパノール、n−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等の他、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、テトラクロロエチレン、テレビン油等が挙げられる。また、丸善石油化学社製スワゾール1000、スワゾール1500、三共化学社製ソルベント#100、ソルベント#150、シェルケミカルズジャパン社製シェルゾールA100、シェルゾールA150、出光興産社製イプゾール100番、イプゾール150番等の有機溶剤を用いてもよい。有機溶剤は、1種を単独または2種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の硬化性樹脂組成物は、さらに必要に応じて、シリコンパウダー、フッ素パウダー、ナイロンパウダー等の有機フィラー、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の従来公知の着色剤、アスベスト、オルベン、ベントン、微紛シリカ等の従来公知の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系等の消泡剤および/またはレベリング剤、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤等の密着性付与剤、チタネート系、アルミニウム系の従来公知の添加剤類を用いることができる。
本発明のドライフィルムは、本発明の硬化性樹脂組成物をキャリアフィルム上に塗布し、乾燥して、乾燥塗膜としての樹脂層を形成することにより、製造することができる。樹脂層上には、必要に応じて、保護フィルムをラミネートすることができる。
本発明の樹脂付き銅箔は、本発明の硬化性樹脂組成物を銅箔又はキャリア付き銅箔の銅箔面に塗布、乾燥して得られる樹脂層を有する。
キャリア付き銅箔は、キャリア箔および銅箔をこの順に備えた構成であればよく、本発明の硬化性樹脂組成物からなる樹脂層は、銅箔と接するように積層されていればよい。銅箔としては極薄銅箔を用いることが好ましい。
本発明の硬化物は、本発明の硬化性樹脂組成物、本発明のドライフィルムの樹脂層、又は本発明の樹脂付き銅箔の樹脂層を硬化して得られる。
本発明の電子部品は、本発明の硬化物、すなわち、本発明の硬化性樹脂組成物、本発明のドライフィルムの樹脂層、又は本発明の樹脂付き銅箔の樹脂層の硬化物を有する。
[合成例1]
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコにイソフタル酸クロリド 203.0g(酸クロリド基のモル数:2.0モル)とトルエン 1338gを仕込み系内を減圧窒素置換し溶解させた。次いで、α−ナフトール96.0g(0.67モル)、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂220g(フェノール性水酸基のモル数:1.33モル)を仕込み、系内を減圧窒素置換し溶解させた。その後、テトラブチルアンモニウムブロマイド 1.12gを溶解させ、窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液400gを3時間かけて滴下した。次いでこの条件下で1.0時間撹拌を続けた。反応終了後、静置分液し、水層を取り除いた。更に反応物が溶解しているトルエン相に水を投入して約15分間撹拌混合し、静置分液して水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した。その後、デカンタ脱水で水分を除去し不揮発分65%のトルエン溶液状態にある活性エステル基を有する化合物(B−1)を得た。
温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、2,7−ジヒドロキシナフタレン 320g(2.0モル)、ベンジルアルコール 184g(1.7モル)、パラトルエンスルホン酸・1水和物 5.0gを仕込み、室温下、窒素を吹き込みながら撹拌した。その後、150℃に昇温し、生成する水を系外に留去しながら4時間攪拌した。反応終了後、メチルイソブチルケトン 900g、20%水酸化ナトリウム水溶液 5.4gを添加して中和した後、分液により水層を除去し、水280gで3回水洗を行い、メチルイソブチルケトンを減圧下除去してベンジル変性ナフタレン化合物(B−2中間体)を460g得た。得られたベンジル変性ナフタレン化合物(B−2中間体)は黒色固体であり、水酸基当量は180グラム/当量であった。
下記表1の実施例、比較例に示す種々の成分と共に表1に示す割合(質量部)にて混錬混合し、硬化後フィルム(硬化膜)作製用の硬化性樹脂組成物を調製した。なお、表中の数値は質量部(固形分換算)を示す。
フィルムアプリケーターを用いて、硬化性樹脂組成物を実施例および比較例ごとに銅箔(古河電気工業社製F2−WS、18μm厚)の光沢面上に塗布し、熱風循環式乾燥炉にて90℃で10分間乾燥後、続けて200℃で60分間硬化させた後、銅箔を剥離し、厚み約40μmの硬化後フィルムを作製した。
前記<硬化後フィルムの作製>で得られたサンプルを測定サイズ(3mm×10mmのサイズ)に切り出し、ティー・エイ・インスツルメント社製TMA Q400EMを用いて、ガラス転移温度(Tg)を測定した。10℃/minの昇温速度で室温より昇温、連続して2回測定し、2回目における線熱膨張係数の異なる2接線の交点であるガラス転移温度(Tg)を下記の基準で評価した。
○:175℃未満170℃以上
×:170℃未満
前記<硬化後フィルムの作製>で得られたサンプルを測定サイズ(50mm×60mmのサイズ)に切り出し、SPDR誘電体共振器とネットワークアナライザー(ともにアジレント社製)を用い、23℃における10GHzの誘電正接の測定を行い、下記の基準で評価した。
○:0.003以上0.005未満
×:0.005以上
(1)積層板の粗化処理
内層回路の形成されたガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板[銅箔の厚さ18μm、基板厚み0.3mm、パナソニック社製R5715ES]の両面をメック社製CZ8100に浸漬して銅表面の粗化処理(エッチング量:約1μm)を行った。
フィルムアプリケーターを用いて、硬化性樹脂組成物を各実施例および比較例ごとにキャリア付き極薄銅箔(三井金属社製MT18Ex、極薄銅3μm厚)の極薄銅箔面上に塗布し、熱風循環式乾燥炉にて90℃で10分間乾燥し、樹脂層の厚み約40μmの樹脂付き銅箔を得た。
バッチ式真空加圧ラミネーターMVLP−500(名機製作所社製、商品名)を用いて、粗化処理(1)を行った積層板の両面に、樹脂付き銅箔(2)の樹脂組成物塗工面をラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、80℃、圧力0.5MPaでプレスすることにより行った。
樹脂付き銅箔をラミネートした積層板(3)を、熱風循環式乾燥炉にて170℃で30分間、硬化させた。
硬化後、積層板の両面からキャリア銅箔を剥離し、電解銅めっきにより、両面の極薄銅箔(3μm)を約25μm厚にした。
電解銅めっき後の積層板を、熱風循環式乾燥炉にて200℃で60分間、アニール処理を行った。
前記の方法で作製したサンプルを用いて、JIS C6481に従って測定し、下記の基準で評価した。
○:0.5kN/m未満0.4kN/m以上
×:0.4kN/m未満
*2:ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂(固形、エポキシ当量:290g/eq)(NC−3000H:日本化薬社製)
*3:トリアジン骨格含有フェノールノボラック樹脂(LA−7052:DIC社製)
*4:フェノキシ樹脂(YX7200B35:三菱ケミカル社製)
*5:フェニルアミノシラン処理したアドマテックス社製SO−C2(球状シリカ、平均粒径:0.5μm、単位質量あたりのカーボン量0.18)
*6:式(6)のジアミノトリアジニル基と水酸基とを有する化合物(融点 151〜154℃、プロピレングリコールモノメチルエーテルに対する溶解度が20℃で0.5質量%未満、NC−3000Hに対する溶解度が110℃で5phr未満)(VD−3:四国化成工業社製)
*7:式(6)のジアミノトリアジニル基と式(7)の加水分解性シリル基とを有する化合物(融点 80〜90℃、プロピレングリコールモノメチルエーテルに対する溶解度が20℃で50質量%、NC−3000Hに対する溶解度が110℃で5phr以上)(VD−5:四国化成工業社製)
*8:ビニルトリメトキシシラン(KBM−1003:信越化学工業社製)
*9:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−403:信越化学工業社製)
*10:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573:信越化学工業社製)
*11:硬化性樹脂組成物中の(A)エポキシ樹脂のエポキシ基の総量/(B)活性エステル基を有する化合物の活性エステル基の総量の比
*12:硬化性樹脂組成物の総質量(固形分換算)に対する(D)無機フィラーの含有率(質量%)
*13:硬化性樹脂組成物中の(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤の、(A)エポキシ樹脂及び(B)活性エステル基を有する化合物の合計量に対する質量比(固形分換算)(なお、比較例においては、シランカップリング剤の、(A)エポキシ樹脂及び(B)活性エステル基を有する化合物の合計量に対する質量比(固形分換算)を上記質量比として記載した。)
Claims (11)
- (A)エポキシ樹脂と、
(B)活性エステル基を有する化合物と、
(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤と、
(D)無機フィラーと、
を含有する硬化性樹脂組成物であって、
(C)アミノトリアジン骨格含有添加剤が、JIS K6220に従って測定される融点を有するものであることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 - (A)エポキシ樹脂のエポキシ基の総量/(B)活性エステル基を有する化合物の活性エステル基の総量の比が0.2以上0.6以下であることを特徴とする請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。
- (C)アミノトリアジン骨格含有添加剤の、(A)エポキシ樹脂及び(B)活性エステル基を有する化合物の合計量に対する質量比が、固形分換算で0.001以上0.100以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物。
- (C)アミノトリアジン骨格含有添加剤が、さらに加水分解性シリル基又はシラノール基を有することを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物。
- (C)アミノトリアジン骨格含有添加剤の、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートからなる群から選択される有機溶剤に対する溶解度が、20℃で5g/100g−有機溶剤以上であることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物。
- (C)アミノトリアジン骨格含有添加剤の、エポキシ当量が500以下のエポキシ樹脂に対する溶解度が、110℃で5phr以上であることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物。
- (D)無機フィラーを、硬化性樹脂組成物中の固形分を100質量%とした場合、50質量%以上90質量%以下の範囲で含むことを特徴とする請求項1〜6の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物を樹脂層として有することを特徴とするドライフィルム。
- 銅箔又はキャリア付き銅箔上に、請求項1〜7の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物を樹脂層として有することを特徴とする樹脂付き銅箔。
- 請求項1〜7の何れか一項に記載の硬化性樹脂組成物、請求項8に記載のドライフィルムの樹脂層、又は請求項9に記載の樹脂付き銅箔の樹脂層の硬化物。
- 請求項10に記載の硬化物を有することを特徴とする電子部品。
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